JP2000203879A - ガラスセラミック基板 - Google Patents

ガラスセラミック基板

Info

Publication number
JP2000203879A
JP2000203879A JP868299A JP868299A JP2000203879A JP 2000203879 A JP2000203879 A JP 2000203879A JP 868299 A JP868299 A JP 868299A JP 868299 A JP868299 A JP 868299A JP 2000203879 A JP2000203879 A JP 2000203879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
substrate
warpage
ceramic
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP868299A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Adachi
聡 足立
Junzo Fukuda
順三 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc filed Critical Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority to JP868299A priority Critical patent/JP2000203879A/ja
Publication of JP2000203879A publication Critical patent/JP2000203879A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガラスセラミック基板の曲げ強度を向上さ
せ、焼成時の基板の反り(表層導体の反り)を少なくす
ると共に、焼成密度の低下を防ぐ。 【解決手段】 CaO−Al2 3 −SiO2 −B2
3 系のガラス粉末:40〜60重量%(好ましくは40
〜50重量%)と、アルミナ等のセラミック骨材:60
〜40重量%(好ましくは60〜50重量%)とを混合
し、更に、この混合物に、Na2 Oを6重量%以下(好
ましくは5重量%以下)添加する。このようにして作っ
たガラスセラミック材料を用いてガラスセラミック基板
を焼成すると、Na2 Oの添加により焼成時のガラスの
流動性が良くなる。このため、曲げ強度を高めるため
に、セラミック骨材の配合率を増やしてガラスの配合率
を少なくしても、焼成時にセラミック骨材間の微小な隙
間にガラスが十分に行き渡り、焼成密度が低下せず、基
板の反り(表層導体の反り)も抑えられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスとセラミッ
ク骨材とを混合したガラスセラミック材料により形成し
たガラスセラミック基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ガラスセラミック基板は、ガラスとセラ
ミック骨材とを混合することで、焼成温度を1000℃
以下にすることが可能となり、セラミック基板と同時焼
成する配線導体として導通抵抗の小さいAg系導体、C
u等の低融点金属を用いることが可能となる。しかも、
ガラスの誘電率が低いため、アルミナ基板と比較して、
基板の誘電率が低く、信号処理の高速化が可能であり、
更に、基板の熱膨張係数もアルミナ基板よりも小さく、
半導体チップ(シリコン)の熱膨張係数と整合させるこ
とも可能である。これらの利点から、ガラスセラミック
基板は、近年の高速、高性能チップの搭載用基板とし
て、需要が益々増大しつつある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ガラスセラミ
ック基板は、ガラスを多量に含むことで、アルミナ基板
よりも曲げ強度等の機械的強度が弱いという欠点があ
る。この対策として、ガラスの配合率を少なくして、セ
ラミック骨材の配合率を増やせば、基板の曲げ強度を高
めることができるが、その反面、焼成時の基板(グリー
ンシート)の収縮挙動が変化して、同時焼成する導体ペ
ーストとのマッチング性が悪くなり、焼成後に基板の反
り(表層導体の反り)が発生する欠点がある。しかも、
セラミック骨材の配合率を増やして、ガラスの配合率を
少なくすれば、焼成時にセラミック骨材間の微小な隙間
にガラスが十分に行き渡らなくなり、焼成基板内部に多
くの空孔が形成され、その分、焼成密度が低下するとい
う欠点もある。
【0004】本発明はこのような事情を考慮してなされ
たものであり、従ってその目的は、基板の曲げ強度の向
上、焼成時の基板の反り(表層導体の反り)の低減を可
能にすると共に、焼成密度の低下が生じないガラスセラ
ミック基板を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項1のガラスセラミック基板は、Na
2 Oが添加されたガラスセラミック材料により形成され
ている。Na2 Oを添加することで、ガラスの軟化点が
低下して焼成時のガラスの流動性が良くなる。このた
め、基板の曲げ強度を向上させるために、セラミック骨
材の配合率を増やしてガラスの配合率を少なくしても、
焼成時にセラミック骨材間の微小な隙間にガラスを十分
に行き渡らせることができ、焼成密度が低下しない。ま
た、セラミック骨材の配合率を増やしても、Na2 Oの
添加によって、焼成時の基板(グリーンシート)の収縮
挙動の変化が抑えられ、同時焼成する導体ペーストとの
マッチング性が保たれ、焼成時の基板の反り(表層導体
の反り)が抑えられる。
【0006】この場合、請求項2のように、ガラスセラ
ミック材料に対するNa2 Oの添加率が5重量%以下で
あることが好ましい。つまり、Na2 Oの添加率が増え
るほど、焼成時のガラスの流動性が高くなるが、Na2
Oの添加が多くなり過ぎると焼成時にガラスが流れ過ぎ
て、基板の曲げ強度が却って低下する。後述する本発明
者の実験結果によれば、Na2 Oの添加率が5重量%以
下であれば、Na2 Oを添加しない場合よりも基板の曲
げ強度を大きくすることができる。
【0007】また、請求項3のように、ガラスセラミッ
ク材料中のセラミック骨材の配合率を50〜60重量%
にすると良い(従来のセラミック骨材の配合率は40重
量%程度である)。セラミック骨材の配合率が60重量
%を越えると、Na2 Oを添加してもガラスが不足し
て、基板の曲げ強度が却って低下する。また、セラミッ
ク骨材の配合率が50重量%よりも少ないと、従来と同
じようにガラスが多くなり過ぎて、Na2 Oの添加によ
る曲げ強度向上の効果が少ない。従って、セラミック骨
材の配合率を50〜60重量%にすれば、セラミック骨
材の配合率を従来より増やして基板の曲げ強度を高めな
がら、この曲げ強度をNa2 Oの添加によって更に高め
ることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態では、ガラス
セラミック材料に混合するガラス粉末としてCaO−A
2 3 −SiO2 −B2 3 系のガラス粉末を用い
る。この系のガラス粉末は、例えばCaO:10〜55
重量%、SiO2 :45〜70重量%、Al2 3 :0
〜30重量%、不純物:0〜10重量%及び外掛けでB
2 3 :5〜20重量%を含む混合物を1450℃で溶
融してガラス化した後、水中で急冷し、これを粉砕して
製造したものである。
【0009】また、ガラスセラミック材料に混合するセ
ラミック骨材として、不純物が0〜10重量%のアルミ
ナ(Al2 3 )粉末を用いる。そして、このアルミナ
粉末と上記ガラス粉末とを混合してガラスセラミック材
料を作製する。この際、配合率は、アルミナ粉末が40
〜60重量%、好ましくは、50〜60重量%であり、
従って、ガラス粉末が60〜40重量%、好ましくは、
50〜40重量%である。更に、このガラスセラミック
材料にNa2 Oを添加する。Na2 Oの添加率は、6重
量%以下であり、好ましくは、5重量%以下、より好ま
しくは、0.5〜5重量%である。
【0010】このように、Na2 Oを添加したガラスセ
ラミック材料に、溶剤(例えばトルエン、キシレン)、
バインダー(例えばアクリル樹脂)及び可塑剤(例えば
DOA)を加え、十分に混練してスラリーを作製し、通
常のドクターブレード法を用いてグリーンシートを作製
する。
【0011】例えば、多層ガラスセラミック基板を形成
する場合には、グリーンシートを所定寸法に切断して、
その所定位置にビアホールを打ち抜く。この後、各層の
グリーンシートのビアホールに、Ag、Ag/Pd、A
g/Pt等のAg系導体ペーストを充填し、内層のグリ
ーンシートにAg系導体ペーストを使用して内層導体を
スクリーン印刷すると共に、表層のグリーンシートにA
g系導体ペーストを使用して表層導体をスクリーン印刷
する。尚、ビア、内層導体、表層導体を形成する導体と
して、Ag系導体に代えて、Cu、Au等、他の低融点
金属を用いても良い。
【0012】印刷工程終了後、各層のグリーンシートを
積層し、これを例えば80〜150℃(好ましくは11
0℃)、50〜250kgf/cm2 の条件で熱圧着し
て一体化する。そして、この積層体を基板焼成温度であ
る800〜1000℃(好ましくは900℃)で、20
分ホールドの条件で焼成して多層ガラスセラミック基板
を作る。尚、1枚のグリーンシートから単層のガラスセ
ラミック基板を作る場合には、内層導体の印刷や積層工
程等は不要となる。
【0013】ところで、従来のCaO−Al2 3 −S
iO2 −B2 3 系のガラスセラミック基板は、一般に
アルミナとガラスの配合比が40:60であるが、この
配合比を変えたり、Na2 Oを添加することで、基板の
曲げ強度、焼成密度、表層導体の反りが変化する。本発
明者は、これらの関係を考察する試験を行ったので、そ
の試験結果を次の表1に示す。
【0014】
【表1】
【0015】この試験に用いたガラスセラミック基板
は、アルミナとCaO−Al2 3 −SiO2 −B2
3 系のガラスの配合比を、40:60、50:50、6
0:40の3種類とし、それぞれの配合比のガラスセラ
ミック材料について、Na2 Oの添加率を0重量%、
0.5重量%、1重量%、2重量%、3重量%、4重量
%、5重量%、6重量%にした時の基板の曲げ強度、焼
成密度、Ag系の表層導体の反りを測定した。この試験
に用いたガラスセラミック基板は、縦40mm×横40
mm×厚み0.5mmの基板であり、その表面に同時焼
成した表層導体のサイズは、縦10mm×横10mm×
厚み15μmである。表層導体の反りは、例えば20μ
m以下を良品とする。
【0016】(1)アルミナとガラスの配合比が40:
60の場合 この配合比は、従来と同じであるが、Na2 Oの添加率
が0.5〜4重量%のサンプルでは、基板の曲げ強度が
Na2 Oを添加しないサンプルよりも大きくなった。こ
れは、Na2 Oの添加率が0.5〜4重量%の範囲で
は、Na2 Oの添加により焼成時のガラスの流動性が適
度に高まり、ガラス界面とアルミナとの密着力が大きく
なるためと考えられる。また、この配合比では、ガラス
が本来的に多いため、Na2 Oの添加が焼成密度や表層
導体の反りに与える影響は小さく、Na2 Oの添加率が
0.5〜6重量%のサンプルでは、Na2 Oの添加率が
変わっても、焼成密度や表層導体の反りがNa2 Oを添
加しないサンプルとほぼ同じであり、いずれも表層導体
の反りが3μm以下となり、全て良品と判定された。
【0017】(2)アルミナとガラスの配合比が50:
50の場合 アルミナの配合率を50重量%に増やすと、Na2 Oを
添加しなくても、曲げ強度が大きくなる。しかし、この
配合比では、Na2 Oを添加しないサンプルは表層導体
の反りが70μmとなり、不良品となった。
【0018】これに対し、Na2 Oを0.5〜6重量
%、添加したサンプルでは、全て表層導体の反りが5μ
m以下となり、全て良品と判定された。また、Na2
の添加率が0.5〜5重量%のサンプルでは、曲げ強度
がNa2 Oを添加しないサンプルよりも大きくなり、更
に、Na2 Oの添加率が0.5〜4重量%のサンプルで
は、焼成密度がNa2 Oを添加しないサンプルよりも大
きくなった。
【0019】この配合比では、ガラスの配合率が従来よ
り少なくなるため、Na2 Oを添加しないサンプルで
は、焼成時の基板(グリーンシート)の収縮挙動が変化
して、同時焼成する表層導体とのマッチング性が悪くな
り、表層導体の反りが大きくなる。また、アルミナはガ
ラスよりも密度が大きいため、アルミナの配合比を増や
せば、基板の密度が大きくなるが、ガラスの配合比が少
なくなるため、Na2 Oを添加しないサンプルでは、焼
成時にアルミナ粉末間の微小な隙間にガラスが十分に行
き渡らなくなり、焼成基板内部に多くの空孔が形成さ
れ、その分、焼成密度が低下する。
【0020】従って、この配合比では、Na2 Oの添加
の効果が顕著に現れる。つまり、Na2 Oを添加するこ
とで、ガラスの軟化点が低下して焼成時のガラスの流動
性が良くなるため、アルミナの配合率を増やしてガラス
の配合率を少なくしても、焼成時にアルミナ間の微小な
隙間にガラスを十分に行き渡らせることができ、焼成密
度が低下しない。しかも、アルミナの配合率を増やすこ
とで、基板の曲げ強度を高めながら、この曲げ強度をN
2 Oの添加によって更に高めることができる。また、
アルミナの配合率を増やしても、Na2 Oの添加によっ
て焼成時の基板(グリーンシート)の収縮挙動の変化が
抑えられ、同時焼成する表層導体とのマッチング性が保
たれ、焼成時の基板の反り(表層導体の反り)も抑えら
れる。
【0021】(3)アルミナとガラスの配合比が60:
40の場合 アルミナの配合率を60重量%に増やすと、Na2 Oを
添加しないサンプルでは、ガラスが不足して、基板の曲
げ強度が低下すると共に、焼成密度も低下し、更に、表
層導体の反りが150μmとなり、不良品となった。
【0022】これに対し、Na2 Oを0.5〜6重量
%、添加したサンプルでは、全て表層導体の反りが6μ
m以下となり、全て良品と判定された。また、Na2
の添加率が0.5〜5重量%のサンプルでは、曲げ強度
がNa2 Oを添加しないサンプルよりも大きくなり、更
に、Na2 Oの添加率が0.5〜6重量%のサンプルで
は、焼成密度がNa2 Oを添加しないサンプルよりも大
きくなった。
【0023】この配合比では、Na2 Oの添加率が6重
量%のサンプルでは、曲げ強度がNa2 Oを添加しない
サンプルよりも低くなった。これは、Na2 Oの添加が
多くなり過ぎると、焼成時にガラスが流れ過ぎるためと
考えられる。
【0024】以上の試験結果から、Na2 Oの添加率を
5重量%以下とすれば、焼成時のガラスの流動性が過剰
にならず、基板の曲げ強度、焼成密度及び表層導体の反
りをNa2 Oを添加しないサンプルと同等以上にするこ
とができ、ガラスセラミック基板の品質を従来よりも向
上できる。更に、アルミナの配合率を50〜60重量%
にすれば、セラミック骨材の配合率を従来より増やして
基板の曲げ強度を高めながら、この曲げ強度をNa2
の添加によって更に高めることができる。
【0025】尚、上記実施形態では、ガラスとして、C
aO−Al2 3 −SiO2 −B23 系のガラスを用
いたが、これに代えて、例えば、MgO−Al2 3
SiO2 −B2 3 系のガラス、SiO2 −B2 3
のガラス、PbO−SiO2−B2 3 系のガラス等を
用いても良い。また、セラミック骨材として、アルミナ
に代えて、例えばムライトを用いても良い。
【0026】また、前記表1に示す例では、Na2 Oの
添加率の最小値が0.5重量%であるが、これよりも少
ない添加率であっても、焼成時のガラスの流動性を高め
ることができ、基板の曲げ強度等を向上できる。
【0027】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の請求項1のガラスセラミック基板によれば、Na2
を添加して焼成時のガラスの流動性を高めるようにした
ので、基板の曲げ強度向上、焼成時の基板の反り(表層
導体の反り)の低減を可能にすると共に、焼成密度が低
下せず、ガラスセラミック基板の品質を向上できる。
【0028】更に、請求項2では、ガラスセラミック材
料に対するNa2 Oの添加率を5重量%以下にしたの
で、焼成時のガラスの流動性が過剰にならず、Na2
の添加の効果を確実に得ることができる。
【0029】また、請求項3では、セラミック骨材の配
合率を50〜60重量%にしたので、セラミック骨材の
配合率の増加による曲げ強度向上の効果とNa2 Oの添
加による曲げ強度向上の効果との相乗効果によって、曲
げ強度を効果的に向上させることができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4G062 AA09 AA15 BB05 DA05 DA06 DB01 DB02 DB03 DB04 DC03 DC04 DD01 DE01 DF01 EA01 EB01 EC01 ED01 EE04 EE05 EE06 EF01 EG01 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM28 NN33 PP01 PP03 5E346 AA12 AA15 AA43 BB01 CC18 CC32 CC38 CC39 DD02 DD13 DD34 EE24 EE29 FF18 GG04 GG06 GG08 GG09 HH11

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラスとセラミック骨材とを混合したガ
    ラスセラミック材料により形成したガラスセラミック基
    板において、 前記ガラスセラミック材料にNa2 Oが添加されている
    ことを特徴とするガラスセラミック基板。
  2. 【請求項2】 前記ガラスセラミック材料に対するNa
    2 Oの添加率が5重量%以下であることを特徴とする請
    求項1に記載のガラスセラミック基板。
  3. 【請求項3】 前記ガラスセラミック材料中の前記セラ
    ミック骨材の配合率が50〜60重量%であることを特
    徴とする請求項1又は2に記載のガラスセラミック基
    板。
JP868299A 1999-01-18 1999-01-18 ガラスセラミック基板 Pending JP2000203879A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP868299A JP2000203879A (ja) 1999-01-18 1999-01-18 ガラスセラミック基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP868299A JP2000203879A (ja) 1999-01-18 1999-01-18 ガラスセラミック基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000203879A true JP2000203879A (ja) 2000-07-25

Family

ID=11699705

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP868299A Pending JP2000203879A (ja) 1999-01-18 1999-01-18 ガラスセラミック基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000203879A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012229160A (ja) * 2008-04-18 2012-11-22 Asahi Glass Co Ltd 発光素子搭載基板用ガラスセラミックス組成物およびこれを用いた発光素子搭載基板、発光装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012229160A (ja) * 2008-04-18 2012-11-22 Asahi Glass Co Ltd 発光素子搭載基板用ガラスセラミックス組成物およびこれを用いた発光素子搭載基板、発光装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3240271B2 (ja) セラミック基板
US7722732B2 (en) Thick film paste via fill composition for use in LTCC applications
JPH107435A (ja) ガラスセラミック配線基板およびその製造方法
US6372676B1 (en) Ceramic substrate composition and ceramic circuit component
JPH1095686A (ja) 銅メタライズ組成物及びそれを用いたガラスセラミック配線基板
JP2598872B2 (ja) ガラスセラミックス多層基板
US5932326A (en) Ceramic wiring boards and method for their manufacture
JPH02225339A (ja) ガラスセラミック焼結体
JP2006256956A (ja) ガラスセラミックス焼結体及びマイクロ波用回路部材
JP2000203879A (ja) ガラスセラミック基板
JPH05144316A (ja) 導体ペースト組成物
JP3807257B2 (ja) セラミック部品の製造方法
JPH11186727A (ja) 配線基板およびその製造方法
JPH09312476A (ja) セラミック多層配線基板の製造方法
JP2002198626A (ja) 低温焼成セラミック回路基板の製造方法
JP4066631B2 (ja) 低温焼成セラミック材料及び低温焼成セラミック基板
JP3315233B2 (ja) セラミック基板用組成物
JP2002198624A (ja) 回路基板
JPH11135899A (ja) セラミック回路基板
JP3125500B2 (ja) セラミックス基板
JP2005216998A (ja) セラミック回路基板及びその製造方法
JP2652229B2 (ja) 積層回路セラミック基板
JP3315182B2 (ja) セラミック基板用組成物
JP4762564B2 (ja) 導体組成物及びこれを用いた配線基板とその製造方法
JPH10215046A (ja) 回路基板

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040616