JP2000228378A - バッチ式多槽型洗浄装置 - Google Patents
バッチ式多槽型洗浄装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 搬送中のウエハから滴下したＢＨＦ液の結晶
化を防止した、ＢＨＦ洗浄槽を含むバッチ式多槽型洗浄
装置を提供する。 【解決手段】 本バッチ式多槽型洗浄装置は、ウエハを
洗浄する装置であって、ＢＨＦ槽の内槽の蓋及びＢＨＦ
槽と第１流水槽との間の受け板に純水ノズルを設けたこ
とを除いて、従来のバッチ式多槽型洗浄装置と同じ構成
を備える。第１の純水ノズル５０は、多数のノズル孔５
０ａを備え、ＢＨＦ槽１２の観音開きの蓋２１の片側扉
２１ａの一方の縁部２１ｂに沿って設けられている。第
１の純水ノズルの一方の端部には、純水を供給する純水
供給管５２が接続されている。片側扉２１ａには、他方
の縁部２１ｃを除く周囲に周囲壁５４が設けてある。純
水は、第１の純水ノズルから噴出して、片側扉２１ａ上
を他方の縁部２１ｃに向かって流れ、他方の縁部２１ｃ
から流下する。第２の純水ノズルは、洗浄液受け板の中
央に設けられ、純水は第２のノズル管から噴出して受け
板上を両縁部に向かって流れ、両縁部のドレン管から流
下する。
化を防止した、ＢＨＦ洗浄槽を含むバッチ式多槽型洗浄
装置を提供する。 【解決手段】 本バッチ式多槽型洗浄装置は、ウエハを
洗浄する装置であって、ＢＨＦ槽の内槽の蓋及びＢＨＦ
槽と第１流水槽との間の受け板に純水ノズルを設けたこ
とを除いて、従来のバッチ式多槽型洗浄装置と同じ構成
を備える。第１の純水ノズル５０は、多数のノズル孔５
０ａを備え、ＢＨＦ槽１２の観音開きの蓋２１の片側扉
２１ａの一方の縁部２１ｂに沿って設けられている。第
１の純水ノズルの一方の端部には、純水を供給する純水
供給管５２が接続されている。片側扉２１ａには、他方
の縁部２１ｃを除く周囲に周囲壁５４が設けてある。純
水は、第１の純水ノズルから噴出して、片側扉２１ａ上
を他方の縁部２１ｃに向かって流れ、他方の縁部２１ｃ
から流下する。第２の純水ノズルは、洗浄液受け板の中
央に設けられ、純水は第２のノズル管から噴出して受け
板上を両縁部に向かって流れ、両縁部のドレン管から流
下する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＢＨＦ槽と流水洗
浄槽とを備え、被洗浄体を洗浄するバッチ式多槽型洗浄
装置に関し、更に詳細には、ウエハから滴下したＢＨＦ
液の結晶化を防止して、洗浄効率を向上させたバッチ式
多槽型洗浄装置に関するものである。
浄槽とを備え、被洗浄体を洗浄するバッチ式多槽型洗浄
装置に関し、更に詳細には、ウエハから滴下したＢＨＦ
液の結晶化を防止して、洗浄効率を向上させたバッチ式
多槽型洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造プロセスでは、処理液
によるウエット処理、例えば洗浄液による洗浄処理、エ
ッチャントによるウエットエッチング処理等が行われて
いる。ウエハ表面のＳｉＯ2 膜のウエットエッチングで
は、フッ酸（ＨＦ）とフッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）
との混合液からなるＢＨＦ液又は希フッ酸（ＨＦ＋Ｈ2
Ｏ）をエッチャントとして用いてウエットエッチングす
る方法が、従来から多用されている。ウエット処理は、
その殆どがウエット・ステーション（Wet Station ）と
呼ばれるバッチ式多槽型洗浄装置で行われる。
によるウエット処理、例えば洗浄液による洗浄処理、エ
ッチャントによるウエットエッチング処理等が行われて
いる。ウエハ表面のＳｉＯ2 膜のウエットエッチングで
は、フッ酸（ＨＦ）とフッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）
との混合液からなるＢＨＦ液又は希フッ酸（ＨＦ＋Ｈ2
Ｏ）をエッチャントとして用いてウエットエッチングす
る方法が、従来から多用されている。ウエット処理は、
その殆どがウエット・ステーション（Wet Station ）と
呼ばれるバッチ式多槽型洗浄装置で行われる。
【０００３】ここで、多槽式バッチ処理装置の一つとし
て、図３を参照して、ＢＨＦ液をエッチャントとする洗
浄装置の構成を説明する。ＢＨＦ液をエッチャントとす
る洗浄装置は、ＢＨＦ液によるウエットエッチングのみ
を行う第１の種類の洗浄装置と、前洗浄として行われる
ＲＣＡ洗浄を行うＲＣＡ洗浄装置と組み合わせた第２の
種類の洗浄装置とに大別される。図３（ａ）は第１の種
類のバッチ式多槽型洗浄装置の構成を示すブロック図、
及び図３（ｂ）は第２のバッチ式多槽型洗浄装置の構成
を示すブロック図である。
て、図３を参照して、ＢＨＦ液をエッチャントとする洗
浄装置の構成を説明する。ＢＨＦ液をエッチャントとす
る洗浄装置は、ＢＨＦ液によるウエットエッチングのみ
を行う第１の種類の洗浄装置と、前洗浄として行われる
ＲＣＡ洗浄を行うＲＣＡ洗浄装置と組み合わせた第２の
種類の洗浄装置とに大別される。図３（ａ）は第１の種
類のバッチ式多槽型洗浄装置の構成を示すブロック図、
及び図３（ｂ）は第２のバッチ式多槽型洗浄装置の構成
を示すブロック図である。
【０００４】第１の種類の洗浄装置１０は、図３（ａ）
に示すように、バッチ洗浄方式でウエハをウエットエッ
チングする装置で、ＢＨＦ液による洗浄処理をウエハに
施すＢＨＦ槽１２と、ＢＨＦ液による洗浄処理を施した
ウエハに純水による流水洗浄を施す第１流水槽１４と、
第１流水槽１４で流水洗浄されたウエハに純水による仕
上げ洗浄を施す第２流水槽１６と、第２流水槽１６で仕
上げ洗浄したウエハを乾燥する乾燥装置１７とから構成
されている。
に示すように、バッチ洗浄方式でウエハをウエットエッ
チングする装置で、ＢＨＦ液による洗浄処理をウエハに
施すＢＨＦ槽１２と、ＢＨＦ液による洗浄処理を施した
ウエハに純水による流水洗浄を施す第１流水槽１４と、
第１流水槽１４で流水洗浄されたウエハに純水による仕
上げ洗浄を施す第２流水槽１６と、第２流水槽１６で仕
上げ洗浄したウエハを乾燥する乾燥装置１７とから構成
されている。
【０００５】ＢＨＦ槽１２は、図４に示すように、外槽
１８と外槽１８内に収容された内槽２０とから構成さ
れ、内槽２０にＢＨＦ液を収容し、ＢＨＦ液中にウエハ
又はウエハを収容したカセットを浸漬してウエハをＢＨ
Ｆ洗浄する。ＢＨＦ槽１２の内槽２０には、ＢＨＦ液の
温度調整及び安全性確保のために、通常、蓋、例えば図
５に示すように、観音開きの蓋２１が設けてある。観音
開きの蓋２１の一方の片側扉２１ａは、内槽２０の一方
の上縁２０ａの回りに回動するように軸支され、観音開
きの蓋２１の他方の片側扉２１ｂは、内槽２０の一方の
上縁２０ｂの回りに回動するように軸支されている。
１８と外槽１８内に収容された内槽２０とから構成さ
れ、内槽２０にＢＨＦ液を収容し、ＢＨＦ液中にウエハ
又はウエハを収容したカセットを浸漬してウエハをＢＨ
Ｆ洗浄する。ＢＨＦ槽１２の内槽２０には、ＢＨＦ液の
温度調整及び安全性確保のために、通常、蓋、例えば図
５に示すように、観音開きの蓋２１が設けてある。観音
開きの蓋２１の一方の片側扉２１ａは、内槽２０の一方
の上縁２０ａの回りに回動するように軸支され、観音開
きの蓋２１の他方の片側扉２１ｂは、内槽２０の一方の
上縁２０ｂの回りに回動するように軸支されている。
【０００６】第１流水槽１４、及び第２流水槽１６は、
図４に示すように、外槽２２と外槽２２内に収容された
内槽２４とから構成され、内槽２４の底部から純水を導
入して内槽２４の上縁から溢流させつつ純水中にウエハ
又はウエハを収容したカセットを浸漬してウエハを流水
方式で純水洗浄する。ＢＨＦ槽１２と第１流水槽１４と
の間には、図４に示すように、ウエハから滴下したＢＨ
Ｆ液を受けるためにパレット状の受け板２６が設けてあ
る。受け板２６は、図４に示すように、周囲に周囲壁２
８を巡らせた皿状体であって、受けた液をＢＨＦ槽１２
の外槽１８又は流水槽１４の外槽２２に落とすドレン管
３０Ａ、Ｂが設けてある。
図４に示すように、外槽２２と外槽２２内に収容された
内槽２４とから構成され、内槽２４の底部から純水を導
入して内槽２４の上縁から溢流させつつ純水中にウエハ
又はウエハを収容したカセットを浸漬してウエハを流水
方式で純水洗浄する。ＢＨＦ槽１２と第１流水槽１４と
の間には、図４に示すように、ウエハから滴下したＢＨ
Ｆ液を受けるためにパレット状の受け板２６が設けてあ
る。受け板２６は、図４に示すように、周囲に周囲壁２
８を巡らせた皿状体であって、受けた液をＢＨＦ槽１２
の外槽１８又は流水槽１４の外槽２２に落とすドレン管
３０Ａ、Ｂが設けてある。
【０００７】第２の種類の洗浄装置４０は、図３（ｂ）
に示すように、バッチ洗浄方式でウエハをウエットエッ
チングする装置で、ＲＣＡ洗浄を行うＲＣＡ洗浄装置を
前洗浄装置として備え、その下流に、第１の種類の洗浄
装置１０と同じように構成された、ＢＨＦ槽１２、第１
流水槽１４、第２流水槽１６、及び乾燥装置１７を備え
ている。
に示すように、バッチ洗浄方式でウエハをウエットエッ
チングする装置で、ＲＣＡ洗浄を行うＲＣＡ洗浄装置を
前洗浄装置として備え、その下流に、第１の種類の洗浄
装置１０と同じように構成された、ＢＨＦ槽１２、第１
流水槽１４、第２流水槽１６、及び乾燥装置１７を備え
ている。
【０００８】ＲＣＡ洗浄装置は、第１ＲＣＡ洗浄槽４２
と、第３流水槽４４と、第２ＲＣＡ洗浄槽４６と、第４
流水槽４８とを備えている。第１ＲＣＡ洗浄槽４２で
は、アンモニア水と過酸化水素水と水との混液からなる
洗浄液でウエハを洗浄する。第３流水槽４４では、第１
ＲＣＡ洗浄槽４２で洗浄したウエハを純水洗浄する。第
２ＲＣＡ洗浄４６では、塩酸と過酸化水素水と水との混
液からなる洗浄液でウエハを洗浄する。第４流水槽４８
では、第２ＲＣＡ洗浄槽４６で洗浄したウエハを純水洗
浄する。
と、第３流水槽４４と、第２ＲＣＡ洗浄槽４６と、第４
流水槽４８とを備えている。第１ＲＣＡ洗浄槽４２で
は、アンモニア水と過酸化水素水と水との混液からなる
洗浄液でウエハを洗浄する。第３流水槽４４では、第１
ＲＣＡ洗浄槽４２で洗浄したウエハを純水洗浄する。第
２ＲＣＡ洗浄４６では、塩酸と過酸化水素水と水との混
液からなる洗浄液でウエハを洗浄する。第４流水槽４８
では、第２ＲＣＡ洗浄槽４６で洗浄したウエハを純水洗
浄する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
のＢＨＦ液による洗浄装置には、滴下したＢＨＦ液の結
晶化という問題があった。即ち、ＢＨＦ槽１２で洗浄処
理したウエハを隣の第１流水槽１４に移送する際、ウエ
ハやカセットからＢＨＦ液の雫が、内槽２０の蓋２１又
は受け板２６上に落ちる。ＢＨＦ液は、結晶化し易い性
質を持っているため、ＢＨＦ液の液滴が付着し、水分が
蒸発すると、ＢＨＦの結晶が、蓋２１或いは受け板２６
上で生成し、固着する。ウエハの洗浄処理を続けて行く
うちに、ＢＨＦ結晶が蓋或いは受け板上に堆積し、成長
する。そして、蓋に堆積し、成長した結晶が、脱離して
ＢＨＦ槽内に入って、ＢＨＦ液の組成を変化させたり、
ＢＨＦ槽１２から第１流水槽１４に搬送中のウエハ或い
はカセットが受け板上に堆積した結晶に当たって、円滑
な搬送ができなくなったりする。
のＢＨＦ液による洗浄装置には、滴下したＢＨＦ液の結
晶化という問題があった。即ち、ＢＨＦ槽１２で洗浄処
理したウエハを隣の第１流水槽１４に移送する際、ウエ
ハやカセットからＢＨＦ液の雫が、内槽２０の蓋２１又
は受け板２６上に落ちる。ＢＨＦ液は、結晶化し易い性
質を持っているため、ＢＨＦ液の液滴が付着し、水分が
蒸発すると、ＢＨＦの結晶が、蓋２１或いは受け板２６
上で生成し、固着する。ウエハの洗浄処理を続けて行く
うちに、ＢＨＦ結晶が蓋或いは受け板上に堆積し、成長
する。そして、蓋に堆積し、成長した結晶が、脱離して
ＢＨＦ槽内に入って、ＢＨＦ液の組成を変化させたり、
ＢＨＦ槽１２から第１流水槽１４に搬送中のウエハ或い
はカセットが受け板上に堆積した結晶に当たって、円滑
な搬送ができなくなったりする。
【００１０】従来のＢＨＦ液による洗浄装置では、この
ような問題があるために、定期的に洗浄装置の運転を中
止して、堆積した結晶を純水で洗い流すことが必要であ
った。この結果、洗浄作業の能率が低下し、従って、ウ
エハの洗浄コストが高くなるという問題があった。
ような問題があるために、定期的に洗浄装置の運転を中
止して、堆積した結晶を純水で洗い流すことが必要であ
った。この結果、洗浄作業の能率が低下し、従って、ウ
エハの洗浄コストが高くなるという問題があった。
【００１１】そこで、本発明の目的は、搬送中のウエハ
から滴下したＢＨＦ液の結晶化を防止した、ＢＨＦ洗浄
槽を含むバッチ式多槽型洗浄装置を提供することであ
る。
から滴下したＢＨＦ液の結晶化を防止した、ＢＨＦ洗浄
槽を含むバッチ式多槽型洗浄装置を提供することであ
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るバッチ式多槽型洗浄装置は、フッ酸
（ＨＦ）とフッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）との混合液
からなるＢＨＦ液を洗浄液として収容し、ＢＨＦ液で被
洗浄体を洗浄するＢＨＦ槽と、ＢＨＦ槽の隣に設けら
れ、ＢＨＦ槽でＢＨＦ液により洗浄した被洗浄体を純水
で流水洗浄する流水洗浄槽とを備え、被洗浄体を洗浄す
るバッチ式多槽型洗浄装置において、ＢＨＦ槽の蓋板に
沿って純水を噴出する純水ノズルを設けたことを特徴と
している。
に、本発明に係るバッチ式多槽型洗浄装置は、フッ酸
（ＨＦ）とフッ化アンモニウム（ＮＨ4 Ｆ）との混合液
からなるＢＨＦ液を洗浄液として収容し、ＢＨＦ液で被
洗浄体を洗浄するＢＨＦ槽と、ＢＨＦ槽の隣に設けら
れ、ＢＨＦ槽でＢＨＦ液により洗浄した被洗浄体を純水
で流水洗浄する流水洗浄槽とを備え、被洗浄体を洗浄す
るバッチ式多槽型洗浄装置において、ＢＨＦ槽の蓋板に
沿って純水を噴出する純水ノズルを設けたことを特徴と
している。
【００１３】本発明では、好適には、純水ノズルは、多
数のノズル孔を備えたノズル管として形成され、ノズル
管がＢＨＦ槽の蓋板の一方の縁部に設けられ、純水は蓋
板の一方の縁部から他方の縁部に向かって流れ、他方の
縁部から流下するようにする。
数のノズル孔を備えたノズル管として形成され、ノズル
管がＢＨＦ槽の蓋板の一方の縁部に設けられ、純水は蓋
板の一方の縁部から他方の縁部に向かって流れ、他方の
縁部から流下するようにする。
【００１４】本発明の好適な実施態様では、更に、ＢＨ
Ｆ槽と流水洗浄槽との間に設けられたパレット状の洗浄
液受け板に沿って純水を噴出する第２の純水ノズルを設
ける。好適には、第２の純水ノズルは、多数のノズル孔
を備えたノズル管として形成され、ノズル管が受け板の
中央又は一方の縁部に設けられ、純水は中央から両縁部
に向かって流れ、両縁部から流下するか、又は一方の縁
部から他方の縁部に向かって流れ、他方の縁部から流下
するようにする。
Ｆ槽と流水洗浄槽との間に設けられたパレット状の洗浄
液受け板に沿って純水を噴出する第２の純水ノズルを設
ける。好適には、第２の純水ノズルは、多数のノズル孔
を備えたノズル管として形成され、ノズル管が受け板の
中央又は一方の縁部に設けられ、純水は中央から両縁部
に向かって流れ、両縁部から流下するか、又は一方の縁
部から他方の縁部に向かって流れ、他方の縁部から流下
するようにする。
【００１５】本発明に係るバッチ式多槽型洗浄装置は、
被洗浄体の種類、形式に係わらず適用できるが、ウエハ
又はカセットに収容されたウエハの洗浄に最適である。
被洗浄体の種類、形式に係わらず適用できるが、ウエハ
又はカセットに収容されたウエハの洗浄に最適である。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下に、実施形態例を挙げ、添付
図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつ詳細
に説明する。実施形態例 本実施形態例は、本発明に係るバッチ式多槽型洗浄装置
の実施形態の一例であって、図１はＢＨＦ槽の内槽の蓋
に設けた純水ノズルの構成を示す斜視図、図２は受け板
に設けた純水ノズルの構成を示す斜視図である。本実施
形態例のバッチ式多槽型洗浄装置は、ウエハを洗浄する
装置であって、ＢＨＦ槽の内槽の蓋及びＢＨＦ槽と第１
流水槽との間の洗浄液受け板に純水ノズルを設けたこと
を除いて、従来のバッチ式多槽型洗浄装置１０又は４０
と同じ構成を備える。
図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつ詳細
に説明する。実施形態例 本実施形態例は、本発明に係るバッチ式多槽型洗浄装置
の実施形態の一例であって、図１はＢＨＦ槽の内槽の蓋
に設けた純水ノズルの構成を示す斜視図、図２は受け板
に設けた純水ノズルの構成を示す斜視図である。本実施
形態例のバッチ式多槽型洗浄装置は、ウエハを洗浄する
装置であって、ＢＨＦ槽の内槽の蓋及びＢＨＦ槽と第１
流水槽との間の洗浄液受け板に純水ノズルを設けたこと
を除いて、従来のバッチ式多槽型洗浄装置１０又は４０
と同じ構成を備える。
【００１７】第１の純水ノズル５０は、図１に示すよう
に、多数のノズル孔５０ａを備えたノズル管として形成
され、ＢＨＦ槽１２の観音開きの蓋２１の片側扉２１ａ
の一方の縁部２１ｂに沿って設けられている。第１のノ
ズル管５０の一方の端部には、純水を供給する純水供給
管５２が接続されている。また、片側扉２１ａの上面に
は他方の縁部２１ｃを除く周囲に周囲壁５４が設けてあ
る。純水供給管５２から供給された純水は、第１のノズ
ル管５０のノズル孔５０ａから噴出して、片側扉２１ａ
上を他方の縁部２１ｃに向かって流れ、他方の縁部２１
ｃから流下するようにする。なお、図示しないが、他方
の片側扉２１ｂにも、片側扉２１ａと同様の構成で純水
ノズルが設けてある。
に、多数のノズル孔５０ａを備えたノズル管として形成
され、ＢＨＦ槽１２の観音開きの蓋２１の片側扉２１ａ
の一方の縁部２１ｂに沿って設けられている。第１のノ
ズル管５０の一方の端部には、純水を供給する純水供給
管５２が接続されている。また、片側扉２１ａの上面に
は他方の縁部２１ｃを除く周囲に周囲壁５４が設けてあ
る。純水供給管５２から供給された純水は、第１のノズ
ル管５０のノズル孔５０ａから噴出して、片側扉２１ａ
上を他方の縁部２１ｃに向かって流れ、他方の縁部２１
ｃから流下するようにする。なお、図示しないが、他方
の片側扉２１ｂにも、片側扉２１ａと同様の構成で純水
ノズルが設けてある。
【００１８】第２の純水ノズル５６は、図２に示すよう
に、多数のノズル孔５６ａを備えたノズル管として形成
され、洗浄液受け板２６の中央に設けられてる。第２の
ノズル管５６の一方の端部には、純水を供給する純水供
給管５８が、接続されている。純水供給管５８から供給
された純水は、第２のノズル管５６のノズル孔５６ａか
ら噴出して受け板２６上を両縁部に向かって流れ、両縁
部のドレン管３０Ａ、Ｂから流下する。
に、多数のノズル孔５６ａを備えたノズル管として形成
され、洗浄液受け板２６の中央に設けられてる。第２の
ノズル管５６の一方の端部には、純水を供給する純水供
給管５８が、接続されている。純水供給管５８から供給
された純水は、第２のノズル管５６のノズル孔５６ａか
ら噴出して受け板２６上を両縁部に向かって流れ、両縁
部のドレン管３０Ａ、Ｂから流下する。
【００１９】本実施形態例では、常時又は定期的に、或
いは不定期で、純水を第１のノズル管５０及び第２のノ
ズル管５６から噴出させる。以上の構成により、蓋板２
１及び受け板２６上に滴下したＢＨＦ液が純水により洗
い流され、結晶化することはない。従って、従来のバッ
チ式多槽型洗浄装置のように蓋板２１及び受け板２６に
ＢＨＦの結晶が堆積して、前述した種々の不都合を引き
起こすようなことはない。
いは不定期で、純水を第１のノズル管５０及び第２のノ
ズル管５６から噴出させる。以上の構成により、蓋板２
１及び受け板２６上に滴下したＢＨＦ液が純水により洗
い流され、結晶化することはない。従って、従来のバッ
チ式多槽型洗浄装置のように蓋板２１及び受け板２６に
ＢＨＦの結晶が堆積して、前述した種々の不都合を引き
起こすようなことはない。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、ＢＨＦ槽と流水槽とを
備えたバッチ式多槽型洗浄装置で、ＢＨＦ槽の蓋板に沿
って純水を噴出する純水ノズルを設け、また、ＢＨＦ槽
と流水洗浄槽との間に設けられたパレット状の洗浄液受
け板に沿って純水を噴出する第２の純水ノズルを設ける
ことにより、ＢＨＦ槽の蓋板及び受け板上に滴下したＢ
ＨＦ液が結晶化し、堆積することがない。よって、結晶
混入によりＢＨＦ液の組成が変動して、エッチングレー
トが変動したり、ウエハやカセットが堆積した結晶に当
たって発生する搬送不都合を防止することができる。
備えたバッチ式多槽型洗浄装置で、ＢＨＦ槽の蓋板に沿
って純水を噴出する純水ノズルを設け、また、ＢＨＦ槽
と流水洗浄槽との間に設けられたパレット状の洗浄液受
け板に沿って純水を噴出する第２の純水ノズルを設ける
ことにより、ＢＨＦ槽の蓋板及び受け板上に滴下したＢ
ＨＦ液が結晶化し、堆積することがない。よって、結晶
混入によりＢＨＦ液の組成が変動して、エッチングレー
トが変動したり、ウエハやカセットが堆積した結晶に当
たって発生する搬送不都合を防止することができる。
【図１】ＢＨＦ槽の内槽の蓋に設けた純水ノズルの構成
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図２】受け板に設けた純水ノズルの構成を示す斜視図
である。
である。
【図３】図３（ａ）は第１の種類のバッチ式多槽型洗浄
装置の構成を示すブロック図、及び図３（ｂ）は第２の
バッチ式多槽型洗浄装置の構成を示すブロック図であ
る。
装置の構成を示すブロック図、及び図３（ｂ）は第２の
バッチ式多槽型洗浄装置の構成を示すブロック図であ
る。
【図４】ＢＨＦ槽及び流水槽の構成を示す斜視図であ
る。
る。
【図５】ＢＨＦ槽の内槽の蓋板の構成を示す斜視図であ
る。
る。
【符号の説明】 １０……ＲＣＡ洗浄装置を備えないバッチ式多槽型洗浄
装置、１２……ＢＨＦ槽、１４……第１流水槽、１６…
…第２流水槽、１７……乾燥装置、１８……外槽、２０
……内槽、２０ａ……内槽の一方の上縁、２０ｂ……内
槽の他方の上縁、２１……蓋板、２１ａ……一方の片側
扉、２１ｂ……他方の片側扉、２２……外槽、２４……
内槽、２６……パレット状の受け板、２８……周囲壁、
３０……ドレン管、４０……ＲＣＡ洗浄装置を備えたバ
ッチ式多槽型洗浄装置、４２……第１ＲＣＡ洗浄槽、４
４……第３流水槽、４６……第２ＲＣＡ洗浄槽、４８…
…第４流水槽、５０……第１の純水ノズル、５０ａ……
ノズル孔、５２……純水供給管、５４……周囲壁、５６
……第２の純水ノズル、５６ａ……ノズル孔、５８……
純水供給管。
装置、１２……ＢＨＦ槽、１４……第１流水槽、１６…
…第２流水槽、１７……乾燥装置、１８……外槽、２０
……内槽、２０ａ……内槽の一方の上縁、２０ｂ……内
槽の他方の上縁、２１……蓋板、２１ａ……一方の片側
扉、２１ｂ……他方の片側扉、２２……外槽、２４……
内槽、２６……パレット状の受け板、２８……周囲壁、
３０……ドレン管、４０……ＲＣＡ洗浄装置を備えたバ
ッチ式多槽型洗浄装置、４２……第１ＲＣＡ洗浄槽、４
４……第３流水槽、４６……第２ＲＣＡ洗浄槽、４８…
…第４流水槽、５０……第１の純水ノズル、５０ａ……
ノズル孔、５２……純水供給管、５４……周囲壁、５６
……第２の純水ノズル、５６ａ……ノズル孔、５８……
純水供給管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/308 Ｇ 21/308 21/306 Ｊ
Claims (3)
- 【請求項１】 フッ酸（ＨＦ）とフッ化アンモニウム
（ＮＨ4 Ｆ）との混合液からなるＢＨＦ液を洗浄液とし
て収容し、ＢＨＦ液で被洗浄体を洗浄するＢＨＦ槽と、
ＢＨＦ槽の隣に設けられ、ＢＨＦ槽でＢＨＦ液により洗
浄した被洗浄体を純水で流水洗浄する流水洗浄槽とを備
え、被洗浄体を洗浄するバッチ式多槽型洗浄装置におい
て、 ＢＨＦ槽の蓋板に沿って純水を噴出する純水ノズルを設
けたことを特徴とするバッチ式多槽型洗浄装置。 - 【請求項２】 更に、ＢＨＦ槽と流水洗浄槽との間に設
けられたパレット状の洗浄液受け板に沿って純水を噴出
する第２の純水ノズルを設けたことを特徴とする請求項
１に記載のバッチ式多槽型洗浄装置。 - 【請求項３】 被洗浄体がウエハ又はカセットに収容さ
れたウエハであることを特徴とする請求項１又は２に記
載のバッチ式多槽型洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028205A JP2000228378A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | バッチ式多槽型洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028205A JP2000228378A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | バッチ式多槽型洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000228378A true JP2000228378A (ja) | 2000-08-15 |
Family
ID=12242170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11028205A Pending JP2000228378A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | バッチ式多槽型洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000228378A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107369619A (zh) * | 2016-05-12 | 2017-11-21 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件及制备方法、电子装置 |
-
1999
- 1999-02-05 JP JP11028205A patent/JP2000228378A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107369619A (zh) * | 2016-05-12 | 2017-11-21 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件及制备方法、电子装置 |
| CN107369619B (zh) * | 2016-05-12 | 2021-04-23 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件及制备方法、电子装置 |
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