JP2000098912A - 電磁波シールドフィルムの製造方法および該電磁波シールドフィルムを用いた電磁波遮蔽体、ディスプレイ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁波シールド性と透明性・非視認性を有す
る電磁波シールドフィルムおよび該電磁波シールドフィ
ルムを用いた電磁波遮蔽体、ディスプレイを提供する。 【解決手段】 導電性金属とプラスチック支持体からな
る導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属
に、凹版オフセット印刷法によりエッチングレジストで
開口率が５０％以上となるように幾何学図形を形成し、
導電性金属をエッチングして導電性金属で描かれた幾何
学図形を形成して電磁波シールドフィルムを製造する。
この電磁波シールドフィルムと透明基材を積層し電磁波
遮蔽体とし、電磁波シールドフィルムまたは電磁波遮蔽
体をディスプレイに用い電磁波を遮蔽する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性を有する電磁波シールドフィル
ムの製造方法及び該フィルムを用いた電磁波遮蔽体、デ
ィスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面
より発生する電磁波ノイズのシールド方法として、透明
基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を
形成する方法（特開平１−２７８８００号公報、特開平
５−３２３１０１号公報参照）が提案されている。一
方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シール
ド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６
９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む導電性樹脂を
透明基材上に直接印刷した電磁波シールド材料（特開昭
６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報
参照）、さらには、ポリカーボネート等の透明基材上に
透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅
のメッシュパターンを形成した電磁波シールド材料（特
開平５−２８３８８９号公報参照）が提案されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている
透明基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電
層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要
求される３０ｄＢ以上、好ましくは４０ｄＢ以上のシー
ルド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分であった。良導
電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特
開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２
号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの電磁波シールド
効果は４０〜５０ｄＢであるが、視認性に問題のない繊
維径が２５μｍのとき、導電性繊維を規則配置させるた
めに必要なピッチが５０μｍ以下となり、開口率が低下
して透明性が損なわれ、ディスプレイ用途には適したも
のではなかった。また、特開昭６２−５７２９７号公
報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導
電性樹脂を透明基材上に直接スクリーン印刷法などによ
って印刷した電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷
精度の限界からライン幅は、５０〜１００μｍ前後とな
り透明性の低下やラインの視認性が発現するため前面フ
ィルターとして適したものではなかった。一方凹版オフ
セット印刷法を使用した特公昭５９−１７５５５号公報
は、導電膜を直接印刷で形成するもので、これを用いて
も所望の電磁波シールド性は得られなかった。さらに特
開平５−２８３８８９号公報に記載のポリカーボネート
等の透明基材上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解
めっき法により銅のメッシュパターンを形成したシール
ド材料では、無電解めっきの密着力を確保するために、
透明基材の表面を粗化する工程が必要であることや、基
材が無電解めっき工程でダメージを受けてはならないな
どの制約があった。さらに透明基材が厚いと、ディスプ
レイに密着させることができないため、そこから電磁波
の漏洩が大きくなる等の問題があった。また仮にこの方
法により、電磁波シールド性と透明性は達成できたとし
ても、製造面においては、電磁波シールドテープのよう
にシールド材料を巻物にすることができないため嵩高く
なることや自動化に適していないために製造コストがか
さむという欠点もあった。

【０００４】ディスプレイ前面から発生する電磁波のシ
ールド性については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３
０ｄＢ以上、好ましくは４０ｄＢ以上の電磁波シールド
機能の他に、良好な可視光透過性、さらに可視光透過率
が大きいだけでなく、シールド材の存在を肉眼で確認す
ることができない特性である非視認性も必要とされる。
電磁波シールド性、透明性、非視認性を有する電磁波シ
ールドフィルムとしては、これまで満足なものは得られ
ていなかった。本発明はかかる点に鑑み、電磁波シール
ド性と透明性・非視認性を有する電磁波シールドフィル
ムおよび該電磁波シールドフィルムを用いた電磁波遮蔽
体、ディスプレイを提供することを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、導電性金
属とプラスチック支持体からなる導電性金属付きプラス
チックフィルムの導電性金属を、凹版オフセット印刷法
によりエッチングレジストで開口率が５０％以上となる
ように幾何学図形を形成し、エッチングレジストで覆わ
れていない導電性金属をエッチングして導電性金属で描
かれた幾何学図形を形成して電磁波シールドフィルムを
得ることにより上記課題を解決できることを見出した。
本発明の請求項１に記載の発明は、電磁波シールド性と
透明性を有する電磁波シールドフィルムを安価に提供す
るため、導電性金属とプラスチック支持体からなる導電
性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属に、凹版
オフセット印刷法によりエッチングレジストで開口率が
５０％以上となるように幾何学図形を形成し、導電性金
属をエッチングして導電性金属で描かれた幾何学図形を
形成することを特徴とする電磁波シールドフィルムの製
造方法である。本発明の請求項２に記載の発明は、優れ
た電磁波シールド性を有する電磁波シールドフィルムを
提供するため、凹版オフセット印刷法によるエッチング
レジストが、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化するエッチ
ングレジストである電磁波シールドフィルムの製造方法
である。本発明の請求項３に記載の発明は、優れた電磁
波シールド性を有する電磁波シールドフィルムを提供す
るため、導電性金属上に金属めっきを施すものである。

【０００６】本発明の請求項４に記載の発明は、優れた
コントラストを有する電磁波シールドフィルムを安価で
提供するため、エッチングレジストを黒色のエッチング
レジストとするものである。本発明の請求項５に記載の
発明は、優れたコントラストを有する電磁波シールドフ
ィルムを提供するため、導電性金属を黒化処理するもの
である。本発明の請求項６に記載の発明は、優れた電磁
波シールド性と透明性を有する電磁波シールドフィルム
を提供するため、導電性金属で描かれた幾何学図形のラ
イン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を１００μｍ以上、
ライン厚さを４０μｍ以下とするものである。本発明の
請求項７に記載の発明は優れた電磁波シールド性を有す
る電磁波シールドフィルムを提供するため、プラスチッ
ク支持体を表面処理されたプラスチック支持体とするも
のである。本発明の請求項８に記載の発明は優れた電磁
波シールド性を有する電磁波シールドフィルムを提供す
るため、プラスチック支持体の表面処理が、プライマ処
理、プラズマ処理またはコロナ放電処理のうち少なくと
も１つ以上の方法を用いるものである。本発明の請求項
９に記載の発明は、加工性に優れ、安価な電磁波シール
ドフィルムを提供するため、プラスチック支持体をポリ
エチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネー
トフィルムとするものである。本発明の請求項１０に記
載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波
遮蔽体を提供するため、前記の電磁波シールドフィルム
と透明基材から構成された電磁波遮蔽体とするものであ
る。本発明の請求項１１に記載の発明は、電磁波シール
ド性と透明性を有する前記いずれかの電磁波シールドフ
ィルムをディスプレイに用いたものである。または、請
求項１０に記載の電磁波遮蔽体をディスプレイに用いた
ものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明で使用する導電性金属としては、銅、アルミニウ
ム、ニッケル、鉄、金、銀、白金、タングステン、クロ
ム、チタン、スズ、鉛、パラジウムなどが挙げられ、そ
れらの１種または２種以上を組み合わせて含むステンレ
ス、半田などの合金も使用することができる。導電性、
価格の点から銀、銅またはニッケルが適している。一
方、導電性金属として、常磁性金属である、鉄、ニッケ
ル、コバルトを使用すると、電界に加えて、特に磁界の
遮蔽性を向上させることも可能である。

【０００８】本発明で使用するプラスチック支持体とし
ては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエ
チレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリ
オレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンな
どのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホ
ン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アク
リル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで無色あ
るいは有色を含め全可視光透過率が７０％以上で厚さが
１ｍｍ以下のものが好ましい。これらは単層で使用する
こともできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルム
として使用してもよい。このうち透明性、耐熱性、取り
扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレート
フィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましい。
プラスチックフィルムの厚さは、５〜５００μｍがより
好ましい。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、５０
０μｍを超えると可視光の透過率が低下してくる。１０
〜２００μｍがさらに好ましい。

【０００９】これらのプラスチック支持体の少なくとも
片面に、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、スプレー
法、プリント印刷法などの方法を使用して、上述した導
電性金属である銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、
銀、白金、タングステン、コバルト、クロム、チタン、
スズ、鉛、パラジウムなどやこれらの合金、あるいは酸
化インジウム、酸化スズおよびその混合物（以下ＩＴ
Ｏ）をはじめ、酸化チタン、酸化第二スズ、酸化カドミ
ウムやこれらの混合物を用いて、導電性の薄膜層を形成
し導電性金属付きプラスチックフィルムとする。また、
導電性金属付きプラスチックフィルムには、反射防止層
を設けたり、近赤外線遮蔽層を形成したり、内包しても
よい。本発明においては、導電性金属を黒化処理した導
電性金属を用いることが好ましい。幾何学図形を形成す
る前の導電性金属を黒化処理する場合、幾何学図形を形
成した後に黒化処理する場合の何れでも良く、この場合
コントラストを高めることができて好ましい。また経時
的に酸化され退色されることが防止できる。黒化処理
は、例えば、プリント配線板分野で行われている方法を
用いて行うことができ、導電性金属が銅である場合、亜
塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム
（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水
溶液中、９５℃で２分間処理することにより行うことが
できる。

【００１０】本発明で幾何学図形を描く際に用いられる
印刷法としては凹版オフセット印刷法が適している。こ
れは通常のスクリーン印刷法や平版オフセット印刷法に
比べて、５０μｍ以下の高精度の印刷性に優れているた
めである。凹版オフセット印刷法は、版の凹部にエッチ
ングレジストを詰め、一旦ブランケットに移し、これか
ら導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属の
表面に印刷する方法である。

【００１１】エッチングレジストのバインダポリマーと
しては、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリ
イソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテ
ン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジ
エン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン、ポ
リ−１，３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキ
シエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブ
チルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテ
ート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル
類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、
ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレー
ト、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシ
ルアクリレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ
−３−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカル
ボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレー
ト、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメ
タクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ
−ｎ−プロピルメタクリレート、ポリ−３，３，５−ト
リメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメ
タクリレート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピル
メタクリレート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタ
クリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メ
タ）アクリル酸エステルを使用することができる。

【００１２】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、
ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなども使用できる。特に導電性
金属（処理面）表面への密着性の点から、ウレタンアク
リレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリ
レートが優れており、エポキシアクリレートとしては、
１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアル
コールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシ
ジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタ
ル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、
ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソル
ビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリ
ル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどの
ように反応して又は元々分子内に水酸基を有するポリマ
ーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必
要に応じて、２種以上併用することができる。これらの
他にも、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、キシレン樹脂のような熱硬化性樹脂などが適用可能
で、これらのポリマーは必要に応じて、２種以上共重合
してもよいし、２種類以上をブレンドして使用すること
も可能である。これらのバインダポリマは通常、汎用溶
剤に溶解させるか、または無溶剤のまま下記の添加剤と
ともに攪拌・混合して使用することができる。本発明で
使用するエッチングレジストには、バインダポリマーの
他、必要に応じて、分散剤、チクソトロピー性付与剤、
消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止
剤、金属不活性化剤、カップリング剤、充填剤、導電性
粒子などの添加剤を配合しても良い。そして、エッチン
グレジストには、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化するレ
ジストを用いることが、レジストの取扱性、エッチング
時の耐薬品性、レジストを設けて使用する場合に有利で
あるので好ましい。印刷配線板分野で使用されている感
光性樹脂や導電性ペーストなどの組成を変形させて適用
することができる。

【００１３】本発明中に用いられる導電性金属上に金属
めっきを施すことによって、さらに電磁波シールド性を
向上させることができる。金属めっきを施す方法として
常法による電解めっき、無電解めっき、それらの組合せ
のいずれかの方法でも可能である。めっき金属の種類は
金、銀、銅、ニッケル、アルミ等が可能であるが、導電
性、価格の点から銅、またはニッケルが最も適してい
る。めっき厚みの範囲は０．１〜１００μｍが適当で、
０．１μｍ未満では導電性が不十分なため、十分なシー
ルド性が発現しないおそれがある。まためっき厚みが１
００μｍを超えると、視野角が狭くなるため好ましくな
い。０．５〜５０μｍがさらに好ましい。

【００１４】本発明の電磁波シールドフィルムでは、黒
色のエッチングレジストを使用すると好ましい。これは
導電性金属の表面にエッチングレジストで開口率が５０
％以上となるように幾何学図形を形成し、エッチングレ
ジストで覆われていない部分をエッチングした後に、エ
ッチングレジストを剥離しないでそのまま残すことによ
り導電性金属の表面がエッチングレジストの黒色を呈し
コントラストを高めることができるからである。エッチ
ングレジストを黒色化する方法としては、エッチングレ
ジストに黒色色素、カーボンブラック等の黒色添加剤を
使用する方法がある。これらの黒色添加剤は通常、バイ
ンダポリマ１００重量部に対して、０．００１重量部以
上の添加でコントラストの向上を図ることができるが、
０．０１重量部以上の添加がさらに好ましい。

【００１５】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
とは、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角
形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、だ円、星
型などを組み合わせた模様であり、これら単位の単独の
繰り返し、あるいは２種類以上組み合わせで使用するこ
とも可能である。電磁波シールド性の観点からは三角形
が最も有効であるが、可視光透過性の点からは同一のラ
イン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大きいほど開口率が上
がるが、可視光透過性の点から開口率は５０％以上が必
要で、６０％以上がさらに好ましい。開口率は、電磁波
シールドフィルムの有効面積に対する有効面積から導電
性金属で描かれた幾何学図形の導電性金属の面積を引い
た面積の比の百分率である。ディスプレイ画面の面積を
電磁波シールドフィルムの有効面積とした場合、その画
面が見える割合となる。

【００１６】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大き
いほど開口率は向上し、可視光透過率は向上するが、電
磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１ｍｍ以下
とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形
等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準とし
て、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さ
をライン間隔とする。

【００１７】導電性金属とプラスチック支持体の接着性
を向上させるため、プラスチック支持体に種々の表面処
理を施すことが好ましい。その処理方法として、プライ
マの塗布による処理、プラズマ処理、コロナ放電処理等
が有効である。これらの処理により処理後のプラスチッ
ク支持体の臨界表面張力が３５dyn/cm以上になることが
好ましく、４０dyn/cm以上がさらに好ましい。臨界表面
張力が３５dyn/cm未満だと導電性金属とプラスチック支
持体の接着性が低下してくる傾向にあり好ましくない。

【００１８】本発明の電磁波遮蔽体で使用する透明基材
は、ガラスやプラスチック等からなる板であり、具体的
には、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメ
タクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド
イミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエ
ーテルケトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセター
ル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂・ポリエチレ
ンテレフタレート樹脂などの熱可塑性ポリエステル樹
脂、酢酸セルロース樹脂、フッ素樹脂、ポリスルホン樹
脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹
脂、ポリウレタン樹脂、フタル酸ジアリル樹脂などの熱
可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中で
も透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポ
リメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリ塩化ビニル樹脂が好適に用いられる。本発明で使用
する透明基材の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍがディスプ
レイの保護や強度、取扱性から好ましい。電磁波遮蔽体
は、上記の透明基材と電磁波シールドフィルムから構成
され、透明基材の少なくとも片面に接着剤により電磁波
シールドフィルムの何れかの面を積層する。プレス、ラ
ミネート等により積層成形することができる。ディスプ
レイには、その実施形態として、例えば、電磁波シール
ドフィルムをその画面に貼り付け使用できる。また、電
磁波遮蔽体をディスプレイに取付けて使用することがで
きる。

【００１９】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 （実施例１）厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社製、商品名
Ａ−４１００）を用い、その表面にプライマ（日立化成
工業株式会社製商品名、ＨＰ−１、塗布厚 １μｍ）を
塗布した。その後そのフィルム上に蒸着法により５００
０Åの銅の薄膜層を形成し、凹版オフセット印刷法を用
いて銅の薄膜上にエッチングレジスト（日立化成工業株
式会社製商品名、ＲＡＹＣＡＳＴ）を格子パターン（ラ
イン幅２５μｍ、ライン間隔（ピッチ）２５０μｍ）状
に形成し、９０℃で１５分間プリべークした後、高圧水
銀ランプで紫外線を９０ｍＪ/ｃｍ²照射した。その後、
エッチングレジストで覆われていない銅をエッチングに
より除去し、エッチングレジストを剥離する工程を経
て、電磁波シールドフィルムを作製した。本フィルムの
開口率は８１％であった。

【００２０】（実施例２）厚さ５０μｍのポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社
製、商品名Ａ−４１００）を用い、その表面にプライマ
（日立化成工業株式会社製商品名、ＨＰ−１、塗布厚
１μｍ）を塗布した。その後、そのフィルム上にスパッ
タ法により３０００Åの銅の薄膜層を形成し、その薄膜
上に凹版オフセット印刷法を用いてエッチングレジスト
（太陽インキ株式会社製、商品名PHOTO FINER）を格子
パターン（ライン幅２０μｍ、ライン間隔（ピッチ）２
８６μｍ）状に形成し、８０℃で１５分間プリべークし
た後、高圧水銀ランプで紫外線を７０ｍＪ/ｃｍ²照射し
た。その後、エッチングレジストで覆われていない銅を
エッチングにより除去する工程を経て電磁波シールドフ
ィルムを作製した。出来た銅の格子パターンに常法によ
り電解銅めっきによって、３μｍ厚の銅めっき層を形成
した（電解銅めっき：例えば、プリント回路技術便覧、
（社）日本プリント回路工業会編、日刊工業新聞社、昭
和６２年２月２８日発行、４７０頁）。そして、この銅
表面を亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナト
リウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／
ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間浸漬することにより黒
化処理した。本フィルムの開口率は８６％であった。

【００２１】（実施例３）厚さ５０μｍのポリカーボネ
ートフィルム（旭硝子株式会社製商品名、レキサン）を
用い、そのコロナ処理面（臨界表面張力５４dyn/cm)に
プライマとして、ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋
紡株式会社製商品名、バイロンＵＲ−１４００、軟化点
８３℃、平均分子量４０，０００、ｎ＝１．５）を乾燥
塗布厚が５μｍになるように塗布した。そして、プライ
マ上にスプレー法により１０、０００Åの銅の薄膜層を
形成し、凹版オフセット印刷法を用いて銅の薄膜上に、
下記の感光性樹脂を格子パターン（ライン幅３０μｍ、
ライン間隔（ピッチ）１２７μｍ）状に形成し、高圧水
銀ランプで紫外線を１０００ｍＪ/ｃｍ²照射し、さらに
１２０℃で５分間加熱硬化させた。その後、エッチング
レジストで覆われていない銅をエッチングで除去し、レ
ジスト剥離の工程を経て、電磁波シールドフィルムを作
製した。本フィルムの開口率は５８％であった。 （感光性樹脂の組成） 2，2-ヒ゛ス(4-(4-N-マレイミシ゛ルフェノキシ)フェニル)フ゜ロハ゜ン ３０重量部エホ゜キシ 当量500のヒ゛スフェノールA型エホ゜キシ樹脂に１当量のテトラヒト゛ロ無水フタル酸を窒素雰囲気 下、150℃で10時間反応させて得た酸変性エホ゜キシ樹脂 ４５重量部アクリロニトリルフ゛タシ゛エンコ゛ム （PNR-1H、日本合成ゴム株式会社製商品名） ２０重量部 1,7-シ゛-9-アクリシ゛ニルヘフ゜タン ５重量部 水酸化アルミニウム １０重量部シクロヘキサノン ／メチルエチルケトン(1/1重量比)の45重量％ワニスとし
た。

【００２２】（実施例４）厚さ１００μｍのＰＥＴフィ
ルム（東洋紡績株式会社製商品名、Ａ−４１００）を用
い、その表面にプライマ（日立化成工業株式会社製商品
名、ＨＰ−１、塗布厚 １μｍ）塗布した。その後その
フィルム上にＣＶＤ法により３０００Åのニッケルの薄
膜層を形成し、凹版オフセット印刷法を用いてニッケル
の薄膜上に、黒色色素（日本化薬株式会社製商品名、Ka
yaset BlackG）を０．５重量％含有するエッチングレジ
スト（日本合成ゴム株式会社製、商品名ＣＩＲ７０７）
を格子パターン（ライン幅２０μｍ、ライン間隔（ピッ
チ）２５０μｍ）状に形成し、８０℃で１５分間プリべ
ークした後、高圧水銀ランプで紫外線を１００ｍＪ/ｃ
ｍ²照射した。その後、エッチングレジストで覆われて
いないニッケルをエッチング除去する工程を経て、電磁
波シールドフィルムを作製した。本フィルムの開口率は
８４％であった。

【００２３】（実施例５）厚さ１００μｍのＰＥＴフィ
ルム（東洋紡績株式会社製商品名、Ａ−４１００）を用
い、その表面にプライマ（日立化成工業株式会社製商品
名、ＨＰ−１、塗布厚 １μｍ）を塗布した。その後そ
のフィルム上にスパッタ法により３０００Åの銅の薄膜
層を形成し、凹版オフセット印刷法を用いて、カーボン
ブラック（ライオン株式会社製商品名、ケッチェンブラ
ックＥＣ−６００：平均粒径０．０３μｍ）を１．０重
量％含有するエッチングレジスト（日立化成工業株式会
社製商品名、ＲＡＹＣＡＳＴ）を格子パターン（ライン
幅２０μｍ、ライン間隔（ピッチ）２５０μｍ）状に形
成し、９０℃で１５分間プリべークした後、高圧水銀ラ
ンプで紫外線を９０ｍＪ/ｃｍ²照射した。その後、エッ
チングレジストで覆われていない銅をエッチングで除去
する工程を経て、電磁波シールドフィルムを作製した。
本フィルムの開口率は８４％であった。

【００２４】（実施例６）実施例１で得られた電磁波シ
ールドフィルムを熱プレス機によりそれぞれ市販のアク
リル板（株式会社クラレ製商品名、コモグラス、厚み３
ｍｍ）および厚さ３ｍｍの市販のソーダライムガラスに
接着フィルム（積水化学工業株式会社製商品名、エスレ
ック、厚さ２５０μｍ）を介して１１０℃、２０Ｋｇｆ
／ｃｍ²、１５分の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽体を得
た。

【００２５】（比較例１）実施例１で使用したＰＥＴフ
ィルム、プライマ、真空蒸着銅及びエッチングレジスト
を用い、凹版オフセット印刷法の代わりに、スクリーン
印刷法を使用して、ライン幅２５μｍ、ライン間隔（ピ
ッチ）２５０μｍの格子パターンを形成したが、ライン
のにじみ、かすれ、断線が多数発生した。

【００２６】（比較例２）実施例１で使用したＰＥＴフ
ィルム、プライマ、真空蒸着銅及びエッチングレジスト
を用い凹版オフセット印刷法の代わりに、平版オフセッ
ト印刷法を使用して、実施例１と同様の格子パターンを
形成しようとしたが、にじみが発生するため、２５μｍ
のライン幅形成はできなかった。印刷可能な最小ライン
幅は５０μｍ程度であった。また凸版オフセット印刷法
でも同様に２５μｍのライン幅の形成はできなかった。

【００２７】（比較例３）実施例１で使用したＰＥＴフ
ィルム、プライマ、真空蒸着銅及びエッチングレジスト
を用い、ライン幅４５μｍ、ライン間隔（ピッチ）１２
５μｍの格子パターンを形成した。その後、実施例１と
同様にして、１２０℃で５分間エッチングレジストを加
熱硬化し、エッチング、レジスト剥離工程を経て、電磁
波シールドフィルムを作製した。本フィルムの開口率は
４０％であった。

【００２８】以上のようにして得られた電磁波シールド
フィルム、電磁波遮蔽体の導電性金属で描かれた幾何学
図形の開口率、印刷パターンの異常の有無、電磁波シー
ルド性（３００ＭＨｚ）、可視光透過率、非視認性、コ
ントラストを測定し、その測定結果を表１に示した。

【００２９】導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率
は顕微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールド性は、
同軸導波管変換器（日本高周波株式会社製商品名、ＴＷ
Ｃ−Ｓ−０２４）のフランジ間に試料を挿入し、スペク
トラムアナライザー（ＹＨＰ製商品名、８５１０Ｂベク
トルネットワークアナライザー）を用い、周波数３００
ＭＨzで測定した。可視光透過率の測定は、ダブルビー
ム分光光度計（株式会社日立製作所製商品名、２００−
１０型）を用いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平均
値を用いた。印刷パターンの異常の有無、非視認性及び
コントラストは肉眼観察により判定した。非視認性は、
電磁波シールドフィルムを０．５ｍ離れた場所から観察
し、導電性材料で形成された幾何学図形を認識できない
ものを良好、認識できるものをＮＧとした。コントラス
トは、電磁波シールドフィルムをプラズマディスプレイ
装置の画面に密着させ、コントラストについて観察し、
コントラストに優れているものを良好、そうでないもの
をＮＧとして評価した。

【００３０】

【表１】

【００３１】比較例１はスクリーン印刷法を使用してラ
イン幅２５μｍ、ライン間隔（ピッチ）２５０μｍの格
子パターンの形成を試みたものであるが、ラインのにじ
み、かすれ、断線が多数発生した。比較例２は、平版オ
フセット印刷法および、凸版オフセット印刷法を用いて
パターン形成を試みたものであるが、印刷可能な最小ラ
イン幅は５０μｍであった。比較例３はライン幅を４５
μｍ、ライン間隔（ピッチ）を１２５μｍの格子パター
ンとしたものであるが、開口率は４０％に留まった。こ
れらの比較例に対して、本発明の実施例で示した、導電
性金属とプラスチック支持体からなる導電性金属付きプ
ラスチックフィルムの導電性金属を、凹版オフセット印
刷法により描かれた幾何学図形を有するエッチングレジ
ストを形成し、その開口率を５０％以上として形成した
電磁波シールドフィルムはラインのにじみ、かすれ、断
線がなく、印刷可能な最小ライン幅は２０μｍ以下と良
好であった。そして、開口率が高く明るい割に電磁波シ
ールド性を４０ｄＢ以上とすることができる。また、黒
化処理することにより、コントラストが良好になり、く
っきりした画像を鑑賞できる。

【００３２】

【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールドフィル
ムは凹版オフセット印刷法を使用して製造しているた
め、電磁波シールド性、透明性、非視認性に優れた電磁
波シールドフィルムを安価に提供することが可能であ
る。請求項２に記載の凹版オフセット印刷法において、
紫外線（ＵＶ）または熱で硬化するエッチングレジスト
とすることにより、安価で信頼性に優れた電磁波シール
ドフィルムを提供することができる。請求項３に記載の
導電性金属上に金属めっきを施すことにより、電磁波シ
ールド性が非常に優れた電磁波シールドフィルムを提供
することができる。請求項４に記載のエッチングする際
のエッチングレジストを黒色のエッチングレジストにす
ることにより安価でコントラストの優れた電磁波シール
ドフィルムを提供することができる。請求項５に記載の
導電性金属が黒化処理された導電性金属とすることによ
りコントラストの優れた電磁波シールドフィルムを提供
することができる。請求項６に記載の導電性金属で描か
れた幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔
が１００μｍ以上、ライン厚さが４０μｍ以下とするこ
とにより、透明性と電磁波シールド性が非常に良好な電
磁波シールドフィルムを提供することができる。請求項
７に記載のプラスチック支持体が表面処理されたプラス
チック支持体とすることにより、導電性金属とプラスチ
ック支持体の密着性に優れた電磁波シールドフィルムを
得ることができる。請求項８に記載のプラスチック支持
体の表面処理を、プライマ処理、プラズマ処理、コロナ
放電処理のうち少なくとも１つ以上の方法を使用するこ
とにより導電性金属とプラスチック支持体の密着性の優
れた電磁波シールドフィルムを安価に得ることができ
る。請求項９に記載の透明プラスチック支持体をポリエ
チレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネート
フィルムとすることにより、透明性の優れた電磁波シー
ルドフィルムを安価に提供することができる。請求項１
０に記載の電磁波シールドフィルムと透明基材から構成
された電磁波遮蔽体とすることにより、透明性を有する
電磁波シールド性基板を提供することができる。請求項
１１に記載の電磁波シールド性と透明性を有する電磁波
シールドフィルムまたは前記電磁波遮蔽体をディスプレ
イに用いることにより、軽量、コンパクトで透明性に優
れ電磁波漏洩が少ないディスプレイを提供することがで
きる。

【００３３】電磁波シールドフィルムをディスプレイに
使用した場合、可視光透過率が大きく、非視認性が良好
であるのでディスプレイの輝度を高めることなく通常の
状態とほぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑賞する
ことができる。本発明の電磁波シールドフィルム及び電
磁波遮蔽体は、電磁波シールド性や透明性に優れている
ため、ディスプレイの他に電磁波を発生したり、あるい
は電磁波から保護する測定装置、測定機器や製造装置の
内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求される窓のよ
うな部位に設けて使用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 橋塲 綾 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 中祖 昭士 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社筑波開発研究所内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性金属とプラスチック支持体からな
   る導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属
   に、凹版オフセット印刷法によりエッチングレジストで
   開口率が５０％以上となるように幾何学図形を形成し、
   導電性金属をエッチングして導電性金属で描かれた幾何
   学図形を形成することを特徴とする電磁波シールドフィ
   ルムの製造方法。
2. 【請求項２】 エッチングレジストが、紫外線（ＵＶ）
   または熱で硬化するレジストである請求項１に記載の電
   磁波シールドフィルムの製造方法。
3. 【請求項３】 導電性金属上に金属めっきが施されてい
   ることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電
   磁波シールドフィルムの製造方法。
4. 【請求項４】 エッチングレジストが黒色のエッチング
   レジストである請求項１ないし請求項３のいずれかに記
   載の電磁波シールドフィルムの製造方法。
5. 【請求項５】 導電性金属が黒化処理された導電性金属
   であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいず
   れかに記載の電磁波シールドフィルムの製造方法。
6. 【請求項６】 導電性金属で描かれた幾何学図形のライ
   ン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ラ
   イン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請求項５
   のいずれかに記載の電磁波シールドフィルムの製造方
   法。
7. 【請求項７】 プラスチック支持体が表面処理されたプ
   ラスチック支持体である請求項１ないし請求項６のいず
   れかに記載の電磁波シールドフィルムの製造方法。
8. 【請求項８】 プラスチック支持体の表面処理が、プラ
   イマ処理、プラズマ処理、コロナ放電処理のうち少なく
   とも１つ以上の方法を用いる請求項１ないし請求項７の
   いずれかに記載の電磁波シールドフィルムの製造方法。
9. 【請求項９】 プラスチック支持体がポリエチレンテレ
   フタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムで
   ある請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の電磁波
   シールドフィルムの製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項１ないし請求項９のいずれかに
    記載の電磁波シールドフィルムと透明基材から構成され
    た電磁波遮蔽体。
11. 【請求項１１】 請求項1ないし請求項９のいずれかに
    記載の電磁波シールドフィルムまたは請求項１０に記載
    の電磁波遮蔽体を用いたディスプレイ。