JP2000182986A5 - 半導体装置の作製方法/シリンドリカルレンズアレイおよびビームホモジェナイザー/レーザー照射方法 - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数のシリンドリカルレンズと、1つの半シリンドリカルレンズとを組み合わせて構成されるシリンドリカルレンズアレイを含む光学系により、レーザー照射面において長手方向と垂直な方向に2段階のエネルギー密度分布をもつ線状レーザービームを形成し、
非単結晶珪素膜に対し、前記線状レーザービームを前記長手方向と垂直な方向に走査しながら照射することにより、前記非単結晶珪素膜を結晶化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項2】
複数のシリンドリカルレンズと、複数の半シリンドリカルレンズとを組み合わせて構成されるシリンドリカルレンズアレイを含む光学系により、レーザー照射面において長手方向と垂直な方向に2段階のエネルギー密度分布をもつ線状レーザービームを形成し、
非単結晶珪素膜に対し、前記線状レーザービームを前記長手方向と垂直な方向に走査しながら照射することにより、前記非単結晶珪素膜を結晶化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項3】
請求項1又は請求項2において、
前記エネルギー密度は、第1のビーム幅において第1のエネルギー密度と、第2のビーム幅において第2のエネルギー密度の2段階に分布され、
前記第2のエネルギー密度は前記第1のエネルギー密度より大きいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項4】
請求項3において、
前記第1のビーム幅と前記第2のビーム幅は等しいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項5】
請求項3又は請求項4において、
前記線状レーザービームは、前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項6】
請求項3又は請求項4において、
前記線状レーザービームは、前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項7】
請求項3又は請求項4において、
前記非単結晶半導体膜を前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールし結晶性半導体膜とした後、
前記非単結晶半導体膜を前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項8】
請求項3又は請求項4において、
前記非単結晶半導体膜を前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールし結晶性半導体膜とした後、
前記結晶性半導体膜を前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項9】
請求項3乃至請求項8のいずれか1項において、
前記第1のエネルギー密度と前記第2のエネルギー密度との差は、前記第1のエネルギー密度の4%〜30%であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項10】
請求項1乃至請求項9のいずれか1項において、
前記線状レーザービームの照射は、He、Ar、N2のいずれかもしくはそれらの混合気体の雰囲気で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項11】
請求項1乃至請求項10のいずれか1項において、
前記線状レーザービームはパルスレーザーであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項12】
複数のシリンドリカルレンズと、1つの半シリンドリカルレンズとが並んで構成されていることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項13】
複数のシリンドリカルレンズと、複数の半シリンドリカルレンズとが並んで構成されていることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項14】
請求項13において、
前記半シリンドリカルレンズを偶数個有することを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項15】
請求項13または請求項14において、
前記複数のシリンドリカルレンズと前記複数の半シリンドリカルレンズが並んでいる方向に平行な断面における前記複数の半シリンドリカルレンズは、同じ形状かつ同じ向きであることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項16】
請求項13乃至請求項15のいずれか1項において、
前記複数のシリンドリカルレンズと前記複数の半シリンドリカルレンズが並んでいる方向に平行な断面における前記複数の半シリンドリカルレンズは、線対称に配置されていることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項17】
請求項12乃至請求項16のいずれか1項に記載のシリンドリカルレンズアレイによりレーザービームを分割し、前記シリンドリカルレンズアレイによって分割されたレーザービームを合成することで線状レーザービームを形成することを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項18】
請求項17において、
前記線状レーザービームはパルスレーザーであることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項19】
請求項17または請求項18に記載のビームホモジェナイザーを用いたレーザー照射方法であって、
前記線状レーザービームのエネルギー密度は、前記線状レーザービームの長手方向と垂直な方向において、第1のビーム幅における第1のエネルギー密度と、第2のビーム幅における第2のエネルギー密度の2段階に分布され、
前記第2のエネルギー密度は前記第1のエネルギー密度より大きいことを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項20】
請求項19において、
前記第1のビーム幅と前記第2のビーム幅は等しいことを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項21】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項22】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項23】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査した後、
前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項24】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査した後、
前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項25】
請求項19乃至請求項24のいずれか1項において、
前記第1のエネルギー密度と前記第2のエネルギー密度との差は、前記第1のエネルギー密度の4%〜30%であることを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項26】
請求項19乃至請求項25のいずれか1項において、
前記線状レーザービームの照射は、He、Ar、N2のいずれかもしくはそれらの混合気体の雰囲気で行われることを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項1】
複数のシリンドリカルレンズと、1つの半シリンドリカルレンズとを組み合わせて構成されるシリンドリカルレンズアレイを含む光学系により、レーザー照射面において長手方向と垂直な方向に2段階のエネルギー密度分布をもつ線状レーザービームを形成し、
非単結晶珪素膜に対し、前記線状レーザービームを前記長手方向と垂直な方向に走査しながら照射することにより、前記非単結晶珪素膜を結晶化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項2】
複数のシリンドリカルレンズと、複数の半シリンドリカルレンズとを組み合わせて構成されるシリンドリカルレンズアレイを含む光学系により、レーザー照射面において長手方向と垂直な方向に2段階のエネルギー密度分布をもつ線状レーザービームを形成し、
非単結晶珪素膜に対し、前記線状レーザービームを前記長手方向と垂直な方向に走査しながら照射することにより、前記非単結晶珪素膜を結晶化することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項3】
請求項1又は請求項2において、
前記エネルギー密度は、第1のビーム幅において第1のエネルギー密度と、第2のビーム幅において第2のエネルギー密度の2段階に分布され、
前記第2のエネルギー密度は前記第1のエネルギー密度より大きいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項4】
請求項3において、
前記第1のビーム幅と前記第2のビーム幅は等しいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項5】
請求項3又は請求項4において、
前記線状レーザービームは、前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項6】
請求項3又は請求項4において、
前記線状レーザービームは、前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項7】
請求項3又は請求項4において、
前記非単結晶半導体膜を前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールし結晶性半導体膜とした後、
前記非単結晶半導体膜を前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項8】
請求項3又は請求項4において、
前記非単結晶半導体膜を前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールし結晶性半導体膜とした後、
前記結晶性半導体膜を前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査してアニールすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項9】
請求項3乃至請求項8のいずれか1項において、
前記第1のエネルギー密度と前記第2のエネルギー密度との差は、前記第1のエネルギー密度の4%〜30%であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項10】
請求項1乃至請求項9のいずれか1項において、
前記線状レーザービームの照射は、He、Ar、N2のいずれかもしくはそれらの混合気体の雰囲気で行われることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項11】
請求項1乃至請求項10のいずれか1項において、
前記線状レーザービームはパルスレーザーであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項12】
複数のシリンドリカルレンズと、1つの半シリンドリカルレンズとが並んで構成されていることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項13】
複数のシリンドリカルレンズと、複数の半シリンドリカルレンズとが並んで構成されていることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項14】
請求項13において、
前記半シリンドリカルレンズを偶数個有することを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項15】
請求項13または請求項14において、
前記複数のシリンドリカルレンズと前記複数の半シリンドリカルレンズが並んでいる方向に平行な断面における前記複数の半シリンドリカルレンズは、同じ形状かつ同じ向きであることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項16】
請求項13乃至請求項15のいずれか1項において、
前記複数のシリンドリカルレンズと前記複数の半シリンドリカルレンズが並んでいる方向に平行な断面における前記複数の半シリンドリカルレンズは、線対称に配置されていることを特徴とするシリンドリカルレンズアレイ。
【請求項17】
請求項12乃至請求項16のいずれか1項に記載のシリンドリカルレンズアレイによりレーザービームを分割し、前記シリンドリカルレンズアレイによって分割されたレーザービームを合成することで線状レーザービームを形成することを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項18】
請求項17において、
前記線状レーザービームはパルスレーザーであることを特徴とするビームホモジェナイザー。
【請求項19】
請求項17または請求項18に記載のビームホモジェナイザーを用いたレーザー照射方法であって、
前記線状レーザービームのエネルギー密度は、前記線状レーザービームの長手方向と垂直な方向において、第1のビーム幅における第1のエネルギー密度と、第2のビーム幅における第2のエネルギー密度の2段階に分布され、
前記第2のエネルギー密度は前記第1のエネルギー密度より大きいことを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項20】
請求項19において、
前記第1のビーム幅と前記第2のビーム幅は等しいことを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項21】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項22】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項23】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査した後、
前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項24】
請求項19又は請求項20において、
前記線状レーザービームは、前記第2のエネルギー密度を有する側から前記第1のエネルギー密度を有する側へ走査した後、
前記第1のエネルギー密度を有する側から前記第2のエネルギー密度を有する側へ走査することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項25】
請求項19乃至請求項24のいずれか1項において、
前記第1のエネルギー密度と前記第2のエネルギー密度との差は、前記第1のエネルギー密度の4%〜30%であることを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項26】
請求項19乃至請求項25のいずれか1項において、
前記線状レーザービームの照射は、He、Ar、N2のいずれかもしくはそれらの混合気体の雰囲気で行われることを特徴とするレーザー照射方法。
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