JP2000200996A - 電磁波シ―ルド性接着フィルムの製造方法および該電磁波シ―ルド性接着フィルムを用いた電磁波遮蔽体、ディスプレイ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 導電性ペーストを用いたオフセット印刷で幾
何学図形を描いた場合に印刷ムラやにじみ・かすれの発
生を防止し均一な図形を描くことができ、電磁波シール
ド性と透明性・非視認性及び被着体への簡易な接着性を
有する電磁波シールド性接着フィルムおよび該電磁波シ
ールド性接着フィルムを用いた電磁波遮蔽体、ディスプ
レイを提供する。 【解決手段】 透明プラスチック支持体、接着剤層、導
電性ペーストがこの順に配置された構成体において、オ
フセット印刷法により、小面積の導電性ペーストの印刷
を複数回繰返すことにより、大面積の幾何学図形を透明
プラスチックフィルム上に形成することを特徴とする電
磁波シールド性接着フィルム。この電磁波シールド性接
着フィルムと透明基材を積層し電磁波遮蔽体とし、電磁
波シールドフィルムまたは電磁波遮蔽体をディスプレイ
に用い電磁波を遮蔽する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性を有する電磁波シールド性接着
フィルム及び該電磁波シールド性接着フィルムを用いた
電磁波遮蔽体、ディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面
より発生する電磁波ノイズのシールド方法として、透明
性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層
を形成する方法（特開平１−２７８８００号公報、特開
平５−３２３１０１号公報参照）が提案されている。一
方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シール
ド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６
９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む導電性樹脂を
透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料（特開昭
６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報
参照）、さらには、ポリカーボネート等の透明基板上に
透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅
のメッシュパターンを形成した電磁波シールド材料（特
開平５−２８３８８９号公報参照）が提案されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要
求される３０ｄＢ以上、好ましくは５０ｄＢ以上のシー
ルド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分であった。良導
電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特
開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２
号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの電磁波シールド
効果は４０〜５０ｄＢであるが、視認性に問題のない繊
維径が２５μｍのとき、導電性繊維を規則配置させるた
めに必要なピッチが５０μｍ以下となり、開口率が低下
して透明性が損なわれ、ディスプレイ用途には適したも
のではなかった。また、特開昭６２−５７２９７号公
報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導
電性樹脂を透明基板上に直接スクリーン印刷法などによ
って印刷した電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷
精度の限界からライン幅は、５０〜１００μｍ前後とな
り透明性の低下やラインの視認性が発現するため前面フ
ィルターとして適したものではなかった。さらに特開平
５−２８３８８９号公報に記載のポリカーボネート等の
透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっ
き法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材
料では、無電解めっきの密着力を確保するために、透明
基板の表面を粗化する工程が必要であることや、基板が
無電解めっき工程でダメージを受けてはならないなどの
制約があった。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイ
に密着させることができないため、そこから電磁波の漏
洩が大きくなる等の問題があった。また仮にこの方法に
より、電磁波シールド性と透明性は達成できたとして
も、製造面においては、電磁波シールドテープのように
シールド材料を巻物にすることができないため嵩高くな
ることや自動化に適していないために製造コストがかさ
むという欠点もあった。さらに特願平１０−１７９４８
９号に示したように、凹版オフセット印刷で幾何学図形
を描いた場合、一般にＰＤＰは大画面であることが多い
ため、一回の印刷では印刷ムラやにじみ・かすれが発生
しやすく均一な図形を描くことが困難である場合があっ
た。

【０００４】ディスプレイ前面から発生する電磁波のシ
ールド性については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３
０ｄＢ以上、好ましくは５０ｄＢ以上の電磁波シールド
機能の他に、良好な可視光透過性、さらに可視光透過率
が大きいだけでなく、シールド材の存在を肉眼で確認す
ることができない特性である非視認性も必要とされる。
電磁波シールド性、透明性、非視認性や被着体への簡易
な接着性を有する接着フィルムとしては、これまで満足
なものは得られていなかった。本発明はかかる点に鑑
み、オフセット印刷で幾何学図形を描いた場合に印刷ム
ラやにじみ・かすれの発生を防止し均一な図形を描くこ
とができ、電磁波シールド性と透明性・非視認性及び被
着体への簡易な接着性を有する電磁波シールド性接着フ
ィルムおよび該電磁波シールド性接着フィルムを用いた
電磁波遮蔽体、ディスプレイを提供ことを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、透明プラ
スチック支持体、接着剤層、導電性ペーストがこの順に
配置された構成体において、オフセット印刷法により小
面積の導電性ペーストで幾何学図形を印刷し、これを他
の場所に複数回繰返すことにより、大面積の幾何学図形
を接着剤層上に形成することにより上記課題を解決でき
ることを見出した。本発明の請求項１に記載の発明は、
オフセット印刷で幾何学図形を描いた場合でも印刷ムラ
やにじみ・かすれの発生を防止して均一な図形を描くこ
とができるとともに良好な外観特性、電磁波シールド性
と透明性・非視認性及び被着体への簡易な接着性を有す
る電磁波シールド性接着フィルムを安価に提供するた
め、透明プラスチック支持体、接着剤層、導電性ペース
トがこの順に配置された構成体で、接着剤層上に、小面
積のオフセット印刷を複数回繰返すことにより、大面積
の幾何学図形を有する導電性ペーストを形成することを
特徴とする電磁波シールド性接着フィルムの製造方法で
ある。本発明の請求項２に記載の発明は、請求項１に加
えて、優れた電磁波シールド性を有する電磁波シールド
性接着フィルムを提供するため、導電性ペースト上に金
属めっきを施すものである。本発明の請求項３に記載の
発明は、優れたコントラストを有する電磁波シールド性
接着フィルムを安価に提供するため、導電性ペーストを
黒色のペーストとするものである。本発明の請求項４に
記載の発明は、優れた電磁波シールド性と優れたコント
ラストとを有する電磁波シールド性接着フィルムを提供
するため、導電性ペースト上の金属めっきを黒化処理す
るものである。

【０００６】本発明の請求項５に記載の発明は、電磁波
シールド性と優れた透明性および簡便な接着性を有する
電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、接着剤
層の屈折率を１．４５〜１．７０の範囲とするものであ
る。本発明の請求項６に記載の発明は、優れた電磁波シ
ールド性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供
するため、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化する導電性ペ
ーストを用いたものである。本発明の請求項７に記載の
発明は、優れた電磁波シールド性と透明性を有する電磁
波シールド性接着フィルムを提供するため、導電性ペー
ストで描かれた幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、
ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚さが４０μｍ以
下とするものである。

【０００７】本発明の請求項８に記載の発明は、優れた
電磁波シールド性を有する電磁波シールド性接着フィル
ムを提供するため、導電性ペーストを形成する導電性フ
ィラーが銀、銅、ニッケルまたはそれらいずれかを含む
合金とするものである。本発明の請求項９に記載の発明
は、透明プラスチック支持体と接着剤層との接着を良好
なものとするため、または透明プラスチック支持体と他
の部材との接着性を良好とした電磁波シールド性接着フ
ィルムを提供するため、透明プラスチック支持体を表面
処理されたプラスチック支持体とするものである。本発
明の請求項１０に記載の発明は優れた接着性を有する電
磁波シールド性接着フィルムを提供するため、透明プラ
スチック支持体の表面処理方法が、プライマ処理、プラ
ズマ処理またはコロナ放電処理のうち少なくとも１つ以
上の方法を用いるものである。本発明の請求項１１に記
載の発明は、加工性に優れ、安価な電磁波シールド性接
着フィルムを提供するため、透明プラスチック支持体を
ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボ
ネートフィルムとするものである。本発明の請求項１２
に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有する電
磁波遮蔽体を提供するため、前記の電磁波シールド性接
着フィルムと透明基材から構成された電磁波遮蔽体とす
るものである。本発明の請求項１３に記載の発明は、電
磁波シールド性と透明性を有する前記いずれかの電磁波
シールド性接着フィルムをディスプレイに用いたもので
ある。または、請求項１２に記載の電磁波遮蔽体をディ
スプレイに用いたものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の導電性ペーストの導電性を発現するために使用
する導電性フィラーは、金属、金属酸化物、無定形カー
ボン粉、グラファイト、金属めっきしたフィラーを使用
することができる。金属としては、銅、アルミニウム、
ニッケル、鉄、金、銀、白金、タングステン、クロム、
チタン、スズ、鉛、パラジウムなどが挙げられ、それら
の１種または２種以上を組み合わせて含むステンレス、
半田などの合金も使用することができる。導電性、印刷
性の容易さ、価格の点から銀、銅、ニッケル、またはそ
れらのいずれかを含む合金が適している。一方導電性ペ
ーストを形成する金属として、常磁性金属である、鉄、
ニッケル、コバルトを使用すると、電界に加えて、特に
磁界の遮蔽性を向上させることも可能である。これらの
金属等の形状は鱗片状、樹脂状、球状、不定形のいずれ
でもよく、滑剤などで処理することもできる。好ましい
粒径は５０μｍ以下でこれより粒径が大きいと導電性が
低下するおそれがある。また導電性ペースト中の金属の
割合は任意に調節することが可能であるが、良好なシー
ルド性が発現するには３０重量％以上の配合が必要であ
り、５０重量％以上とすることがさらに好ましい。

【０００９】導電性ペーストのバインダポリマーとして
は、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソ
プレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテン、
ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエ
ン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン、ポリ
−１，３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシ
エチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエ
ーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチ
ルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテー
ト、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、
ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポ
リアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリス
ルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポ
リブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアク
リレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ−３−
エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニル
テトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリ
イソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレ
ート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−ｎ−プ
ロピルメタクリレート、ポリ−３，３，５−トリメチル
シクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレ
ート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリ
レート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレー
ト、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アク
リル酸エステルを使用することができる。

【００１０】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、
ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなども使用できる。特に支持体
への密着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れてお
り、エポキシアクリレートとしては、１，６−ヘキサン
ジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジ
ルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ア
ジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジル
エステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、
グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリト
ールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
リシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げ
られる。エポキシアクリレートなどのように分子内に反
応後または元々水酸基を有するポリマーは被着体への密
着性向上に有効である。これらのほかにも、フェノール
樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂等が
適用可能で、これらのポリマーは必要に応じて、２種以
上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用
することも可能である。

【００１１】これらのバインダポリマは通常の汎用溶剤
に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤などと
ともに金属と攪拌・混合して使用することができる。本
発明で使用する導電性ペーストには必要に応じて、上記
分散剤のほかに、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レ
ベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活
性化剤、カップリング剤や充填剤などの添加剤を配合し
てもよい。そして、導電性ペーストには、紫外線（Ｕ
Ｖ）または熱で硬化する導電性ペーストを用いること
が、レジストの取扱性、エッチング時の耐薬品性、レジ
ストを設けて使用する場合に有利であるので好ましい。
印刷配線板分野で使用されている感光性樹脂や導電性ペ
ーストなどの組成を変形させて適用することができる。

【００１２】一方、電磁波シールド性接着フィルムを構
成する接着剤層は、屈折率が１．４０〜１．７０の範囲
にあるもの、より好ましくは１．４５〜１．７０の範囲
にあるもので、主に以下に示す熱可塑性樹脂がその代表
的なものとしてあげられる。たとえば天然ゴム（屈折率
ｎ=1.52）、ポリイソプレン（ｎ=1.521）、ポリ−１，
２−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリイソブテン（ｎ=1.50
5〜1.510）、ポリブテン（ｎ=1.513）、ポリ−２−ヘプ
チル−１，３−ブタジエン（ｎ=1.50）、ポリ−２−ｔ
−ブチル−１、３−ブタジエン（ｎ=1.506）、ポリ−
１，３−ブタジエン（ｎ=1.515）などの（ジ）エン類、
ポリオキシエチレン（ｎ=1.456）、ポリオキシプロピレ
ン（ｎ=1.450）、ポリビニルエチルエーテル（ｎ=1.45
4）、ポリビニルヘキシルエーテル（ｎ=1.459）、ポリ
ビニルブチルエーテル（ｎ=1.456）などのポリエーテル
類、ポリビニルアセテート（ｎ=1.467）、ポリビニルプ
ロピオネート（ｎ=1.467）などのポリエステル類やポリ
ビニルブチラール樹脂（ｎ=1.52）、ＥＶＡ樹脂（ｎ=1.
48〜1.49）、ポリ酢酸ビニル樹脂（ｎ=1.5）、ポリウレ
タン（ｎ=1.5〜1.6）やポリエステルポリウレタン（ｎ=
1.5〜1.6）、エチルセルロース（ｎ=1.479）、ポリ塩化
ビニル（ｎ=1.54〜1.55）、ポリアクリロニトリル（ｎ=
1.52）、ポリメタクリロニトリル（ｎ=1.52）、ポリス
ルホン（ｎ=1.633）、ポリスルフィド（ｎ=1.6）、フェ
ノキシ樹脂（ｎ=1.5〜1.6）、ポリエチルアクリレート
（ｎ=1.469）、ポリブチルアクリレート（ｎ=1.466）、
ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ=1.463）、
ポリ−ｔ−ブチルアクリレート（ｎ=1.464）、ポリ−３
−エトキシプロピルアクリレート（ｎ=1.465）、ポリオ
キシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ=1.465）、ポ
リメチルアクリレート（ｎ=1.472〜1.480）、ポリイソ
プロピルメタクリレート（ｎ=1.473）、ポリドデシルメ
タクリレート（ｎ=1.474）、ポリテトラデシルメタクリ
レート（ｎ=1.475）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレー
ト（ｎ=1.484）、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロ
ヘキシルメタクリレート（ｎ=1.484）、ポリエチルメタ
クリレート（ｎ=1.485）、ポリ−２−ニトロ−２−メチ
ルプロピルメタクリレート（ｎ=1.487）、ポリ−１，１
−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ=1.489）、ポリ
メチルメタクリレート（ｎ=1.489）などのポリ（メタ）
アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリ
ルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよい
し、２種類以上をブレンドして使うことも可能である。

【００１３】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート（ｎ=1.48〜1.6
0）、ウレタンアクリレート（ｎ=1.5〜1.6）、ポリエー
テルアクリレート（ｎ=1.48〜1.49）、ポリエステルア
クリレート（ｎ=1.48〜1.54）なども使用することもで
きる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エ
ポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れ
ており、エポキシアクリレートとしては、１，６−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリ
コールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリ
シジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテ
ル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリ
シジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリ
スリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテ
トラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物
が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子
内に水酸基を有するポリマーは接着性向上に有効であ
る。これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用
することができる。一方、ポリマーの重量平均分子量
は、５００以上のものが好ましく使用される。分子量が
５００未満では接着剤組成物の凝集力が低すぎるために
被着体への密着性が低下することがある。本発明で使用
する接着剤層の樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、
可塑剤、チクソトロピー性付与剤、レベリング剤、消泡
剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤、紫
外線吸収剤、防眩剤、赤外線吸収剤、導電性金属、充填
剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。

【００１４】本発明で用いる接着剤層の屈折率しては
１．４０〜１．７０のもの、より好ましくは１．４５〜
１．７０のものを使用することが好ましい。これは本発
明で使用する透明プラスチック支持体と接着剤層の屈折
率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折
率が１．４０〜１．７０、好ましくは１．４５〜１．７
０であると可視光透過率の低下が少なく良好で上述した
ポリマーの屈折率はこの範囲内にある。これらの接着剤
は通常の汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま
他の添加剤と共に攪拌・混合・溶解して使用することが
できる。

【００１５】導電性ペーストを黒色化する方法として
は、導電性ポリマーのバインダポリマに黒色色素を添加
したり、カーボンブラック等の黒色添加剤を使用する方
法がある。黒色添加剤としてカーボンブラックを使用し
た場合、導電性ペーストの導電率が大きくなり好まし
い。これらの黒色添加剤は通常、バインダポリマ１００
重量部に対して、０．００１重量部以上の添加でコント
ラストの向上を図ることができるが、０．０１重量部以
上の添加がさらに好ましい。黒色の導電性ペーストは、
電磁波シールド性接着フィルムとしてディスプレイに用
いた場合、コントラストの向上を図ることができる。

【００１６】本発明で幾何学図形を描く際に用いられる
オフセット印刷法としては凹版オフセット印刷法が適し
ている。これは通常のスクリーン印刷法や平版オフセッ
ト印刷法に比べて、５０μｍ以下の高精度の印刷性に優
れているためである。凹版オフセット印刷法は、版の凹
部に導電性ペーストを詰め、一旦ブランケットに移し、
これから被着体に印刷する方法である。本発明において
複数回繰返すオフセット印刷とは、大面積の幾何学図形
を描くために少なくとも2回以上の小面積の印刷を行う
ことを意味する。その際小面積に分割して幾何学図形を
描くことにより、小型印刷機で印刷が可能である上、面
内で印刷パターンのライン幅バラツキやにじみ・かすれ
などを最小限に抑えることができる。ここでいう大面積
とは、１００ｍｍ×１００ｍｍ以上のものを指すが、本
発明では特に５００ｍｍ×５００ｍｍ以上の幾何学図
形、特に１０００ｍｍ×１０００ｍｍ以上の幾何学図形
を描く際に有効である。一方、本発明でいう小面積とは
１０００ｍｍ×１０００ｍｍ以下で、通常最も有効な小
面積は５００ｍｍ×５００ｍｍ以下の場合である。

【００１７】本発明のオフセット印刷法による導電性ペ
ーストで描く幾何学図形とは、正三角形、二等辺三角
形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし
形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、
（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの
（正）ｎ角形、円、だ円、星型などを組み合わせた模様
であり、これら単位の単独の繰り返し、あるいは２種類
以上を組み合わせて使用することも可能である。電磁波
シールド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可
視光透過性の点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形
のｎ数が大きいほど開口率が上がるが、可視光透過性の
点から開口率は５０％以上が必要で、６０％以上がさら
に好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィルム
の有効面積に対する有効面積から導電性ペーストで描か
れた幾何学図形の導電性ペーストの面積を引いた面積の
比の百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シ
ールド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面
が見える割合となる。

【００１８】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大き
いほど開口率は向上し、可視光透過率は向上するが、電
磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１ｍｍ以下
とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形
等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準とし
て、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さ
をライン間隔とする。

【００１９】本発明中に用いられる導電性ペースト上に
金属めっきを施すことによって、さらに電磁波シールド
性を向上させることができる。金属めっきを施す方法と
して常法による電解めっき、無電解めっき、それらの組
合せのいずれの方法でも可能である。めっき金属の種類
は金、銀、銅、ニッケル、アルミ等が可能であるが、導
電性、価格の点から銅、またはニッケルが最も適してい
る。めっき厚みの範囲は０．１〜１００μｍが適当で、
０．１μｍ未満では導電性が不十分なため、十分なシー
ルド性が発現しないおそれがある。まためっき厚みが１
００μｍを超えると、視野角が狭くなるため好ましくな
い。０．５〜５０μｍがさらに好ましい。金属めっきの
黒化処理は、コントラストが高くなり好ましい。また経
時的に酸化され退色されることが防止できる。黒化処理
は、金属めっきの形成後で行えば好ましく、プリント配
線板分野で行われている方法を用いて行うことができ
る。例えば、金属めっきが銅である場合、亜塩素酸ナト
リウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／
ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、９
５℃で２分間処理することにより行うことができる

【００２０】接着剤層との密着性を向上させるため、透
明プラスチック支持体上へ種々の表面処理を施すことが
できる。その方法としては、プライマの塗布による処
理、プラズマ処理、コロナ放電処理等が有効である。こ
れらの処理により処理後のプラスチック支持体の臨界表
面張力が３５dyn/cm以上になることが必要で、４０dyn/
cm以上がさらに好ましい。臨界表面張力が３５dyn/cm未
満だと接着剤層との接着性が低下してくる場合がある。

【００２１】本発明で使用する透明プラスチック支持体
としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポ
リエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどの
ポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサ
ルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、
アクリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで無
色あるいは有色を含め全可視光透過率が７０％以上で厚
さが１ｍｍ以下のものが好ましい。これらは単層で使用
することもできるが、２層以上を組み合わせた多層フィ
ルムとして使用してもよい。このうち透明性、耐熱性、
取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレ
ートフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好まし
い。プラスチックフィルムの厚さは、５〜５００μｍが
より好ましい。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、
５００μｍを超えると可視光の透過率が低下してくる。
１０〜２００μｍがさらに好ましい。プラスチック支持
体の少なくとも片面には、真空蒸着法、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法、スプレー法、プリント印刷法などの方法で金、
銀、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、コバルト、クロ
ム、スズ、チタンなどやこれらの合金、あるいは酸化イ
ンジウム、酸化スズ、およびその混合物（以下ＩＴＯ）
をはじめ、酸化チタン、酸化第二スズ、酸化カドミウム
やこれらの混合物を用いて、導電性の薄膜層を形成して
あってもよい。また、電磁波シールド性接着フィルムの
最外層または透明プラスチック支持体上に、反射防止層
を設けたり、近赤外線遮蔽層を形成したり、内包しても
よい。また、接着剤層を任意の場所に設けて電磁波シー
ルド性接着フィルムを貼り付けたり、他の層と積層する
こともできる。

【００２２】本発明の電磁波遮蔽体で使用する透明基材
は、ガラスやプラスチックからなる板であり、具体的に
は、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタ
クリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニ
ル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹脂、
ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミ
ド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテ
ルケトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹
脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂・ポリエチレンテ
レフタレート樹脂などの熱可塑性ポリエステル樹脂、酢
酸セルロース樹脂、フッ素樹脂、ポリスルホン樹脂、ポ
リエーテルスルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポ
リウレタン樹脂、フタル酸ジアリル樹脂などの熱可塑性
樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透明
性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリメチルペンテン樹脂が好適に用いら
れる。本発明で使用する透明基材の厚みは、０．５ｍｍ
〜５ｍｍがディスプレイの保護や強度、取扱性から好ま
しい。

【００２３】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 （実施例１）厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）フィルム（Ａ−４１００：東洋紡績株式会
社製商品名）を用い、その表面にプライマ（ＨＰ−１：
日立化成工業株式会社製商品名、、塗布厚 １μｍ）を
塗布し、さらにその上に接着剤層として、ポリビニルブ
チラール樹脂（＃６０００ＥＰ：電気化学工業株式会社
製商品名、、軟化点７２℃、分子量２４００、屈折率ｎ
＝１．５２）を乾燥塗布厚が２０μｍになるように塗布
した。その接着剤上に凹版オフセット印刷法を用いて黒
色色素（Ｋａｙａｓｅｔ ＢｌａｃｋＧ：日本化薬株式
会社製商品名）を０．５重量％含有する銀ペースト（エ
ピマールＥＭ−４５００：日立化成工業株式会社製商品
名）を一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４５０ｍｍの
面積で印刷し、格子パターン（ライン幅２５μｍ、ライ
ン間隔（ピッチ)２５０μｍ）を形成した。この印刷工
程を残りの未印刷部に位置合わせして３回繰返すことに
より、縦８００ｍｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを接
着剤上に形成した。その後、１５０℃で３時間、導電性
ペースト樹脂を加熱硬化し、電磁波シールド性接着フィ
ルムを作製した。本フィルムの開口率は８１％であっ
た。

【００２４】（実施例２）厚さ５０μｍのポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ−４１００：東
洋紡績株式会社製商品名）を用い、その表面にプライマ
（ＨＰ−１：日立化成工業株式会社製商品名、塗布厚
１μｍ）を塗布し、さらにその上に接着剤層として、ポ
リビニルブチラール樹脂（ＢＬ−１：積水化学工業株式
会社製商品名、軟化点１０５℃、分子量１．９万、ｎ＝
１．５２）を乾燥塗布厚が３０μｍになるように塗布し
た。その接着剤上に凹版オフセット印刷法を用いて黒色
色素（Ｋａｙａｓｅｔ ＢｌａｃｋＧ：日本化薬株式会
社製商品名）を０．５重量％含有する銀ペースト（エピ
マールＥＭ−４５００：日立化成工業株式会社製商品
名）を一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４５０ｍｍの
面積で印刷し、格子パターン（ライン幅２０μｍ、ライ
ン間隔（ピッチ）２８６μｍ）を形成した。この印刷工
程を残りの未印刷部に繰返すことにより、縦８００ｍ
ｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを接着剤上に形成し
た。その後、１６０℃で２時間ペースト樹脂を加熱硬化
した。出来上った銀ペーストの格子パターンに常法によ
り電解銅めっきによって、３μｍ厚の銅めっき層を形成
し、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリ
ウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）
の水溶液中、９５℃で２分間処理することにより黒化処
理して電磁波シールド性接着フィルムを作製した。本フ
ィルムの開口率は８６％であった。

【００２５】（実施例３）厚さ２５μｍのポリカーボネ
ートフィルム（レキサン：旭硝子株式会社製商品名）を
用い、そのコロナ処理面（臨界表面張力５４dyn/cm)に
接着剤層としてポリエステルポリウレタン樹脂（バイロ
ンＵＲ−１４００：東洋紡績株式会社製商品名、軟化点
８３℃、平均分子量４００００、ｎ＝１．５）を乾燥塗
布厚が２５μｍになるように塗布した。その接着剤上に
凹版オフセット印刷法を用いて黒色色素（Ｋａｙａｓｅ
ｔ ＢｌａｃｋＧ：日本化薬株式会社製商品名）を０．
５重量％含有する下記の感光性樹脂にニッケル粒子を含
有させた導電性ニッケルペーストを、一回の印刷につき
縦３５０ｍｍ、横４００ｍｍの面積で印刷し、格子パタ
ーン（ライン幅３０μｍ、ライン間隔（ピッチ）１２７
μｍ）状に形成した。この印刷工程を残りの未印刷部に
繰返すことにより、縦７００ｍｍ、横８００ｍｍの印刷
パターンを接着剤上に形成した。その後、紫外線ランプ
を用いて、１J/ｃｍ²の紫外線を照射し、さらに１２０
℃で６０分間ペースト樹脂を加熱硬化し、電磁波シール
ド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口率は５
８％であった。 （感光性樹脂の組成） 2,2-ビス(4-(4-N-マレイミシ゛ルフェノキシ)フェニル)フ゜ロハ゜ン ３０重量部エホ゜キシ 当量500のヒ゛スフェノールA型エホ゜キシ樹脂に１当量のテトラヒト゛ロ無水フタル酸を窒素雰囲気 下で150℃で10時間反応させて得た酸変性エホ゜キシ樹脂 ４５重量部アクリロニトリルフ゛タシ゛エンコ゛ム （PNR-1H:日本合成ゴム株式会社製商品名） ２０重量部 1,7-シ゛-9-アクリシ゛ニルヘフ゜タン ５重量部 水酸化アルミニウム １０重量部シクロヘキサノン ／メチルエチルケトン(1/1重量比)の45重量％ワニスにニッケル粒子を３０体積％ になるように分散させた。

【００２６】（実施例４）厚さ５０μｍのＰＥＴフィル
ム（Ａ−４１００：東洋紡績株式会社製商品名）を用
い、その表面にプライマ（ＨＰ−１：日立化成工業株式
会社製商品名、塗布厚 １μｍ）塗布し、さらにその上
に接着剤層として、アクリル樹脂（ＨＴＲ−８１１：帝
国化学産業株式会社製商品名、軟化点−４３℃、平均分
子量４２万、ｎ＝１．５２）を乾燥塗布厚が２０μｍに
なるように塗布した。その接着剤上に凹版オフセット印
刷法を用いてエポキシ・フェノール樹脂をバインダ（Ｔ
ＢＡ−ＨＭＥ：日立化成工業株式会社製商品名とＹＤ−
８１２５：東都化成株式会社製商品名のブレンド品）に
した銅ペーストを一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４
５０ｍｍの面積で印刷し、格子パターン（ライン幅２０
μｍ、ライン間隔（ピッチ）２５０μｍ）状に形成し
た。この印刷工程を残りの未印刷部に繰返すことによ
り、縦８００ｍｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを接着
剤上に形成した。その後、１５０℃で３時間導電性ペー
スト樹脂を加熱硬化した。出来上った銅ペーストの格子
パターンに無電解銅めっき（ＣＵＳＴ−２０１：日立化
成工業株式会社製商品名）によって、１μｍ厚の銅めっ
き層を形成し、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水
酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１
２ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することに
より黒化処理して電磁波シールド性接着フィルムを作製
した。本フィルムの開口率は８４％であった。 （接着剤組成物） ＴＢＡ−ＨＭＥ（日立化成工業株式会社製；高分子量エポキシ樹脂、分子量約３ ０万） １００重量部 ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 ） ２５重量部 ＩＰＤＩ（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシアネート） １２．５重量部 ２−エチル−４−メチルイミダゾール ０．３重量部 ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ３３０重量部 シクロヘキサノン １５重量部 銅粉 ３０体積％ 銅粉を除いたこの接着剤組成物の溶剤乾燥後の屈折率は１．５７であった。

【００２７】（実施例５）厚さ５０μｍのＰＥＴフィル
ム（Ａ−４１００：東洋紡績株式会社製商品名）を用
い、その表面にプライマ（ＨＰ−１：日立化成工業株式
会社製商品名、塗布厚 １μｍ）を塗布し、さらにその
上に接着剤層として、ポリビニルブチラール樹脂（＃６
０００ＥＰ：電気化学工業株式会社製商品名、軟化点７
２℃、分子量２４００、ｎ＝１．５２）を乾燥塗布厚が
２０μｍになるように塗布した。その接着剤上に凹版オ
フセット印刷法を用いてカーボンブラック（ケッチェン
ブラックＥＣ−６００：ライオン株式会社製商品名、平
均粒径０．０３μｍ）を１重量％含有する銀ペースト
（エピマールＥＭ−４５００：日立化成工業株式会社製
商品名）を一回の印刷につき縦４００ｍｍ、横４５０ｍ
ｍの面積で印刷し格子パターン（ライン幅２０μｍ、ラ
イン間隔（ピッチ）２５０μｍを形成した。この印刷工
程を残りの未印刷部に繰返すことにより、縦８００ｍ
ｍ、横９００ｍｍの印刷パターンを接着剤上に形成し
た。その後、１６０℃で２時間ペースト樹脂を加熱硬化
した。出来上った銀ペーストの格子パターンに電解銅め
っきによって５μｍ厚の銅めっき層を形成し、亜塩素酸
ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ
／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、
９５℃で２分間処理することにより黒化処理して電磁波
シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口
率は８４％であった。

【００２８】（実施例６）実施例１で得られた電磁波シ
ールド性接着フィルムの導電性ペーストで幾何学図形を
形成した面を厚さ３ｍｍの市販のソーダライムガラス
に、そして電磁波シールド性接着フィルムの反対側面を
接着フィルム（エスレック：積水化学工業株式会社製商
品名、厚さ２５０μｍ）を介して市販のアクリル板（コ
モグラス：株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に熱
プレス機を使用し、１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ²、１
５分の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽体を得た。

【００２９】（比較例１）実施例１において、導電性ペ
ーストに黒色色素を配合せず、また、一回の印刷面積を
縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけの印刷で
電磁波シールド性接着フィルムを作製した以外は実施例
１と同様にして電磁波シールド性接着フィルムを作製し
た。

【００３０】（比較例２）実施例２において、一回の印
刷面積を縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけ
の印刷で電磁波シールド性接着フィルムを作製し、黒化
処理しないこと以外は実施例２と同様にして電磁波シー
ルド性接着フィルムを作製した。

【００３１】（比較例３）実施例３において、一回の印
刷面積を縦７００ｍｍ、横８００ｍｍにして、一回だけ
の印刷で電磁波シールド性接着フィルムを作製した以外
は実施例３と同様にして電磁波シールド性接着フィルム
を作製した。

【００３２】（比較例４）実施例４において、一回の印
刷面積を縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけ
の印刷で電磁波シールド性接着フィルムを作製した以外
は実施例４と同様にして電磁波シールド性接着フィルム
を作製した。

【００３３】（比較例５）実施例５において、一回の印
刷面積を縦８００ｍｍ、横９００ｍｍにして、一回だけ
の印刷で電磁波シールド性接着フィルムを作製した以外
は実施例５と同様にして電磁波シールド性接着フィルム
を作製した。

【００３４】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルム、電磁波遮蔽体の導電性ペーストまたは
導電性ペーストと金属めっきで描かれた幾何学図形の、
印刷パターンの外観及び異常の有無、非視認性、開口
率、電磁波シールド性（３００ＭＨｚ）、可視光透過
率、コントラスト、ガラス板への密着性を測定した。そ
の測定結果を表１に示した。

【００３５】導電性ペーストまたは導電性ペーストと金
属めっきで描かれた幾何学図形の開口率は顕微鏡写真を
もとに実測した。電磁波シールド性は、同軸導波管変換
器（ＴＷＣ−Ｓ−０２４：日本高周波株式会社製商品
名）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトラムアナラ
イザー（８５１０Ｂベクトルネットワークアナライザ
ー：ＹＨＰ製商品名）を用い、周波数３００ＭＨzで測
定した。可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度
計（２００−１０型：株式会社日立製作所製商品名）を
用いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平均値を用い
た。外観（印刷パターンの外観及び異常の有無）、非視
認性及びコントラストは肉眼観察により判定した。非視
認性は、電磁波シールド性接着フィルムを０．５ｍ離れ
た場所から観察し、導電性ペーストで形成された幾何学
図形を認識できないものを良好、認識できるものをＮＧ
とした。コントラストは、電磁波シールド性接着フィル
ムをプラズマディスプレイ装置の画面に密着させ、コン
トラストについて観察し、コントラストに優れているも
のを良好、そうでないものをＮＧとして評価した。電磁
波シールド性接着フィルムのガラスへの密着性は、電磁
波シールド性接着フィルムを１１０℃、１０Kgf/cm²で
１０分間ガラス板に接着させ、接着力を測定した。

【００３６】

【表１】

【００３７】比較例１〜比較例５は一回の印刷面積を縦
７００〜８００ｍｍ、横８００〜９００ｍｍにして一回
だけの印刷で幾何学図形を形成したものであり、面内で
印刷パターンのライン幅バラツキや印刷ムラ、にじみ・
かすれ、断線などが多数発生した。これらの比較例に対
して、本発明の実施例で示した、透明プラスチック支持
体、接着剤層、導電性ペーストがこの順に配置された構
成体で、透明プラスチック支持体上に、小面積のオフセ
ット印刷を複数回繰返すことにより、大面積の幾何学図
形を有する導電性ペーストを接着剤層上に形成する電磁
波シールド性接着フィルムの製造方法ではラインのにじ
み、かすれ、断線がなく、印刷可能な最小ライン幅は２
０μｍと良好であった。そして、開口率が高く明るい割
に電磁波シールド性を５０ｄＢ以上で、更に導電性ペー
ストで描かれた幾何学図形に金属めっきを施すことによ
り電磁波シールド性を高めることができる。また、黒化
処理することにより、コントラストが良好になり、くっ
きりした画像を鑑賞できる。

【００３８】

【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド性接着
フィルムは小面積のオフセット印刷法を複数回、接着剤
層上に施すことによって大面積の電磁波シールド性接着
フィルムを製造しているため、優れた外観と共に、電磁
波シールド性、透明性、非視認性及びガラスなどへの接
着性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを安価に提
供することが可能である。請求項２に記載の導電性ペー
スト上に金属めっきを施すことにより、電磁波シールド
性が非常に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供
することができる。請求項３に記載の導電性ペーストを
黒色のペーストにすることにより安価でコントラストの
優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。請求項４に記載の導電性ペースト上の金属めっ
きを黒化処理することによりコントラストの優れた電磁
波シールド性接着フィルムを提供することができる。

【００３９】請求項５に記載の屈折率が１．４５〜１．
７０の範囲にある接着剤層とすることにより、透明性に
優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。請求項６に記載のオフセット印刷法において、
紫外線（ＵＶ）または熱で硬化する導電性ペーストにす
ることにより、安価で信頼性に優れた電磁波シールド性
接着フィルムを提供することができる。請求項７に記載
の導電性ペーストで描かれた幾何学図形のライン幅が４
０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚さ
が４０μｍ以下とすることにより、透明性と電磁波シー
ルド性が非常に良好な電磁波シールド性接着フィルムを
提供することができる。

【００４０】請求項８に記載の導電性ペーストを形成す
る導電性フィラーを銀、銅、ニッケルまたはそれらいず
れかを含む合金とすることにより、透明性と電磁波シー
ルド性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供す
ることができる。請求項９に記載の透明プラスチック支
持体が表面処理された透明プラスチック支持体とするこ
とにより、電磁波シールド性及び接着信頼性の優れた電
磁波シールド性接着フィルムを得ることができる。請求
項１０に記載の透明プラスチック支持体の表面処理方法
を、プライマ処理、プラズマ処理、コロナ放電処理のう
ち少なくとも１つ以上の方法を使用することにより電磁
波シールド性及び接着信頼性の優れた電磁波シールド性
接着フィルムを安価に得ることができる。請求項１１に
記載の透明プラスチック支持体をポリエチレンテレフタ
レートフィルムまたはポリカーボネートフィルムとする
ことにより、透明性の優れた電磁波シールド性接着フィ
ルムを安価に提供することができる。請求項１２に記載
の電磁波シールド性接着フィルムと透明基材から構成さ
れた電磁波遮蔽体とすることにより、透明性を有する電
磁波シールド性基板を提供することができる。請求項１
３に記載の電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シ
ールド性接着フィルムまたは前記電磁波遮蔽体をディス
プレイに用いることにより、軽量、コンパクトで透明性
に優れ電磁波漏洩が少ないディスプレイを提供すること
ができる。

【００４１】電磁波シールド性接着フィルムをディスプ
レイに使用した場合、可視光透過率が大きく、非視認性
が良好であるのでディスプレイの輝度を高めることなく
通常の状態とほぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑
賞することができる。しかも本フィルム自体接着性を有
するため、容易に被着体に貼合わせることができる。本
発明の電磁波シールド性接着フィルム及び電磁波遮蔽体
は、電磁波シールド性や透明性に優れているため、ディ
スプレイの他に電磁波を発生したり、あるいは電磁波か
ら保護する測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞ
く窓や筐体、特に透明性を要求される窓のような部位に
設けて使用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 橋塲 綾 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 中祖 昭士 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社筑波開発研究所内 Ｆターム(参考） 5E321 AA04 BB23 BB41 BB44 BB53 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 AA14 AA16 BB02 BB05 BB06 BB12 FF00 GG33 HH02 HH12 KK07

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明プラスチック支持体、接着剤層、導
   電性ペーストがこの順に配置された構成体であり、接着
   剤層上に、小面積のオフセット印刷を複数回繰返すこと
   により、大面積の幾何学図形を有する導電性ペーストを
   形成することを特徴とする電磁波シールド性接着フィル
   ムの製造方法。
2. 【請求項２】 導電性ペースト上に金属めっきが施され
   ていることを特徴とする請求項１に記載の電磁波シール
   ド性接着フィルムの製造方法。
3. 【請求項３】 導電性ペーストが黒色のペーストである
   請求項１または請求項２に記載の電磁波シールド性接着
   フィルムの製造方法。
4. 【請求項４】 導電性ペースト上の金属めっきが黒化処
   理されていることを特徴とする請求項２または請求項３
   に記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
5. 【請求項５】 接着剤層の屈折率が１．４５〜１．７０
   の範囲である請求項１ないし請求項４のいずれかに記載
   の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
6. 【請求項６】 紫外線（ＵＶ）または熱で硬化する導電
   性ペーストを用いたことを特徴とする請求項１ないし請
   求項５のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
   ムの製造方法。
7. 【請求項７】 導電性ペーストで描かれた幾何学図形の
   ライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以
   上、ライン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請
   求項６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
   ムの製造方法。
8. 【請求項８】 導電性ペーストを形成する導電性フィラ
   ーが銀、銅、ニッケル、またはそれらのいずれかを含む
   合金である請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の
   電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
9. 【請求項９】 透明プラスチック支持体が表面処理され
   たプラスチック支持体である請求項１ないし請求項８の
   いずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムの製造
   方法。
10. 【請求項１０】 透明プラスチック支持体の表面処理
    が、プライマ塗布、プラズマ処理またはコロナ放電処理
    のうち少なくとも１つ以上の方法を用いる請求項１ない
    し請求項９のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フ
    ィルムの製造方法。
11. 【請求項１１】 透明プラスチック支持体がポリエチレ
    ンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィ
    ルムである請求項１ないし請求項１０のいずれかに記載
    の電磁波シールド性接着フィルムの製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１ないし請求項１１のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムと透明基材から
    構成された電磁波遮蔽体。
13. 【請求項１３】 請求項1ないし請求項１１のいずれか
    に記載の電磁波シールド性接着フィルムまたは請求項１
    ２に記載の電磁波遮蔽体を用いたディスプレイ。