JP2000138315A - Bga型ic及びbga型icの製造方法 - Google Patents

Bga型ic及びbga型icの製造方法

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JP2000138315A
JP2000138315A JP10311933A JP31193398A JP2000138315A JP 2000138315 A JP2000138315 A JP 2000138315A JP 10311933 A JP10311933 A JP 10311933A JP 31193398 A JP31193398 A JP 31193398A JP 2000138315 A JP2000138315 A JP 2000138315A
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JP
Japan
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semiconductor element
lead
type
bga type
resin
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JP10311933A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Arakawa
利昭 荒川
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NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外部接続端子へのダメージが無く、且つ、精
度の高い電気的特性試験を行うことができるBGA型I
Cを提供する。 【解決手段】 複数の電極パッド2が形成されている半
導体素子1の一面に、電極パッド2にかからないよう
に、弾力性を持たせて保護するための接着剤3と、接着
剤3を保護するための保護テープ4とが貼付されてい
る。保護テープ4上に、リードフレーム5が貼付され、
リードフレーム5のアウターリード5aが樹脂6の外部
に導出するように、樹脂6で封止されている。アウター
リード5aの先端には、半田メッキ8が形成されてい
る。このBGA型ICの電気的特性試験は、アウターリ
ード5aと試験装置のテスト用電極を一時的に導通させ
て行う。試験終了後、アウターリード5aを根本から切
断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、電気的特性試験
を行うのに適したBGA型のICに関し、特に測定時
に、半田ボールへのダメージを抑えることができるBG
A型ICに関する。
【0002】
【従来の技術】近年の電子機器の小型化に伴って、回路
を構成する半導体素子等の電子部品も小型のものが開発
されている。ICに関しては、プリント基板に自動で装
着させることから、従来SOJ(Small Outline J-lead
ed Package)型、QFP(Quad Flat Package)型、C
SP(Chip Size Package)型のパッケージが使用され
てきたが、近年は、BGA(Ball Grid Array)型のパ
ッケージが多く使用されている。このBGA型ICは、
電極として、マトリクス状に配置された半田ボールを備
える。
【0003】BGA型ICの電気的特性試験を行う場
合、従来では、半田ボールと測定装置の電極とを電気的
に接触させて、試験を行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特性試験の精
度を高くするために、測定装置の電極と半田ボールとを
しっかりと接触させると、半田ボールに測定装置の圧痕
が残ってしまう。一方、半田ボールに測定装置の圧痕が
残らないように弱く接触させると、接触が不安定にな
り、接触不良などが発生し、特性試験の精度が低下して
しまう。
【0005】この発明は、上記実情に鑑みてなされたも
ので、外部接続端子へのダメージが無く、且つ、精度の
高い電気的特性試験を行うことができるICを提供する
ことを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の第1の観点にかかるBGA型ICは、一
面に複数の電極パッドを備える半導体素子と、前記半導
体素子の一面側に配置され、前記半導体素子の電極パッ
ドに接続された半田ボールと、前記半田ボールに電気的
に接続されたテスト用のリードと、前記半導体素子の前
記一面側を避けて、リードのアウターリードを外部に導
出するように前記半導体素子と前記リードの一部を封止
する樹脂と、から構成されたことを特徴とする。このB
GA型ICチップによれば、半田ボールを傷つけること
なく、テスト用リードを用いてこのBGA型ICの電気
特性試験を行うことができる。
【0007】前記リードは、例えば、樹脂封止可能に屈
曲して形成される。また、前記アウターリードの先端部
分に半田メッキを施してもよい。
【0008】前記アウターリードは、前記半導体素子の
電極パッド形成面と直交する方向に屈曲し、SOJ型I
Cのソケットに装着可能に形成されてもよい。前記アウ
ターリードは、根本部分で切断可能に形成されてもよ
い。前記半導体素子の一面上に形成され、前記電極パッ
ドに対向するする部分に開口が形成された絶縁性保護層
を配置してもよい。
【0009】上記構成のBGA型ICのテストを、前記
半田ボールを使用せず、前記アウターリードを用いて行
い、テスト終了後、前記アウターリードを根本から切断
するようにしてもよい。
【0010】上記目的を達成するため、この発明の第2
の観点にかかるBGA型ICの製造方法は、複数の電極
パッドを備える半導体素子を用意するステップと、前記
半導体素子の電極パッド形成面上に、電極パッド上を避
けて、絶縁性の保護層を形成するステップと、アウター
リードを前記保護層上に配置する配置ステップと、前記
保護層を避けて、前記半導体素子と前記アウターリード
の一部を覆って樹脂封止する封止ステップと、前記電極
パッドと前記アウターリードとを半田接続すると共に半
田ボールを前記保護層に形成するステップと、を備える
ことを特徴とする。
【0011】アウターリードを含むリードフレームを前
記保護層上に配置し、前記封止後、アウターリードを残
して、リードフレームのフレーム部分を除去するように
しても良い。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係るBGA
型ICを図面を参照して説明する。図1(a)は、本実
施の形態のBGA型ICの断面図、図1(b)は平面図
である。
【0013】図示するように、BGA型ICは、半導体
素子1と、電極パッド2と、接着剤3と、保護テープ4
と、リードフレーム5と、樹脂6と、半田ボール7と、
半田メッキ8と、から構成される。
【0014】半導体素子1は、半導体チップを搭載する
基体である。電極パッド2は、半導体素子1の一面にマ
トリクス状に配置され、半導体チップの電極に電気的に
接続されており、半導体チップの電極を拡面化するため
のものである。接着剤3は、絶縁性の接着剤であり、電
極パッド2上を避けて半導体素子1の一面上に層状に塗
布されており、半導体素子1の一面に弾力性と絶縁性を
与えて保護する。
【0015】保護テープ4は、両面が粘着性の絶縁テー
プから構成され、電極パッド2上の部分に開口部が形成
されており、接着剤3の層の上に貼付され、半導体素子
1を保護する。リードフレーム5は、このBGA型IC
をテストする際に使用されるリードであり、42合金
(42%Ni−鉄)、Cu合金等の導電性に優れた金属
から構成され、電極パッド2に電気的に接続されてい
る。リードフレーム5は、アウターリード5aとインナ
ーリード5bとその中間部分で大きく屈曲した屈曲部5
cを備える。
【0016】樹脂6は、半導体素子1の一面を避けて、
半導体素子1とリードフレーム5の屈曲部5cを封止
し、半導体素子1を保護する。半田ボール7は、このB
GA型ICの外部接続端子であり、球形の半田から構成
される。半田ボール7を形成する半田はインナーリード
5bに接続されると共に保護テープ4及び接着剤3の開
口部を介して半導体素子1の電極パッド2に接続されて
いる。これにより、各電極パッド2は、対応する半田ボ
ール7とアウターリード5aに電気的に接続される。半
田メッキ8は、アウターリード5aに溶着した薄い半田
層から構成される。
【0017】次に、このBGA型ICの製造方法を説明
する。半導体素子1の表面に弾力性を持たせて保護する
ための接着剤3と、接着剤3を保護するための保護テー
プ4とを、それそれ電極パッド2にかからないように貼
付する。保護テープ4の上面に、リードフレーム5を、
例えば、図2に平面で示すように位置合わせして貼付す
る。なお、破線部分は、樹脂封止後、切断される部分で
あり、インナーリード5bには、保護テープ4に形成さ
れた開口と重なるように開口が形成されている。なお、
リードフレーム5は、予め成形されている。
【0018】次に、リードフレーム5が貼付された半導
体素子1全体をモールディング装置に載置し、半導体素
子1の一面側を除き、且つ、アウターリード5aが樹脂
6の外部に導出するように、樹脂6で封止(モールディ
ング)する。次に、リードフレーム5の破線部分(図
2)を切断する。次に、アウターリード5aの先端に半
田メッキ8を形成する。また、インナーリード5bと保
護テープ4と接着剤3との開口部を介して、電極パッド
2に、このBGA型ICの外部接続端子となる半田ボー
ル7をリフロー加熱して溶着させ、電極パッド2と半田
ボール7とリードフレーム5(インナーリード5b)を
電気的に導通させ、図1に示すBGA型ICを完成す
る。
【0019】次に、このBGA型ICの電気的特性試験
を行う動作について説明する。通常、BGA型ICの電
気的特性試験を行うためには、半田ボール7と試験装置
(図示せず)のテスト用電極を接続する。しかし、この
実施の形態では、半田ボール7を保護したまま、アウタ
ーリード5aの半田メッキ8部と測定装置の電極を、例
えば、ワニ口クリップを使用して一時的に接続させて、
試験を行う。アウターリード5aは、対応する半田ボー
ル7及び電極パッド2に接続されているので、電気的特
性試験を支障なく行うことができ、半田ボール7も保護
することができる。電気的特性試験終了後、アウターリ
ード5aを根本から切断する。その後、必要に応じて、
切断部分に絶縁テープなどを貼付する。
【0020】このように、アウターリード5aを設ける
ことにより、半田ボール7と接触しなくても、精度の高
い電気的特性試験を行うことができる。また、アウター
リードが切断可能であるため、従来のBGA型ICと同
じ形状で、このBGA型ICを実現できる。
【0021】なお、この発明は、上記実施の形態に限定
されず、種々の変形及び応用が可能である。例えば、ア
ウターリード5aを、例えば、図3に示すような屈折型
にしてもよい。この屈折型のアウターリードを有するI
Cの製造方法は、図1を参照して説明した方法と同様
に、半導体素子1の表面に接着剤3、保護テープ4、リ
ードフレーム5を備え、全体を樹脂6で封止する。アウ
ターリード5bは、樹脂から任意の箇所で、上方(半導
体素子の表面方向)に垂直に屈曲させ、先端を半導体素
子方向にかぎ状に屈曲させる。
【0022】このようにアウターリードの形状をJ字型
とすることにより、従来のSOJ型IC用のソケットに
BGA型ICを装着して、特性試験を行うことができ、
外部接続端子にダメージを与えることなく、精度の高い
測定結果を得ることができる。
【0023】また、試験終了後、アウターリードを切断
し易いように、アウターリードの根本を薄く又は細く形
成したり、折り目を入れたり、切れ目を入れたりしても
よい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ICの外部接続端子に接触することなく、精度の高
い電気的特性試験を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)と(b)は、本発明の実施の形態のBG
A型ICの構成の一例を示す断面図と平面図である。
【図2】本発明の実施の形態のBGA型ICの構成の製
造過程を説明するための平面図である。
【図3】本発明の実施の形態のBGA型ICの構成の変
形例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 半導体素子 2 電極パッド 3 接着剤 4 保護テープ 5 リードフレーム 5a アウターリード 5b インナーリード 6 封止用樹脂 7 半田ボール 8 半田メッキ

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一面に複数の電極パッドを備える半導体素
    子と、 前記半導体素子の一面側に配置され、前記半導体素子の
    電極パッドに接続された半田ボールと、 前記半田ボールに電気的に接続されたテスト用のリード
    と、 前記半導体素子の前記一面側を避けて、リードのアウタ
    ーリードを外部に導出するように前記半導体素子と前記
    リードの一部を封止する樹脂と、 から構成されたことを特徴とするBGA型IC。
  2. 【請求項2】前記リードは、樹脂封止可能に屈曲して形
    成されている、ことを特徴とする請求項1に記載のBG
    A型IC。
  3. 【請求項3】前記アウターリードの先端部分に半田メッ
    キが施されている、ことを特徴とする請求項1に記載の
    BGA型IC。
  4. 【請求項4】前記アウターリードは、前記半導体素子の
    電極パッド形成面と直交する方向に屈曲し、SOJ型I
    Cのソケットに装着可能に形成されている、ことを特徴
    とする請求項1に記載のBGA型IC。
  5. 【請求項5】前記アウターリードは、前記樹脂の外縁近
    傍で切断可能に形成されている、ことを特徴とする請求
    項1乃至4の何れか1項に記載のBGA型IC。
  6. 【請求項6】前記半導体素子の一面上に形成され、前記
    電極パッドに対向する部分に開口が形成された絶縁性保
    護層を有する、ことを特徴とする請求項1乃5の何れか
    1項に記載のBGA型IC。
  7. 【請求項7】請求項1乃至6の何れか1項に記載のBG
    A型ICのテスト方法であって、 前記半田ボールを使用せず、前記アウターリードを用い
    て前記半導体素子のテストを行い、 テスト終了後、前記アウターリードを前記樹脂の外周近
    傍で切断する、 ことを特徴とするBGA型IC。
  8. 【請求項8】複数の電極パッドを備える半導体素子を用
    意するステップと、 前記半導体素子の電極パッド形成面上に、電極パッド上
    を避けて、絶縁性の保護層を形成するステップと、 アウターリードを前記保護層上に配置する配置ステップ
    と、 前記保護層を避けて、前記半導体素子と前記アウターリ
    ードの一部を覆って樹脂封止する封止ステップと、 前記電極パッドと前記アウターリードとを半田接続する
    と共に半田ボールを前記保護層に形成するステップと、 を備え、テスト用のアウターリードを備えるBGA型I
    Cの製造方法。
  9. 【請求項9】前記配置ステップは、アウターリードを含
    むリードフレームを前記保護層上に配置するステップを
    含み、 前記封止ステップ後、アウターリードを残して、リード
    フレームのフレーム部分を除去するステップ、 を備えることを特徴とする請求項8に記載のBGA型I
    Cの製造方法。
JP10311933A 1998-11-02 1998-11-02 Bga型ic及びbga型icの製造方法 Pending JP2000138315A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004119552A (ja) * 2002-09-25 2004-04-15 Matsushita Electric Works Ltd 半導体装置およびその製造方法
CN102540037A (zh) * 2010-12-27 2012-07-04 阿特斯(中国)投资有限公司 太阳能电池片的测试仪

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Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010321