KR100510350B1 - 레지스트 박리 장치 - Google Patents

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KR100510350B1
KR100510350B1 KR10-2003-0049225A KR20030049225A KR100510350B1 KR 100510350 B1 KR100510350 B1 KR 100510350B1 KR 20030049225 A KR20030049225 A KR 20030049225A KR 100510350 B1 KR100510350 B1 KR 100510350B1
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나카가와토시모토
오카와슈
모리타사토루
고바야카와아수유키
기쿠가와마코토
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나가세 상교오 가부시키가이샤
가부시키가이샤 히라마리카겐큐죠
나가세 씨엠에스 테크놀로지 가부시키가이샤
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Abstract

레지스트 박리 장치는 연이어 설치된 복수의 레지스트 박리 챔버를 갖는 레지스트 박리계에 린스 챔버를 갖는 린스계가 설치된 것이다. 레지스트 박리 챔버 내는 질소 가스 공급계로부터의 질소 가스로 퍼지된다. 챔버 내에서 생긴 수계 레지스트 박리액 성분을 포함하는 혼합 가스는 액 회수 공급계로 보내져, 기체 액체 분리된다. 회수 레지스트 박리액은 박리액 통으로 다시 들어와, 분리 가스는 챔버 내의 가스 나이프에 공급되어, 기판의 액 제한에 사용된다.

Description

레지스트 박리 장치{Resist stripping apparatus}
본 발명은 반도체 제조 공정 등에 있어서 기판 상의 레지스트를 박리하기 위해 사용되는 레지스트 박리 장치에 관한 것이다.
반도체 장치의 제조 공정이나 플랫 패널 디스플레이(FPD) 기판의 제조 공정 등에 있어서의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 레지스트 재료에는, 노광에 의해 가용화하는 포지티브형과, 노광에 의해 불용화하는 네거티브형이 있으며, 주로 포지티브형이 다용되고 있다. 포지티브형 레지스트의 대표예로서는, 나프토퀴논디아지드계 감광제와 알칼리 가용성 수지(노볼락 수지)를 주성분으로 하는 것을 들 수 있다.
이러한 포토리소그래피 공정의 최종 단계에서는, 레지스트를 기판으로부터 완전히 박리할 필요가 있으며, 예를 들면, 산소 플라스마에 의한 드라이 애싱(ashing) 공정과 레지스트 박리액에 의한 습식 박리 공정이 병용되고 있다. 산소 플라스마에 의한 드라이 애싱 공정을 거친 기판에 있어서는, 실리콘 산화물이나 알루미늄 산화물이 생성된다. 따라서, 계속해서 실시되는 습식 박리 공정에서는, 레지스트를 박리할 뿐만 아니라 금속 산화물을 완전히 제거할 필요가 있다.
일반적으로, 반도체 장치나 FPD 기판 제조에 있어서의 레지스트 박리 공정에서는, 레지스트 박리액으로서, 유기 알칼리나 유기 용제를 조합한 용액(비수계 레지스트 박리액)이 다용되어 있고, 또한, 이러한 용액에 적당량의 물을 첨가한 용액(수계 레지스트 박리액)도 사용된다.
구체적으로는, 레지스트 박리액에 사용되는 유기 성분으로서 이하의 것을 예시할 수 있다. 즉, 유기 알칼리로서, 알카놀아민류, 디글리콜아민류 등을 들 수 있고, 유기 용제로서, 디메틸설폭시드, N-메틸피롤리든, 글리콜에테르류를 들 수 있으며, 필요에 따라서 각종 첨가제가 가해져서 사용된다.
또한, 수계 레지스트 박리액은 이들과 더불어, 주성분으로서 순물을 포함하는 것이다. 또한, 비수계 레지스트 박리액은 통상 70 내지 90℃에서 사용된다. 한편, 수계 레지스트 박리액은 통상 30 내지 65℃에서 사용된다.
여기서, 도 3은 이러한 레지스트 박리액을 사용한 종래의 레지스트 박리 장치의 일례를 도시하는 구성도이다. 이 장치(70)는 다단으로 설치된 복수의 레지스트 박리 챔버(71) 및 여기에 인접된 린스 챔버(72)를 구비하고 있다. 각 레지스트 박리 챔버(71) 내에는 레지스트 박리액(RO)을 저장하는 각 박리액 통(73)에 접속된 스프레이(91)가 설치되어 있다. 레지스트 박리액(RO)은 레지스트 박리액 공급계(81)로부터 박리액 통(73)에 공급된다.
또한, 린스 챔버(72)에는 순물 통(75)에 접속된 스프레이(95)가 설치되어 있다. 순물 통(75)은 순물 공급계(82)로부터 린스 챔버(72)에 공급된다. 더욱이, 각 레지스트 박리 챔버(71)는 드라이 에어 공급계(83)에 접속된 가스 나이프를 가짐과 동시에, 배기계(84)에 접속되어 있다.
이러한 레지스트 박리 장치(70)에서는, 반도체 기판 등의 기판(W)이 롤러 컨베이어에 의해 각 레지스트 박리 챔버(71) 내를 도시 화살표(Y)에서 도시하는 방향으로 이송되는 동안에, 스프레이(91)로부터 레지스트 박리액(RO)이 기판 표면에 분출되어, 기판(W) 상의 레지스트가 박리·제거된다. 용해 레지스트를 포함하는 레지스트 박리액(RO)은 박리액 통(73)에 회수되고, 순환 사용된 후, 필요에 따라서 드레인계(85)로 배출된다.
또한, 기판(W) 상에는 가스 나이프(가스가 공기인 경우, 일반적으로 '에어 나이프'라 불리고 있다.)로부터 드라이 에어가 분출되어, 부착한 레지스트 박리액(RO)이 액 제한되어 후단의 레지스트 박리 챔버(71)에 이송되어, 마지막으로, 린스 챔버(72) 내에서 수세된다. 이 때, 각 챔버(71, 72) 내로부터 레지스트 박리액(RO)의 미스트를 포함하는 공기(혼합 가스)가 배기계(84)에 의해 대량으로 배기된다. 그에 따라, 최전단의 레지스트 박리 챔버(71) 및 린스 챔버(72)의 외부로부터 공기(A)가 흡입된다.
그런데, 레지스트 박리액에 사용되는 성분의 비점은 유기 알칼리나 유기 용제에서는 160 내지 250℃ 정도이고, 물이 100℃이다. 따라서, 종래 장치(70)의 레지스트 박리 챔버(71)로부터 배출되는 혼합 가스에는 레지스트 박리액(RO) 중의 저비점 성분(비수계 레지스트 박리액에서는 알카놀아민류 등, 수계 레지스트 박리액에서는 수분)이 우선적으로 증발한다.
이들 증발 성분 및 스프레이 미스트를 동반하는 혼합 가스는 배기계(84)에 의해 장치계 밖으로 배출되기 때문에, 레지스트 박리액(RO) 중 이들 저비점 성분의 농도가 저하하여, 그 농도 변동을 발생시켜버린다.
이렇게 되면, 레지스트 박리 성능이 서서히 저하하는 경향에 있으며, 이것을 방지하도록 레지스트 박리액(RO)의 유효 성분을 적극적으로 보충하거나, 일정한 빈도로 레지스트 박리액(RO)을 교환하거나 하는 조작이 필요해진다.
그 결과, 레지스트 박리액(RO)의 사용량이 증대함과 동시에, 그 농도 관리 등에 번잡한 조작·작업을 요해버린다. 더욱이, 대량으로 배기된 혼합 가스 중의 유기 성분을 처리하기 위한 배기 처리 설비가 필요해져버린다.
그래서, 본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 레지스트 박리액에 포함되는 유효 성분의 농도 변동을 방지할 수 있고, 또한, 레지스트 박리액의 사용량을 삭감할 수 있음과 동시에, 배기 가스 처리량을 저감하는 것이 가능한 레지스트 박리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 의한 레지스트 박리 장치는 (1) 레지스트가 피착한 기판이 수용되어, 그 기판 상에 레지스트 박리액이 공급되는 레지스트 박리 챔버와, (2) 레지스트 박리 챔버에 접속되어 있고, 그 레지스트 박리 챔버 내의 레지스트 박리액 성분을 포함하는 혼합 가스가 도입되어, 그 혼합 가스 중의 레지스트 박리액 성분이 분리되는 기체 액체 분리부와, (3) 기체 액체 분리부에 접속되어 있고, 분리된 레지스트 박리액 성분을 레지스트 박리 챔버 내에 공급하는 회수 레지스트 박리액 공급부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
이렇게 구성된 레지스트 박리 장치에 있어서는, 레지스트 박리 챔버에 수용된 기판 상에 레지스트 박리액이 공급되어, 기판에 피착한 레지스트가 박리·제거된다. 이 때, 레지스트 박리 챔버의 내부에는 스프레이 미스트와 레지스트 박리액의 미스트 성분이 증발한 저비점 성분(레지스트 박리액 성분)과 공기(대기) 등과의 혼합 가스가 발생한다.
이 혼합 가스는, 예를 들면 레지스트 박리 챔버에 접속된 배기계에 의해 기체 액체 분리부로 도입되어, 가스와 레지스트 박리액 성분으로 분리된다. 이와 같이 분리·회수된 레지스트 박리액은 회수 레지스트 박리액 공급부에 의해, 다시 레지스트 박리 챔버 내에 공급된다.
구체적으로는, 예를 들면, 레지스트 박리 챔버 내에 레지스트 박리액의 공급액 통에 접속된 스프레이(장치)를 설치하여, 이 공급액 통과 기체 액체 분리부 사이에 회수 레지스트 박리액 성분의 회수부가 설치된 구성을 예시할 수 있다.
또한, 레지스트 박리 챔버가 가스 분출부를 갖고 있어, (4) 기체 액체 분리부에서 레지스트 박리액 성분과 분리된 가스가 도입되고 또한 이 가스를 가스 분출부에 공급하는 분리 가스 공급부를 부가로 구비하면 바람직하다.
이렇게 하면, 가스 분출부로부터 시스템 내에 방출되는 공기(대기)가 시스템 내를 순환함에 따라서, 회수·분리된 가스 중의 산소 가스에 대한 질소 가스 등의 나머지 부분 가스의 비율이 서서히 높아져 간다. 그 결과, 시스템 내의 가스가 불활성화(불활화)되어 레지스트 박리액의 열화가 저감된다. 또한, 가스 중의 습기분이 증대하기 때문에, 기판 건조가 억제된다.
더욱이, 가스 분출부가 기판을 향하여 설치되어 이루어지면 보다 바람직하다. 이렇게 하면, 가스 분출부가 기판에 부착한 레지스트 박리액의 액 한정을 하기 위한 가스 나이프로서 기능할 수 있다. 종래는, 상술한 바와 같이, 가스 나이프용 가스로서 외부로부터 드라이 에어를 공급한다는 방책이 채용되었던데 대하여, 본 발명에서는, 레지스트 박리 챔버 내로부터 회수된 혼합 가스로부터의 분리 가스를 가스 나이프용 가스원으로 할 수 있다.
또한, 본 발명자들의 지견에 의하면, 종래와 같이 드라이 에어가 기판 표면으로 분출되면, 기판 상에 부착한 레지스트 박리액의 건조가 과도하게 진행하는 경향에 있는 것이 판명되었다.
예를 들면, 기판이 대략 완전히 마른 상태가 되면, 레지스트 박리액 중에 용해하고 있던 레지스트가 석출할 우려가 있다. 이렇게 되면, 기판 상에 레지스트의 박막 잔여가 생기는 경우가 있어, 기판의 후처리 상 문제가 생길 가능성이 있다.
이에 대하여, 본 발명에서는, 습기분을 포함할 수 있는 분리 가스가 기판 표면에 공급되기 때문에, 과도한 건조를 방지할 수 있어, 이러한 종래의 부적합함이 해소된다. 또한, 레지스트 박리액의 저비점 성분의 증발량을 대폭 저감할 수 있어, 레지스트 박리액의 농도 변동을 감소시킬 수 있다.
더욱이, (5) 레지스트 박리 챔버에 접속되어 있고, 레지스트 박리 챔버 내에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부를 부가로 구비하면 보다 바람직하다.
여기서, 불활성 가스로서는, 특별히 한정되지 않고, 질소(N2) 가스, 희귀 가스 등을 들 수 있지만, 공업상 이용성 및 코스트 관점에서, 질소 가스가 유용하다.
본 발명자들은 상술한 레지스트 박리액의 소비량 저감과 더불어, 다른 관점에서, 종래의 레지스트 박리 장치에 대해서 각종 검토를 하여 온 바, 또한 이하의 지견을 얻었다.
즉, 레지스트 박리액의 주성분인 유기 용매로서 부틸디글리콜(BDG)을 사용하여, 알칼리로서 모노에탄올아민(이하 「MEA」라고 한다) 등의 아민류를 사용하면, BDG이 공기 중의 산소(O2) 가스에 의해 산화되어 MEA와 반응하여 옥사미드가 생성된다.
옥사미드 자체는 레지스트에 대한 박리 활성을 갖고 있지 않다. 또한, 옥사미드의 농도가 과도하게 높아지면, 그 결정이 석출되기 때문에, 활성인 아민류의 농도가 저하하는 경향에 있다. 또한, 석출한 결정은 파티클 혹은 관로가 막히는 원인이 되거나, 농도 측정계의 불안정 요소가 될 수 있다.
혹은, MEA 등의 아민류가 공기 중의 탄산 가스(CO2)와 반응하여 칼바민산이 생성된다. 이것에 의해서도, 활성인 아민류의 농도가 저하한다. 또한, 칼바민산 자체는 레지스트에 대한 박리 활성을 갖고 있지 않다.
더욱이, 칼바민산은 수계 레지스트 박리액에의 용해도가 작고, 비중 및 점도도 다른 경향에 있기 때문에, 레지스트 박리액이 2상 분리를 일으킬 수 있다. 이렇게 되면, 기판 상의 레지스트의 박리 불균일함 등이 생길 우려가 있다.
또한, 레지스트 박리액은 처리에 따라 레지스트가 녹아 들어감으로써, 착색하여 흡광도가 변화하는 경향에 있어, 이것을 이용하여 용해 레지스트 농도 측정 및 농도 관리를 실시하는 것이 가능하다.
그러나, 레지스트 박리액 중에 레지스트가 용해하지 않은 상태에 있어서도, 레지스트 박리액이 공기와 접촉하고 있으면, 시간의 경과와 함께 착색을 발생시키는 것이 확인되었다. 이것은 자연 산화에 의한 착색이라고 생각되지만, 이렇게 되면 흡광도 측정에 의한 용해 레지스트 농도 측정에 악영향을 줘, 측정 오차에 의한 관리 정밀도가 저하할 우려가 있다.
이에 대하여, 불활성 가스 공급부로부터 레지스트 박리 챔버 내에 질소 가스 등의 불활성 가스가 공급되면, 레지스트 박리 챔버 내의 공기가 그 불활성 가스로 퍼지되어, 레지스트 박리액과 공기와의 접촉이 차단된다.
또한, 레지스트 박리 챔버 내를 외부로부터 완전히 봉지하는 것이 이상적이기는 하지만, 현실적으로는 곤란하다. 그러한 경우라도, 질소 가스 등의 불활성 가스를 챔버 내에 공급하여 능동적인 가스 치환을 하면, 레지스트 박리액에의 산소 가스 및 탄산 가스의 흡수량을 실질적으로 문제가 되지 않을 정도로 저감할 수 있다.
보다 구체적으로는, 레지스트 박리액이 수계 레지스트 박리액으로, 서로 연이어 통과시켜 다단으로 설치된 복수의 레지스트 박리 챔버와, 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최후단의 레지스트 박리 챔버와 연통해 설치되어 있고 또한 물이 공급되는 린스 챔버와, 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최전단의 레지스트 박리 챔버에 접속된 기체 액체 분리부와, 린스 챔버에 접속된 불활성 가스 공급부를 구비하면 유용하다.
이러한 구성의 레지스트 박리 장치에서는, 다단으로 연이어 설치된 레지스트 박리 챔버의 후단에 더욱이 린스 챔버가 접속되어 있어, 기판이 이것들을 순차 유통하는 동안에 수계 레지스트 박리액에 의한 레지스트의 박리·제거가 행하여져, 마지막에 물 린스된다. 또한, 각 챔버는 연이어 통하고 있어, 기체 액체 분리부가 접속된 최전단의 챔버로부터 배기되어, 불활성 가스 공급부가 접속된 최후단에 위치하는 린스 챔버로부터 흡기된다.
따라서, 질소 가스 등은 기판의 유통 방향과 반대로 흘러, 전체 챔버 내가 질소 가스 등으로 퍼지된다. 또한, 질소 가스 등이 린스 챔버를 경유하기 때문에, 시스템 내에는 수분을 포함하는 습기 질소 가스가 순환하게 된다.
이로써, 수계 레지스트 박리액의 수분 증발량이 대폭 저감되어, 수분 농도 저하를 억제할 수 있다. 더욱이, 혼합 가스로부터 회수되는 분리 가스에 적절한 습기가 부여되어, 이 습기 가스가 가스 분출부로부터 기판에 분출된다.
이 경우, 최전단의 레지스트 박리 챔버와 기체 액체 분리부가 댐퍼나 유량 조절 밸브 등을 갖는 관로를 통해 접속되고, 불활성 가스가 공급되는 린스 챔버 내의 압력치에 근거하여, 댐퍼나 유량 조절 밸브 등의 개방도를 조정하는 압력 스위치 등을 구비하면 적합하다.
혹은, 레지스트 박리액이 비수계 레지스트 박리액으로, 서로 연통하여 다단으로 설치된 복수의 레지스트 박리 챔버와, 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최후단의 레지스트 박리 챔버와 연통해 설치되어 있고 또한 물이 공급되는 린스 챔버와, 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최전단의 레지스트 박리 챔버에 접속된 기체 액체 분리부와, 최후단의 레지스트 박리 챔버에 접속된 불활성 가스 공급부를 구비하면 유용하다.
이러한 구성의 레지스트 박리 장치에서는, 다단으로 연이어 설치된 레지스트 박리 챔버의 후단에 더욱 린스 챔버가 접속되어 있어, 기판이 이들을 순차 유통하는 동안에 비수계 레지스트 박리액에 의한 레지스트 박리·제거가 행하여져, 마지막에 물 린스된다.
또한, 각 챔버는 연통해 있어, 기체 액체 분리부가 접속된 최전단의 챔버로부터 배기되어, 불활성 가스 공급부가 접속된 최후단의 레지스트 박리 챔버로부터 흡기된다. 따라서, 질소 가스 등의 불활성 가스는 기판의 유통 방향과 반대로 흘러, 전체 레지스트 박리 챔버 내가 질소 가스 등으로 퍼지된다. 또한, 질소 가스 등이 린스 챔버를 경유하지 않기 때문에, 비수계 레지스트 박리액이 순환하는 시스템 내로의 수분 혼입이 방지되어, 비수계 레지스트 박리액이 흡습하는 것을 억지할 수 있다.
이 경우, 최전단의 레지스트 박리 챔버와 기체 액체 분리부가 댐퍼나 유량 조절 밸브 등을 갖는 관로를 통해 접속되어, 불활성 가스가 공급되는 최후단의 레지스트 박리 챔버 내의 압력치에 근거하여, 댐퍼나 유량 조절 밸브 등의 개방도를 조정하는 압력 스위치 등을 구비하면 적합하다. 또한, 린스 챔버에는 독립된 배기계를 접속하는 것이 바람직하다.
(발명의 실시의 형태)
이하, 본 발명의 실시예에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 동일 요소에는 동일 부호를 붙여, 중복되는 설명을 생략한다. 또한, 상하 좌우 등의 위치 관계는 특별히 거절하지 않는 한, 도면에 도시하는 위치 관계에 근거하는 것으로 한다. 더욱이, 도면의 치수 비율은 도시 비율에 한정되는 것은 아니다.
도 1에 있어서의 레지스트 박리 장치(100)는 액정 디스플레이로 대표되는 FPD 등의 기판(W)에 피착한 레지스트를 수계 레지스트 박리액(R1)에 의해 박리하는 장치 시스템으로, 레지스트 박리계(1), 린스계(2), 액 회수 공급계(3), 가스 회수 공급계(4), 배기계(5), 드레인계(6) 및 질소 가스 공급계(7)를 구비하는 것이다.
레지스트 박리계(1)는 연이어 설치된 복수의 레지스트 박리 챔버(11)를 구비하고 있고, 각 레지스트 박리 챔버(11)의 바닥부에 레지스트 박리액 공급계(34)에 접속된 박리액 통(13)이 관로(K1)를 통해 각각 접속된 구성을 갖고 있다. 각 레지스트 박리 챔버(11)는 기판(W)의 반입구(11a)를 갖고 있다.
또한, 각 레지스트 박리 챔버(11) 내에는, 기판(W)이 재치되고 또한 회동 가능한 롤러 컨베이어(R)가 설치되어 있으며, 이들 위쪽에는 기판(W)에 대향하도록 배치된 복수의 노즐(14a)을 갖는 스프레이(14)가 설치되어 있다. 각 스프레이(114)는 유량 조절 밸브(C1), 필터(F) 및 펌프(P1)를 갖는 관로(K2)를 통해 각 박리액 통(13)에 접속되어 있다.
더욱이, 각 레지스트 박리 챔버(11) 내에 있어서의 스프레이(14)보다도 후단에는, 기판(W)의 양면에 배향하여 설치된 가스 노즐(12a, 12a)을 갖는 가스 나이프(12; 가스 분출부)가 배치되어 있다.
또한, 이 관로(K2)에 있어서의 유량 조절 밸브(C1)와 필터(F) 사이에는, 유량 조절 밸브(C2)를 가지고 박리액 통(13) 내에 삽입 통과된 순환 교반 및 순환 여과용 분기 관로(K3)가 접속되어 있다. 더욱이, 각 박리액 통(13)은 펌프(P2)를 갖는 관로(K4)로 접속되어 있고, 최후단의 레지스트 박리 챔버(11)에 접속된 박리액 통(13)은 유량 조절 밸브(C3)가 설치된 관로(K5)를 통해 상술한 레지스트 박리액 공급계(34)에 접속되어 있다.
한편, 린스계(2)는 최후단의 레지스트 박리 챔버(11)에 연이어 설치된 린스 챔버(21)를 구비하고 있다. 린스 챔버(21)는 기판(W)의 반입구(21a)와 반출구(21b)를 갖고 있다. 또한, 린스 챔버(21) 내에도 롤러 컨베이어(R)가 설치되어 있고, 이들 위쪽에는 기판(W)에 배향하도록 배치된 복수의 노즐(24a)을 갖는 스프레이(24)가 설치되어 있다.
이 스프레이(24)는 유량 조절 밸브(C4), 필터(F), 및 펌프(P3)를 갖는 관로(K6)를 통해 순물 통(23)에 접속되어 있다. 또한, 관로(K6)에 있어서의 유량 조절 밸브(C4)와 필터(1F) 사이에는, 유량 조절 밸브(C5)를 가지고 순물 통(23) 내에 삽입 통과된 순환 교반 및 순환 여과용 분기 관로(K71)가 접속되어 있다.
더욱이, 순물 통(23)은 유량 조절 밸브(C6)가 설치된 관로(K7)를 통해 순물 공급계(22)에 접속되어 있다. 또한 더욱이, 린스 챔버(21)에는 유량 조절 밸브(C9)를 갖는 관로(K77)를 통해 질소 가스 공급계(7)가 접속되어 있다.
또한, 액 회수 공급계(3)는 댐퍼(D1)가 설치된 관로(K8)에 의해 최전단의 레지스트 박리 챔버(11)에 접속된 사이클론(31), 여기에 관로(K9)를 통해 접속된 콘덴서(32) 및 사이클론(31)에 관로(K10)를 통해 접속된 박리액 회수 통(33; 회수부)을 구비하고 있다.
그 댐퍼(D1)에는 린스 챔버(21)에 설치된 압력 스위치(PS)가 접속되어 있다. 또한, 관로(K10)에는 콘덴서(32)에 접속된 관로(K11)가 접속되어 있다. 더욱이, 콘덴서(32)는 배기 블로어(51)를 갖는 관로(K51)에 의해 배기계(5)로 접속되어 있으며, 이로써, 각 레지스트 박리 챔버(11) 및 린스 챔버(21) 내의 가스가 액 회수 공급계(3)로 도입되도록 되어 있다.
또한, 박리액 회수 통(33)은 유량 조절 밸브(C7), 필터(F) 및 펌프(P4)를 갖는 관로(K12)에 의해, 최후단의 박리액 통(13)과 레지스트 박리액 공급계(34)를 접속하는 관로(K5)에 접속되어 있다. 이와 같이, 사이클론(31) 및 콘덴서(32)로 기체 액체 분리부가 구성되어 있다. 또한, 박리액 회수 통(33) 및 각 박리액 통(13)으로 회수 레지스트 박리액 공급부가 구성되어 있다.
한편, 가스 회수 공급계(4)는 각 레지스트 박리 챔버(11)에 각각 접속되고 또한 유량 조절 밸브(C8)가 설치된 분기 관로(K13)를 갖는 관로(K14)에 접속된 가스 탱크(41)를 구비하고 있다. 분기 관로(K13)는 레지스트 박리 챔버(11) 내의 가스 나이프(12)에 접속되어 있다.
또한, 이 가스 탱크(41)에는 필터(F) 및 컴프레셔(P5)를 갖는 관로(K15)가 접속되어 있고, 이 관로(K15)는 콘덴서(32)로부터 배기계(5)로 연결되는 관로(K51)에 접속되어 있다.
또한, 드레인계(6)는 박리액 회수부(61) 및 순물 회수부(62)를 구비하고 있다. 박리액 회수부(61)에는 각각 개폐 밸브(V)를 갖는 분기 관로(K61)가 접속된 관로(K62)에 의해 박리액 통(13)이 접속되어 있다.
또한, 최전단의 박리액 통(13)에는 관로(K62)에 접속된 오버플로용 관로(K63)가 접속되어 있다. 더욱이, 관로(K62)에는 개폐 밸브(V)를 갖는 분기 관로(K64)를 통해 박리액 회수 통(33)이 접속되어 있다.
또한, 순물 회수부(62)에는 린스 챔버(21)의 바닥부에 접속된 관로(K65)가 접속되어 있고, 이 관로(K65)에는 개폐 밸브(V)를 갖는 분기 관로(K66)를 통해 순물 통(23)이 접속되어 있다.
이렇게 구성된 레지스트 박리 장치(100)를 사용한 기판(W)의 레지스트 처리의 일례에 대해서, 이하에 설명한다.
우선, 기판(W)의 레지스트 박리 처리에 앞서, 수계 레지스트 박리액(R1)이 레지스트 박리액 공급계(34)로부터 최후단의 박리액 통(13)으로 관로(K5)를 통해 공급된다. 수계 레지스트 박리액(R1)은 펌프(P2) 운전에 의해, 관로(K4)를 통해 차차 전단의 박리액 통(13)으로 이송된다. 또한, 순물(M)이 순물 공급계(22)로부터 순물 통(23)으로 관로(K7)를 통해 공급된다.
여기서, 수계 레지스트 박리액(R1)으로서는, 특별히 제한되지 않고, 일반적으로 사용되는 것, 예를 들면, 알카놀아민류와 디메틸설폭시드와 순물과의 혼합용 액, 알카놀아민류와 N-메틸피롤리든과 순물과의 혼합 용액, 알카놀아민류와 글리콜에테르류와 순물과의 혼합 용액 등 또는 이들에 각종 첨가제가 첨가된 용액을 들 수 있다.
또한, 수계 레지스트 박리액(R1)에 사용되는 원액으로서는, 상기의 예에서는, 디메틸설폭시드계 원액, N-메틸피롤리든계 원액, 디글리콜계 원액, 알카놀아민류 원액, 알카놀아민과 글리콜에테르계 용제와의 혼합 원액 또는 이들에 순물이나 각종 첨가제가 첨가된 원액 등이 사용된다.
알카놀아민류로서는, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N, N-디메틸에탄올아민, N, N-디에틸에탄올아민, 아미노에틸에탄올아민, N-메틸-N, N-디에탄올아민, N, N-디부틸에탄올아민, N-메틸에탄올아민, 3-아미노-1-프로판올 등을 열거할 수 있다.
또한, 글리콜에테르류로서는, 부틸디글리콜, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르 등을 열거할 수 있다. 더욱이, 각종 첨가제로서는, 카테콜, 환원제, 금속 방식제, 킬레이트제 등을 열거할 수 있다.
또한, 린스 챔버(21) 내에 질소 가스 공급계(7)로부터 관로(K77)를 통해 질소 가스를 공급한다. 이 때, 유량 조절 밸브(C9)의 밸브 개방도를 적당히 조정하여 소정의 유량으로 한다. 이와 함께, 배기 블로어(51)를 운전하여, 최전단의 레지스트 박리 챔버(11) 내의 배기를 행한다. 이들 조작에 의해, 반입구(11a, 21a)에 의해 서로 연이어 통하는 각 레지스트 박리 챔버(11) 및 린스 챔버(21) 내가 질소 가스로 퍼지된다.
또한, 최전단의 레지스트 박리 챔버(11)의 반입구(11a) 및 린스 챔버(21)의 반출구(21b)로부터는, 시스템 외부의 공기가 흡입될 수 있다. 린스 챔버(21)에의 질소 가스의 공급량은 이러한 공기의 흡입량이 부적합하게 증대하지 않을 정도로 조정되면 바람직하다.
또한, 레지스트 박리 챔버(11)로부터의 배기량은 린스 챔버(21)에 설치된 압력 스위치(PS)로부터의 제어 신호에 의해 관로(K8)의 댐퍼(D1)의 개방도를 조절하는 것으로 조정한다. 압력 스위치(PS)는 린스 챔버(21)의 내압을 모니터하여, 예를 들면 미리 설정된 압력과의 차분에 따른 밸브 개방도 신호를 댐퍼(D1)로 송출하는 것이다.
그리고, 기판(W)이 일정 간격으로 최전단의 레지스트 박리 챔버(11)의 반입구(11a)로부터 순차 레지스트 박리계(1)로 도입되어, 롤러 컨베이어(R) 상을 후단을 향하여(도시 화살표(Y) 방향으로) 이동한다. 이 때, 각 박리액 통(13)에 접속된 펌프(P1)를 운전하여, 유량 조절 밸브(C1)를 소정의 개방도로 함으로써, 필터(F)에서 여과된 수계 레지스트 박리액(R1)이 스프레이(14)로부터 기판(W) 상에 분출된다. 이 때, 필요에 따라서 유량 조절 밸브(C2)의 개방도가 적당히 조절되어, 스프레이(14)에의 액 공급량이 조정된다.
이 스프레이에 따라, 수계 레지스트 박리액(R1)의 미스트가 발생한다. 또한, 수계 레지스트 박리액(R1)은 통상 30 내지 65℃의 온도에서 사용되기 때문에, 기판(W)에의 열적 영향이 적은 저온에서의 레지스트 박리 처리가 가능하지만, 주성분이고 또한 저비점 성분인 물의 일부가 증발한다.
이렇게 하여, 각 레지스트 박리 챔버(11) 내에는 수계 레지스트 박리액(R1) 성분이 질소 가스에 함유되어 이루어지는 혼합 가스가 발생한다. 또한, 후술하는 바와 같이, 린스 챔버(21)에서는, 물 미스트 및 수증기가 생기기 때문에, 이들도 그 혼합 가스에 포함된다.
이 때, 린스 챔버(21)에의 질소 가스 공급 및 레지스트 박리 챔버(11) 내의 배기는 상시 실시되고 있으며, 도시 화살표(X) 방향으로 기류가 생기고 있다. 이로써, 혼합 가스는 최전단의 레지스트 박리 챔버(11)로부터 관로(K8)를 통해 연속적으로 배출되어, 액 회수 공급계(3)의 사이클론(31)으로 도입된다.
사이클론(31)으로서는, 예를 들면, 기체 액체 분리용 사이클론이 사용되며, 도입된 혼합 가스로부터 액체분인 수계 레지스트 박리액(R1)의 대부분이 가스 성분으로부터 분리된다. 분리된 회수 레지스트 박리액(R2)은 관로(K10)를 통해 박리액 회수 통(33)으로 보내진다. 한편, 약간의 수계 레지스트 박리액(R1) 성분을 포함하는 가스는 관로(K9)를 통해 콘덴서(32)로 도입된다.
콘덴서(32)에서는, 분리되는 가스의 습도(습기분)가 과도하게 저하하지 않고 또한 과도하게 높아지지 않도록, 즉 분리된 가스(G)(분리 가스; G)가 적당한 습기를 포함하는 습기 가스가 되도록, 더욱 기체 액체 분리가 행하여진다. 예를 들면, 분리 가스(G)의 상대 습도가 60 내지 90%가 되는 조건이 채용된다.
콘덴서(32)에서 응축 회수된 회수 레지스트 박리액(R2)은 관로(K11, K10)를 통해 박리액 회수 통(33)으로 보내진다. 이 회수 레지스트 박리액(R2)은 펌프(P4) 운전에 의해, 관로(K12)를 통과하면서 필터(F)에서 여과된 것이 관로(K5)로 유입되어, 각 박리액 통(13)으로 차차 공급된다.
한편, 컴프레셔(P5)를 운전함으로써, 콘덴서(32)에서 기체 액체 분리된 가스(분리 가스; G)의 적어도 일부가 관로(K51)로부터 관로(K15)를 통해 여과된 후 가스 탱크(41)로 도입되어, 적당히 저장된다. 이 분리 가스(G)는 관로(K14)로 보내져, 유량 조절 밸브(C8)에 의해 일정 유량으로 각 분기 관로(K13)를 통해 각 가스 나이프(12)로 공급된다.
그런데, 기판(W)은 롤러 컨베이어(R) 상을 이동하는 동안에, 스프레이(14)로부터 수계 레지스트 박리액(R1)이 분출되며, 이로써 기판(W) 상의 레지스트 대부분이 용해하여 제거된다. 용해 레지스트를 포함하는 수계 레지스트 박리액(R1)은 레지스트 박리 챔버(11)의 바닥부로부터 관로(K1)를 통해 박리액 통(13)으로 다시 들어와 순환 사용된다. 또한, 박리액 통(13) 내의 액량 저하에 따라, 수계 레지스트 박리액(R1)이 레지스트 박리액 공급계(34)로부터 박리액 통(13)에 보급된다.
또한, 보급에 있어서는, 신액, 원액, 순물, 첨가제 등의 각종 구성 성분 중 적어도 어느 한 종류를 공급하여도 된다. 또한, 수계 레지스트 박리액(R1)이 만일 과잉 공급이 된 경우 그 외 필요에 따라서, 최전단의 박리액 통(13)으로부터 관로(K63)를 통해 오버플로한 분이 드레인계(6)로 보내진다. 더욱이, 수계 레지스트 박리액(R1)의 액 교환이 필요해진 경우, 적당히 관로(K61, K62)를 통해 드레인계(6)로 배출된다.
이렇게 하여 스프레이(14) 밑을 통과한 기판(W)의 표면에는 가스 나이프(12)로부터 분리 가스(G)가 분출되어, 기판(W)에 부착한 수계 레지스트 박리액(R1)이 액 제한된다. 여기서, 상술한 바와 같이, 분리 가스(G)는 적당한 습기분을 포함하는 습기 질소 가스로, 기판(W)에 부착한 수계 레지스트 박리액(R1)은 표면이 완전히 건조하지 않지만 결로도 하지 않은 상태에서, 다음 단의 레지스트 박리 챔버(11)로 이송된다.
그리고나서, 기판(W)은 후단의 복수의 레지스트 박리 챔버(11) 내에서 상술한 바와 동일하게 레지스트의 용해·제거 처리가 행하여진 후, 반입구(21a)를 통하여 린스 챔버(21) 내에 도입된다. 린스 챔버(21)에서는, 순물 통(23)으로부터 관로(K6)를 통해 공급된 순물(M)이 스프레이(24)로부터 기판(W) 상에 분출되어, 기판(W) 상에 잔존하는 수계 레지스트 박리액(R1) 세정이 행하여진다. 그리고, 기판(W)은 반출구(21b)로부터 외부로 반출된다. 씻겨진 수계 레지스트 박리액(R1)은 순물(M)과 함께 관로(K65)를 통해 드레인계(6)로 송출된다.
이러한 레지스트 박리 장치(100)에 의하면, 레지스트 박리 챔버(11) 내에서 혼합 가스로 이행한 수계 레지스트 박리액(R1) 성분이 사이클론(31) 및 콘덴서(32)를 갖는 액 회수 공급계(3)에 의해, 회수 레지스트 박리액(R2)으로서 혼합 가스로부터 분리·회수되어, 박리액 회수 통(33) 및 박리액 통(13)을 통해 기판(W) 상의 레지스트 박리 처리에 재사용된다.
따라서, 혼합 가스의 배기에 의한 수계 레지스트 박리액(R1)의 소비, 즉 처리에 따라 수계 레지스트 박리액(R1)이 시스템 밖으로 배출되는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 기판(W) 상으로 공급되는 수계 레지스트 박리액(R1) 중의 수분 농도 등이 저하하는 것에서 기인하는 레지스트 박리 성능의 열화를 억지하는 것이 가능해진다.
또한, 시스템 외부로부터 소량 혼입한 공기 중의 O2 가스 및 CO2 가스가 수계 레지스트 박리액(R1)에 흡수됨으로써, 회수된 분리 가스(G)는 O2 가스 및 CO2 가스의 잔존량이 감소한 불활성 가스에 가까운 상태가 되어, 레지스트 박리 성능 열화를 억지할 수 있다. 바꾸어 말하면 레지스트 박리 성능을 장기에 걸쳐 유지하는 것이 가능해진다.
또한, 이로써, 박리액 통(13)에의 신액, 순물, 원액 등의 보급 빈도를 각별히 저감할 수 있고, 그에 따르는 번잡한 조작·작업을 생략할 수 있는 이점이 있다. 더욱이, 수계 레지스트 박리액(R1)의 사용량을 대폭 삭감할 수 있다.
또한 더욱이, 혼합 가스로부터 분리 가스(G)를 회수하여 가스 나이프(12)로 사용하기 때문에, 드라이 에어가 불필요해질 뿐만 아니라, 혼합 가스를 그대로 배출하였던 종래에 비하여, 배기 가스 처리량을 대폭 삭감 그 가스 처리 설비의 소규모화 및 간략화를 도모할 수 있다. 더구나, 비방폭 사양이 되는 장치의 안전성을 한층 더 향상할 수 있다.
더욱이 또한, 다단으로 설치된 레지스트 박리 챔버(11) 및 이것과 연이어 통하는 린스 챔버(21) 내를 질소 가스로 퍼지하기 때문에, 수계 레지스트 박리액(R1)과 공기와의 접촉을 충분히 차단할 수 있다.
따라서, 수계 레지스트 박리액(R1)이 BDG 등의 글리콜에테르류와 MEA 등의 아민류를 포함할 경우에, 이 글리콜에테르류와 공기 중의 산소 가스와의 반응에 의해 옥사미드(예를 들면, BDG와 MEA를 포함할 경우에 생길 수 있는 N, N-비스(2-하이드록시에틸)옥사미드 등)가 생성하는 것을 억지할 수 있다. 따라서, 옥사미드의 결정 석출에서 기인하는 파티클 발생, 관로 막힘 및 농도 측정계의 불안정화를 방지할 수 있다.
또한, MEA와 공기 중의 탄산 가스와의 반응에 의해 칼바민산(예를 들면, 2-하이드록시에틸칼바민산 등)이 생성하는 것도 억지할 수 있다. 따라서, 수계 레지스트 박리액(R1)이 2상 분리를 일으키는 것에서 기인하는 기판(W) 상의 레지스트의 박리 불균일함, 나아가서는 레지스트의 박막 잔여 발생을 방지할 수 있다.
더욱이, 이렇게 옥사미드나 칼바민산 생성을 억지할 수 있기 때문에, 수계 레지스트 박리액(R1) 중의 유효 성분인 MEA나 BDG 등의 소비가 억제된다. 따라서, 레지스트 박리 성능 저하 및 열화를 더욱 방지할 수 있다. 또한 더욱이, 수계 레지스트 박리액(R1) 중의 용존 산소 농도를 저하시킬 수 있기 때문에, 기판(W)에 기초 메탈층이 설치되어 있는 경우에, 그 부식을 방지할 수 있다.
아울러, 수계 레지스트 박리액(R1) 중의 용해 레지스트 농도를 흡광도 측정에 의해 측정하여 액성 관리를 하는 경우에서도, 공기와의 접촉이 충분히 차단됨으로써, 수계 레지스트 박리액(R1)의 산화에서 기인하는 착색 발생을 방지할 수 있기 때문에, 흡광도 측정의 정밀도가 저하하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 용해 레지스트 농도에 의한 액으로 관리 정밀도를 높게 유지할 수 있다.
또한, 적절한 습기분을 포함하는 분리 가스(G)를 가스 나이프(12)로 공급하여, 기판(W)에 부착한 수계 레지스트 박리액(R1)이 액 제한되기 때문에, 기판(W)이 완전히 건조되지 않고 레지스트 박리 챔버(11) 및 린스 챔버(21)를 유통한다.
따라서, 레지스트 박리 처리 및 린스 처리 도중에서, 기판(W) 상에 용해 레지스트가 석출하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 기판(W)의 후처리에의 악영향을 억제할 수 있다. 더욱이, 액 제한 시에 기판(W)이 건조하는 것을 막을 뿐만 아니라, 기판(W)에 분리 가스(G) 중의 액체분(수분)이 결로 등으로 부착하는 것도 방지된다. 따라서, 충분한 액 제한이 가능해진다.
아울러, 질소 가스를 린스 챔버(21)에 공급하기 때문에, 레지스트 박리계(1) 내에 습기 질소 가스를 공급하기 쉬워져, 그 결과, 수계 레지스트 박리액(R1)의 수분 증발 및 분리 가스(G) 중의 습도분 부족을 방지할 수 있다.
도 2에 있어서의 레지스트 박리 장치(200)는 수계 레지스트 박리액(R1) 대신 비수계 레지스트 박리액(R3)이 사용되는 것, 수계 회수 레지스트 박리액(R2) 대신 비수계 회수 레지스트 박리액(R4)이 얻어지는 것, 댐퍼(D1)에 접속하는 압력 스위치(PS) 및 질소 가스 공급계(7)가 린스 챔버(21) 대신 최후단의 레지스트 박리 챔버(11)에 접속되어 있는 것 및 린스 챔버(21)에 댐퍼(D2)를 통해 배기계(5)가 접속되어 있는 것 이외는, 도 1에 도시하는 레지스트 박리 장치(100)와 동일하게 구성된 것이다.
이 레지스트 박리 장치(200)에 있어서는, 통상, 70 내지 90℃의 일정 온도로 유지된 비수계 레지스트 박리액(R3)이 기판(W) 상에 공급된다. 비수계 레지스트 박리액(R3)으로서는, 일반적으로, 순물을 제외한 상술한 수계 레지스트 박리액(R1)의 구성 성분과 동등한 것을 사용할 수 있다.
또한, 질소 가스를 최후단의 레지스트 박리 챔버(11)로 공급하여 최전단의 레지스트 박리 챔버(11)로부터 배기하고, 또한, 린스 챔버(21) 내를 별개 독립되게 배기함으로써, 레지스트 박리계(1)와 린스계(2)는 가스 유통이 차단되어, 양자의 기상이 격리된다.
따라서, 레지스트 박리 챔버(11)로부터 배출되어 사이클론(31)으로 도입되는 혼합 가스에는 수분이 포함되지 않고, 비수계 레지스트 박리액(R3)으로부터 우선적으로 증발한 저비점 성분(예를 들면 MEA 등의 아민류 등)이나, 비수계 레지스트 박리액(R3)의 스프레이 미스트가 주로 포함된다. 그 결과, 수분을 포함하지 않고, 또한, 습기분으로서 비수계 레지스트 박리액(R3) 성분이 적당히 포함되는 분리 가스(G)가 혼합 가스로부터 분리 회수되어 가스 나이프(12)로 공급된다.
이 레지스트 박리 장치(200)에 의하면, 혼합 가스로 이행한 비수계 레지스트 박리액(R3)이 액 회수 공급계(3)에서 회수 레지스트 박리액(R4)으로서 회수되어 재사용됨과 동시에, 혼합 가스로부터 분리 회수한 분리 가스(G)가 재사용된다. 따라서, 액 소비량 및 사용량 삭감, 시스템 밖으로의 배출 방지, 저비점 성분의 증발 방지, 레지스트 박리 성능의 열화 방지, 액 보급 빈도 및 작업 경감, 드라이 에어의 미사용 및 배기 가스 처리량 삭감을 달성할 수 있다.
또한, 전체 레지스트 박리 챔버(11) 내가 질소 가스 퍼지되기 때문에, 비수계 레지스트 박리액(R3)과 공기와의 접촉이 방지되고, 열화 성분 발생 및 액 착색을 억제할 수 있다. 더욱이, 회수되는 분리 가스(G)가 비수계 레지스트 박리액(R3) 성분(유기분)으로 적절한 습기 가스가 되면, 가스 나이프(12)로 기판(W)의 액 제한을 할 때에, 그 건조 및 결로를 방지할 수 있다. 또한, 이들 효과가 나는 작용 메커니즘의 상세함에 대해서는, 레지스트 박리 장치(100)와 동등하기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
아울러, 질소 가스 공급계(7)가 최후단의 레지스트 박리 챔버(11)에 접속되어, 린스 챔버(21) 내의 가스가 유입하지 않도록 되어 있기 때문에, 비수계 레지스트 박리액(R3)에의 수분 혼입이 방지된다. 따라서, 비수계 레지스트 박리액(R3) 성형이 변화하는 것을 억지할 수 있다.
또한, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라, 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 각종 변형이 가능하다. 예를 들면, 레지스트 박리 챔버(11)는 단일해도 상관 없다. 또한, 압력 스위치(PS)와 댐퍼(D1)에 의한 배기량 제어로 바꾸어, 가스 매스 밸런스에 의한 유량 제어만에 의해도 된다. 또한, 분리 가스(G)를 가스 나이프(12)에 사용하는 일 없이, 레지스트 박리 챔버(11) 내로 분출시켜도 된다. 이 경우, 가스 탱크(41)를 생략하여도 상관 없다.
더욱이, 분리 가스(G)를 가스 탱크(41)에 회수하는 대신, 흡착 또는 흡수 등에 의해 고체 또는 액체에 보유 또는 유지시켜도 된다. 또한 더욱이, 박리액 회수 통(33)을 사용하지 않고, 회수 레지스트 박리액(R2, R4)을 직접 박리액 통(13)에 송출하여도 된다.
이상 설명한 대로 본 발명의 레지스트 박리 장치에 의하면, 레지스트 박리액의 유효 성분의 농도 변동을 방지할 수 있고, 또한, 레지스트 박리액의 사용량을 삭감할 수 있음과 동시에, 배기 가스 처리량을 저감하는 것이 가능해진다. 또한, 불활성 가스 공급부를 구비하면, 레지스트 박리액의 열화 방지를 실현할 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 레지스트 박리 장치의 제 1 실시예를 도시하는 구성도.
도 2는 본 발명에 의한 레지스트 박리 장치의 제 2 실시예를 도시하는 구성도.
도 3은 종래의 레지스트 박리 장치의 일례를 도시하는 구성도.

Claims (6)

  1. 레지스트가 피착한 기판이 수용되어, 상기 기판 상에 레지스트 박리액이 공급되는 레지스트 박리 챔버와,
    상기 레지스트 박리 챔버에 접속되어 있고, 상기 레지스트 박리 챔버 내의 레지스트 박리액 성분을 포함하는 혼합 가스가 도입되어, 상기 혼합 가스 중의 상기 레지스트 박리액 성분이 분리되는 기체 액체 분리부와,
    상기 기체 액체 분리부에 접속되어 있고, 분리된 상기 레지스트 박리액 성분을 상기 레지스트 박리 챔버 내에 공급하는 회수 레지스트 박리액 공급부를 구비하는 레지스트 박리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 레지스트 박리 챔버가 가스 분출부를 갖고 있고,
    상기 기체 액체 분리부에서 상기 레지스트 박리액 성분과 분리된 가스가 도입되고, 또한, 상기 가스를 상기 가스 분출부에 공급하는 분리 가스 공급부를 부가로 구비하는 레지스트 박리 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 가스 분출부가 상기 기판을 향하여 설치되어 이루어지는 레지스트 박리 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 레지스트 박리 챔버에 접속되어 있고, 상기 레지스트 박리 챔버 내에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부를 부가로 구비하는 레지스트 박리 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 레지스트 박리액이 수계 레지스트 박리액이고,
    서로 연통하여 다단으로 설치된 복수의 상기 레지스트 박리 챔버와,
    상기 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최후단의 레지스트 박리 챔버와 연통해 설치되어 있고, 물이 공급되는 린스 챔버와,
    상기 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최전단의 레지스트 박리 챔버에 접속된 상기 기체 액체 분리부와,
    상기 린스 챔버에 접속된 상기 불활성 가스 공급부를 구비하는 레지스트 박리 장치.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 레지스트 박리액이 비수계 레지스트 박리액이고,
    서로 연통하여 다단으로 설치된 복수의 상기 레지스트 박리 챔버와,
    상기 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최후단의 레지스트 박리 챔버와 연통해 설치되어 있어, 물이 공급되는 린스 챔버와,
    상기 복수의 레지스트 박리 챔버 중 최전단의 레지스트 박리 챔버에 접속된 상기 기체 액체 분리부와,
    상기 최후단의 레지스트 박리 챔버에 접속된 상기 불활성 가스 공급부를 구비하는 레지스트 박리 장치.
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