JP2000236118A - 熱電半導体の製造方法 - Google Patents

熱電半導体の製造方法

Info

Publication number
JP2000236118A
JP2000236118A JP11034783A JP3478399A JP2000236118A JP 2000236118 A JP2000236118 A JP 2000236118A JP 11034783 A JP11034783 A JP 11034783A JP 3478399 A JP3478399 A JP 3478399A JP 2000236118 A JP2000236118 A JP 2000236118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green compact
thermoelectric semiconductor
sintered body
deformation
sintering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11034783A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Tauchi
比登志 田内
Kazuo Ebisumori
一雄 戎森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aisin Corp
Original Assignee
Aisin Seiki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aisin Seiki Co Ltd filed Critical Aisin Seiki Co Ltd
Priority to JP11034783A priority Critical patent/JP2000236118A/ja
Publication of JP2000236118A publication Critical patent/JP2000236118A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱電半導体の製造方法において、熱電半導体
のもっている性能の異方性を十分に引き出すことができ
る方法を提供すること。 【解決手段】 熱電半導体結晶の粉末を圧縮して圧粉体
A1を作製する圧粉体作製工程と、圧粉体A1を一軸方
向(円筒状キャビティー24の軸線L1と平行な方向)
から加圧して加圧軸に対して垂直な方向に張り出すよう
に変形させるとともに焼結化する変形・焼結工程とを含
む熱電半導体の製造方法。変形・焼結工程において圧粉
体A1が加圧軸L1に対して垂直な方向に張り出して、
結晶体のC面が加圧軸L1に対して垂直な方向に揃うよ
うに配向する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱電半導体の製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から電子冷却素子に使用される熱電
半導体組成物として、ビスマス−テルル系に代表される
熱電半導体材料をブリッジマン法またはゾーンメルト法
で一方向凝固した結晶体が公知である。しかし、一方向
凝固した熱電半導体の結晶体は、C面のテルル−テルル
結合面において劈開性を有するため非常に脆く、電子冷
却素子としての信頼性や機械的強度が低下してしまうと
いう問題があった。そこで機械的強度を改良するため
に、特開昭62−264682号公報に示されるよう
な、熱電半導体の結晶体を粉末化し、この粉末を一方向
加圧して焼結化する手段が提案されている。この手段に
よれば、熱電半導体結晶を一方向加圧するので、加圧方
向に対して垂直な方向にC面が揃い、この面に沿って電
流を流すことにより結晶体のもつ電気的異方性を生かす
ことができるとともに、焼結化により機械的強度も向上
するというものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記公報に掲
載の手段は、ホットプレス等の型で拘束された空間内に
熱電半導体結晶粉末を充填し、これを一方向加圧して焼
結化する手段であるので、組織(C面)の配向性に限界
があり、本来ビスマス−テルル系熱電半導体のもってい
る性能の異方性(電気的異方性)を十分に引き出すこと
ができないという問題がある。
【0004】故に、本発明は、上記実情に鑑みてなされ
たものであり、熱電半導体のもっている性能の異方性が
十分に引き出された熱電半導体の製造方法を提供するこ
とを技術的課題とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記技術的課題を解決す
るためになされた請求項1の発明は、熱電半導体結晶の
粉末を圧縮して圧粉体を作製する圧粉体作製工程と、前
記圧粉体を一軸方向から加圧して加圧軸に対して垂直な
方向に張り出すように変形させるとともに焼結化する変
形・焼結工程とを含む、熱電半導体の製造方法とするこ
とである。
【0006】上記発明によれば、熱電半導体結晶の粉末
を圧縮して圧粉体を作製する圧粉体作製工程と、圧粉体
を一軸方向から加圧して加圧軸に対して垂直な方向に張
り出すように変形させるとともに焼結化する変形・焼結
工程とを含む熱電半導体の製造方法としたので、変形・
焼結工程において圧粉体が加圧軸に対して垂直な方向に
張り出し、この張り出し過程中に結晶体のC面が加圧軸
に対して垂直な方向に揃うように配向する。従って、従
来よりも組織(C面)の配向性をより向上させることが
でき、熱電体の本来もっている性能の異方性が十分に引
き出された熱電半導体を製造すことができる。
【0007】また、変形・焼結工程において圧粉体の変
形と焼結化とを同時に行うので、圧粉体の変形と焼結化
とを別々に行う場合に比べて工程の短縮化が図れ、製造
コストの低減が期待できる。
【0008】この場合、請求項2の発明のように、前記
変形・焼結工程は、前記加圧軸に対して垂直な面におけ
る前記圧粉体の最大径よりも大きな径をもつキャビティ
ーを有する型内に前記圧粉体を入れ、前記加圧軸方向に
沿って前記圧粉体を前記型内で加圧することにより前記
加圧軸に対して垂直な方向に張り出すように変形させる
とともに焼結するものであることが好ましい。
【0009】上記発明によれば、圧粉体の最大径よりも
大きな径をもつキャビティーを有する型内に圧粉体を入
れ、加圧軸方向に沿って圧粉体を加圧することにより加
圧軸に対して垂直な方向に張り出すように圧粉体を変形
させる。つまり、型内のキャビティーに圧粉体を入れた
ときに圧粉体の径方向に隙間を持たせ、加圧の際この隙
間を埋めるように圧粉体が張り出すことで変形が行われ
る。
【0010】圧粉体の変形を行うにあたっては、開放さ
れた空間内に圧粉体を配置して一軸方向加圧すれば、加
圧方向と垂直な方向に圧粉体が張り出すが、本発明のよ
うに型のキャビティー内(閉空間内)に圧粉体を隙間を
もって配置し、加圧の際に隙間を埋めるように張り出さ
せるようにすることで、熱電半導体を量産化する際の変
形後の圧粉体の形状(変形量)を均一化することができ
る。このため、製造された熱電半導体のそれぞれにおい
て一定の電気的異方性が確保でき、製品性能を安定にす
ることができるとともに、焼結体の割れ等が防止でき、
機械的強度がより向上するという効果が期待できる。
【0011】また、請求項3の発明は、熱電半導体結晶
の粉末を焼結化して焼結体を作製する焼結工程と、前記
焼結体を一軸方向から加圧して加圧軸に対して垂直な方
向に張り出すように変形させる変形工程とを含む、熱電
半導体の製造方法である。
【0012】上記発明によれば、熱電半導体結晶の粉末
を焼結化して焼結体を作製する焼結工程と、焼結体を一
軸方向から加圧して加圧軸に対して垂直な方向に張り出
すように変形さる変形工程とを含む熱電半導体の製造方
法としたので、変形工程において焼結体が加圧軸に対し
て垂直な方向に張り出し、この張り出し過程中に結晶体
のC面が加圧軸に対して垂直な方向に揃うように配向す
る。従って、従来よりも組織(C面)の配向性をより向
上させることができ、熱電半導体のもっている性能の異
方性を十分に引き出すことができる。
【0013】この場合、請求項4の発明のように、前記
変形工程は、前記加圧軸に対して垂直な面における前記
焼結体の最大径よりも大きな径をもつキャビティーを有
する型内に前記焼結体を入れ、前記加圧軸方向に沿って
前記焼結体を前記型内で加圧することにより前記加圧軸
に対して垂直な方向に張り出すように変形させるもので
あることが好ましい。
【0014】上記発明によれば、焼結体の最大径よりも
大きな径をもつキャビティーを有する型内に焼結体を入
れ、加圧軸方向に沿って焼結体を加圧することにより加
圧軸に対して垂直な方向に張り出すように焼結体を変形
させる。つまり、型内のキャビティーに焼結体を入れた
ときに焼結体の径方向に隙間を持たせ、加圧の際この隙
間を埋めるように焼結体が張り出すことで変形が行われ
る。
【0015】このように型のキャビティー内(閉空間
内)に焼結体を隙間をもって配置し、加圧の際に隙間を
埋めるように張り出させるようにすることで、熱電半導
体を量産化する際の変形後の焼結体の形状(変形量)を
均一化することができる。このため、製造された熱電半
導体のそれぞれにおいて一定の電気的異方性が確保で
き、製品性能を安定にすることができるとともに、焼結
体の割れ等が防止でき、機械的強度がより向上するとい
う効果が期待できる。
【0016】また、上記請求項1〜4の発明において、
好ましくは請求項5の発明のように、前記熱電半導体結
晶は、BiTe、BiSbTe、BiTe
Seα、BiSbTeSeα(0.2≦x≦
2.0、0<y≦1.8、2.5≦z≦3.5、0<α
≦0.5)からなる群より選択することである。
【0017】上記発明によれば、熱電半導体結晶を上記
群より選択することで、より良好な熱電特性を得ること
ができる。
【0018】尚、本発明において、変形すべき圧粉体ま
たは焼結体は、どのような形状でもよいが、好ましくは
形成が容易な円筒形状または直方体形状である。
【0019】
【実施の形態】以下、本発明を実施の形態により具体的
に説明する。
【0020】(第1実施形態例)本例における熱電半導
体の製造方法では、熱電半導体結晶合金作製工程、粉末
化工程、圧粉工程、変形・焼結工程を主な工程とする。
以下、順に各工程を説明する。
【0021】(1)熱電半導体結晶合金作製工程 まず、ビスマス(Bi)、テルル(Te)、セレン(S
e)の純度3N(99.9%)の原材料を、BiTe
2.85Se0.15の組成になるように秤量して石英
管に投入した。次に、キャリア濃度を調整するために、
臭化第2水銀(HgBr)を0.09wt%添加し
た。その後真空ポンプにより石英管内を0.1torr
以下の真空にし、封管した。
【0022】次に、封管した石英管を700℃にて1時
間加熱しながら揺動させ、管内の原材料混合物を溶融攪
拌した。その後、冷却させて再結晶を行い、熱電半導体
結晶合金を作製した。
【0023】(2)粉末化工程 上記のように作製された熱電半導体結晶合金をカッター
ミルにて粉砕した。その後、分級し、90ミクロン以下
の粉末のみを採取した。
【0024】(3)圧粉工程 図1(a)は、圧粉工程において使用する圧粉用金型の
概略断面図である。図において、圧粉用金型10は、ダ
イス11及びパンチ12を備える。ダイス11は、上端
面11a、下端面11b、及び側周面11cを有する略
円筒形状を呈しており、その円筒軸芯部分において、上
端面11aから下端面11bにかけて貫通する貫通孔1
11が形成されている。本例においてこの貫通孔111
の直径は20mmである。また、パンチ12は、上側パ
ンチ121及び下側パンチ122を備えている。両パン
チ121及び122はいずれも貫通孔111内を摺動可
能となるように円筒状に形成されており、上側パンチ1
21の先端面121aと下側パンチ122の先端面12
2aとは対面して配置されている。従って、上側パンチ
121の先端面121aと、下側パンチ122の先端面
122aと、貫通孔111の側周面111aとで囲まれ
た空間で、直径20mmの円筒形状を呈するキャビティ
ー14が形成されている。
【0025】このようにして画成されたキャビティー1
4内に、上記粉末化工程で作製された熱電半導体結晶合
金の粉末を充填する。そして、図1(a)の矢印A,B
で示すように上側パンチ121と下側パンチ122をそ
れぞれ駆動させ、キャビティー14内に充填された粉末
を圧縮する。本例においてこの加圧力は500kg/c
である。これにより、粉末は圧縮力を受けて圧粉化
する。
【0026】その後、両パンチ121、122からの圧
力を開放し、作製された圧粉体を取出す。図1(b)は
取出された圧粉体A1である。図に示すように、本例に
おける圧粉体A1は円筒形状に形成され、その寸法は、
直径20mm、高さ30mmである。
【0027】(4)変形・焼結工程 図1(c)は、変形・焼結工程において使用する変形・
焼結用金型の概略図である。図において、変形・焼結用
金型20は、ダイス21及びパンチ22を備える。ダイ
ス21は、上端面21a、下端面21b、及び外周面2
1cを有する略円筒形状を呈しており、その円筒軸芯部
分において、上端面21aから下端面21bにかけて貫
通する貫通孔211が形成されている。本例においてこ
の貫通孔211の直径は30mmである。
【0028】ダイス21の外周面21cにはリングヒー
タ23が取り付けられている。このリングヒータ23に
通電してダイス21は約400℃に加熱されている。
【0029】パンチ22は、上側パンチ221及び下側
パンチ222を備えている。両パンチ221及び222
はいずれも貫通孔211内を摺動可能となるように円筒
状に形成されており、上側パンチ221の先端面221
aと下側パンチ222の先端面222aとは対面して配
置されている。従って、上側パンチ221の先端面22
1aと、下側パンチ222の先端面222aと、貫通孔
211の内周面211aとで囲まれた空間で、直径30
mmの円筒形状を呈するキャビティー24が形成されて
いる。
【0030】このようにして画成されたキャビティー2
4内に、上記圧粉工程で作製された圧粉体A1を投入す
る。そして、図1(c)の矢印A、Bで示すように上側
パンチ221と下側パンチ222をそれぞれ駆動させ、
キャビティー24の中心軸線L1と平行な一軸方向から
圧粉体A1を加圧する。本例においてこの加圧力は45
0kg/cmである。これにより圧粉体A1は圧縮力
を受けて変形する。このときキャビティー24の直径は
30mm、圧粉体A1の直径は20mmであり、圧粉体
A1とキャビティー24の壁面(貫通孔211の内周面
211a)との間には約5mmの隙間S1が形成されて
いるので、圧縮力を受けた圧粉体A1はこの隙間S1を
埋めるべく、加圧軸である中心軸線L1に対して垂直な
方向、つまり径外方に張り出す。この張り出し時に材料
流動が圧粉体A1の径方向に沿って起こり、この流れに
従って材料が配向する。この変形が完了したのときの状
態を図1(d)に示す。図1(d)に示す状態になった
後も、圧力450kg/cmを約30分間保持する。
このときダイス21はリングヒータ23により約400
℃に加熱されているので、これらの加圧及び加熱により
圧粉体A1は焼結化する。
【0031】その後、両パンチ221、222からの圧
力を開放し、作製された焼結体を取出す。図1(e)は
取出された焼結体A2である。図に示すように、本例に
おける焼結体A2は円筒形状に形成され、その寸法は、
直径30mm、高さ13mmである。
【0032】上記工程を経て製造された熱電半導体焼結
体A2の、圧縮強度、ゼーベック係数、電気伝導度、熱
伝導度を測定し、これらより性能指数を計算した。その
結果を作製条件とともに表1に示す。尚、測定にあた
り、図1(e)に示す焼結体A2を更にチップ状に切断
して測定サンプルとし、この測定サンプルにおいて上記
変形・焼結工程で加圧された方向(加圧軸)と垂直な方
向の圧縮強度、ゼーベック係数、電気伝導度を測定し
た。また性能指数は次式により計算した。
【0033】性能指数Z=(ゼーベック係数)×(電
気伝導度)/(熱伝導率) (第2実施形態例)本例における熱電半導体の製造方法
では、熱電半導体結晶合金作製工程、粉末化工程、焼結
工程、変形工程を主な工程とする。以下、順に各工程を
説明する。
【0034】(1)熱電半導体結晶合金作製工程 まず、ビスマス(Bi)、アンチモン(Sb)、テルル
(Te)の純度3N(99.9%)の原材料を、Bi
0.5Sb1.5Se3.15の組成になるように秤量
して石英管に投入した。その後真空ポンプにより石英管
内を0.1torr以下の真空にし、封管した。
【0035】次に、封管した石英管を700℃にて1時
間加熱しながら揺動させ、管内の原材料混合物を溶融攪
拌した。その後、冷却させて再結晶を行い、熱電半導体
結晶合金を作製した。
【0036】(2)粉末化工程 上記のように作製された熱電半導体結晶合金をカッター
ミルにて粉砕した。その後、分級し、90ミクロン以下
の粉末のみを採取した。
【0037】(3)焼結工程 図2(a)は、焼結工程において使用する焼結用金型の
概略図である。図において、焼結用金型30は、ダイス
31及びパンチ32を備える。ダイス31は、上端面3
1a、下端面31b、及び外周面31cを有する略円筒
形状を呈しており、その円筒軸芯部分において、上端面
31aから下端面31bにかけて貫通する貫通孔311
が形成されている。本例においてこの貫通孔311の直
径は25mmである。また、ダイス31の外周面31c
にはリングヒータ33が取り付けられている。
【0038】パンチ32は、上側パンチ321及び下側
パンチ322を備えている。両パンチ321及び322
はいずれも貫通孔311内を摺動可能となるように円筒
状に形成されており、上側パンチ321の先端面321
aと下側パンチ322の先端面322aとは対面して配
置されている。従って、上側パンチ321の先端面32
1aと、下側パンチ322の先端面322aと、貫通孔
311の内周面311aとで囲まれた空間で、直径25
mmの円筒形状を呈するキャビティー34が形成されて
いる。
【0039】このようにして画成されたキャビティー3
4内に、上記粉末化工程で作製された熱電半導体結晶合
金の粉末を充填する。そして、リングヒータ33に通電
してダイス31を約350℃に加熱するとともに、図2
(a)の矢印A、Bで示すように上側パンチ321と下
側パンチ322をそれぞれ駆動させ、約500kg/c
で一方向加圧する。この加圧加熱状態を約15分間
保持することによって粉末は焼結化する。
【0040】その後、両パンチからの圧力を開放し、作
製された焼結体を取出す。図2(b)は取出された焼結
体である。図に示すように、本例における焼結体B1は
円筒形状に形成され、その寸法は、直径25mm、高さ
30mmである。
【0041】(4)変形工程 図2(c)は、変形工程において使用する変形用金型の
概略図である。図において、変形用金型40は、ダイス
41及びパンチ42を備える。ダイス41は、上端面4
1a、下端面41b、及び外周面41cを有する略円筒
形状を呈しており、その円筒軸芯部分において、上端面
41aから下端面41bにかけて貫通する貫通孔411
が形成されている。本例においてこの貫通孔411の直
径は30mmである。また、ダイス41の外周面41c
にはリングヒータ43が取り付けられており、該リング
ヒータ43への通電によってダイス41が約380℃に
加熱されている。
【0042】パンチ42は、上側パンチ421及び下側
パンチ422を備えている。両パンチ421及び422
はいずれも貫通孔411内を摺動可能となるように円筒
状に形成されており、上側パンチ421の先端面421
aと下側パンチ422の先端面422aとは対面して配
置されている。従って、上側パンチ421の先端面42
1aと、下側パンチ422の先端面422aと、貫通孔
411の内周面411aとで囲まれた空間で、直径30
mmの円筒形状を呈するキャビティー44が形成されて
いる。
【0043】このようにして画成されたキャビティー4
4内に、上記焼結工程で作製された焼結体B1を投入す
る。そして、図2(c)の矢印A、Bで示すように上側
パンチ421と下側パンチ422をそれぞれ駆動させ、
キャビティー44の中心軸線L2と平行な一軸方向から
焼結体B1を加圧する。本例においてこの加圧力は42
0kg/cmである。これにより焼結体B1は圧縮力
を受けて変形する。このときキャビティー44の直径は
30mm、焼結体B1の直径は25mmであり、焼結体
B1とキャビティー44の壁面(貫通孔411の内周面
411a)との間には約2.5mmの隙間S2が形成さ
れているので、圧縮力を受けた焼結体B1はこの隙間S
2を埋めるべく、加圧軸である中心軸線L2に対して垂
直な方向、つまり径外方に張り出す。この張り出し時に
材料流動が焼結体B1の径方向に沿って起こり、この流
れに従って材料が配向する。この変形が完了したのとき
の状態を図2(d)に示す。図2(d)に示す状態にな
った後も、圧力420kg/cmを約30分間保持す
る。このときダイス41はリングヒータ43により約3
80℃に加熱されているので、これらの加圧及び加熱に
より焼結体B1はさらに焼結化が進行する。
【0044】その後、両パンチ421、422からの圧
力を開放し、作製された焼結体を取出す。図2(e)は
取出された焼結体B2である。図に示すように、本例に
おける焼結体B2は円筒形状に形成され、その寸法は、
直径30mm、高さ20mmである。
【0045】上記工程を経て製造された熱電半導体焼結
体B2の、圧縮強度、ゼーベック係数、電気伝導度を測
定し、これらより性能指数を計算した。その結果を作製
条件とともに表1に示す。尚、測定にあたり、図2
(e)に示す焼結体B2を更にチップ状に切断して測定
サンプルとし、この測定サンプルにおいて上記変形工程
で加圧された方向(加圧軸)と垂直な方向の圧縮強度、
ゼーベック係数、電気伝導度を測定した。
【0046】(第3実施形態例)本例における熱電半導
体の製造方法では、熱電半導体結晶合金作製工程、粉末
化工程、圧粉工程、変形工程、焼結工程を主な工程とす
る。ただし、本例における熱電半導体結晶合金作製工
程、粉末化工程、圧粉工程は、上記第1実施形態例と同
一であるので、その具体的説明を省略する。
【0047】(1)熱電半導体結晶合金作製工程 上記第1実施形態例で示した熱電半導体結晶合金作製工
程と同一であるので、その説明を省略する。
【0048】(2)粉末化工程 上記第1実施形態例で示した粉末化工程と同一であるの
で、その説明を省略する。
【0049】(3)圧粉工程 上記第1実施形態例で示した圧粉工程と同一であるの
で、その説明を省略する。尚、この圧粉工程で、直径2
0mm、高さ30mmの圧粉体C1(不図示)が作製さ
れる。
【0050】(4)変形工程 図3(a)は、変形工程において使用する変形用金型の
概略図である。図において、変形用金型50は、ダイス
51及びパンチ52を備える。ダイス51は、上端面5
1a、下端面51b、及び外周面51cを有する略円筒
形状を呈しており、その円筒軸芯部分において、上端面
51aから下端面51bにかけて貫通する貫通孔511
が形成されている。本例においてこの貫通孔511の直
径は30mmである。
【0051】パンチ52は、上側パンチ521及び下側
パンチ522を備えている。両パンチ521及び522
はいずれも貫通孔511内を摺動可能となるように円筒
状に形成されており、上側パンチ521の先端面521
aと下側パンチ522の先端面522aとは対面して配
置されている。従って、上側パンチ521の先端面52
1aと、下側パンチ522の先端面522aと、貫通孔
511の内周面511aとで囲まれた空間で、直径30
mmの円筒形状を呈するキャビティー54が形成されて
いる。
【0052】このようにして画成されたキャビティー5
4内に、上記圧粉工程で作製された圧粉体C1を投入す
る。そして、図3(c)の矢印A、Bで示すように上側
パンチ521と下側パンチ522をそれぞれ駆動させ、
キャビティー54の中心軸線L3と平行な一軸方向から
圧粉体C1を加圧する。本例においてこの加圧力は50
0kg/cmである。これにより圧粉体C1は圧縮力
を受けて変形する。このときキャビティー54の直径は
30mm、圧粉体C1の直径は20mmであり、圧粉体
C1とキャビティー54の壁面(貫通孔511の内周面
511a)との間には約5mmの隙間S3が形成されて
いるので、圧縮力を受けた圧粉体C1はこの隙間S3を
埋めるべく、加圧軸である中心軸線L3に対して垂直な
方向、つまり径外方に張り出す。この張り出し時に材料
流動が圧粉体C1の径方向に沿って起こり、この流れに
従って材料が配向する。この変形が完了したのときの状
態を図3(b)に示す。
【0053】その後、両パンチ521、522からの圧
力を開放し、変形された圧粉体を取出す。図3(c)は
取出された圧粉体C2である。図に示すように、本例に
おける圧粉体C2は円筒形状に形成され、その寸法は、
直径30mm、高さ13mmである。
【0054】(5)焼結工程 上記変形工程で使用した変形用金型のキャビティー径と
同一の径のキャビティーを有する焼結用金型(不図示)
に、上記変形工程で作製した変形後の圧粉体を入れ、温
度420℃、圧力250kg/cmで焼結化した。焼
結後、作製された焼結体を取出した。
【0055】上記工程を経て製造された熱電半導体焼結
体の、圧縮強度、ゼーベック係数、電気伝導度を上記第
1及び第2実施形態例と同様に測定し、これらより性能
指数を計算した。その結果を作製条件とともに表1に示
す。尚、測定にあたり、図3(c)に示す焼結体C2を
更にチップ状に切断して測定サンプルとし、この測定サ
ンプルにおいて上記変形工程で加圧された方向(加圧
軸)と垂直な方向の圧縮強度、ゼーベック係数、電気伝
導度を測定した。
【0056】(比較例1)上記第1実施形態例と同様の組
成及び方法で熱電半導体結晶の粉末を作製した。このよ
うにして作製した熱電半導体結晶の粉末を図1(c)に
示すような直径30mmの円筒状キャビティーを有する
金型に入れ、温度400℃、圧力450kg/cm2に
て30分間焼結した。このようにして作製した熱電半導
体焼結体の性能を、上記第1実施形態例と同様な方法で
測定した。その結果を作製条件とともに表1に示す。
【0057】(比較例2)上記第2実施形態例と同様の
組成及び方法で熱電半導体結晶の粉末を作製した。この
ようにして作製した熱電半導体結晶の粉末を図2(c)
に示すような直径30mmの円筒状キャビティーを有す
る金型に入れ、温度380℃、圧力420kg/cm2
にて30分間焼結した。このようにして作製した熱電半
導体焼結体の性能を、上記第2実施形態例と同様な方法
で測定した。その結果を作製条件とともに表1に示す。
【0058】(表1)
【0059】 上記表より明らかなように、実施形態例
1、実施形態例2、実施形態例3で作製した熱電半導体
焼結体の性能指数はいずれも3.5以上であり、比較例
で作製した熱電半導体焼結体の性能指数(いずれも3.
5以下)よりも電気的性能が向上していることがわか
る。これは、ゼーベック係数及び熱伝導率に関して本実
施形態例と比較例とでは大差ないのに対し、電気伝導度
に関して本実施形態例のほうが比較例よりも大きくなっ
ているため、その結果として性能指数に差が見られるも
のと考えられる。
【0060】以上のように、上記第1実施形態例におけ
る熱電半導体の製造方法は、熱電半導体結晶の粉末を圧
縮して圧粉体A1を作製する圧粉体作製工程と、圧粉体
A1を一軸方向(円筒状キャビティー24の軸線L1と
平行な方向)から加圧して加圧軸に対して垂直な方向に
張り出すように変形させるとともに焼結化する変形・焼
結工程とを含む熱電半導体の製造方法であるので、変形
・焼結工程において圧粉体A1が加圧軸L1に対して垂
直な方向に張り出し、この張り出し過程中に結晶体のC
面が加圧軸L1に対して垂直な方向に揃うように配向す
る。従って、従来よりも組織(C面)の配向性をより向
上させることができ、熱電半導体のもっている性能の異
方性を十分に引き出すことができる。
【0061】また、変形・焼結工程において圧粉体の変
形と焼結化とを同時に行うので、圧粉体の変形と焼結化
とを別々に行う場合に比べて工程の短縮化が図れ、製造
コストの低減が期待できる。
【0062】また、変形・焼結工程は、加圧軸に対して
垂直な面における圧粉体A1の最大径(20mm)より
も大きな径(30mm)をもつ円筒状キャビティー14
を有する型内に圧粉体A1を入れ、加圧軸L1方向に沿
って圧粉体A1を型内で加圧することにより加圧軸L1
に対して垂直な方向に張り出すように変形させるととも
に焼結するものであるので、熱電半導体を量産化する際
の変形後の圧粉体の形状(変形量)を均一化することが
できる。このため、製造された熱電半導体のそれぞれに
おいて一定の電気的異方性が確保でき、製品性能を安定
にすることができるとともに、焼結体の割れ等が防止で
き、機械的強度がより向上するという効果が期待でき
る。
【0063】また、上記第2実施形態例における熱電半
導体の製造方法は、熱電半導体結晶の粉末を焼結化して
焼結体B1を作製する焼結工程と、焼結体B1を一軸方
向(円筒状キャビティー44の軸線L2と平行な方向)
から加圧して加圧軸L2に対して垂直な方向に張り出す
ように変形させる変形工程とを含む熱電半導体の製造方
法であるので、変形工程において焼結体B1が加圧軸L
2に対して垂直な方向に張り出し、この張り出し過程中
に結晶体のC面が加圧軸に対して垂直な方向に揃うよう
に配向する。従って、従来よりも組織(C面)の配向性
をより向上させることができ、熱電半導体のもっている
性能の異方性を十分に引き出すことができる。
【0064】また、変形工程は、加圧軸L2に対して垂
直な面における焼結体B1の最大径(25mm)よりも
大きな径(30mm)をもつキャビティー24を有する
型内に焼結体B1を入れ、加圧軸L2方向に沿って焼結
体B1を型内で加圧することにより加圧軸L2に対して
垂直な方向に張り出すように変形させるものであるの
で、熱電半導体を量産化する際の変形後の焼結体の形状
(変形量)を均一化することができる。このため、製造
された熱電半導体のそれぞれにおいて一定の電気的異方
性が確保でき、製品性能を安定にすることができるとと
もに、焼結体の割れ等が防止でき、機械的強度がより向
上するという効果が期待できる。
【0065】また、上記第3実施形態例における熱電半
導体の製造方法は、熱電半導体結晶の粉末を圧縮して圧
粉体C1を作製する圧粉体作製工程と、圧粉体C1を一
軸方向(円筒状キャビティー54の軸線L3と平行な方
向)から加圧して加圧軸L3に対して垂直な方向に張り
出すように変形させる変形工程と、変形工程にて変形さ
れた圧粉体C2を焼結化する焼結工程とを含む熱電半導
体の製造方法であるので、変形工程において圧粉体C1
が加圧軸L3に対して垂直な方向に張り出し、この張り
出し過程中に結晶体のC面が加圧軸に対して垂直な方向
に揃うように配向する。従って、従来よりも組織(C
面)の配向性をより向上させることができ、熱電半導体
のもっている性能の異方性を十分に引き出すことができ
る。
【0066】また、変形工程は、加圧軸L3に対して垂
直な面における圧粉体C1の最大径(20mm)よりも
大きな径(30mm)をもつキャビティー54を有する
型内に圧粉体C1を入れ、加圧軸方向に沿って圧粉体C
1を型内で加圧することにより加圧軸L3に対して垂直
な方向に張り出すように変形させるので、熱電半導体を
量産化する際の変形後の圧粉体の形状(変形量)を均一
化することができる。このため、製造された熱電半導体
のそれぞれにおいて一定の電気的異方性が確保でき、製
品性能を安定にすることができるとともに、焼結体の割
れ等が防止でき、機械的強度がより向上するという効果
が期待できる。
【0067】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
熱電半導体のもっている性能の異方性を十分に引き出す
ことができ、ひいては性能指数の向上した熱電半導体を
製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態例における熱電半導体の
製造工程を示す図であり、図1(a)は圧粉工程にて使
用する圧粉用金型の概略断面図、図1(b)は圧粉工程
で作製された圧粉体の概略斜視図、図1(c)は変形・
焼結工程にて使用する変形・焼結用金型の概略断面図、
図1(d)は変形・焼結工程にて圧粉体の変形完了時点
での状態を示すための変形・焼結用金型の概略断面図、
図1(e)は変形・焼結工程で作製された焼結体の概略
斜視図である。
【図2】本発明の第2実施形態例における熱電半導体の
製造工程を示す図であり、図2(a)は焼結工程にて使
用する焼結用金型の概略断面図、図2(b)は焼結工程
で作製された焼結体の概略斜視図、図2(c)は変形工
程にて使用する変形用金型の概略断面図、図2(d)は
変形工程にて焼結体の変形完了時点での状態を示すため
の変形用金型の概略断面図、図2(e)は変形工程で作
製された焼結体の概略斜視図である。
【図3】本発明の第3実施形態例における熱電半導体の
製造工程を示す図であり、図3(a)は変形工程にて使
用する変形用金型の概略断面図、図3(b)は変形工程
にて圧粉体の変形完了時点での状態を示すための変形用
金型の概略断面図、図3(c)は変形工程で作製された
圧粉体の概略斜視図である。
【符号の説明】
10・・・圧粉用金型 20・・・変形・焼結用金型 30・・・焼結用金型 40、50・・・変形用金型 24、44、54・・・キャビティー L1、L2、L3・・・キャビティーの軸線(加圧軸)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱電半導体結晶の粉末を圧縮して圧粉体
    を作製する圧粉体作製工程と、前記圧粉体を一軸方向か
    ら加圧して加圧軸に対して垂直な方向に張り出すように
    変形させるとともに焼結化する変形・焼結工程とを含
    む、熱電半導体の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記変形・焼結工程は、前記加圧軸に対して垂直な面に
    おける前記圧粉体の最大径よりも大きな径をもつキャビ
    ティーを有する型内に前記圧粉体を入れ、前記加圧軸方
    向に沿って前記圧粉体を前記型内で加圧することにより
    前記加圧軸に対して垂直な方向に張り出すように変形さ
    せるとともに焼結するものであることを特徴とする、熱
    電半導体の製造方法。
  3. 【請求項3】 熱電半導体結晶の粉末を焼結化して焼結
    体を作製する焼結工程と、前記焼結体を一軸方向から加
    圧して加圧軸に対して垂直な方向に張り出すように変形
    させる変形工程とを含む、熱電半導体の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項3において、 前記変形工程は、前記加圧軸に対して垂直な面における
    前記焼結体の最大径よりも大きな径をもつキャビティー
    を有する型内に前記焼結体を入れ、前記加圧軸方向に沿
    って前記焼結体を前記型内で加圧することにより前記加
    圧軸に対して垂直な方向に張り出すように変形させるも
    のであることを特徴とする、熱電半導体の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項において、 前記熱電半導体結晶は、BiTe、BiSb
    、BiTeSeα、BiSbTeSeα
    (0.2≦x≦2.0、0<y≦1.8、2.5≦z≦
    3.5、0<α≦0.5)からなる群より選択されるこ
    とを特徴とする、熱電半導体の製造方法。
JP11034783A 1999-02-12 1999-02-12 熱電半導体の製造方法 Withdrawn JP2000236118A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11034783A JP2000236118A (ja) 1999-02-12 1999-02-12 熱電半導体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11034783A JP2000236118A (ja) 1999-02-12 1999-02-12 熱電半導体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000236118A true JP2000236118A (ja) 2000-08-29

Family

ID=12423889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11034783A Withdrawn JP2000236118A (ja) 1999-02-12 1999-02-12 熱電半導体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000236118A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2853562A1 (fr) * 2003-04-14 2004-10-15 Centre Nat Rech Scient Procede de fabrication de granules semiconducteurs
WO2011047405A3 (de) * 2009-10-23 2011-08-11 Miba Sinter Austria Gmbh Verfahren zum herstellen eines thermoelektrischen elementes
JP2019509623A (ja) * 2016-01-21 2019-04-04 エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH 熱電素子を粉末冶金により製造する合理的方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2853562A1 (fr) * 2003-04-14 2004-10-15 Centre Nat Rech Scient Procede de fabrication de granules semiconducteurs
EP2100660A1 (fr) * 2003-04-14 2009-09-16 Centre National de la Recherche Scientifique Procédé de fabrication de granules semiconducteurs
WO2011047405A3 (de) * 2009-10-23 2011-08-11 Miba Sinter Austria Gmbh Verfahren zum herstellen eines thermoelektrischen elementes
JP2019509623A (ja) * 2016-01-21 2019-04-04 エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH 熱電素子を粉末冶金により製造する合理的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1998011612A1 (fr) Materiau semi-conducteur thermoelectrique, procede de fabrication correspondant et procede de forgeage a chaud d'un module a base de ce materiau
KR100795194B1 (ko) 기계적밀링-혼합방법에 의한 열전재료 제조방법 및 이에의한 열전재료
JP3958857B2 (ja) 熱電半導体材料の製造方法
CN102280571B (zh) 通过净形烧结形成热电元件
JP5034785B2 (ja) 熱電材料の製造方法
JP4207289B2 (ja) 熱電半導体の製造方法
JP2000236118A (ja) 熱電半導体の製造方法
JP3219244B2 (ja) 熱電半導体材料およびこれを用いた熱電モジュール
JPH10178218A (ja) 熱電半導体材料、その製造方法およびこれを用いた熱電モジュールおよび熱間鍛造方法
JP4258081B2 (ja) 熱電半導体の製造方法
JP4200770B2 (ja) 熱電材料インゴット、その製造方法及び熱電モジュールの製造方法
JP2002111085A (ja) 熱電材料の製造方法及びそれに用いる製造装置
JP4166348B2 (ja) 熱電半導体材料、熱電素子、これらの製造方法
JP2002246662A (ja) 熱電半導体の製造方法
JP2004235278A (ja) 熱電材料及びその製造方法
JP2000138399A (ja) 熱電半導体材料、熱電素子、これらの製造方法および熱電半導体材料の製造装置
JP3509390B2 (ja) 熱電素子チップ作製用形材の製造方法
CN115141018B (zh) 一种利用累积热镦制备n型碲化铋基热电材料的方法
JP2003046149A (ja) 熱電変換材料の製造装置
JP4258086B2 (ja) 熱電半導体焼結体の製造方法
JP2002111086A (ja) 熱電半導体材料、その製造方法およびこれを用いた熱電モジュールおよび熱間鍛造方法
CN115141019B (zh) 一种利用累积热镦制备p型碲化铋基热电材料的方法
JP2002270912A (ja) 熱電半導体部材の製造方法
JP4399928B2 (ja) 熱電半導体の製造方法及び熱電半導体組成物
JPH11186622A (ja) 熱電半導体の製造方法及び製造用金型

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051213

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20090617