JP2000163905A - 磁気ディスク装置、それに用いるスぺーサーリング及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】複数枚のディスク１を剛性が高いセラミックス
ぺーサー４を介して積層した磁気ディスク装置における
スぺーサーからの塵埃を減少させ、磁気ディスク装置の
エラーを減少させること。 【解決手段】アルカリ性の液若しくは酸性の液又はそれ
らに界面活性剤を混合した液にセラミックスぺーサーを
浸漬し、乾燥し、さらにタングステン等をコーティング
して、磁気ディスク装置に組み込む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピューターの
外部記憶装置等に用いる磁気ディスク装置、それに用い
るスぺーサーリング及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク装置は、主に情報を記録す
る記録媒体（以下、ディスクと記載する）とそのディス
ク上の情報を読み書きする磁気ヘッド（以下、ヘッドと
記載する）及び信号回路等から構成されている。

【０００３】磁気ディスク装置は、回転したディスク上
をヘッドが浮上することにより、ディスク面を効率よく
使用し、大容量化が図られている。このディスクを回転
するための駆動源として、スピンドルモーターが用いら
れる。通常、磁気ディスク装置ではディスクを複数枚使
用しており、それぞれのディスクに適切な間隔を形成
し、かつ、スピンドルモーターの回転を伝えるためにデ
ィスクとディスクとの間にスぺーサーリング（以下、ス
ぺーサーと記載する）を挿入し、それらのクランプを行
なっている。

【０００４】スぺーサーは、スピンドルモーターにディ
スクを固定した際、ディスクが変形（反り）しない剛性
をもつことが要求される。従来、スぺーサーはＳＵＳ製
のスぺーサー（以下、ＳＵＳスぺーサーと記載する）が
使用されていた。これは加工が容易なこと、ディスクが
金属製（アルミニウムにＮｉ−Ｐメッキを施したもの）
で、それに近い線膨張係数を持つためである。

【０００５】しかし、最近の磁気ディスク装置に用いら
れるディスクの基板はガラス製のものが多くなった。こ
のガラス製のディスクを使用した磁気ディスク装置でＳ
ＵＳスぺーサーを用いると、ディスクをスピンドルモー
ターに固定した際に、スぺーサーの剛性が弱く、ディス
クが反り、ディスク・ヘッドのスペースが広がり電気的
特性が低下するようになった。

【０００６】これを解決する手段として、特開平７−３
２６１５５号公報、特開平６−１６２７０９号及び特開
平７−１２１９６２号公報に記載のように、剛性が高く
熱膨張係数が略ガラスに等しいセラミック製のスぺーサ
ー（以下、セラミックスぺーサーと記載する）が提案さ
れている。

【０００７】しかしセラミックスぺーサーを使用する
と、ヘッドとディスクが摺動し、ディスクに多くの傷が
発生するという問題が生じた。特に、深い傷の場合、情
報が記録されている磁性膜が欠損してエラーが発生し
た。これはディスクのクランプ時の応力により、セラミ
ックスぺーサーのエッジ部に欠けが発生し、この欠けた
セラミックがディスクとヘッドの間に入り込んだためで
ある。この欠けを防止するために特開平８−３１５５３
３号公報に記載のように、スぺーサーのディスク基板と
の実当接面積率を５０〜９５％とし、かつ、当接面の平
坦度を３μｍ以下にすることが提案されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記特開平８−３１５
５３３号公報に記載の従来技術は、セラミックの欠けの
減少が認められるが、なお、ディスクの傷がすべてはな
くならないという問題があった。これは、セラミックス
ぺーサーは多孔質であり、その孔の中に微小なセラミッ
クス等の塵埃（以下、孔塵埃と記載する）が多く存在す
るためである。つまり、磁気ディスク装置のスピンドル
モーターが回転すると、セラミックスぺーサーの孔より
孔塵埃が飛び出し、ヘッドとディスクの間に入り込んだ
ことが原因で傷が発生した。

【０００９】本発明の第１の目的は、セラミックスぺー
サーからの塵埃の発生を減少させた磁気ディスク用スぺ
ーサーを提供することにある。

【００１０】本発明の第２の目的は、そのような磁気デ
ィスク用スぺーサーの製造方法を提供することにある。

【００１１】本発明の第３の目的は、ディスクの欠損に
よるエラーを減少させた磁気ディスク装置を提供するこ
とにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために、本発明の磁気ディスク用スぺーサーは、スぺ
ーサーリングの少なくとも外周部の表面を被覆膜で被っ
たセラミックスから構成したものである。

【００１３】この被覆膜（以下、単に膜と記載する）
は、けい素、炭素、遷移金属元素又は遷移金属の合金か
らなることが好ましい。遷移金属としては、タングステ
ン、チタン、コバルト、鉄、クロム、ニッケル、ジルコ
ニウム、タンタル、銅、銀、金等が用いられる。膜厚
は、５０ｎｍから５μｍの範囲であることが好ましい。
５０ｎｍ未満では均一な膜になりにくく、また、５μｍ
を越えるとディスクの反りが大きくなる。膜は、少なく
とも外周部、すなわち磁気ディスク装置に組み立てられ
たときにディスクとディスクの間で表面が表われる部分
にあればよいが、製造の容易さ等からは全面に設けた方
がよい。

【００１４】また、上記第２の目的を達成するために、
本発明の磁気ディスク用スぺーサーの製造方法は、セラ
ミックスからなるスぺーサーをアルカリ性の液若しくは
酸性の液又はこれらに界面活性剤を加えた液に浸漬し、
乾燥するようにしたものである。

【００１５】上記の乾燥の後、少なくとも外周部の表面
を膜、特に、けい素、炭素、遷移金属元素又は遷移金属
の合金からなる膜で被うことが好ましい。遷移金属とし
ては、タングステン、チタン、コバルト、鉄、クロム、
ニッケル、ジルコニウム、タンタル、銅、銀、金等が用
いられる。膜厚は、５０ｎｍから５μｍの範囲であるこ
とが好ましい。

【００１６】また、アルカリ性の液はｐＨが１０〜１４
の範囲、酸性の液はｐＨが０〜４の範囲であることが好
ましい。アルカリ性の液のときも酸性の液のときも、界
面活性剤を加えるときは、その濃度は０．００１ｗｔ．
％から１０ｗｔ．％の範囲とすることが好ましい。

【００１７】また、上記第３の目的を達成するために、
本発明の磁気ディスク装置は、情報を記録する磁気記録
媒体の複数枚と、磁気記録媒体に情報を記録、再生する
磁気ヘッドと、信号回路とを有し、上記の複数枚の磁気
記録媒体をスぺーサーを介して積層し、このスぺーサー
として、上記の磁気ディスク用スぺーサー又は上記の磁
気ディスク用スぺーサーの製造方法により製造されたス
ぺーサーを用いるようにしたものである。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。セラミックスぺーサーとし
て、京セラ社製のフォルステライトを加工したものを用
いた。セラミックスぺーサーの孔の中には孔塵埃が存在
し、また、表面についた塵埃（以下、表面塵埃と記載す
る）も存在する。

【００１９】セラミックスぺーサーを洗剤（ライオン社
製、ＦＭ−１０、以下、ＦＭ−１０と記載する）で洗浄
後、純水でリンス、乾燥し、磁気ディスク装置に組み込
んだところ、表面塵埃は除去できるが、磁気ディスク装
置のスピンドル回転時に発生した振動により発塵する孔
塵埃の除去は不十分であった。発生する孔塵埃の多数は
スピンドルモータやディスクと接触している面ではな
く、ディスク側に剥き出しになった面から発生してい
る。この孔塵埃が孔から飛び出してディスクの摺動の原
因となる。また、セラミックスぺーサー表面に未洗浄で
膜をコーティングしても、表面塵埃除去や有機汚染除去
が不十分であるので、これらが原因で膜剥がれを起こ
す。このためコーティング前に膜の密着性向上のために
表面塵埃除去及び有機汚染除去を、また膜が剥がれても
ディスクに傷が付かないように孔塵埃除去処理を十分に
行う必要がある。

【００２０】洗浄及び洗浄後の発塵量調査は次のように
行なった。洗浄装置の模式的な斜視図を図２に示す。ま
ず、２５個のセラミックスぺーサー７をスぺーサー洗浄
治具８に装着した後、超音波発振機１０から４０ｋＨｚ
の超音波が発振された洗浄液を含む純水槽９に浸漬し
た。洗浄液の温度は３０〜３５℃に維持し、洗浄液は循
環ポンプ１１でフィルター１２を通して循環させた。次
に、セラミックスぺーサーをリンス槽１３に入れ、純水
１４で２０分間リンスした。リンス槽１３は純水１４の
使い捨てとした。その後、セラミックスぺーサーを超音
波発振槽の中に入った石英槽１５（１０リットルの純水
入り）入れ、次に、液中微粒子モニタ１６（リオン社
製、型式ＫＬ−２２）でセラミックスぺーサーの入った
純水の液中微粒子数（０．５μｍ以上）を測定した。

【００２１】洗浄液として純水、ＦＭ−１０（３ｗｔ
％）、ｐＨ２の塩酸液（以下、酸液と記載する）、ｐＨ
１３の水酸化ナトリウム（以下、アルカリ液と記載す
る）、酸液に界面活性剤を混合した液（以下、酸液＋活
性剤と記載する）、アルカリ液に界面活性剤を混合した
液（以下、アルカリ液＋活性剤と記載する）を採用し
た。純水は０．５μｍ以上の粒子が１個／ｃｃ以下であ
り、他の洗浄液の希釈にもこの純水を用いた。塩酸、水
酸化ナトリウム及び界面活性剤（商品名：ツイーン２０
（Ｔｗｅｅｎ２０））は和光純薬工業社製を使用した。
界面活性剤濃度は０．１％である。洗浄装置はプレテッ
ク社製（型名：ＰＣ−０６２Ｎ０３−１６Ａ）を、洗浄
後液中微粒子測定用の超音波装置として井内盛栄堂社製
（型式：ＵＳ−５）使用した。また、浸漬時間は、５、
１０、２０又は６０分間の４通りとした。比較として、
未処理（以下、未洗浄と記載する）のセラミックスぺー
サーを超音波による洗浄及び純水リンスを行なわずに液
中微粒子数を測定した。

【００２２】図３にセラミックスぺーサーの洗浄処理後
の表面塵埃及び孔塵埃の発生数の浸漬時間による差を示
す。横軸は洗浄液の種類、縦軸は液中微粒子数で０．５
μｍ以上の粒子が１ｃｃ当たりに含まれる数を示す。こ
の結果から酸液＋活性剤、アルカリ液＋活性剤、アルカ
リ液、酸液、ＦＭ−１０、純水の順で洗浄効果が高い。
また、それぞれの液で処理時間の増加と共に、セラミッ
クスぺーサーの清浄度も増加した。ＦＭ−１０の６０分
間の洗浄に比べ、アルカリ液等は５分間の洗浄でそれ以
上の清浄度を得ることができた。

【００２３】この洗浄メカニズムを図４に示して説明す
る。界面活性剤２０は、弱い力でセラミック表面と結び
付いた塵埃１７の除去には大きな効果を示すが、強い力
でセラミック表面と結び付いた塵埃１８の除去には効果
が少ない。そこで、酸又はアルカリ液によりセラミック
ス１９の表面をエッチングし、強い力でセラミック表面
に結び付いた塵埃１８の除去を可能とした。また、酸液
＋活性剤及びアルカリ液＋活性剤は、除去された塵埃に
界面活性剤２０が吸着し、除去された塵埃のセラミック
表面への再付着を防いでいる。このメカニズムから、酸
液＋活性剤、アルカリ液＋活性剤は、セラミックスのエ
ッチング効果及び塵埃再付着防止効果があり、界面活性
剤を含まない酸及びアルカリ液より洗浄力が高い。

【００２４】次に酸液、及びアルカリ液の濃度と洗浄力
の関係を調べた。図５に洗浄液のｐＨと洗浄後のセラミ
ックスぺーサーの液中微粒子数との関係を示す。洗浄は
６０分間行ない、他の条件は前記と同条件で行なった。
ｐＨの設定は塩酸及び水酸化ナトリウムの濃度で調整を
行なった。この結果から、酸液及び酸液＋活性剤は、共
にｐＨ０〜４で洗浄効果が高いことが分かった。アルカ
リ液及びアルカリ＋活性剤は、共にｐＨ１０〜１４で洗
浄効果が高いことが分かった。これは、ｐＨが中性側に
近づくとセラミックスのエッチング効果が減少し、塵埃
除去効果が減少したためである。

【００２５】次に酸液、アルカリ液中の活性剤濃度と洗
浄力の関係を調べた。図６に活性剤濃度と洗浄後セラミ
ックスぺーサーの液中微粒子数の関係を示す。酸液のｐ
Ｈは２、アルカリ液のｐＨは１３で行なった。この結果
から、酸液、アルカリ液共に０．００１〜１０ｗｔ％の
濃度のとき洗浄効果が高いことが分かった。これは、界
面活性剤の濃度が薄くなると、塵埃に吸着できる界面活
性剤量が少なくなり、塵埃再付着効果が低下したためで
ある。

【００２６】以上のことから、セラミックスぺーサーを
アルカリ液、酸液及びそれらに活性剤を含んだもので洗
浄すると、単にＦＭ−１０で洗浄したものに比べ、清浄
度の高いセラミックスぺーサーが得られることが分かっ
た。

【００２７】さらに次のような洗浄処理を行ない、セラ
ミックスぺーサーの表面塵埃及び孔塵埃が減少したセラ
ミックスぺーサーに膜をコーティングし、孔塵埃等によ
るディスクの傷が減少するか検討を行なった。

【００２８】まず、未洗浄のセラミックスペーサーにタ
ングステンをコーティングした。タングステンのコーテ
ィングは、化学的な蒸着法（以下、ＣＶＤ（化学気相蒸
着）法と記載する）で行なった。このＣＶＤ法は表面は
勿論のこと、孔の中まで金属膜が付着し、孔塵埃の脱離
を防ぐには有効な膜である。ＣＶＤの装置は、ノベラス
システムズ（Ｎｏｖｅｌｏｕｓ Ｓｙｓｔｅｍｓ）社
製のＣｏｎｃｅｐｔＴｗｏ−ＡＬＴＵＳを使用した。タ
ングステンの膜厚は５μｍとした。タングステンの膜の
厚さの測定ポイントを図７により説明する。図７（ａ）
はセラミックスぺーサー２１の外観図、図７（ｂ）はそ
の断面図である。図に測定評価ポイント２３を示す。一
つのスぺーサーで等円周角（３６度）で半径方向の断面
１０ヶ所を作り、断面の中心の厚さの１０ヶ所の平均値
より膜厚を算出した。測定は断面を走査型又は透過型顕
微鏡で行なった。図７（ｃ）はセラミックスぺーサー２
１の表面の模式図である。表面には孔２６があり、膜２
４の厚さは図示の部分である。

【００２９】セラミックスペーサーからタングステンが
剥がれ場合、剥がれたタングステンやその剥がれた部分
から発生した孔塵埃がディスクの傷の原因となる。この
ために密着性が十分か調査する必要がある。ここで密着
性の評価として、セラミックスペーサー表面にコーティ
ングされたタングステンにテープを貼り、タングステン
がセラミックスペーサーから剥がれるか調査した（以
下、このような試験法を「ピール試験」と記載する）。
この試験は、テクニスコ社製（型式：エレクトロンテー
プ）のテープを使用した。１個当たり５ｍｍ²になるよ
うに任意のポイントにテープを張りつけ、剥がれたかど
うか鑑定した。セラミック１，０００個を調査したとこ
ろ１５３個剥がれ、このピール試験から未処理のセラミ
ックスペーサーとの密着性は不十分であることが分かっ
た。このタングステンとセラミックの密着性が不十分で
あった部分を調査すると、有機性分及び表面塵埃がみら
れた。これは、タングステンとセラミックの間に有機物
や脱落しやすい表面塵埃があり、このために密着性が低
下したためである。

【００３０】次にセラミックスぺーサーに洗浄処理を行
ない乾燥した後、膜をコーティングしたものの膜の密着
性を調査した。表１に各々の洗浄処理を行ったセラミッ
クスペーサーとＣＶＤ法で蒸着したタングステンのピー
ル試験結果を示す。数字は、１，０００個調べたときの
剥がれた数である。

【００３１】

【表１】

【００３２】上記結果より純水及びＦＭ−１０の密着性
が悪かった。純水においては、有機物及び表面塵埃の除
去の不十分、ＦＭ−１０においては、表面塵埃の除去が
不十分であっためである。酸液＋活性剤及びアルカリ液
＋活性剤は、表面塵埃除去及び有機物の除去効果が優れ
ており、膜密着性は向上した。酸液、アルカリ液も密着
性向上には効果があるが、有機膜を十分に除去できない
場合が見られ、これらに活性剤を加えた２種に比べわず
かに劣った。

【００３３】次に、洗浄等前処理を行なった後、セラミ
ックスぺーサーにタングステン膜を蒸着したもの（膜厚
５０ｎｍ及び５μｍ）及び洗浄等前処理だけのものを磁
気ディスク装置に組み込んで、ディスク上に発生する傷
評価を行なった。評価に使った磁気ディスク装置の概略
図及びスピンドル、ディスク回りの断面図を図１
（ａ）、（ｂ）に示す。ディスク１の各面に対応してヘ
ッド２が設けられ、ヘッド２はヘッドアーム３の先端の
サスペンションに支持されている。ディスク１はスピン
ドルモーター５にクランプ６で取り付けられる。ディス
ク１の間にそれぞれセラミックスぺーサー４が置かれ
る。実験条件は、磁気ディスク装置（３０台）にディス
ク（３枚）を装着後、１００時間連続稼動し、ディスク
を取り外し表面の傷を光学顕微鏡にて観察した（以下、
「ディスク傷評価法」と記載する）。表２にそれぞれの
評価結果を示す。

【００３４】

【表２】

【００３５】タングステンの膜（膜厚５０ｎｍ又は５μ
ｍ）を形成することにより、ディスクの傷をかなり減少
することが可能となった。また、膜なし（洗浄のみ）で
も、ＦＭ−１０による洗浄のみに比べてもディスク傷に
対してかなり効果があることが分かった。

【００３６】しかし、セラミックスぺーサーに膜をコー
ティングしたものの厚さによっては、磁気ディスク装置
にスぺーサーを組み込んだ際に、ディスクに反りを発生
する可能性がある。このためタングステンの膜厚による
反りに対する影響を調査した。

【００３７】磁気ディスク装置に組み込んだ際のディス
クが反りを計測した。コーティングした膜はタングステ
ンで、膜厚は１０μｍである。評価装置はフジノン社製
のＦＸ−１５を磁気ディスク反り評価用に改造したもの
を使用し、干渉縞のピッチから反りを検討した。コーテ
ィングのないものは装着により、反りが僅かにみとめら
れるが、上記のタングステンをコーティングしたものは
かなりの反りがみとめられる。この反りがヘッド／ディ
スク間スペースを広げる原因となり、磁気ディスク装置
の電気的出力低下の一因となる。

【００３８】そこでタングステンの膜厚とディスクの反
りによるヘッド／ディスク間スペース変化による電気的
出力の変化を検討した。結果を図８に示す。このことか
ら、５μｍ以下の膜厚では、タングステン膜のコーティ
ングをしていないものに比べても、電気的出力に問題が
ないことが分かる。なお、５０ｎｍ未満では均一な膜と
ならず、コーティングの効果が得られない。以上のこと
からタングステンでセラミックスぺーサーをコーティン
グした場合、５０ｎｍ〜５μｍの範囲の膜厚で優れた特
性を持つことが分かった。

【００３９】次に、他の元素をセラミックスぺーサーに
コーティングした場合、同様な優れた特性が得られるか
調査した。元素種として、遷移金属、その合金（チタ
ン、鉄、クロム、ニッケル、ジルコニウム、タンタル、
銅、銀、金）、けい素、炭素を調査した。また、以後、
膜を被覆する前のセラミックスぺーサーの標準の洗浄条
件は、アルカリ液（ｐＨ１３）＋活性剤（０．１ｗ％）
で洗浄時間６０分とした。標準的な洗浄を終えた後の膜
のコーティング法は、ＣＶＤ法は勿論のこと、物理的蒸
着法（以下、ＰＶＤ（物理気相蒸着）法と記載する）も
選定した。ＰＶＤ法に用いた装置は、磁気ディスク用製
造設備であるインテバック（Ｉｎｔｅｖａｃ）社製のＭ
ＤＰ２５０Ｂをスぺーサー用に改造したものである。

【００４０】図９は、セラミックスぺーサーにそれぞれ
の元素をコーティングした際、膜の厚さと反りによる電
気的出力への影響を示す図である。コーティングしない
ものを１００として比較したところ、タングステンに比
べても遜色がなく、膜の厚さ５０ｎｍ〜５μｍまで問題
はなかった。

【００４１】図１０にそれぞれの元素でコーティングし
たセラミックスぺーサーでのディスク傷評価法の結果を
示す。タングステンに比べても遜色がなく、膜の厚さ５
０ｎｍ〜５μｍまでディスク傷に対して効果があった。
図１１にピール試験による膜剥がれの評価結果を示す。
膜厚は５μｍとし１，０００ポイント評価した。タング
ステンに比べてもほとんど遜色がなく問題はなかった。

【００４２】また、以上の膜はすべて１層の膜の例であ
るが、２層以上の膜としてもよい。特にピール試験で効
果が大きかったクロム、銅又は金を下層とし、その上層
として他の遷移金属又はその合金の膜を形成したとき
は、ピール試験による膜剥がれは、クロム、銅又は金の
膜剥がれとほぼ同じ結果となった。なお、この場合、下
層と上層の合計の膜厚が上記の膜厚の範囲になるように
する。

【００４３】

【発明の効果】本発明によれば、塵埃の発生を減少させ
た磁気ディスク装置用のセラミックスぺーサーを提供す
ることができた。また、そのような磁気ディスク装置用
のセラミックスぺーサーの製造方法を提供することがで
きた。さらに、セラミックスぺーサーを用いた磁気ディ
スク装置のエラーを減少させることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の磁気ディスク装置の概略図
及びスピンドル、ディスク回りの断面図である。

【図２】本発明のセラミックスぺーサーの製造方法に用
いる洗浄装置の一例の模式的な斜視図である。

【図３】洗浄液の種類によるセラミックスぺーサーの清
浄度の差を示す図である。

【図４】洗浄メカニズムを示す図である。

【図５】洗浄液のｐＨとセラミックスぺーサーの清浄度
の関係を示す図である。

【図６】活性剤濃度とセラミックスぺーサーの清浄度の
関係を示す図である。

【図７】コーティング膜厚の測定ポイントを説明するた
めのセラミックスぺーサーの外観図、断面図及びその表
面の模式図である。

【図８】タングステンの膜厚とディスクの反りの関係を
示す図である。

【図９】被覆膜の材質及び膜厚と反りによる電気的出力
への影響を示す図である。

【図１０】被覆膜の材質及び膜厚とディスク傷の関係を
示す図である。

【図１１】被覆膜の材質とセラミックスぺーサーの密着
性の関係を示す図である。

【符号の説明】

１…ディスク ２…ヘッド ３…ヘッドアーム ４、２１…セラミックスぺーサー ５…スピンドルモーター ６…クランプ ７…スぺーサー ８…スぺーサー洗浄治具 ９…純水槽 １０…超音波発振機 １１…循環ポンプ １２…フィルター １３…リンス槽 １４…純水 １５…石英槽 １６…液中微粒子モニタ １７…弱い力でセラミック表面と結び付いた塵埃 １８…強い力でセラミック表面と結び付いた塵埃 １９…セラミックス ２０…界面活性剤 ２３…膜厚評価ポイント ２４…膜 ２５…孔

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】スぺーサーリングの少なくとも外周部の表
   面が被覆膜で被われたセラミックスからなることを特徴
   とする磁気ディスク用スぺーサーリング。
2. 【請求項２】上記被覆膜は、けい素、炭素、遷移金属元
   素又は遷移金属の合金からなることを特徴とする請求項
   １記載の磁気ディスク用スぺーサーリング。
3. 【請求項３】セラミックスからなるスぺーサーリングを
   アルカリ性の液若しくは酸性の液又はこれらに界面活性
   剤を加えた液に浸漬し、乾燥することを特徴とする磁気
   ディスク用スぺーサーリングの製造方法。
4. 【請求項４】上記乾燥の後、少なくとも外周部の表面を
   被覆膜で被うことを特徴とする請求項３記載の磁気ディ
   スク用スぺーサーリングの製造方法。
5. 【請求項５】上記被覆膜は、けい素、炭素、遷移金属元
   素又は遷移金属の合金からなることを特徴とする請求項
   ４記載の磁気ディスク用スぺーサーリングの製造方法。
6. 【請求項６】上記アルカリ性の液はｐＨが１０〜１４の
   範囲であり、上記酸性の液はｐＨが０〜４の範囲である
   ことを特徴とする請求項３、４又は５記載の磁気ディス
   ク用スぺーサーリングの製造方法。
7. 【請求項７】情報を記録する磁気記録媒体の複数枚と、
   該磁気記録媒体に情報を記録、再生する磁気ヘッドと、
   信号回路とを有し、上記複数枚の磁気記録媒体は、スぺ
   ーサーリングを介して積層された磁気ディスク装置にお
   いて、上記スぺーサーリングは、請求項１若しくは２記
   載の磁気ディスク用スぺーサーリング又は請求項３から
   ６の何れか一に記載の磁気ディスク用スぺーサーリング
   の製造方法により製造されたスぺーサーリングであるこ
   とを特徴とする磁気ディスク装置。