JP2000206708A - レジスト剥離装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノズルから噴射される剥離液でレジストを剥
離する剥離室を一つしか装備せずに、剥離室を複数備え
たレジスト剥離装置と同等の処理を行うことを可能に
し、レジスト剥離装置の小型化を図る。 【解決手段】 剥離室２内にはガラス基板３を水平に支
持する搬送ローラ４が多数配設され、搬送ローラ４を挟
んで上下両側にシャワーノズル９を備えたパイプ７，８
が配設されている。剥離室２の下方に配設された収容タ
ンク13，14内の剥離液は供給配管16，17、電磁弁18，19
及び配管15を介してパイプ７，８に供給され、回収配管
28及び電磁弁29，30を介して収容タンク13，14に回収さ
れる。収容タンク13，14内の剥離液は供給配管16，17、
フィルタ22，23、分岐配管24，25及び電磁弁26，27を介
して自己循環される。各電磁弁18等は制御装置により収
容タンク13，14の剥離液を交互にシャワーノズル９に供
給するように制御される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置等のフ
ラットパネルディスプレイのパネル基板やＩＣ素子用基
板等の製造工程の一工程であるエッチング工程の際に保
護膜として使用されたレジスト（マスキング材）を基板
から除去する湿式タイプのレジスト剥離装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種のレジスト剥離装置として
は、基板を剥離液に浸すディップ式と、基板に剥離液を
噴射するシャワー式（スプレー式）とがある。ディップ
式では図５に示すように、剥離液５１が収容された複数
の剥離槽５２にガラス基板５３を順次浸して、徐々にレ
ジストを溶かして剥離する。

【０００３】シャワー式では図６に示すように、ガラス
基板５３を水平状態で搬送する搬送ローラ５４と、搬送
ローラ５４上のガラス基板に向けて剥離液を噴射するノ
ズル５５を備えた複数の剥離室５６が設けられている。
そして、ガラス基板５３は一定方向へ搬送され、各剥離
室５６を通過する間にノズル５５から噴射される剥離液
によって徐々にレジストが剥離される。各剥離室５６の
下方にはタンク５７が配設され、各剥離室５６のノズル
５５から噴射された剥離液はタンク５７に回収され、再
循環して使用される。剥離槽５２及び剥離室５６の数は
４個に限らず２個のものもある。ディップ式及びシャワ
ー式とも剥離液は所定数のガラス基板の処理を行うまで
は再使用される。

【０００４】また、特開平７−２４９６０２号公報には
図７に示すような薄膜装置が開示されている。この薄膜
装置は膨潤化装置５８及び薄膜装置５９を備え、ガラス
基板５３は膨潤化装置５８の膨潤液を通過した後、薄膜
装置５９へ搬送される。そして、ノズル５５から噴射さ
れる剥離液によりガラス基板５３からレジストが剥離さ
れる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ディップ式及びシャワ
ー式とも剥離液は所定数のガラス基板の処理を行うまで
は再使用されるため、剥離槽５２及び剥離室５６を１個
とすると、完全に溶解しない状態でガラス基板から除去
されたレジストがガラス基板に再付着して次の工程に搬
送されてトラブルを引き起こす。そのため、ディップ式
及びシャワー式ともレジストの半分以上を剥離するため
の粗剥離用と、残ったレジストを完全に剥離するための
本剥離用との少なくとも２個、即ち複数の剥離槽５２又
は剥離室５６を設ける必要があった。ところが、剥離槽
５２又は剥離室５６を複数設けるとレジスト剥離装置の
サイズが大きくなるとともに、装置の製造コストの増大
につながる。また、液晶製造工程ではレジスト剥離工程
が複数あり、レジスト剥離装置のサイズが大きくなる
と、装置の設置に必要な床面積もその分増加する。その
結果、レジスト剥離装置が設置されるクリーンルームの
スペースを拡げる必要があり、クリーンルームの建設費
及びクリーンルーム内を清浄に保持するためのランニン
グコストが増大するという問題があった。

【０００６】一方、特開平７−２４９６０２号公報に開
示された薄膜装置では剥離室は一つであるが、膨潤処理
を行う膨潤化装置５８が必要となり、剥離室を２つ設け
たものと同様に装置の設置に必要な床面積が増加する。

【０００７】本発明は前記の問題点に鑑みてなされたも
のであって、その目的はノズルから噴射される剥離液で
レジストを剥離する剥離室を一つしか装備せずに、剥離
室を複数備えたレジスト剥離装置と同等の処理を行うこ
とができレジスト剥離装置の小型化を図ることができる
レジスト剥離装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明では、一つの剥離室内におい
て支持部上に水平に支承された状態の被洗浄基板に剥離
液をノズルから噴射して前記被洗浄基板上のレジスト被
膜を剥離するレジスト剥離装置であって、前記ノズルか
ら噴射する剥離液を収容する複数の収容タンクと、各収
容タンクのいずれか一つの収容タンクから剥離液を前記
ノズルに選択的に供給する供給手段と、前記供給手段に
より剥離室内に噴射された剥離液をその剥離液を供給し
た収容タンクへ回収する回収手段とを備えた。

【０００９】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の発明において、前記各収容タンクはフィルタを備え
た自己循環回路を備え、収容タンク内の剥離液が前記ノ
ズルへ供給されていないときに、収容タンク内の剥離液
を前記自己循環回路で循環させる。

【００１０】請求項３に記載の発明では、請求項１又は
請求項２に記載の発明において、前記供給手段は前記ノ
ズルが設けられた共通配管と各収容タンクとを連結する
とともに途中に電磁弁が設けられた供給配管と、前記剥
離室と各収容タンクとを連結するとともに途中に電磁弁
が設けられた回収配管とを備え、前記各供給配管及び回
収配管に設けられた電磁弁はそれぞれ同じ収容タンクに
対応する電磁弁同士が同じ開閉制御信号で制御され、か
つ一つの収容タンクと対応する電磁弁のみが開放状態と
なるように制御される。

【００１１】従って、請求項１に記載の発明では、被洗
浄基板は一つの剥離室内において支持部上に水平に支承
された状態でノズルから噴射される剥離液によってレジ
ストが剥離される。ノズルから噴射される剥離液は複数
の収容タンクに収容されており、いずれか一つの収容タ
ンクの剥離液が供給手段によって選択的にノズルに供給
される。供給手段により剥離室内に噴射された剥離液
は、その剥離液を供給した収容タンクへ回収手段により
回収される。そして、複数の収容タンクの剥離液が所定
時間ずつ順にノズルに供給される。

【００１２】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の発明において、各収容タンク内の剥離液が前記ノズ
ルへ供給されていないときには、当該収容タンク内の剥
離液は自己循環回路を循環し、剥離液内に含まれる不完
全溶解状態のレジストがフィルタで捕捉される。捕捉さ
れたレジストはフィルタの定期的な交換又は清掃により
除去される。

【００１３】請求項３に記載の発明では、請求項１又は
請求項２に記載の発明において、各収容タンク内の剥離
液は供給配管及び共通配管を経てノズルに供給され、剥
離室内に噴射された剥離液は回収配管を経て収容タンク
に回収される。各収容タンク内の剥離液は、当該収容タ
ンクと対応する供給配管の電磁弁が開放された状態でノ
ズルに供給される。供給配管の電磁弁が開放されたとき
は当該収容タンクと対応する回収配管の電磁弁も開放さ
れ、ノズルから剥離室内に噴射された剥離液は当該収容
タンクに回収される。同じ収容タンクに対応する電磁弁
同士が同じ開閉制御信号で制御される。また、一つの収
容タンクと対応する電磁弁のみが開放状態となるように
制御される。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
の形態を図１〜図３に従って説明する。図１に示すよう
に、レジスト剥離装置１は一つの剥離室２を備えてい
る。剥離室２内には被洗浄基板としてのガラス基板３を
水平に支持する支持部としての搬送ローラ４が多数平行
に配設されている。各搬送ローラ４は図示しない駆動手
段により回転駆動され、かつ回転方向が切換可能に構成
されている。剥離室２にはガラス基板３の搬入口５及び
搬出口６が対向する位置に配設されている。

【００１５】剥離室２内には搬送ローラ４の上方及び下
方に共通配管を構成するパイプ７，８が搬送ローラ４と
直交する方向に沿って延設されている。図２に示すよう
に、パイプ７，８はそれぞれ複数本（この実施の形態で
は３本）ずつ配設されている。下方に配設されたパイプ
８はガラス基板３の剥離室２内での移動方向の長さとほ
ぼ同じ長さの範囲に配設され、各パイプ８には分岐パイ
プ８ａを介して複数のノズルとしてのシャワーノズル９
が連結されている。上方に配設されたパイプ７は下方に
配設されたパイプ８より長い範囲に配設され、各パイプ
７には複数のシャワーノズル９が所定間隔でそれぞれフ
レキシブルチューブ１０を介して連結されている。

【００１６】図３（ａ），（ｂ）に示すように、パイプ
７の下方にはフレキシブルチューブ１０の近傍において
パイプ７と直交する状態で水平に往復動されるリンク１
１が、各パイプ７に連結されたフレキシブルチューブ１
０と対応して設けられている。各リンク１１にはパイプ
７の配設ピッチと等しい間隔をおいて上下方向に延びる
長孔１１ａが形成されている。各フレキシブルチューブ
１０は長孔１１ａに沿って摺動可能な係合部１２ａを備
えた連結部材１２が所定位置に固定され、連結部材１２
を介してリンク１１と連結されている。そして、図示し
ない駆動手段によってリンク１１が往復駆動され、各シ
ャワーノズル９がパイプ７の延びる方向と直交する方
向、即ちガラス基板３の移動方向と直交する方向に揺動
されるようになっている。

【００１７】剥離室２の下方にはシャワーノズル９から
噴射する剥離液を収容する複数（この実施の形態では２
つ）の収容タンク１３，１４が配設されている。剥離液
には使用されたレジストに対応した溶液が使用され、両
収容タンク１３，１４内の剥離液は同じ組成のものが使
用される。第１の収容タンク１３内の剥離液は、粗剥
離、即ち剥離室２内に搬入されたガラス基板３に最初に
噴射してレジストを剥離するのに使用される。第２の収
容タンク１４内の剥離液は、本剥離、即ち粗剥離終了後
のガラス基板３に噴射してレジストをガラス基板３から
完全に剥離するのに使用される。剥離液は所定枚数のガ
ラス基板３を処理するまで再使用され、かつ粗剥離でガ
ラス基板３から剥離されるレジスト量が多いため、レジ
ストの剥離処理が行われた後は、第１の収容タンク１３
内の剥離液中のレジスト濃度が第２の収容タンク１４内
の剥離液中のレジスト濃度より高くなる。

【００１８】各パイプ７，８はパイプ７，８とともに共
通配管を構成する配管１５及び第１の供給配管１６を介
して第１の収容タンク１３に連結され、配管１５及び第
２の供給配管１７を介して第２の収容タンク１４に連結
されている。各供給配管１６，１７の途中にはそれぞれ
電磁弁１８，１９が設けられるとともに、電磁弁１８，
１９より収容タンク１３，１４寄りに圧送ポンプ２０，
２１が設けられている。また、各供給配管１６，１７に
は電磁弁１８，１９と圧送ポンプ２０，２１との間にフ
ィルタ２２，２３が設けられている。配管１５、供給配
管１６，１７、電磁弁１８，１９及び圧送ポンプ２０，
２１により、各収容タンク１３，１４のいずれか一つの
収容タンクから剥離液をシャワーノズル９に選択的に供
給する供給手段が構成されている。

【００１９】各供給配管１６，１７には電磁弁１８，１
９とフィルタ２２，２３との間に分岐配管２４，２５が
それぞれ連結され、各分岐配管２４，２５の途中には電
磁弁２６，２７が設けられている。供給配管１６，１
７、圧送ポンプ２０，２１、フィルタ２２，２３、分岐
配管２４，２５及び電磁弁２６，２７により自己循環回
路が構成されている。自己循環回路は収容タンク１３，
１４内の剥離液がシャワーノズル９へ供給されていない
ときに、収容タンク１３，１４内の剥離液を循環させ
る。

【００２０】剥離室２はその底壁がシャワーノズル９か
ら噴射された剥離液を集め易い形状に形成されるととも
に、剥離室２と各収容タンク１３，１４とを連結する回
収配管２８の一端が底壁に接続されている。回収配管２
８は途中で二股に分岐され、各分岐管２８ａ，２８ｂを
介して収容タンク１３，１４に接続されている。各分岐
管２８ａ，２８ｂの途中にそれぞれ電磁弁２９，３０が
設けられている。

【００２１】前記各電磁弁１８，１９，２６，２７，２
９，３０は図示しない制御装置に電気的に接続され、制
御装置からの制御信号により開閉制御される。供給配管
１６，１７に設けられた電磁弁１８，１９及び回収配管
２８に設けられた電磁弁２９，３０はそれぞれ同じ収容
タンク１３，１４に対応する電磁弁同士が同じ開閉制御
信号で制御され、かつ一つの収容タンクと対応する電磁
弁のみが開放状態となるように制御される。即ち、電磁
弁１８及び電磁弁２９が同時に開放状態（励磁状態）又
は閉じた状態（消磁状態）となり、電磁弁１９及び電磁
弁３０が同時に開放状態（励磁状態）又は閉じた状態
（消磁状態）となり、かつ電磁弁１８，２９と電磁弁１
９，３０とはいずれか一方の組が開放状態となる。ま
た、電磁弁２６は電磁弁１８が、電磁弁２７は電磁弁１
９がそれぞれ閉じた状態のときに開放状態（励磁状態）
となり、電磁弁１８又は電磁弁１９が開放状態のときに
閉じた状態（消磁状態）となるように制御される各収容
タンク１３，１４にはそれぞれバルブ３１ａ，３２ａを
備えた供給管３１，３２と、バルブ３３ａ，３４ａを備
えた排出管３３，３４とが連結されている。排出管３４
には第２の収容タンク１４内の剥離液を第１の収容タン
ク１３に移送する移送配管３５が、バルブ３４ａより収
容タンク１４寄りにおいて連結されている。移送配管３
５には圧送ポンプ３６及びバルブ３７が設けられてい
る。バルブ３７は逆止め機能を備えている。また、各収
容タンク１３，１４には液面計３８，３９が装備されて
いる。

【００２２】次に前記のように構成されたレジスト剥離
装置１の作用を説明する。エッチング工程でエッチング
処理が完了したガラス基板３は搬入口５から１枚ずつ剥
離室２内に送り込まれ、搬送ローラ４に支承された状態
で剥離室２内を搬送ローラ４の正転及び逆転に伴って往
復移動される。そして、シャワーノズル９から噴射され
る剥離液によってレジストが剥離（除去）された後、搬
出口６から搬出されて、図示しないリンス工程へ送り込
まれる。

【００２３】レジスト剥離装置１の運転中、両圧送ポン
プ２０，２１は連続運転される。制御装置は図示しない
センサからの検出信号に基づいて剥離室２内にガラス基
板３が搬入されたことを検知すると、粗剥離を行うよう
に、即ち第１の収容タンク１３内の剥離液をシャワーノ
ズル９へ供給し、第２の収容タンク１４内の剥離液が自
己循環されるように各電磁弁１８，１９，２６，２７，
２９，３０に励磁指令信号又は消磁指令信号を出力す
る。そして、収容タンク１３内の剥離液は供給配管１
６、圧送ポンプ２０、フィルタ２２、電磁弁１８、配管
１５及びパイプ７，８を経てシャワーノズル９から噴射
される。噴射された剥離液は剥離室２の底部に集めら
れ、回収配管２８及び電磁弁２９を経て収容タンク１３
に回収される。粗剥離によりレジスト皮膜の大部分がガ
ラス基板３から剥離される。一方、第２の収容タンク１
４内の剥離液は供給配管１７、圧送ポンプ２１、フィル
タ２３、電磁弁２７を経て収容タンク１４に戻る自己循
環を行う。

【００２４】第１の収容タンク１３内の剥離液をシャワ
ーノズル９から所定時間供給した後、制御装置は本剥離
を行うため第２の収容タンク１４内の剥離液をシャワー
ノズル９へ供給し、第１の収容タンク１３内の剥離液が
自己循環されるように各電磁弁１８，１９，２６，２
７，２９，３０に励磁指令信号又は消磁指令信号を出力
する。そして、収容タンク１４内の剥離液は供給配管１
７、圧送ポンプ２１、フィルタ２３、電磁弁１９、配管
１５及びパイプ７，８を経てシャワーノズル９から噴射
される。噴射された剥離液は剥離室２の底部に集めら
れ、回収配管２８及び電磁弁３０を経て収容タンク１４
に回収される。本剥離によりレジストがガラス基板３か
ら完全に剥離される。一方、第１の収容タンク１３内の
剥離液は供給配管１６、圧送ポンプ２０、フィルタ２
２、電磁弁２６を経て収容タンク１３に戻る自己循環を
行う。

【００２５】所定時間本剥離が行われた後、制御装置は
ガラス基板３が搬出口６から搬出され、かつ次のガラス
基板３が搬入口５から剥離室２内に搬入されたことを図
示しないセンサにより検知すると、再び前記と同様にし
て粗剥離を行う状態に電磁弁１８等を切り換える。以
下、前記と同様にして順次レジストの剥離処理が行われ
る。粗剥離の時間は本剥離の時間より短く、例えば両者
の比は４：６に設定されているが、粗剥離で大部分のレ
ジストが剥離される。

【００２６】レジスト剥離装置１の運転中、パイプ７が
揺動されるとともに、搬送ローラ４の往復回転に伴うガ
ラス基板３の往復移動により、シャワーノズル９から噴
射された剥離液がガラス基板３のレジスト付着面（上
面）に満遍なく当たる。パイプ８から噴射された剥離液
はガラス基板３の上面から剥離されたレジストがガラス
基板３の下面に再付着するのを防止する役割を果たすも
のであるため、上面に比較して剥離液がかかる割合はす
くなくても差し支えない。

【００２７】粗剥離及び本剥離の際、レジストは全てが
徐々に溶解されてガラス基板３から剥離（除去）される
のではなく、一部はシャワーノズル９から噴射された剥
離液により塊となってガラス基板３上から剥離する。塊
となって剥離されたレジストは不完全溶解状態でフィル
タ２２，２３で捕捉され、フィルタ２２，２３の定期的
な交換又は清掃により除去される。

【００２８】各収容タンク１３，１４内の剥離液に溶解
したレジストの濃度が高くなり過ぎた状態で、剥離液の
交換をせずにそのまま処理を継続すると剥離処理に支障
を来すため、所定枚数のガラス基板３の剥離処理が行わ
れた段階で、各収容タンク１３，１４内の剥離液が交換
される。剥離液を交換する際は、各圧送ポンプ２０，２
１，３６が停止された状態でバルブ３３ａが開放され、
第１の収容タンク１３内の剥離液が排出管３３から排出
される。次にバルブ３３ａが閉じられた後、バルブ３７
が開放されるとともに圧送ポンプ３６が駆動され、第２
の収容タンク１４内の剥離液が移送配管３５を介して第
１の収容タンク１３へ移送される。第２の収容タンク１
４内の剥離液の移送が完了した後、バルブ３７が閉じら
れるとともに圧送ポンプ３６が停止される。次にバルブ
３２ａが開放されて供給管３２から新しい剥離液が第２
の収容タンク１４に供給され、所定量供給された後にバ
ルブ３２ａが閉じられる。即ち、粗剥離で使用された剥
離液は廃棄され、本剥離で使用された剥離液が新たな粗
剥離用の剥離液として再使用される。一方、本剥離用の
剥離液には、新しい剥離液が使用される。

【００２９】シャワーノズル９から噴射された剥離液
は、一部がガラス基板３に付着した状態で持ち去られる
ため、各収容タンク１３，１４内の剥離液量が液面計３
８，３９により計測され、所定の液量以下になるとレジ
スト剥離装置１の運転が一時停止され、当該収容タンク
１３，１４に供給管３１，３２から剥離液が所定量供給
される。

【００３０】この実施の形態では以下の効果を有する。 （１） シャワーノズル９を備えた剥離室２を一つと
し、複数の収容タンク１３，１４のいずれか一つの収容
タンク内の剥離液をシャワーノズル９に選択的に供給す
るとともに、剥離液を当該収容タンクに回収するように
した。従って、剥離室２を一つしか装備せずに、剥離室
２を複数備えたレジスト剥離装置と同等の処理を行うこ
とができ、レジスト剥離装置の小型化とレジスト剥離装
置１の製造コストの低減とが可能になる。また、レジス
ト剥離装置１の設置に必要な床面積が小さくなるため、
レジスト剥離装置１が設置されるクリーンルームのスペ
ースを小さくでき、クリーンルームの建設費及びクリー
ンルーム内を清浄に保持するためのランニングコストを
低減できる。

【００３１】（２） 各収容タンク１３，１４内の剥離
液がシャワーノズル９へ供給されていないときには、当
該収容タンク内の剥離液は自己循環回路を循環し、剥離
液内に含まれる不完全溶解状態のレジストがフィルタ２
２，２３で捕捉され、フィルタ２２，２３の定期的な交
換又は清掃により除去される。従って、同じ枚数のガラ
ス基板３のレジスト剥離処理を行った後に剥離液に溶解
しているレジスト量が、自己循環を行わない装置に比較
して少なくなり、剥離液の寿命を伸ばすことができる。

【００３２】（３） 供給配管１６，１７及び回収配管
２８に設けられた電磁弁１８，１９，２９，３０はそれ
ぞれ同じ収容タンク１３，１４に対応する電磁弁１８，
２９及び電磁弁１９，３０同士が同じ開閉制御信号で制
御され、かつ一つの収容タンクと対応する電磁弁のみが
開放状態となるように制御される。従って、各収容タン
ク１３，１４内の剥離液の循環経路の切換制御が簡単に
なる。

【００３３】（４） 第１の収容タンク１３は常に粗剥
離用の剥離液を収容し、第２の収容タンク１４は常に本
剥離用の剥離液を収容する。従って、両収容タンク１
３，１４で交互に粗剥離用の剥離液と本剥離用の剥離液
とを収容する構成に比較して、本剥離用の剥離液を収容
する収容タンクが汚れ難くなる。

【００３４】（５） 回収配管２８を経て収容タンク１
３，１４内に回収された後、再び供給配管１６，１７へ
送り出された剥離液に含まれる不完全溶解状態のレジス
トはフィルタ２２，２３で捕捉される。従って、シャワ
ーノズル９から噴射される剥離液に不完全溶解状態のレ
ジストが混入することはなく、本剥離処理を受けるガラ
ス基板３に不完全溶解状態のレジストが再付着する虞が
ない。

【００３５】なお、実施の形態は前記に限定されるもの
ではなく、例えば、次のように具体化してもよい。 ○ 本剥離用の剥離液を収容する第２の収容タンク１４
内の剥離液を粗剥離用の剥離液を収容する第１の収容タ
ンク１３へ移送するために専用の圧送ポンプ３６を設け
ず、第２の収容タンク１４用の圧送ポンプ２１を移送用
に使用可能な配管構成とする。例えば、図４に示すよう
に、分岐配管２５に収容タンク１３に連通する分岐管４
０を連結し、分岐管４０の途中に電磁弁４０ａを設け
る。そして、第２の収容タンク１４内の剥離液を第１の
収容タンク１３へ移送するときは、電磁弁１９，２７を
閉じ、電磁弁４０ａを開放した状態で圧送ポンプ２１を
駆動する。電磁弁１９，２７，４０ａが供給配管１７を
流れる剥離液を収容タンク１３へ供給するように切り換
える切換手段を構成する。この場合、第２の収容タンク
１４内の剥離液を第１の収容タンク１３へ移送するため
の専用の圧送ポンプ３６が不要となる。なお、分岐管４
０を分岐配管２５から分岐する代わりに圧送ポンプ２１
より下流側の供給配管１７から分岐させてもよい。

【００３６】○ 図４に示すように、剥離室２内にその
底部に向かって剥離液を供給するノズル４１を設けても
よい。これによって粘度が高くなった処理済液が剥離室
２の底部に残らないように洗い流すことができる。

【００３７】○ 剥離液の交換時期を処理枚数で管理す
る代わりに、収容タンク１３，１４の剥離液中に溶解し
たレジスト濃度を測定し、測定値が所定の値に達した時
点で剥離液の交換を行う。この場合、処理枚数で管理す
る場合に比較して剥離液を有効に使用することができ
る。

【００３８】○ 収容タンクを２個設けた場合、一方の
収容タンク１３を粗剥離用の剥離液専用とし、他方の収
容タンク１４を本剥離用の剥離液専用とする代わりに、
剥離液の交換時期がくる毎にそれまで本剥離用に使用し
ていた収容タンクを粗剥離用とし、他方の収容タンクを
本剥離用とする。この場合、それまで粗剥離用として使
用されていた収容タンク内の剥離液を廃棄して新しい剥
離液を供給するだけで、他方の収容タンク１４から一方
の収容タンク１３への剥離液の移送が不要になる。

【００３９】○ 搬送ローラ４を一方向回転可能とし、
剥離室２内にガラス基板３が搬入された後、搬送ローラ
４の回転速度を微速としてガラス基板３が所定時間剥離
液の噴射を受けながら移動される構成としてもよい。ま
た、搬送ローラ４を一方向回転可能とし、剥離室２内に
ガラス基板３が搬入された後、搬送ローラ４を停止させ
た状態で所定時間ガラス基板３に剥離液を噴射する構成
としてもよい。

【００４０】○ 液面計３８，３９を設けずに、所定枚
数処理する毎に剥離液を各収容タンクに所定量ずつ補給
するようにしてもよい。 ○ 電磁弁１８，１９，２６，２７，２９，３０，４０
ａに代えて手動バルブを設けてもよい。

【００４１】○ 電磁弁１８，１９，２６，２７を各供
給配管１６，１７及び各分岐配管２４，２５毎に設ける
代わりに、方向切換弁を各供給配管１６，１７に設け、
圧送ポンプ２０，２１から送り出される剥離液を配管１
５へ供給する状態と、分岐配管２４，２５へ供給する状
態とに切り換える構成とする。この場合、剥離液をシャ
ワーノズル９へ供給する状態と、剥離液の自己循環を行
わせる状態との切換が確実になされる。また、電磁弁２
９，３０を設ける代わりに、方向切換弁を回収配管２８
に設け、剥離室２から回収される剥離液を所望の分岐管
２８ａ，２８ｂ側へ供給する状態に切り換えるようにし
てもよい。

【００４２】○ フィルタ２２，２３を設ける位置は圧
送ポンプ２０，２１の下流側に限らず、上流側に設けて
もよい。 ○ 自己循環回路を省略してもよい。即ち、分岐配管２
４，２５及び電磁弁２６，２７を省略してもよい。

【００４３】○ 収容タンクの数は２個に限らず３個以
上であってもよい。前記実施の形態から把握できる請求
項記載以外の発明（技術思想）について、以下にその効
果とともに記載する。

【００４４】（１） 請求項１〜請求項３のいずれか一
項に記載の発明において、前記収容タンクは２個設けら
れ、一方の収容タンクは粗剥離用の剥離液専用に使用さ
れ、他方の収容タンクは本剥離用の剥離液専用に使用さ
れる。この場合、両収容タンクが粗剥離用の剥離液と本
剥離用の剥離液とを交互に収容する構成に比較して、本
剥離用の剥離液を収容する収容タンクが汚れ難くなる。

【００４５】（２） （１）に記載の発明において、前
記他方の収容タンクの剥離液を前記ノズルに供給する供
給配管の途中に、該供給配管を流れる剥離液を一方の収
容タンクへ供給するように切り換える切換手段が設けら
れている。この場合、専用の圧送ポンプを設けずに、他
方の収容タンク内の本剥離液を一方の収容タンクへ移送
することができる。

【００４６】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１〜請求項
３に記載の発明によれば、ノズルから噴射される剥離液
でレジストを剥離する剥離室を一つしか装備せずに、剥
離室を複数備えたレジスト剥離装置と同等の処理を行う
ことができレジスト剥離装置の小型化を図ることができ
る。

【００４７】請求項２に記載の発明によれば、剥離液内
に含まれる不完全溶解状態のレジストをフィルタで捕捉
して除去することにより、剥離液の寿命を伸ばすことが
できる。

【００４８】請求項３に記載の発明によれば、各収容タ
ンク内の剥離液の循環経路の切換制御が簡単になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 一実施の形態の概略構成図。

【図２】 ノズルが連結されたパイプの配置を示す模式
平面図。

【図３】 （ａ）はノズルの揺動機構を示す部分模式正
面図、（ｂ）は同じく側面図。

【図４】 別の実施の形態のレジスト剥離装置の概略構
成図。

【図５】 従来のレジスト剥離装置の模式側面図。

【図６】 別の従来のレジスト剥離装置の模式側面図。

【図７】 別の従来のレジスト剥離装置の模式側面図。

【符号の説明】

１…レジスト剥離装置、２…剥離室、３…被洗浄基板と
してのガラス基板、４…支持部としての搬送ローラ、
７，８…共通配管としてのパイプ、９…ノズルとしての
シャワーノズル、１３，１４…収容タンク、１５…供給
手段を構成する配管、１６，１７…供給手段及び自己循
環回路を構成する供給配管、１８，１９…供給手段を構
成する電磁弁、２０，２１…供給手段及び自己循環回路
を構成する圧送ポンプ、２２，２３…同じくフィルタ、
２４，２５…自己循環回路を構成する分岐配管、２６，
２７…同じく電磁弁、２８…回収配管、２９，３０…電
磁弁。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一つの剥離室内において支持部上に水平
   に支承された状態の被洗浄基板に剥離液をノズルから噴
   射して前記被洗浄基板上のレジスト被膜を剥離するレジ
   スト剥離装置であって、 前記ノズルから噴射する剥離液を収容する複数の収容タ
   ンクと、 各収容タンクのいずれか一つの収容タンクから剥離液を
   前記ノズルに選択的に供給する供給手段と、 前記供給手段により剥離室内に噴射された剥離液をその
   剥離液を供給した収容タンクへ回収する回収手段とを備
   えたレジスト剥離装置。
2. 【請求項２】 前記各収容タンクはフィルタを備えた自
   己循環回路を備え、収容タンク内の剥離液が前記ノズル
   へ供給されていないときに、収容タンク内の剥離液を前
   記自己循環回路で循環させる請求項１に記載のレジスト
   剥離装置。
3. 【請求項３】 前記供給手段は前記ノズルが設けられた
   共通配管と各収容タンクとを連結するとともに途中に電
   磁弁が設けられた供給配管と、前記剥離室と各収容タン
   クとを連結するとともに途中に電磁弁が設けられた回収
   配管とを備え、前記各供給配管及び回収配管に設けられ
   た電磁弁はそれぞれ同じ収容タンクに対応する電磁弁同
   士が同じ開閉制御信号で制御され、かつ一つの収容タン
   クと対応する電磁弁のみが開放状態となるように制御さ
   れる請求項１又は請求項２に記載のレジスト剥離装置。