JP2000212136A - 1,3―ビス(アミノフェノキシベンゼン)の再結晶法 - Google Patents
1,3―ビス(アミノフェノキシベンゼン)の再結晶法Info
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- JP2000212136A JP2000212136A JP2000005397A JP2000005397A JP2000212136A JP 2000212136 A JP2000212136 A JP 2000212136A JP 2000005397 A JP2000005397 A JP 2000005397A JP 2000005397 A JP2000005397 A JP 2000005397A JP 2000212136 A JP2000212136 A JP 2000212136A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/14—Purification; Separation; Use of additives by crystallisation; Purification or separation of the crystals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C213/10—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業的規模で高収率において純度が99%を
超えるAPBを製造する方法を提供する。 【解決手段】1,3−ビス(アミノフェノキシベンゼ
ン)(APB)を工業的規模で少なくとも99.5%の
純度に精製する方法であって、(a)APBの二塩酸塩
(以下、APB−HCl)を形成し、(b)このAPB
−HClをイソプロピルアルコールから再結晶し、そし
て(c)APB−HClを遊離APBに変換する連続工
程を含む方法。
超えるAPBを製造する方法を提供する。 【解決手段】1,3−ビス(アミノフェノキシベンゼ
ン)(APB)を工業的規模で少なくとも99.5%の
純度に精製する方法であって、(a)APBの二塩酸塩
(以下、APB−HCl)を形成し、(b)このAPB
−HClをイソプロピルアルコールから再結晶し、そし
て(c)APB−HClを遊離APBに変換する連続工
程を含む方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、1,3−ビス(ア
ミノフェノキシベンゼン)を再結晶して99.5%以上
の純度を得る方法である。
ミノフェノキシベンゼン)を再結晶して99.5%以上
の純度を得る方法である。
【0002】
【従来の技術】1,3−ビス(アミノフェノキシベンゼ
ン)、すなわちAPBは、耐熱性高分子量ポリマー(特
にポリアミドおよびポリイミド)の製造に用いる重要な
モノマーである。APB製造方法では99%に近い純度
の生成物が得られる;しかしこの純度ですら、生成物は
なお多環式化合物、単官能性化合物および高分子量ター
ルなどの副生物を含有する可能性がある。これらの副生
物が存在すると、このモノマーから製造したポリイミド
の最終分子量が低下する。蒸留法はこの純度を高める;
しかしこのモノマーは固体であるため、工業的規模(man
ufacturing scale)の蒸留法ではモノマーが蒸留装置内
で結晶化するという問題がしばしば起きる。清掃は時間
の損失および収率の損失を生じる。
ン)、すなわちAPBは、耐熱性高分子量ポリマー(特
にポリアミドおよびポリイミド)の製造に用いる重要な
モノマーである。APB製造方法では99%に近い純度
の生成物が得られる;しかしこの純度ですら、生成物は
なお多環式化合物、単官能性化合物および高分子量ター
ルなどの副生物を含有する可能性がある。これらの副生
物が存在すると、このモノマーから製造したポリイミド
の最終分子量が低下する。蒸留法はこの純度を高める;
しかしこのモノマーは固体であるため、工業的規模(man
ufacturing scale)の蒸留法ではモノマーが蒸留装置内
で結晶化するという問題がしばしば起きる。清掃は時間
の損失および収率の損失を生じる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって、工業的規
模で高収率において純度が99%を超える方法によりA
PBを提供できれば、高分子量ポリイミドを製造するた
めに有利であろう。
模で高収率において純度が99%を超える方法によりA
PBを提供できれば、高分子量ポリイミドを製造するた
めに有利であろう。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、1,3−ビス
(アミノフェノキシベンゼン)(APB)を工業的規模
で少なくとも99.5%の純度に精製する方法である。
(アミノフェノキシベンゼン)(APB)を工業的規模
で少なくとも99.5%の純度に精製する方法である。
【0005】本方法は、(a)APBの二塩酸塩(以
下、APB−HCl)を形成し、(b)このAPB−H
Clをイソプロピルアルコールから再結晶し、(c)A
PB−HClを遊離APBに変換する、連続工程を含
む。
下、APB−HCl)を形成し、(b)このAPB−H
Clをイソプロピルアルコールから再結晶し、(c)A
PB−HClを遊離APBに変換する、連続工程を含
む。
【0006】APBの合成経路では、通常は固形分80
〜90%であって残りは反応をその中で行った有機溶媒
である粗製APBが得られる。一般に溶媒はキシレンで
ある。工業的規模の操作では、純度と高収率の両方を得
るのは困難である。本発明による工業的規模でのAPB
精製のための再結晶法では、高純度と良好な収率が両方
とも達成される。
〜90%であって残りは反応をその中で行った有機溶媒
である粗製APBが得られる。一般に溶媒はキシレンで
ある。工業的規模の操作では、純度と高収率の両方を得
るのは困難である。本発明による工業的規模でのAPB
精製のための再結晶法では、高純度と良好な収率が両方
とも達成される。
【0007】工程(a).粗製APB精製の第1工程
は、APBの塩酸塩の形成である。本発明の実施に用い
た粗製APBについては、HPLC(高圧液体クロマト
グラフィー)によるアッセイは90〜95%であった。
適切な方法は以下を伴う:粗製APBを15〜16%塩
酸水溶液に添加する。これはAPBに対し化学量論的に
少なくとも30%過剰である。この混合物を約75℃に
加熱してすべての固体を溶解し、溶液を約50℃に冷却
する。この温度で、溶液にAPB−HClを播種し、次
いでさらに約10℃に、またはAPB−HClが溶液か
ら結晶化するまで冷却する。化学量論的に30%過剰よ
り少ないHClを用いると、APB−HCl塩がペース
ト様凝集体を形成して操作が困難になる可能性がある。
は、APBの塩酸塩の形成である。本発明の実施に用い
た粗製APBについては、HPLC(高圧液体クロマト
グラフィー)によるアッセイは90〜95%であった。
適切な方法は以下を伴う:粗製APBを15〜16%塩
酸水溶液に添加する。これはAPBに対し化学量論的に
少なくとも30%過剰である。この混合物を約75℃に
加熱してすべての固体を溶解し、溶液を約50℃に冷却
する。この温度で、溶液にAPB−HClを播種し、次
いでさらに約10℃に、またはAPB−HClが溶液か
ら結晶化するまで冷却する。化学量論的に30%過剰よ
り少ないHClを用いると、APB−HCl塩がペース
ト様凝集体を形成して操作が困難になる可能性がある。
【0008】液体から結晶を回収するために当技術分野
において既知である任意の手段、たとえば真空濾過また
は遠心分離により、結晶を採集する。真空濾過または遠
心分離を採用する場合、液体がそれ以上回収されなくな
るまで操作を続ける。結晶をイソプロピルアルコールで
すすぐ。通常は1回で十分である。一般的かつ十分なす
すぎ液の量は結晶の20重量%であるが、この量は厳密
ではなく、約20重量%程度のいかなる量も適切であろ
う。
において既知である任意の手段、たとえば真空濾過また
は遠心分離により、結晶を採集する。真空濾過または遠
心分離を採用する場合、液体がそれ以上回収されなくな
るまで操作を続ける。結晶をイソプロピルアルコールで
すすぐ。通常は1回で十分である。一般的かつ十分なす
すぎ液の量は結晶の20重量%であるが、この量は厳密
ではなく、約20重量%程度のいかなる量も適切であろ
う。
【0009】工程(b).次いでAPB−HCl結晶を
イソプロピルアルコールから再結晶する。完全に乾燥し
たAPB−HClはイソプロピルアルコールに不溶であ
る;したがって、結晶生成物は再結晶を行うのに十分な
水を含有しなければならない。結晶を工程(a)で採集
した際に完全に乾燥させない限り、HCl水溶液から残
った水が結晶と共に存在するであろう。本発明を実施す
る際、約10〜15重量%の水が結晶と共に残れば、再
結晶に用いるイソプロピルアルコールに結晶が溶解しう
ることが見出された。あるいは、その量の水をイソプロ
ピルアルコールに添加してもよい。
イソプロピルアルコールから再結晶する。完全に乾燥し
たAPB−HClはイソプロピルアルコールに不溶であ
る;したがって、結晶生成物は再結晶を行うのに十分な
水を含有しなければならない。結晶を工程(a)で採集
した際に完全に乾燥させない限り、HCl水溶液から残
った水が結晶と共に存在するであろう。本発明を実施す
る際、約10〜15重量%の水が結晶と共に残れば、再
結晶に用いるイソプロピルアルコールに結晶が溶解しう
ることが見出された。あるいは、その量の水をイソプロ
ピルアルコールに添加してもよい。
【0010】結晶をイソプロピルアルコールに1:1.
2〜1.6の重量比(APB−HCl:イソプロピルア
ルコール)で添加し、APB−HClが溶解するまで7
0〜75℃の温度に加熱する。この溶液を約50℃に冷
却し、APB−HClを溶液に播種する。バッチサイズ
に関係なく4〜5時間かけて、50℃から約10℃に溶
液を冷却し、APB−HClを結晶化する。溶液から結
晶を回収し、イソプロピルアルコールですすぐ。1回で
十分である。一般的かつ十分なすすぎ液の量は結晶の2
0重量%であるが、この量は厳密ではなく、この領域の
いかなる量も適切であろう。プロセスのこの段階で、収
率は約65〜70%である。
2〜1.6の重量比(APB−HCl:イソプロピルア
ルコール)で添加し、APB−HClが溶解するまで7
0〜75℃の温度に加熱する。この溶液を約50℃に冷
却し、APB−HClを溶液に播種する。バッチサイズ
に関係なく4〜5時間かけて、50℃から約10℃に溶
液を冷却し、APB−HClを結晶化する。溶液から結
晶を回収し、イソプロピルアルコールですすぐ。1回で
十分である。一般的かつ十分なすすぎ液の量は結晶の2
0重量%であるが、この量は厳密ではなく、この領域の
いかなる量も適切であろう。プロセスのこの段階で、収
率は約65〜70%である。
【0011】これより高い収率を得たい場合、すすぎ液
イソプロピルアルコールを母液である濾液に装入し、さ
らにAPB−HClを結晶化する。すすぎ液を含むイソ
プロピルアルコール母液を70〜75℃の温度に加熱す
る。酢酸エチルを、酢酸エチル:イソプロピルアルコー
ルの重量比1〜1.25:1で、溶液の温度が65〜7
5℃に維持される速度で添加する。酢酸エチルの添加
後、この溶液を約50℃に冷却し、次いでAPB−HC
l結晶を播種する。溶液を約10℃に冷却して、APB
−HClをさらに結晶化する。APB−HCl結晶の形
成後、工程(a)のすすぎ工程と同様に結晶を採集し、
イソプロピルアルコールですすぐ。前記のように少量の
水を結晶に保持させ、先に得た結晶と合わせる。この更
なる工程で、最終的に収率が70〜75%に高まる。
イソプロピルアルコールを母液である濾液に装入し、さ
らにAPB−HClを結晶化する。すすぎ液を含むイソ
プロピルアルコール母液を70〜75℃の温度に加熱す
る。酢酸エチルを、酢酸エチル:イソプロピルアルコー
ルの重量比1〜1.25:1で、溶液の温度が65〜7
5℃に維持される速度で添加する。酢酸エチルの添加
後、この溶液を約50℃に冷却し、次いでAPB−HC
l結晶を播種する。溶液を約10℃に冷却して、APB
−HClをさらに結晶化する。APB−HCl結晶の形
成後、工程(a)のすすぎ工程と同様に結晶を採集し、
イソプロピルアルコールですすぐ。前記のように少量の
水を結晶に保持させ、先に得た結晶と合わせる。この更
なる工程で、最終的に収率が70〜75%に高まる。
【0012】工程(c).この工程では、APB−HC
l結晶を遊離APBに変換する。APB−HCl結晶を
約40℃の水に溶解する。十分な水の体積は、工程
(b)でそれから結晶を沈殿させたイソプロピルアルコ
ールの体積の約2倍であろう。結晶は溶液が室温に冷却
した後ですら溶解したままである。
l結晶を遊離APBに変換する。APB−HCl結晶を
約40℃の水に溶解する。十分な水の体積は、工程
(b)でそれから結晶を沈殿させたイソプロピルアルコ
ールの体積の約2倍であろう。結晶は溶液が室温に冷却
した後ですら溶解したままである。
【0013】所望により、この時点で、APB−HCl
溶液を木炭:APB−HClの重量比1〜2:100の
脱色用木炭で処理することができる。木炭を室温で溶液
に添加し、約2時間撹拌する。木炭を濾過により除去す
る。
溶液を木炭:APB−HClの重量比1〜2:100の
脱色用木炭で処理することができる。木炭を室温で溶液
に添加し、約2時間撹拌する。木炭を濾過により除去す
る。
【0014】木炭で処理したか否かにかかわらず、溶存
APB−HClの溶液を以下により処理する:APB−
HCl結晶の溶液を、水中7.5重量%水酸化ナトリウ
ム(苛性ソーダ水溶液)およびイソプロピルアルコール
の溶液に添加する。この溶液は、苛性ソーダ水溶液:イ
ソプロピルアルコールの重量比3.5〜4:1である。
この重量比で混合物は相分離しない。苛性ソーダ水溶液
およびイソプロピルアルコールへの添加は、バッチサイ
ズに関係なく約4〜6時間かけて徐々に行われる。イソ
プロピルアルコールの存在により、遊離APBが微細な
白色粉末として沈殿する。イソプロピルアルコールが存
在しないと、遊離APBは塊の多いスラッジまたは油と
して沈殿する。
APB−HClの溶液を以下により処理する:APB−
HCl結晶の溶液を、水中7.5重量%水酸化ナトリウ
ム(苛性ソーダ水溶液)およびイソプロピルアルコール
の溶液に添加する。この溶液は、苛性ソーダ水溶液:イ
ソプロピルアルコールの重量比3.5〜4:1である。
この重量比で混合物は相分離しない。苛性ソーダ水溶液
およびイソプロピルアルコールへの添加は、バッチサイ
ズに関係なく約4〜6時間かけて徐々に行われる。イソ
プロピルアルコールの存在により、遊離APBが微細な
白色粉末として沈殿する。イソプロピルアルコールが存
在しないと、遊離APBは塊の多いスラッジまたは油と
して沈殿する。
【0015】精製した遊離APBを採集し、冷水に懸濁
して塩類を溶解除去する。この水の量は厳密ではなく、
工程(b)でAPB−HCl結晶を再結晶するのに用い
たイソプロピルアルコールの量の約2倍で十分であるこ
とが認められた。結晶を採集し、同様な体積の温水に再
懸濁し、次いで採集する。
して塩類を溶解除去する。この水の量は厳密ではなく、
工程(b)でAPB−HCl結晶を再結晶するのに用い
たイソプロピルアルコールの量の約2倍で十分であるこ
とが認められた。結晶を採集し、同様な体積の温水に再
懸濁し、次いで採集する。
【0016】生成物を70〜80℃で乾燥させ、HPL
Cによりアッセイすると、99.5%より高い純度であ
り、粗製の出発APBを基準として70〜75%の収率
である。
Cによりアッセイすると、99.5%より高い純度であ
り、粗製の出発APBを基準として70〜75%の収率
である。
【0017】種々の純度のモノマーAPBおよびジアン
ヒドリドから出発してポリイミドを製造する一連の合成
反応を行い、得られた分子量(インヘレント粘度により
示す)は下記のように記録された:
ヒドリドから出発してポリイミドを製造する一連の合成
反応を行い、得られた分子量(インヘレント粘度により
示す)は下記のように記録された:
【0018】
【表1】
【0019】インヘレント粘度は分子量と相関し、下記
により測定される: インヘレント粘度=In(RV)/conc. 式中のIn(RV)は相対粘度の自然対数であり、相対
粘度は溶媒粘度に対する溶液粘度の比であり、con
c.はポリイミド濃度(g/dl溶媒)である。
により測定される: インヘレント粘度=In(RV)/conc. 式中のIn(RV)は相対粘度の自然対数であり、相対
粘度は溶媒粘度に対する溶液粘度の比であり、con
c.はポリイミド濃度(g/dl溶媒)である。
【0020】合成ポリイミドについての目標は0.45
より高かった。上記のデータから分かるように、アッセ
イ純度が少なくとも99.5%である場合にのみ分子量
は目標分子量を充たすのに十分なほど高かった。
より高かった。上記のデータから分かるように、アッセ
イ純度が少なくとも99.5%である場合にのみ分子量
は目標分子量を充たすのに十分なほど高かった。
Claims (1)
- 【請求項1】 1,3−ビス(アミノフェノキシベンゼ
ン)を少なくとも99.5%の純度および少なくとも7
0%の収率において工業的規模で製造する方法であっ
て、 (a)1,3−ビス(アミノフェノキシベンゼン)をそ
の塩酸塩に変換し、 (b)1,3−ビス(アミノフェノキシベンゼン)の塩
酸塩をイソプロピルアルコールから再結晶し、 (c)この塩酸塩を純粋な遊離1,3−ビス(アミノフ
ェノキシベンゼン)に再変換し、そして (d)工程(b)のイソプロピルアルコールから (i)このイソプロピルアルコールに酢酸エチルを、酢
酸エチル:イソプロピルアルコールの重量比1〜1.2
5:1で添加し、 (ii)約50℃の温度でこの溶液にAPB−HCl結
晶を播種し、 (iii)溶液を約10℃に冷却して更なるAPB−H
Cl結晶を沈殿させ、そして (iv)APB−HCl結晶を採集することにより更な
る収量を回収することを含む方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/231039 | 1999-01-14 | ||
US09/231,039 US6008413A (en) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | Process for recrystallizing 1,3-bis(aminophenoxy benzene) |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000212136A true JP2000212136A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=22867543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000005397A Pending JP2000212136A (ja) | 1999-01-14 | 2000-01-14 | 1,3―ビス(アミノフェノキシベンゼン)の再結晶法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6008413A (ja) |
EP (1) | EP1020428A1 (ja) |
JP (1) | JP2000212136A (ja) |
KR (1) | KR20000053467A (ja) |
CN (1) | CN1269354A (ja) |
SG (1) | SG74760A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2271612B1 (en) * | 2008-03-31 | 2016-08-10 | Actavis Group PTC EHF | Rasagiline mesylate particles and process for the preparation thereof |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4692554A (en) * | 1983-10-18 | 1987-09-08 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for producing 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene |
JPS6351363A (ja) * | 1986-08-21 | 1988-03-04 | Tekukemu:Kk | アミノ基を有するジフエニ−ル化合物の製造方法 |
JP2849464B2 (ja) * | 1990-10-19 | 1999-01-20 | 三井化学株式会社 | 1,3‐ビス(3‐アミノフェノキシ)ベンゼンの薄膜蒸留による精製方法 |
JPH0995533A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Maruzen Petrochem Co Ltd | 無色透明性ポリイミド樹脂材料およびそれを用いたフィルムまたはコーティング膜 |
-
1999
- 1999-01-14 US US09/231,039 patent/US6008413A/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-22 SG SG1999006493A patent/SG74760A1/en unknown
- 1999-12-29 EP EP99126135A patent/EP1020428A1/en not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-01-13 CN CN00102835A patent/CN1269354A/zh active Pending
- 2000-01-13 KR KR1020000001449A patent/KR20000053467A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-01-14 JP JP2000005397A patent/JP2000212136A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000053467A (ko) | 2000-08-25 |
US6008413A (en) | 1999-12-28 |
CN1269354A (zh) | 2000-10-11 |
SG74760A1 (en) | 2000-08-22 |
EP1020428A1 (en) | 2000-07-19 |
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