JP2000119604A - 組成物の層のｅｂ及びｕｖ架橋法並びに、これらの層を伴って製造された製品 - Google Patents

組成物の層のｅｂ及びｕｖ架橋法並びに、これらの層を伴って製造された製品

Info

Publication number
JP2000119604A
JP2000119604A JP11282913A JP28291399A JP2000119604A JP 2000119604 A JP2000119604 A JP 2000119604A JP 11282913 A JP11282913 A JP 11282913A JP 28291399 A JP28291399 A JP 28291399A JP 2000119604 A JP2000119604 A JP 2000119604A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
dose
composition
backing
release liner
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11282913A
Other languages
English (en)
Inventor
Neuhaus-Steinmetz Hermann
ヘルマン・ノイハウス−シユタインメツツ
Christian Dr Harder
クリステイアン・ハルダー
Klose Maren
マレン・クロゼ
Talacker Dietlind
デイートリント・タラツカー
Werner Dr Karmann
ベルナー・カルマン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beiersdorf AG
Original Assignee
Beiersdorf AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beiersdorf AG filed Critical Beiersdorf AG
Publication of JP2000119604A publication Critical patent/JP2000119604A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/068—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using ionising radiations (gamma, X, electrons)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2252/00—Sheets
    • B05D2252/10—Applying the material on both sides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2421/00—Presence of unspecified rubber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2423/00—Presence of polyolefin
    • C09J2423/006—Presence of polyolefin in the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2467/00—Presence of polyester
    • C09J2467/006—Presence of polyester in the substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 両面接着テープの放射線架橋方法を提供する
こと。 【解決手段】 接着剤により両面を被覆された裏材料
が、照射手段中で、異なる線量により、両面から非対称
的に照射される、両面接着テープの放射線架橋法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は組成物の層の電子ビ
ーム（ＥＢ）及びまたＵＶ架橋法、並びにこれらの層を
付けて製造された製品に関する。
【０００２】
【従来の技術】アクリラートの圧力感受性接着剤（ＰＳ
Ａ）組成物による、なかでも著しい接着性の発生は架橋
を必要とすることが長い間知られてきた。ゴムについて
も、その接着性は架橋により改善される。
【０００３】接着テープの製造においては、ＵＶ光線又
は電子ビーム（ＥＢ）による放射線架橋化の使用が、化
学的／熱的架橋法に比して特別の利点を有する。放射線
架橋化はまた、両面接着テープを製造するために好都合
に使用される。
【０００４】加速電子を被曝した製品中に吸収された放
射線量の深度分布は、あらゆる与えられた加速電圧につ
いて知られる。多数の著者がこれに対する経験的関数を
開発した（例えば、Heger,beta-gamma 1,20,1990 、 Ne
uhaus-Steinmets, RadTech Europe, Mediterraneo, 199
3）。
【０００５】電子ビームユニットの最大加速電圧が、単
位面積当たりのその高い重量のために、製品を通過する
十分に均一な照射に不適切である場合は、文献及び会社
の小冊子が両側からの照射の可能性につき記載してお
り、ここで、両側のために設定された加速電圧及び放射
線量は同一である。
【０００６】例えば、圧力感受性接着剤の可能性がある
架橋される被膜、並びに例えば、紙、織物又は不織セル
ロースのような放射線劣化性裏材料及びＯＰＰフィルム
からなる製品に対しては、損傷は加速電圧を最適化させ
ることにより最小にすることができる。この場合、裏材
料は被膜が受けるよりも有意に低い平均線量を受け、一
方、被膜中の線量の減少は許容範囲内に留まる。このよ
うな条件はなかでも、欧州特許第０ ４５３ ２５４号
（Yarosso et al.)明細書及びthe 7th MunichAdhesives
and Finishing Seminar, 1982にDr Karmannにより発表
された講義に伴う論文に記載されている。
【０００７】両面に架橋される接着剤組成物を伴う裏材
料からなり、そして接着抵抗性の剥離ライナーを伴う両
面接着テープは、加速電子により片面から均一に照射さ
れる時には約１０ないし５０ｋＧｙを越えない線量を受
けなければならない、さもないと、機械的特性及び接着
抵抗性の特性の許容できない劣化のために、剥離ライナ
ーを取り替えなければならない。最大の許容できる吸収
放射線量は圧力感受性接着剤の種類及び剥離被膜の種類
の関数である。
【０００８】ここですら、ある適切な層の厚さ、望まし
くない効果の減少は、剥離ライナー中の放射線量がすで
に著しく低下された場合には、加速電圧の巧みな選択に
より達成することができる。しかし、剥離ライナーに面
するＰＳＡ層はまだ、架橋のために十分な放射線量を受
けなければならないことに、ここで注目しなければなら
ない。
【０００９】両面にＰＳＡ組成物を含む裏材料及び接着
抵抗性剥離ライナー、を含んでなる両面接着テープの両
面が対称的に照射される場合は、後者は全放射線量を受
ける。これはまた、架橋される圧力感受性接着剤が剥離
ライナー上に更なる裏材料なしで被覆されている、トラ
ンスファーテープとして知られるテープについても当て
はまる。
【００１０】前記の説明から、ＰＳＡ層を架橋するのに
必要な放射線量が非常に高いので、剥離ライナーの機械
的特性及び接着抵抗の特性が許容できない程度に損傷さ
れる時には、その場合は、剥離ライナーを再被覆によ
り、新規の、被曝していないライナーと取り替えなけれ
ばならないので、電子ビームによる両面接着テープの架
橋のために必要な経費が膨大になることは明らかであ
る。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、加速
電子又はＵＶ光線を使用する放射線架橋により、両面接
着テープ、又は概括的には両面被覆された裏材料の好都
合な製造を可能にすることである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この目的は主要請求項に
提示された方法により達成される。副請求項は本発明の
方法の好都合な態様及び更にその方法の第２の態様につ
き説明している。
【００１３】従って、本発明は、接着剤により両面を被
覆された裏材料が、照射手段中で、異なる線量により両
面から非対称的に照射される、両面接着テープの放射線
架橋の方法を提供する。
【００１４】一つの好都合な態様においては、両面接着
テープの放射線架橋法は以下の段階、 ａ）接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ）ＥＢユニット上に設定された線量Ａ及び加速電圧Ａ
により、組成物側上の接着剤Ａ／裏材料のサブユニット
をＥＢ−架橋化すること、 ｃ）剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
と、 ｄ）接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆すること、
並びに ｅ）ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧Ｂ
により、接着剤組成物Ｂの被曝側上のアセンブリーをＥ
Ｂ−照射すること（ここで、剥離ライナーを担持する側
は、好ましくは冷却ローラー上をＥＢユニットを通って
誘導され、そして線量Ａ及び線量Ｂ及び／又は加速電圧
Ａ及び加速電圧Ｂは異なる値を有する）、からなる。
【００１５】剥離ライナーを取り替える必要はなく、再
被覆操作は必要でない。方法の段階は１回のパスで実施
することができる。必要と考えられる場合には、裏材料
のインラインの前処理及び更なる地ならし、すなわち裏
材料の平坦さの欠乏により、加熱による裏材料の平滑化
（例えば、整経）を実施することもできる。
【００１６】この目的のためにまず最初に、ＥＢ架橋の
場合には、ＥＢユニット上に設定することができる第２
の照射のための加速電圧及び線量が、組成物層中に８０
ｋＧｙ以上までの総線量により、好ましくはコンピュー
タープログラムの助けにより、 ａ）剥離ライナーの被曝側の線量が４０ｋＧｙ未満、好
ましくは１０ｋＧｙ未満に留まり、 ｂ）剥離ライナー／接着剤組成物Ａの界面の線量が５０
ｋＧｙ未満、好ましくは１５ｋＧｙ未満に留まり、 ｃ）接着剤組成物Ｂの表面線量が（目標線量＋２５％）
未満、好ましくは（目標線量＋１５％）未満に留まり、
そして ｄ）裏材料／接着剤組成物Ｂ界面の線量が（目標線量−
２５％）より大きく、好ましくは（目標線量−１５％）
より大きく留まり、 ｅ）一方、裏材料の方向への接着剤組成物Ｂ中の線量の
減少が目標線量の４５％、好ましくは２５％を越えな
い、ように、アセンブリーの層の個々の厚さの関数とし
て計算される。
【００１７】目標線量は、その地点で最適な製品の特性
が得られる、接着剤組成物により吸収される放射線量を
意味する。
【００１８】その際、第１の照射に対する加速電圧及び
放射線量は、接着剤組成物Ａの層中の総放射線量が、接
着剤組成物Ｂの目標値と異なる可能性がある、所望の目
標値から３０％未満、好ましくは１０％未満だけ異なる
ように（例えばGauss-Newton近似により）、計算され
る。
【００１９】計算の基礎としては、例えばNeuhaus-Stei
nmetz at RadTech Europe, Mediterraneo 1993により発
行された次の経験式、
【００２０】
【数１】 ［式中、Ｄは線量の％であり、ＵBは加速電圧のｋＶで
あり、Ｘは、真空窓、真空窓と製品との間の空間、及び
製品中の深度の単位面積当たりの重量からなる、ｇ／ｍ
2における、単位面積当たりの照射重量である］が使用
される。
【００２１】両側からの非対称的照射は、剥離ライナー
中への著しく減少した放射線量を伴って、２枚の接着剤
層への一定の、十分に均一な線量を可能にする。これは
面倒な、誤差を生み易い再被覆操作を省く。更に、この
方法はまた、接着テープのどちらの面上もの接着剤組成
物の架橋の度合の制御された相異をもたらすことを可能
にする。
【００２２】更に接着剤組成物の層の深度に対する制御
された架橋のプロファイルを設定することを可能にす
る。この目的のために、第１及び第２の照射時の加速電
圧及び設定線量は好ましくは、それにより接着特性が制
御された様態で影響を受ける、接着剤組成物Ａの裏材料
に向かう上昇又は下降する深度／線量プロファイルが、
形成されるように選択される。
【００２３】接着剤組成物中に与えられる放射線量は更
に、好ましくは、８０ｋｇｙ以上までにすることがで
き、選択されるＥＢ加速電圧は４０ないし３５０ｋＶに
することができる。電子ビーム加速機の設計に依存し、
真空窓及び、製品への空間の単位面積当たりの重量から
なる、製品へのビーム経路中の単位面積当たりの重量
は、具体的には２０と２５０ｇ／ｍ2との間にすること
ができる。
【００２４】使用される接着剤組成物は、溶液から又は
分散物から、又はホットメルトの接着剤組成物から適用
されるアクリラート及びゴムの可能性があり、ここで、
接着剤組成物Ａ及びＢは異なる可能性がある。接着剤組
成物は更に、充填、着色及び／又は発泡化させることが
できる。
【００２５】使用される裏材料はなかでも、ＭＯＰＰ、
ＢＯＰＰ、ＨＤＰＥ、ＬＤＰＥ、ポリエステル、ＰＶ
Ｃ、紙、不織物又は発泡体から製造されたものである。
【００２６】最後に当該方法は一般に、両面を被覆され
た裏材料が、照射手段中で、異なる線量で両面から非対
称的に照射される、両面被覆裏材料の放射線架橋に対し
て使用することができる。この場合、関連する被膜は接
着剤組成物ではない。
【００２７】第１の代替的な好ましい態様においては、
両面接着テープの放射線架橋の方法は、以下の段階、 ａ）接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ）設定線量Ａ及び加速電圧Ａにより組成物側の接着剤
Ａ／裏材料のサブユニットをＥＢ−架橋すること（ここ
で、接着剤ＡはＵＶ−及びＥＢ−両架橋性である可能性
があり）、 ｃ）剥離ライナーにより、接着剤Ａをライニングするこ
と、 ｄ）接着剤Ｂにより、裏材料の第２の面を被覆するこ
と、並びに ｅ）表面線量Ｂにより接着剤組成物Ｂの被曝側上のアセ
ンブリーをＵＶ−照射すること、からなる。
【００２８】第１の照射に対する電子ビームの加速電圧
及び設定線量、並びに第２の照射に対するＵＶ光線の浸
透深度を、接着剤組成物Ａ中の裏材料に向かう架橋のプ
ロファイルが実質的に一定であるように、適切な波長に
よる光化学的反応開始剤の選択により、選択することが
できる。
【００２９】この態様はまた、この場合は、両面からの
ＥＢ架橋の場合よりも著しく少量を暴露する、ＥＢ−劣
化性裏材料による利点を提供する。
【００３０】ＵＶ光線による第２の架橋パスにおいて、
接着剤Ｂ中に吸収されたＵＶ線量は、大体指数関数的に
裏材料の方向に深度とともに減少する。更にそれは、接
着剤Ａ中に侵入する前にＵＶ透過性の裏材料を通過し、
そこで、順次、裏材料から剥離ライナーの方向に、ＵＶ
線量の大体指数関数的な低下が起こる。
【００３１】ＥＢによる第１の架橋パスにおいては、接
着剤Ａにおいて、ＵＶ照射による第２の架橋パス後に、
特に、相対するＥＢ線量勾配により、深度に対して大体
均一な架橋が達成されるように、あるいは架橋の制御さ
れたプロファイルが生成されるように、設定線量Ａ及び
加速電圧Ａが選択される。
【００３２】接着剤及び裏材料中のＵＶ線量の、正確な
深度に関連した減少が知られる場合は、パラメーターは
純粋に数学的方法において最適化することができる。そ
うでない場合は、特に加速電圧Ａの実験的最適化が好都
合である。
【００３３】第２の代替的な好ましい態様においては、
両面接着テープの放射線架橋の方法は、以下の段階、 ａ）ＵＶ及びＥＢ−両架橋性の接着剤Ａにより、裏材料
を被覆すること、 ｂ）照射手段中で、表面線量Ａにより、接着剤Ａの付い
た裏材料をＵＶ照射すること（ここで、接着剤ＡはＵＶ
−及びＥＢ−両架橋性である）、 ｃ）剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
と、 ｄ）接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆すること、
並びに ｅ）ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧Ｂ
により、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーをＥ
Ｂ−照射すること（ここで、剥離ライナーを担持する面
は好ましくは冷却ローラー上でＥＢユニットを通って誘
導される）、からなる。
【００３４】接着剤Ａ内において、吸収されたＵＶ線量
は大体、指数関数的に裏材料の方向に深度とともに減少
し、所望の波長領域の減少程度は種々の因子に依存す
る。従って、ある層の厚さによっては、裏材料に向かう
接着剤の架橋が不十分な場合がある。これは、次のパス
のＥＢ照射からの、相対するＥＢ線量勾配により補償さ
れる。
【００３５】設定線量Ｂ及び加速電圧Ｂはこの場合、第
１の好都合な態様において特記された接着剤Ｂ及び剥離
ライナーに対する線量範囲が認められるように選択され
る。ＵＶ線量の、精密な深度に関連した減少が知られる
場合は、パラメーターは純粋に数学的な手段により最適
化され得る。そうでない場合は、実験的最適化（特に加
速電圧Ｂの）が好都合である。
【００３６】第３の代替的な好ましい態様において、両
面接着テープの放射線架橋法は以下の段階、 ａ）接着剤Ａにより剥離ライナーを被覆すること、 ｂ）ＥＢユニット上で設定された線量Ａ及び加速電圧Ａ
により、組成物側上の接着剤Ａ及び／又は剥離ライナー
のサブユニットをＥＢ架橋すること、 ｃ）裏材料により接着剤Ａをライニングすること、 ｄ）接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆すること、
並びに ｅ）ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧Ｂ
により、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーをＥ
Ｂ照射すること（ここで、剥離ライナーを担持する面は
ＥＢユニットを通って、好ましくは冷却ローラー上を誘
導され、そして線量Ａ及び線量Ｂ及び／又は加速電圧Ａ
及び加速電圧Ｂは異なる値を有する）、からなる。
【００３７】第４の代替的な好ましい態様において、両
面接着テープの放射線架橋法は以下の段階、 ａ）接着剤Ａにより剥離ライナーを被覆すること、 ｂ）照射手段中で、表面線量Ａにより、接着剤Ａの付い
た剥離ライナーをＵＶ−照射すること（ここで、接着剤
ＡはＵＶ−及びＥＢ−両架橋性の可能性がある）、 ｃ）裏材料により接着剤Ａをライニングすること、 ｄ）接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆すること、
並びに ｅ）ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧Ｂ
により、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーをＥ
Ｂ−照射すること、（ここで、剥離ライナーを担持する
面はＥＢユニットを通って好ましくは冷却ローラー上を
誘導され、そして表面線量Ａは線量Ｂと異なる）、から
なる。
【００３８】第１の照射に対する適切な波長による光化
学的反応開始剤の選択によるＵＶ光線の浸透深度、及
び、第２の照射に対する電子ビームに対する加速電圧Ｂ
及び設定線量Ｂを、それにより接着性が制御された様態
で影響を受ける、接着剤組成物Ａにおける裏材料に向か
う架橋のプロファイルが実質的に一定であるように選択
することができる。
【００３９】更に、第１の照射に対しては、ＵＶ光線の
浸透深度を適切な波長による光化学的反応開始剤の選択
により選択でき、そして第２の照射に対しては、電子ビ
ームに対する加速電圧Ｂ及び設定線量Ｂを、それにより
接着性が制御された様態で影響を受ける、接着剤組成物
Ａの裏材料に向かう架橋プロファイルが上昇又は下降す
るように選択することができる。
【００４０】以下の本文の目的は、多数の実施例を基礎
にして本発明の方法を具体的に示すことであるが、前記
の方法を不必要に制約することを望まない。
【００４１】
【実施例】（実施例１）両面接着テープが、 ａ）第１の組成物層により裏材料を被覆すること、 ｂ）サブユニットを電子ビーム架橋すること、 ｃ）剥離ライナーを適用すること、 ｄ）第２の組成物層により裏材料を被覆すること、そし
て ｅ）アセンブリーを電子ビーム架橋すること、の操作で
製造される。
【００４２】使用された電子ビームユニットは１２４ｇ
／ｍ2の、照射を要する高真空と製品との間の単位面積
当たりの重量を有する。
【００４３】製品の個々の層の厚さは次の通りである、 ・ＭＯＰＰ裏材料：４５ｇ／ｍ2、 ・第１の組成物層：１００ｇ／ｍ2、アクリラート、 ・剥離ライナー：８０ｇ／ｍ2、そして ・第２の組成物層：１００ｇ／ｍ2、アクリラート。
【００４４】アクリラートの接着剤組成物は例えばドイ
ツ特許第３９ ４２ ２３２号又は同第４３ １３ ０
０８号に記載のものに対応する。
【００４５】第１の架橋段階に対する加速電圧１５０ｋ
Ｖ及び設定線量６７ｋＧｙ、並びに第２の架橋段階に対
する加速電圧１８３ｋＶ及び設定線量８８ｋＧｙにおい
て、２枚の組成物層における総線量は８０±９ｋＧｙ
（以下のグラフを参照されたい）以内にある。
【００４６】剥離ライナーは第１の組成物層に面する側
で１０ｋＧｙ未満、そして暴露側には２ｋＧｙ未満を受
ける。巻だし力及び剥離力にはごく軽度な増加が認めら
れ、剥離ライナーに対する損傷の結果としてのピッキン
グは認められない。巻だし力の決定はＡＦＥＲＡ ４０
１３／ＤＩＮ Ｅ１９４４に基づいており、剥離力は温
度における貯蔵を伴わずに、ＦＩＮＡＴからのＦＴＭ３
に従う剥離力に対応する。
【００４７】接着性は、両面の被覆後に、全アセンブリ
ーを２５０ｋＶの加速電圧で、８０ｋＧｙの設定線量で
１回のみ照射する、代替的製造法のものに対応する。し
かし、この場合は、巻だし力及び剥離力の増加が非常に
大きいので、電子ビーム架橋直後に剥離ライナーを取り
替えなえればならない。一方、加速電圧を２１０ｋＶに
減少させると、第１の組成物層の線量はすでに、接着テ
ープがせんだん力に十分な抵抗性をもつのには余りに低
いが、他方では、剥離ライナーの線量減少は、剥離ライ
ナーに対する許容できない損傷を防止するのに十分では
ない。
【００４８】
【表１】 （実施例２）接着テープの製造段階は実施例１のものに
対応する。
【００４９】使用される電子ビームユニットは７６ｇ／
ｍ2の、照射を要する、高真空と製品との間の単位面積
当たりの重量を有する。
【００５０】製品の個々の層の厚さは次の通りである、 ・セルロース不織裏材料：１３ｇ／ｍ2、 ・第１の組成物層：４５ｇ／ｍ2、アクリラート、 ・剥離ライナー：６０ｇ／ｍ2、そして ・第２の組成物層：３５ｇ／ｍ2、アクリラート。
【００５１】第１の架橋段階に対する加速電圧９７ｋＶ
及び設定線量６７ｋＧｙ、並びに第２の架橋段階に対す
る加速電圧１１４ｋＶ及び設定線量９０ｋＧｙにおい
て、２枚の組成物層における総線量は８０±１０ｋＧｙ
（以下のグラフを参照されたい）以内にある。
【００５２】剥離ライナーは第１の組成物層に面する側
には１２ｋＧｙ未満、そして露出側には１ｋＧｙ未満を
受ける。
【００５３】接着性は再度、標的線量における片面の均
一な照射による製法のものに対応する。ここでも再度、
組成物層Ａにおける不十分な線量により、剥離ライナー
における線量の、損傷を回避するのに、十分な減少を達
成することは不可能であった。
【００５４】
【表２】 （実施例３）両面接着テープが、 ａ）第１の組成物層により剥離ライナーを被覆するこ
と、 ｂ）剥離ライナー上の第１の組成物層を電子ビーム架橋
すること、 ｃ）裏材料を適用すること、 ｄ）第２の組成物層により裏材料上のアセンブリーを被
覆すること、並びに ｅ）アセンブリーを電子ビーム架橋すること、の操作に
おいて製造される。
【００５５】使用された電子ビームユニットは１２２ｇ
／ｍ2の、照射を要する高真空と製品との間の単位面積
当たりの重量を有する。
【００５６】製品の個々の層の厚さは次の通りである、 ・セルロース不織裏材料：８．５ｇ／ｍ2、 ・第１の組成物層：６５ｇ／ｍ2、アクリラート、 ・剥離ライナー：１３０ｇ／ｍ2、そして ・第２の組成物層：６０ｇ／ｍ2、アクリラート。
【００５７】第１の架橋段階に対する加速電圧１６４ｋ
Ｖ及び設定線量１４ｋＧｙ、並びに第２の架橋段階に対
する加速電圧１７８ｋＶ及び設定線量６３ｋＧｙにおい
て、２枚の組成物層における総線量は６０±１１ｋＧｙ
（以下のグラフを参照されたい）以内にある。
【００５８】剥離ライナーは第１の組成物層に面する側
には５０ｋＧｙ未満、そして暴露側には５ｋＧｙ未満を
受ける。剥離ライナーに対する損傷の結果としてのピッ
キングは認められない。巻だし力及び剥離力の増加は許
容範囲内にある。
【００５９】接着性は、両面の被覆後に、全アセンブリ
ーを２０５ｋＶの加速電圧で、６０ｋＧｙの設定線量で
１回のみ照射する、代替的製造法のものに対応する。し
かし、この場合は、巻だし力の増加が非常に大きいの
で、電子ビーム架橋直後に剥離ライナーを取り替えなえ
ればならない。１８０ｋＶの小さい加速電圧による、本
実施例のレベルへの剥離ライナーの暴露側の放射線暴露
量の減少により、第１の組成物層の線量はすでに、接着
テープがせんだん力に十分な抵抗性をもつのには余りに
低いが、一方、巻だし力は本実施例に対応する。
【００６０】
【表３】 （実施例４）接着テープの製造段階、製品の構造、及び
電子ビームユニットは実施例１のものに対応するが、第
２の組成物層は５０ｋＧｙのみのＥＢ線量を要する。
【００６１】第１の架橋段階に対する加速電圧１６４ｋ
Ｖ及び設定線量６７ｋＧｙ、並びに第２の架橋段階に対
する加速電圧１９０ｋＶ及び設定線量５４ｋＧｙにおい
て、第１の組成物層における総線量は８０±４ｋＧｙで
あり、第２の組成物層における総線量は５０±４ｋＧｙ
（以下のグラフを参照されたい）である。
【００６２】剥離ライナーは第１の組成物層に面する側
には１２ｋＧｙ未満、そして暴露側には２ｋＧｙ未満を
受ける。接着性は要求された値に対応する。接着剤層の
異なる総線量のために、この製品は片面の照射によって
も、又は両側からの対称的な照射によっても製造するこ
とができない。
【００６３】
【表４】 （実施例５）両面接着テープが、 ａ）第１の組成物層により裏材料を被覆すること、 ｂ）サブユニットをＵＶ架橋化すること、 ｃ）剥離ライナーを適用すること、 ｄ）第２の組成物層により裏材料を被覆すること、並び
に ｅ）アセンブリーを電子ビーム架橋すること、の操作で
製造される。
【００６４】使用される電子ビームユニットは７６ｇ／
ｍ2の、照射を要する高真空と製品との間の単位面積当
たりの重量を有する。
【００６５】製品の個々の層の厚さは次の通りである、 ・ＰＰ裏材料：２８μｍ、 ・第１の組成物層：７０ｇ／ｍ2、アクリラート、 ・剥離ライナー：８０ｇ／ｍ2、そして ・第２の組成物層：７０ｇ／ｍ2、アクリラート。
【００６６】第１の組成物層はＵＶ架橋性で電子ビーム
架橋性の両者である。それは０．５重量パーセントのレ
ベルにおける重合化により取り込まれる、光化学的反応
開始剤のアクリル酸ベンゾインに対して７５ｍＪ／ｃｍ
2のＵＶＣ表面線量において、中圧水銀ＵＶランプ又は
低圧ＵＶＣランプの助けにより架橋化される。使用され
る第１の接着剤組成物によりＵＶＣ強度は約２５ｇ／ｍ
2毎に深度を半分にさせ、この半分値の深度は種々の因
子により影響を受ける。
【００６７】第２の架橋段階に対する加速電圧１４５ｋ
Ｖ及び設定線量８７ｋＧｙにおいて、第２の組成物層に
おける線量は電子ビーム架橋に対して８０±７ｋＧｙ内
にある。
【００６８】剥離ライナーは第１の組成物層に面する側
には１２ｋＧｙ未満、そして暴露側には１ｋＧｙ未満を
受ける。巻だし力及び剥離力には、ごく僅かな増加が認
められ、剥離ライナーに対する損傷の結果としてのピッ
キングは認められない。
【００６９】ＵＶＣ線量に加えて、第１の組成物層はま
た電子ビーム線量の一部を受け、その結果として、一つ
の組成物レシピーに対して前以て決められている第１接
着剤層のＵＶＣ線量勾配は、相対するＥＢ勾配により代
償され、そして十分に一定な架橋が達成される。
【００７０】第２の組成物側上の電子ビーム架橋なしに
は、第１の組成物層の凝集は、製品の必要なせんだん抵
抗性を達成するには不十分である。 （実施例６）両面接着テープが、 ａ）第１の組成物層により裏材料を被覆すること、 ｂ）サブユニットをＥＢ架橋すること、 ｃ）剥離ライナーを適用すること、 ｄ）第２の組成物層により裏材料を被覆すること、並び
に ｅ）アセンブリーをＵＶ架橋すること、の操作で製造さ
れる。
【００７１】第１の組成物層はＵＶ架橋性及び電子ビー
ム架橋性の両方である。
【００７２】使用される電子ビームユニットは７６ｇ／
ｍ2の、照射を要する高真空と製品との間の単位面積当
たりの重量を有する。
【００７３】製品の個々の層の厚さは次の通りである、 ・ＰＴＥ裏材料：１２ｇ／ｍ2、 ・第１の組成物層：６０ｇ／ｍ2、アクリラート、 ・剥離ライナー：８０ｇ／ｍ2、そして ・第２の組成物層：３０ｇ／ｍ2、アクリラート。
【００７４】第１の架橋段階は加速電圧１２２ｋＶ及び
設定線量７５ｋＧｙにおいて実施される。第２の架橋段
階は、コポリマー化された光化学的反応開始剤のアクリ
ル酸ベンゾインに対して７５ｍＪ／ｃｍ2のＵＶＣ線量
により、中圧水銀ＵＶランプ又は低圧ＵＶＣランプの助
けにより実施される。
【００７５】設定されたＥＢ線量に加えて、第１の組成
物層はまた設定されたＵＶＣ線量の一部を受ける。
【００７６】製品の深度に関連する線量の減少は、ＵＶ
光線に対して、化学系及波長に依存し、そしてある光化
学的反応開始剤によっては、副作用を伴わずにはどんな
高い程度にも影響を受けることができない。第１の組成
物層における深度に対するＥＢ線量及びＵＶ線量からも
たらされる架橋は、加速電圧及び設定ＥＢ線量により、
第１の組成物層の最適の接着性に対して設定される。実
質的には、剥離ライナーの露出はない。巻だし力及び剥
離力に増加は認められず、剥離ライナーに対する損傷の
結果としてのピッキングは認められない。
【００７７】本発明の特徴及び態様を以下に示す。
【００７８】１． 接着剤により両面を被服された裏材
料が、照射手段中で、異なる線量で両面から非対称的に
照射される、両面接着テープの放射線架橋の方法。
【００７９】２． 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ） ＥＢユニット上に設定された線量Ａ及び加速電圧
Ａにより、組成物側上の接着剤Ａ／裏材料のサブユニッ
トをＥＢ架橋化すること、 ｃ） 剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
と、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
と、並びに ｅ） ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧
Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
ＥＢ照射すること、（ここで、線量Ａ及び線量Ｂ及び／
又は加速電圧Ａ及び加速電圧Ｂは異なる値を有する）か
らなる、第１項記載の両面接着テープの放射線架橋方
法。
【００８０】３． 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ） ＥＢユニット上に設定された線量Ａ及び加速電圧
Ａにより、組成物側上の接着剤Ａ／裏材料のサブユニッ
トをＥＢ架橋化すること（ここで、接着剤ＡはＵＶ−及
びＥＢ−両架橋性であることが可能である）、 ｃ） 剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
と、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
と、並びに ｅ） 表面線量Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上の
アセンブリーをＵＶ−照射すること、からなる、第１項
記載の両面接着テープの放射線架橋方法。
【００８１】４． 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ） 照射手段中で、表面線量Ａにより、接着剤Ａの付
いた裏材料をＵＶ−照射すること（ここで、接着剤Ａは
ＵＶ−及びＥＢ−両架橋性であることが可能である）、 ｃ） 剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
と、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
と、並びに ｅ） ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧
Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
ＥＢ−照射すること、からなる、第１項記載の両面接着
テープの放射線架橋方法。
【００８２】５． 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより剥離ライナーを被覆すること、 ｂ） ＥＢユニット上に設定された線量Ａ及び加速電圧
Ａにより、組成物側上の接着剤Ａ／剥離ライナーのサブ
ユニットをＥＢ架橋化すること、 ｃ） 裏材料により接着剤Ａをライニングすること、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
と、並びに ｅ） ＥＢユニット上で設定された線量Ｂ及び加速電圧
Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
ＥＢ−照射すること（ここで、線量Ａ及び線量Ｂ及び／
又は加速電圧Ａ及び加速電圧Ｂは異なる値を有する）、
からなる、第１項記載の両面接着テープの放射線架橋方
法。
【００８３】６． 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより剥離ライナーを被覆すること、 ｂ） 照射手段中で、表面線量Ａにより、接着剤Ａの付
いた剥離ライナーをＵＶ−照射すること（ここで、接着
剤ＡはＵＶ−及びＥＢ−両架橋性であることが可能であ
る）、 ｃ） 裏材料により接着剤Ａをライニングすること、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
と、並びに ｅ） ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧
Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
ＥＢ−照射すること、からなる、第１項記載の両面接着
テープの放射線架橋方法。
【００８４】７． 剥離ライナーをもつ面が電子ビーム
ユニットを通して冷却ローラー上を誘導されることを特
徴とする、第１項から第６項に記載の方法。
【００８５】８． 第１の照射における加速電圧及び照
射線量が、第２の照射からの放射線量を含む、接着剤組
成物Ａ中の総放射線量が目標値から±３０％を越えな
い、好ましくは±１０％を越えない値だけ異なるように
選択されることを特徴とする、第１項から第７項に記載
の方法。
【００８６】９． 第２の照射における加速電圧及び照
射線量が、一方で、剥離ライナーと接着剤組成物Ａとの
間の界面における放射線量が５０ｋＧｙ、好ましくは１
２ないし１５ｋＧｙを越えず、そして開放面上の線量が
４０ｋＧｙ、好ましくは１０ｋＧｙを越えず、他方、裏
材料に向かう接着剤組成物Ｂにおける線量減少が目標値
の４５％、好ましくは２５％を越えないように選択され
ることを特徴とする、第１項から第８項に記載の方法。
【００８７】１０． 第１及び第２の照射における加速
電圧及び設定線量が、接着剤組成物Ａにおいて、それに
より接着性が制御された様態で影響を受ける、裏材料に
向かって上昇又は下降している深度／線量プロファイル
が形成されるように選択されることを特徴とする、第１
項から第９項に記載の方法。
【００８８】１１． 第１の照射におけるＵＶ光線の浸
透深度が、適切な波長による光化学的反応開始剤の選択
により選択され、そして第２の照射における電子ビーム
に対する加速電圧及び設定線量が、接着剤組成物Ａにお
いて、それにより接着性が制御された様態で影響を受け
る、裏材料に向かう架橋の大体一定のプロファイルが形
成されるように選択されることを特徴とする、第１項及
び第１０項に記載の方法。
【００８９】１２． 第１の照射におけるＵＶ光線の浸
透深度が、適切な波長による光化学的反応開始剤の選択
により選択され、そして第２の照射における電子ビーム
に対する加速電圧及び設定線量が、接着剤組成物Ａにお
いて、それにより接着性が制御された様態で影響を受け
る、裏材料に向かう架橋の上昇又は下降するプロファイ
ルが形成されるように選択されることを特徴とする、第
１項及び第４項に記載の方法。
【００９０】１３． 第１の照射における、電子ビーム
に対する加速電圧及び設定線量、並びに、第２の照射に
おけるＵＶ光線の浸透深度が、適切な波長による光化学
的反応開始剤の選択により、接着剤組成物Ａにおいて、
裏材料に向かう架橋の大体一定のプロファイルが形成さ
れるように選択されることを特徴とする、第１項及び第
１２項に記載の方法。
【００９１】１４． 接着剤組成物にもたらされる放射
線量が８０ｋＧｙ以上までにすることができ、そして４
０ないし３５０ｋＶのＥＢ加速電圧を選択することがで
きることを特徴とする、第１項から第１３項に記載の方
法。
【００９２】１５． 使用される接着剤組成物が、溶液
から、分散物から又はホットメルト接着剤組成物から使
用されるアクリラート及びゴムであることを特徴とす
る、第１項から第１４項に記載の方法。
【００９３】１６． 接着剤組成物が充填、着色そして
／又は発泡化されていることを特徴とする、第１項から
第１５項に記載の方法。
【００９４】１７． 使用される裏材料がＭＯＰＰ、Ｂ
ＯＰＰ、ＨＤＰＥ、ＬＤＰＥ、ポリエステル、ＰＶＣ、
紙、不織物又は発泡体から製造されているものであるこ
とを特徴とする、第１項から第１６項に記載の方法。
【００９５】１８． 両面被覆裏材料が、照射手段中
で、異なる線量により、両面から非対称的に照射され
る、両面被覆裏材料の放射線架橋の方法。
フロントページの続き (72)発明者 クリステイアン・ハルダー ドイツ・デー−22589ハンブルク・ブレー トカンプ66 (72)発明者 マレン・クロゼ ドイツ・デー−21218ゼーフエタール・フ オルデアハイデ１アー (72)発明者 デイートリント・タラツカー ドイツ・デー−22453ハンブルク・ブリユ ツクビーゼンシユトラーセ27 (72)発明者 ベルナー・カルマン ドイツ・デー−22147ハンブルク・シユト ルプミユンダーシユトラーセ11

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 接着剤により両面を被覆された裏材料
    が、照射手段中で、異なる線量により両面から非対称的
    に照射される、両面接着テープの放射線架橋の方法。
  2. 【請求項２】 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ） ＥＢユニット上に設定された線量Ａ及び加速電圧
    Ａにより、組成物側上の接着剤Ａ／裏材料のサブユニッ
    トをＥＢ架橋化すること、 ｃ） 剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
    と、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
    と、並びに ｅ） ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧
    Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
    ＥＢ照射すること、（ここで、線量Ａ及び線量Ｂ及び／
    又は加速電圧Ａ及び加速電圧Ｂは異なる値を有する）か
    らなる、請求項１記載の両面接着テープの放射線架橋方
    法。
  3. 【請求項３】 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ） ＥＢユニット上に設定された線量Ａ及び加速電圧
    Ａにより、組成物側上の接着剤Ａ／裏材料のサブユニッ
    トをＥＢ架橋すること（ここで、接着剤ＡはＵＶ−及び
    ＥＢ−両架橋性であることが可能である）、 ｃ） 剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
    と、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
    と、並びに ｅ） 表面線量Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上の
    アセンブリーをＵＶ−照射すること、からなる、請求項
    １記載の両面接着テープの放射線架橋方法。
  4. 【請求項４】 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより裏材料を被覆すること、 ｂ） 照射手段中で、表面線量Ａにより接着剤Ａの付い
    た裏材料をＵＶ−照射すること（ここで、接着剤ＡはＵ
    Ｖ−及びＥＢ−両架橋性であることが可能である）、 ｃ） 剥離ライナーにより接着剤Ａをライニングするこ
    と、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
    と、並びに ｅ） ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧
    Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
    ＥＢ−照射すること、からなる、請求項１記載の両面接
    着テープの放射線架橋方法。
  5. 【請求項５】 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより剥離ライナーを被覆すること、 ｂ） ＥＢユニット上に設定された線量Ａ及び加速電圧
    Ａにより、組成物側上の接着剤Ａ／剥離ライナーのサブ
    ユニットをＥＢ架橋すること、 ｃ） 裏材料により接着剤Ａをライニングすること、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
    と、並びに ｅ） ＥＢユニット上で設定された線量Ｂ及び加速電圧
    Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
    ＥＢ−照射すること（ここで、線量Ａ及び線量Ｂ及び／
    又は加速電圧Ａ及び加速電圧Ｂは異なる値を有する）、
    からなる、請求項１記載の両面接着テープの放射線架橋
    方法。
  6. 【請求項６】 以下の段階、 ａ） 接着剤Ａにより剥離ライナーを被覆すること、 ｂ） 照射手段中で、表面線量Ａにより、接着剤Ａの付
    いた剥離ライナーをＵＶ−照射すること（ここで、接着
    剤ＡはＵＶ−及びＥＢ−両架橋性であることが可能であ
    る）、 ｃ） 裏材料により接着剤Ａをライニングすること、 ｄ） 接着剤Ｂにより裏材料の第２の面を被覆するこ
    と、並びに ｅ） ＥＢユニット上に設定された線量Ｂ及び加速電圧
    Ｂにより、接着剤組成物Ｂの暴露側上のアセンブリーを
    ＥＢ−照射することからなる、請求項１記載の両面接着
    テープの放射線架橋方法。
JP11282913A 1998-10-12 1999-10-04 組成物の層のｅｂ及びｕｖ架橋法並びに、これらの層を伴って製造された製品 Pending JP2000119604A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19846902A DE19846902A1 (de) 1998-10-12 1998-10-12 Elektronenstrahlvernetzung und UV-Vernetzung von Masseschichten sowie Produkte, die mit diesen Masseschichten hergestellt werden
DE19846902.0 1998-10-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000119604A true JP2000119604A (ja) 2000-04-25

Family

ID=7884154

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11282913A Pending JP2000119604A (ja) 1998-10-12 1999-10-04 組成物の層のｅｂ及びｕｖ架橋法並びに、これらの層を伴って製造された製品

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6485600B2 (ja)
EP (1) EP0994167B1 (ja)
JP (1) JP2000119604A (ja)
DE (2) DE19846902A1 (ja)
ES (1) ES2210935T3 (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10014563A1 (de) 2000-03-23 2001-10-04 Beiersdorf Ag Elektronenstrahl-Vernetzung von Haftklebemassen
DE10163490B4 (de) * 2001-12-21 2008-07-10 Tesa Ag Verfahren zur Vernetzung von bahnförmigem, sich auf einem Release-Liner befindlichen Material mittels Elektronenstrahlen
DE10163545A1 (de) 2001-12-21 2003-07-10 Tesa Ag Verfahren zur Vernetzung und Polymerisation von bahnförmigem Material mittels Elektronenstrahlen und/oder UV-Strahlen
DE10221092A1 (de) * 2002-05-11 2003-12-11 Tesa Ag Geschäumte Haftklebemassen
US20040034869A1 (en) * 2002-07-12 2004-02-19 Wallace Michael W. Method and system for display and manipulation of thematic segmentation in the analysis and presentation of film and video
DE10310722A1 (de) * 2003-03-10 2004-09-23 Tesa Ag Elektrisch erwärmbare Haftklebemasse
DE10337371A1 (de) * 2003-08-13 2005-07-07 Tesa Ag Biaxial verstreckte, doppelseitig klebend ausgerüstete Klebebänder und Verfahren zu deren Herstellung
DE102004033516A1 (de) * 2004-07-07 2006-02-02 Beiersdorf Ag Selbstklebendes medizinisches Produkt und dessen Herstellung
DE102004044086A1 (de) 2004-09-09 2006-03-16 Tesa Ag Thermisch vernetzte Acrylat-Hotmelts
DE102004048881A1 (de) * 2004-10-06 2006-04-13 Tesa Ag Verfahren zur Vernetzung einer Klebemasse, die sich auf einem beidseitig mit antiadhäsiven Silikonschichten ausgerüsteten Träger befindet, mittels Elektronenstrahlen
JP2006299019A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Three M Innovative Properties Co 支持基材を有しない紫外線硬化型粘着テープまたはフィルム
FR2890967A1 (fr) * 2005-09-16 2007-03-23 Rhodia Recherches & Tech Procede de preparation de revetements organiques reticules sur un support
FR2890970B1 (fr) * 2005-09-16 2008-03-14 Rhodia Recherches & Tech Procede de preparation d'un revetement silicone anti- adherent
JP4436306B2 (ja) * 2005-10-28 2010-03-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 熱伝導性シートの製造方法及びそれによる熱伝導性シート
DE102006011159A1 (de) * 2006-03-10 2007-09-13 Benecke-Kaliko Ag Verfahren zur Herstellung einer thermoplastischen Folie
DE102008025983A1 (de) 2008-05-30 2009-12-03 Tesa Se Klebeband mit viskoelastischem Polyolefinträger
SG10201509859WA (en) * 2010-12-13 2016-01-28 Sun Chemical Corp A method for applying and exposing coating or ink compositions on substrates to radiation and the product thereof
US20150336130A1 (en) * 2013-01-17 2015-11-26 Armstrong World Industries, Inc. Curing methods and products produced therefrom
CN105552089B (zh) * 2016-01-15 2018-09-07 京东方科技集团股份有限公司 基板结构及其柔性基板的贴附方法、剥离方法
US11332590B2 (en) 2019-11-28 2022-05-17 Sekisui Voltek, Llc Crosslinked polyolefin foam having large core cells
US11976175B2 (en) 2019-11-28 2024-05-07 Sekisui Voltek, Llc Split crosslinked polyolefin foam composition and method

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3920877A (en) * 1971-07-01 1975-11-18 Grace W R & Co Fully cured crosslinkable pressure sensitive adhesive materials and method of making same
JPS5956471A (ja) * 1982-09-24 1984-03-31 Nitto Electric Ind Co Ltd 両面接着テ−プの製造方法
US4820746A (en) * 1986-08-12 1989-04-11 Avery International Corporation Radiation-cured rubber-based pressure-sensitive adhesive
DE3834007A1 (de) * 1988-10-06 1990-04-12 Beiersdorf Ag Strahlenvernetzte silikonkautschuke
DE3942232A1 (de) 1989-12-21 1991-06-27 Beiersdorf Ag Schmelzhaftkleber auf acrylatbasis
US5266400A (en) * 1990-04-20 1993-11-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Low voltage electron beam radiation cured elastomer-based pressure sensitive adhesive tape
AU637208B2 (en) * 1990-04-20 1993-05-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Low voltage electron beam radiation cured elastomer-based pressure sensitive adhesive tape
DE4313008C1 (de) * 1993-04-21 1994-11-10 Beiersdorf Ag Selbstklebemasse auf Acrylathotmelt-Basis, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
JPH06306336A (ja) * 1993-04-22 1994-11-01 Sekisui Chem Co Ltd 両面粘着テープの製造方法
DE4316317C2 (de) * 1993-05-15 1996-09-05 Lohmann Gmbh & Co Kg Trägerlose Haftklebebänder mit unterschiedlicher Haftung auf beiden Seiten und Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung
US5622761A (en) * 1995-02-27 1997-04-22 Cole; Roger J. Double-sided releaseable adhesive tape or note
DE19716996C1 (de) * 1997-04-23 1998-06-04 Beiersdorf Ag Verfahren zur Herstellung eines druckempfindlichen doppelseitigen Klebebands auf Kautschukbasis
DE19757426A1 (de) * 1997-12-23 1999-07-01 Beiersdorf Ag Mehrlagiges Klebeband

Also Published As

Publication number Publication date
US6485600B2 (en) 2002-11-26
DE19846902A1 (de) 2000-05-04
EP0994167B1 (de) 2003-11-26
US20020157767A1 (en) 2002-10-31
EP0994167A3 (de) 2000-08-16
DE59907848D1 (de) 2004-01-08
EP0994167A2 (de) 2000-04-19
ES2210935T3 (es) 2004-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000119604A (ja) 組成物の層のｅｂ及びｕｖ架橋法並びに、これらの層を伴って製造された製品
US6780484B2 (en) Adhesive article and method of preparing
JP4229593B2 (ja) 低温電子ビーム重合
TWI571500B (zh) 壓敏性無基材雙面膠帶及壓敏性膠帶之製造方法
JP4436030B2 (ja) アクリル系剥離剤前駆体、剥離剤物品及び剥離剤物品の製造方法
JP6469017B2 (ja) 高度に粘着付与されたアクリレート感圧接着剤
JP2000239624A (ja) 剥離ライナ及び感圧性接着シート
JP2018523715A (ja) 転写テープ及び関連方法
JP3048666B2 (ja) 低電圧電子線硬化性エラストマーベース感圧接着テープ
CA2686965A1 (en) Method and device for the solvent-free production of acrylate adhesive masses
US20010026907A1 (en) Electron beam crosslinking of polyacrylates
JPH10121000A (ja) 粘着テープ
US20100104853A1 (en) Foam tape
JPH05179208A (ja) 両面粘着テープの製造方法
JPS63268784A (ja) 基材レス両面粘着テ−プ
JP2003253224A (ja) 両面粘着テープ
JPH0625625A (ja) 両面テープの製造方法
JP2003292917A (ja) Ｐｓａテープおよびその製造法
JPS58219283A (ja) 易剥離性粘着シ−トの製造法
JPH04325586A (ja) 粘着シートの製造方法
JPH0461947A (ja) マスキングテープ
JP2002012838A (ja) シャドウマスク保持用粘着フィルム
CN101100586A (zh) 组合物层的电子束和紫外交联以及由这些层制造的产物
JP3834709B2 (ja) 粘着テープの製造方法及び製造装置
JPS5966376A (ja) 剥離性シ−トの製造法