JP2000156428A - Bga用リードフレーム - Google Patents

Bga用リードフレーム

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JP2000156428A
JP2000156428A JP10329301A JP32930198A JP2000156428A JP 2000156428 A JP2000156428 A JP 2000156428A JP 10329301 A JP10329301 A JP 10329301A JP 32930198 A JP32930198 A JP 32930198A JP 2000156428 A JP2000156428 A JP 2000156428A
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JP
Japan
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lead frame
bga
connection terminal
chip
terminal portion
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Pending
Application number
JP10329301A
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English (en)
Inventor
Tomoo Takahashi
智男 高橋
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】従来の製造方法が適用でき、製造効率を落とす
ことなく高密度実装に対応した安価、且つ信頼性の高い
BGA用リードフレームを提供することを目的とする。 【解決手段】ICチップ接続端子部14aを外周部に、
外部接続端子部15を内周部に配置したBGA用リード
フレームであって、リード14及びICチップ接続端子
部14aはBGA用リードフレーム10を形成している
金属基材よりも薄くなっており、ICチップ実装後の樹
脂モールドを行う際のモールド樹脂の流れを良くしてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路の実
装に用いられるリードフレームに関し、特に多ピンリー
ドを有するBGA用リードフレームに関する。
【0002】
【従来の技術】近年の半導体装置は小型化、薄型化、多
ピン化及び高密度化がより一層要求されるのに伴い、こ
れらの半導体装置に用いられるパッケージ形態はQFP
(quadflat package)型やTCP(tape carrier packa
ge)からリードをパッケージ下面にエリアアレイ状に配
置したBGA(ball grid array)型にして実装を容易
にしようとする動きがある。
【0003】これらのパッケージを構成しているリード
フレームも多ピン化、狭ピッチ化が進んでおり、リード
ピン数が300ピン以上、リード間のピッチが200μ
m以下のリードフレームも実用化されている。また、半
導体素子の高速化に伴い、高い電気伝導度を有する銅合
金系の金属材料の使用も年々増加している。
【0004】リードフレームの製造方法としては、金型
による打ち抜きプレス法や塩化第二鉄液等のエッチング
液を使用するエッチング法の二つに大別される。エッチ
ング法は打ち抜きプレス法と比較して微細加工性に優
れ、高価である金型を使用しないため、多品種少量の製
造にも適しており、製品の多様化が進む昨今の状況に置
いて広く採用されている方法である。
【0005】エッチング法は微細加工性に優れたエッチ
ング加工であるが、その加工能力にも限界があり、レジ
ストパターン寸法やエッチング条件の最適化を行って
も、リード間のピッチはリードフレームを形成している
金属基材の板厚以下には加工できないとされている。金
属基材の板厚はリードフレームの強度を確保するため、
ある程度の厚さが必要で100μm以下での使用は難し
く、実際的には125μm以上で使用されている。
【0006】また、図5に示すような従来のリードフレ
ームでは、リードフレームのインナーリード先端部71
aはワイヤボンディングエリアの確保のため、一定値以
上(80μm以上といわれている)の平坦幅の確保が必
要となり、その結果上記加工限界値は更に高いものとな
り、0.2mm板厚の金属基材では現状リード間のピッ
チが200μmであるリードフレームの安定量産は非常
に困難である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑み考案されたもので、従来の製造方法が適用でき、製
造効率を落とすことなく高密度実装に対応した安価、且
つ信頼性の高いBGA用リードフレームを提供すること
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、まず請求項1においては、ICチップ接続端子部と
外部接続端子部を有し、前記ICチップ接続端子部及び
外部接続端子部はリードで接続されてなるBGA用リー
ドフレームであって、前記ICチップ接続端子部が外周
部に、前記外部接続端子部が前記ICチップ接続端子部
よりも内側に配置されていることを特徴とするBGA用
リードフレームとしたものである。
【0009】また、請求項2においては、前記ICチッ
プ接続端子部及びリードの厚さがリードフレームを形成
している金属基材の厚さよりも薄肉化されていることを
特徴とする請求項1記載のBGA用リードフレームとし
たものである。
【0010】さらにまた、請求項3においては、前記外
部接続端子部の厚さがリードフレームを形成している金
属基材の厚さと同じであることを特徴とする請求項1又
は2記載のBGA用リードフレームとしたものである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。図1(a)は本発明のBGA用リードフレーム
の平面図を、図1(b)は図1(a)のBGA用リード
フレームをA−A線で切断した断面図を、図2は本発明
のBGA用リードフレームの部分斜視図を、図3(a)
〜(d)は本発明のBGA用リードフレームの製造工程
を工程順に示す断面図を、図4は本発明のBGA用リー
ドフレームを用いてICチップを実装した半導体装置の
断面図を、それぞれ示す。
【0012】本発明のBGA用リードフレームは図1に
示すように、ICチップ接続端子部14aを外周部に、
外部接続端子部15をICチップ接続端子部14aより
も内側に配置することにより、通常の両面エッチングプ
ロセス製造ラインで多ピンのリードフレームが容易に得
られ、狭ピッチ化リードのワイヤボンディングポイント
の平坦幅を確保できるようにしたものである。
【0013】さらに、ICチップ接続端子部14a及び
リード14は、表裏パターンを組み合わせてレジストパ
ターンを形成して両面エッチングすることによりハーフ
エッチング部を形成でき、多ピン化しても従来のリード
フレームと比較してエッチング工程の工程マージンを広
くとることができる。
【0014】BGA用リードフレームにICチップを実
装して樹脂モールドする際にもICチップ接続端子部1
4a及びリード14が外部接続端子部15よりも薄肉化
されているので、樹脂封止の際のモールド樹脂の樹脂流
れが良好で、従来のプラスチックモールド工程が利用で
き、安価なCSP(チップ・サイズ・パッケージ)が得
られる等の利点がある。
【0015】以下、本発明のBGA用リードフレームの
作製法について説明する。まず、0.2mm厚の銅合金
からなる金属基材11の両面に感光性樹脂(フォトレジ
スト)を塗布、乾燥して感光層12を形成する(図2
(a)参照)。
【0016】次に、所定の遮光パターンを有する露光用
マスク(表裏2枚のマスク)を位置合わせ、密着して所
定の露光量で感光層12に露光し、所定の現像液で現像
処理して、金属基材11の両面にレジストパターン12
aを形成する(図2(b)参照)。
【0017】次に、レジストパターン12aをマスクに
して金属基材11を両面からウエットエッチングを行
い、開口部13及び金属基材11よりも薄肉化されたリ
ード14を形成する(図2(c)参照)。
【0018】次に、レジストパターン12aを剥離処理
して、薄肉化されたリード14及びICチップ接続端子
部14aと金属基材11と同厚の外部接続端子15及び
ダムバー16が形成された本発明のBGA用リードフレ
ーム10を得る(図2(d)参照)。
【0019】さらに、本発明のBGA用リードフレーム
を用いて半導体装置とするには、図4に示すように本発
明のBGA用リードフレーム上にICチップ31を絶縁
テープ31を介してマウントし、ワイヤ51にてICチ
ップ31の端子電極とBGA用リードフレーム10のI
Cチップ接続端子部14aとをワイヤボンディング接続
を行い、モールド樹脂61にて樹脂封止して、外部接続
端子部15に半田バンプ21を形成して、ICチップ4
1を実装した半導体装置100を得ることができる。
【0020】
【発明の効果】上記したように、ICチップ端子電極と
の接続端子部をBGA用リードフレームの外周部に設け
ることによりピン数が増えてもリード間ピッチを広く取
れ、リードフレームの作製及びワイヤボンディング接続
が容易で、信頼性の高いBGA用リードフレームを提供
できる。さらに、外部接続端子部をICチップ接続端子
部よりも内側に設けているので、ICチップの大型化に
も容易に対応でき、ICチップ実装後の半導体装置のサ
イズを小さくできる。すなはち、CSP(チップ・サイ
ズ・パッケージ)に近い大きさにでき、高密度実装に対
応した半導体装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、本発明のBGA用リードフレームの
一実施例を示す平面図である。(b)は、図1(a)の
本発明のBGA用リードフレームをA−A線で切断した
断面図を示す。
【図2】本発明のBGA用リードフレームの部分斜視図
を示す。
【図3】(a)〜(d)は、本発明のBGA用リードフ
レームの製造工程を工程順に示す断面図である。
【図4】本発明のBGA用リードフレームを用いてIC
チップを実装した半導体装置の一実施例を示す断面図で
ある。
【図5】従来のBGA用リードフレームの一例を示す平
面図である。
【符号の説明】
10……BGA用リードフレーム 11……金属基材 12……感光層 12a……レジストパターン 13……開口部 14……リード(ハーフエッチング) 14a……ICチップ接続端子部 15……外部接続端子部 16……ダムバー 21……半田バンプ 31……絶縁テープ 41……ICチップ 51……ワイヤ 61……モールド樹脂 71……リード 71a……インナーリード先端部 71b……アウターリード 72……インナーリード間ギャップ 73……アイランド 100……半導体装置

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ICチップ接続端子部と外部接続端子部を
    有し、前記ICチップ接続端子部及び外部接続端子部は
    リードで接続されてなるBGA用リードフレームであっ
    て、前記ICチップ接続端子部が外周部に、前記外部接
    続端子部が前記ICチップ接続端子部よりも内側に配置
    されていることを特徴とするBGA用リードフレーム。
  2. 【請求項2】前記ICチップ接続端子部及びリードの厚
    さがリードフレームを形成している金属基材の厚さより
    も薄肉化されていることを特徴とする請求項1記載のB
    GA用リードフレーム。
  3. 【請求項3】前記外部接続端子部の厚さがリードフレー
    ムを形成している金属基材の厚さと同じであることを特
    徴とする請求項1又は2記載のBGA用リードフレー
    ム。
JP10329301A 1998-11-19 1998-11-19 Bga用リードフレーム Pending JP2000156428A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008186869A (ja) * 2007-01-26 2008-08-14 Toppan Printing Co Ltd リードフレーム、およびその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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