JP2000119219A - プロセス流の精製方法 - Google Patents
プロセス流の精製方法Info
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- JP2000119219A JP2000119219A JP11282232A JP28223299A JP2000119219A JP 2000119219 A JP2000119219 A JP 2000119219A JP 11282232 A JP11282232 A JP 11282232A JP 28223299 A JP28223299 A JP 28223299A JP 2000119219 A JP2000119219 A JP 2000119219A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
- C07C51/44—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation by distillation
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/48—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C67/52—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
- C07C67/54—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
Abstract
(57)【要約】
【課題】 副流における酢酸エチルの濃度を増大させて
追加蒸留工程による副流精製の必要性を排除もしくは削
減する。 【解決手段】 （ａ）プロセス流を蒸留カラムに導入
し、（ｂ）プロセス流を蒸留して酢酸ビニル含有フラク
ションを蒸留カラムの上端部にて得ると共に酢酸含有フ
ラクションを前記蒸留カラムの下端部にて得、（ｃ）酢
酸エチルを含む副流を蒸留カラムの中間領域から抜き取
る各工程により酢酸ビニルと酢酸と水と酢酸エチル不純
物とを含むプロセス流から酢酸エチルを除去する方法に
おいて、副流を蒸気として抜き取ることにより蒸留カラ
ムから得られる酢酸エチルの濃度は液体として副流を抜
き取ることにより得られる酢酸エチルの濃度よりも高く
なると共に、副流の１０重量％より大となる。
追加蒸留工程による副流精製の必要性を排除もしくは削
減する。 【解決手段】 （ａ）プロセス流を蒸留カラムに導入
し、（ｂ）プロセス流を蒸留して酢酸ビニル含有フラク
ションを蒸留カラムの上端部にて得ると共に酢酸含有フ
ラクションを前記蒸留カラムの下端部にて得、（ｃ）酢
酸エチルを含む副流を蒸留カラムの中間領域から抜き取
る各工程により酢酸ビニルと酢酸と水と酢酸エチル不純
物とを含むプロセス流から酢酸エチルを除去する方法に
おいて、副流を蒸気として抜き取ることにより蒸留カラ
ムから得られる酢酸エチルの濃度は液体として副流を抜
き取ることにより得られる酢酸エチルの濃度よりも高く
なると共に、副流の１０重量％より大となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酢酸ビニルを含む
プロセス流の精製方法に関するものである。
プロセス流の精製方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】酢酸ビニルは、酢酸およびエチレンを触
媒の存在下に酸素と接触させて生成させることができ
る。反応は、酢酸ビニルと水と酢酸と酢酸エチル不純物
とを含むプロセス流を生成する。これら成分は蒸留カラ
ムにて分離することができる。典型的には、酢酸ビニル
と水とからなる近共沸混合物（ｂｐ〜６６℃）を蒸留カ
ラムの頂部から除去すると共に、酢酸と水とからなる混
合物（ｂｐ１２５℃）をカラムの底部から除去する。
媒の存在下に酸素と接触させて生成させることができ
る。反応は、酢酸ビニルと水と酢酸と酢酸エチル不純物
とを含むプロセス流を生成する。これら成分は蒸留カラ
ムにて分離することができる。典型的には、酢酸ビニル
と水とからなる近共沸混合物（ｂｐ〜６６℃）を蒸留カ
ラムの頂部から除去すると共に、酢酸と水とからなる混
合物（ｂｐ１２５℃）をカラムの底部から除去する。
【０００３】中沸点成分（ｂｐ７７℃）として酢酸エチ
ル不純物はカラムの頂部と底部との間の領域に蓄積す
る。典型的な６０トレイカラムにおいて、酢酸エチルは
トレイ８とトレイ２０との間（底部トレイは１と数え
る）に顕著な濃度まで蓄積する。
ル不純物はカラムの頂部と底部との間の領域に蓄積す
る。典型的な６０トレイカラムにおいて、酢酸エチルは
トレイ８とトレイ２０との間（底部トレイは１と数え
る）に顕著な濃度まで蓄積する。
【０００４】従来、酢酸エチル不純物は副流としてカラ
ムから除去され、トレイ１０にて或いはその近傍でカラ
ムから抜き取られる。便利には、副流は液体として抜き
取られ、蒸気抜き取りに必要とされるような複雑な凝縮
装置の必要性を回避する。
ムから除去され、トレイ１０にて或いはその近傍でカラ
ムから抜き取られる。便利には、副流は液体として抜き
取られ、蒸気抜き取りに必要とされるような複雑な凝縮
装置の必要性を回避する。
【０００５】液体副流は酢酸エチルと、たとえば酢酸ビ
ニルおよび酢酸のような産業上価値ある他の成分とを含
む。副流における酢酸エチルの濃度は低く（たとえば約
２〜７モル％）、従って著量の酢酸ビニルおよび酢酸を
蒸留カラムの側部から抜き取って、精製酢酸ビニル生成
物に残留する酢酸エチルの濃度を所望の低レベル（たと
えば１０〜５００ｐｐｍ）まで低下させねばならない。
従って経済上魅力的である慣用の酢酸ビニル精製法につ
いては、副流における酢酸ビニルおよび酢酸を回収する
と共にさらに精製するためプロセスに循環させねばなら
ない。これは、副流を追加蒸留カラムに導入し、このカ
ラムを高い還流比（約１０）にて操作することにより達
成される。酢酸エチルは濃縮かつ除去され、回収された
物質はさらに処理すべく主蒸留カラムに循環される。
ニルおよび酢酸のような産業上価値ある他の成分とを含
む。副流における酢酸エチルの濃度は低く（たとえば約
２〜７モル％）、従って著量の酢酸ビニルおよび酢酸を
蒸留カラムの側部から抜き取って、精製酢酸ビニル生成
物に残留する酢酸エチルの濃度を所望の低レベル（たと
えば１０〜５００ｐｐｍ）まで低下させねばならない。
従って経済上魅力的である慣用の酢酸ビニル精製法につ
いては、副流における酢酸ビニルおよび酢酸を回収する
と共にさらに精製するためプロセスに循環させねばなら
ない。これは、副流を追加蒸留カラムに導入し、このカ
ラムを高い還流比（約１０）にて操作することにより達
成される。酢酸エチルは濃縮かつ除去され、回収された
物質はさらに処理すべく主蒸留カラムに循環される。
【０００６】追加蒸留カラムを建設および運転する経費
は、特に副流に存在する酢酸エチルを濃縮するのに要す
る高い還流比のため高くつく。
は、特に副流に存在する酢酸エチルを濃縮するのに要す
る高い還流比のため高くつく。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、副流
における酢酸エチルの濃度を増大させて追加蒸留工程に
よる副流精製の必要性を排除もしくは削減することにあ
る。
における酢酸エチルの濃度を増大させて追加蒸留工程に
よる副流精製の必要性を排除もしくは削減することにあ
る。
【０００８】この課題は、副流を蒸気相で抜き取ること
により解決される。副流を蒸気として抜き取ることによ
り、蒸留カラムから得られる酢酸エチルの濃度は副流を
液体として抜き取ることにより得られる酢酸エチルの濃
度よりも高くなることを突き止めた。
により解決される。副流を蒸気として抜き取ることによ
り、蒸留カラムから得られる酢酸エチルの濃度は副流を
液体として抜き取ることにより得られる酢酸エチルの濃
度よりも高くなることを突き止めた。
【０００９】
【課題を解決するための手段】従って本発明は、酢酸ビ
ニルと酢酸と水と酢酸エチル不純物とを含むプロセス流
から酢酸エチルを除去するに際し： （ａ）前記プロセス流を蒸留カラムに導入し、（ｂ）前
記プロセス流を蒸留して蒸留カラムの上端部で酢酸ビニ
ル含有フラクションを得ると共に前記蒸留カラムの他端
部で酢酸含有フラクションを得、（ｃ）前記酢酸エチル
不純物を副流の１０重量％より高い濃度にて含む副流を
蒸気相にて前記蒸留カラムの中間領域から抜き取る 各工程からなるプロセス流からの酢酸エチルの除去方法
を提供する。
ニルと酢酸と水と酢酸エチル不純物とを含むプロセス流
から酢酸エチルを除去するに際し： （ａ）前記プロセス流を蒸留カラムに導入し、（ｂ）前
記プロセス流を蒸留して蒸留カラムの上端部で酢酸ビニ
ル含有フラクションを得ると共に前記蒸留カラムの他端
部で酢酸含有フラクションを得、（ｃ）前記酢酸エチル
不純物を副流の１０重量％より高い濃度にて含む副流を
蒸気相にて前記蒸留カラムの中間領域から抜き取る 各工程からなるプロセス流からの酢酸エチルの除去方法
を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】好ましくは、酢酸エチル不純物を
酢酸エチルの濃度が最高値またはそれに近い蒸留カラム
の領域から抜き取られる。
酢酸エチルの濃度が最高値またはそれに近い蒸留カラム
の領域から抜き取られる。
【００１１】副流を蒸気として抜き取ることにより、従
来の液体副流で得られるよりも高い酢酸エチル濃度を有
する副流が得られる。たとえば副流をカラムから液体と
して抜き取る際には約２〜７モル％の酢酸エチル濃度が
観察されるのに対し、副流を蒸気としてカラムから抜き
取る場合は１２モル％より高い酢酸エチル濃度が観察さ
れる。酢酸エチル濃度におけるこの増加の結果として、
充分量の酢酸エチルが蒸留カラムから除去されるよう確
保すべく蒸留カラムの側部から抜き取らねばならない他
の（貴重な）プロセス物質の量は、慣用の液体抜き取り
を用いる際に必要とされる量より少なくなる。従って、
副流の更なる処理は必要でなく、副流を直接に処分する
ことができる。
来の液体副流で得られるよりも高い酢酸エチル濃度を有
する副流が得られる。たとえば副流をカラムから液体と
して抜き取る際には約２〜７モル％の酢酸エチル濃度が
観察されるのに対し、副流を蒸気としてカラムから抜き
取る場合は１２モル％より高い酢酸エチル濃度が観察さ
れる。酢酸エチル濃度におけるこの増加の結果として、
充分量の酢酸エチルが蒸留カラムから除去されるよう確
保すべく蒸留カラムの側部から抜き取らねばならない他
の（貴重な）プロセス物質の量は、慣用の液体抜き取り
を用いる際に必要とされる量より少なくなる。従って、
副流の更なる処理は必要でなく、副流を直接に処分する
ことができる。
【００１２】本発明の方法は、任意適する蒸留カラムを
用いて行うことができる。本発明は特定種類の蒸留カラ
ムを用いることに限定することを意図しないことが了解
されよう。
用いて行うことができる。本発明は特定種類の蒸留カラ
ムを用いることに限定することを意図しないことが了解
されよう。
【００１３】プロセス流および酢酸エチル不純物は、カ
ラムの頂部と底部との間に位置する入口を介し蒸留カラ
ムに導入することができる。蒸留カラムにおける条件
は、蒸留が進行するにつれて酢酸ビニルと水との近共沸
混合物がカラムの頂部にて生成されると共に酢酸と水と
がカラムの底部で生成されるよう制御することができ
る。
ラムの頂部と底部との間に位置する入口を介し蒸留カラ
ムに導入することができる。蒸留カラムにおける条件
は、蒸留が進行するにつれて酢酸ビニルと水との近共沸
混合物がカラムの頂部にて生成されると共に酢酸と水と
がカラムの底部で生成されるよう制御することができ
る。
【００１４】中間沸点成分として酢酸エチル不純物はカ
ラムの中間領域に蓄積する。たとえば６０トレイカラム
を使用する場合、酢酸エチル濃度は底部から数えてトレ
イ６〜２０の領域にて最高になる傾向を有する。本発明
において、酢酸エチルはカラムの中間トレイの１個もし
くはそれ以上、好ましくは底部から数えてトレイ６〜２
０の領域、より好ましくは６０トレイカラムの底部から
数えてトレイ８および／または９またはその近傍の領域
で蒸気副流として除去される。代案として蒸留カラムは
７２実トレイを有することができ、副流は底部から１
０、１２もしくは１４番目のトレイより抜き取ることが
できる。
ラムの中間領域に蓄積する。たとえば６０トレイカラム
を使用する場合、酢酸エチル濃度は底部から数えてトレ
イ６〜２０の領域にて最高になる傾向を有する。本発明
において、酢酸エチルはカラムの中間トレイの１個もし
くはそれ以上、好ましくは底部から数えてトレイ６〜２
０の領域、より好ましくは６０トレイカラムの底部から
数えてトレイ８および／または９またはその近傍の領域
で蒸気副流として除去される。代案として蒸留カラムは
７２実トレイを有することができ、副流は底部から１
０、１２もしくは１４番目のトレイより抜き取ることが
できる。
【００１５】副流は８０〜１２０℃、好ましくは９０〜
１１０℃、特に好ましくは９３〜１０５℃の温度にて抜
き取ることができる。しかしながら、副流を抜き取る温
度は、蒸留を行う圧力に応じて変化することが了解され
よう。好ましくは蒸留は任意適する圧力にて行われる。
１１０℃、特に好ましくは９３〜１０５℃の温度にて抜
き取ることができる。しかしながら、副流を抜き取る温
度は、蒸留を行う圧力に応じて変化することが了解され
よう。好ましくは蒸留は任意適する圧力にて行われる。
【００１６】本発明により生成される副流は１３重量％
より高い、好ましくは１９重量％より高い酢酸エチル濃
度を有することができる。
より高い、好ましくは１９重量％より高い酢酸エチル濃
度を有することができる。
【００１７】モル％で現して副流の酢酸エチル濃度は好
ましくは８モル％より高く、特に１２モル％より高い。
しかしながら、副流中に存在する酢酸エチルの正確な濃
度はプロセス流に存在する酢酸エチルの初期濃度に応じ
て変化することが了解されよう。
ましくは８モル％より高く、特に１２モル％より高い。
しかしながら、副流中に存在する酢酸エチルの正確な濃
度はプロセス流に存在する酢酸エチルの初期濃度に応じ
て変化することが了解されよう。
【００１８】本発明の方法は、酢酸ビニル製造法からの
プロセス流を精製すべく使用することができる。プロセ
ス流は酢酸ビニルと酢酸エチルと水と酢酸とを含む。さ
らにプロセス流は溶存エチレン、二酸化炭素、アセトア
ルデヒドおよび他のガス、酢酸メチル、プロピオン酸ビ
ニル、並びに重質有機化合物と腐食金属との混合物をも
含みうる。重合抑制剤もプロセス流に存在することがあ
る。
プロセス流を精製すべく使用することができる。プロセ
ス流は酢酸ビニルと酢酸エチルと水と酢酸とを含む。さ
らにプロセス流は溶存エチレン、二酸化炭素、アセトア
ルデヒドおよび他のガス、酢酸メチル、プロピオン酸ビ
ニル、並びに重質有機化合物と腐食金属との混合物をも
含みうる。重合抑制剤もプロセス流に存在することがあ
る。
【００１９】或る種の用途につき、副流の精製が必要で
ある。従って、副流を追加蒸留カラムに導入して、除去
すべく酢酸エチルを濃縮することができる。しかしなが
ら酢酸エチルの増加濃度のため、追加カラムは液相で抜
き取られる慣用の副流を精製するのに要する高い還流比
で操作する必要がない。好ましくは１０未満の還流比が
用いられる。この追加蒸留カラムから回収された物質は
再処理すべく本発明の蒸留カラムに循環することができ
る。
ある。従って、副流を追加蒸留カラムに導入して、除去
すべく酢酸エチルを濃縮することができる。しかしなが
ら酢酸エチルの増加濃度のため、追加カラムは液相で抜
き取られる慣用の副流を精製するのに要する高い還流比
で操作する必要がない。好ましくは１０未満の還流比が
用いられる。この追加蒸留カラムから回収された物質は
再処理すべく本発明の蒸留カラムに循環することができ
る。
【００２０】副流は、凝縮させると２つの液相：すなわ
ち水リッチな水相および酢酸エチルリッチな有機相を形
成することができ、これらを分離しうることが判明し
た。酢酸は、副流からのその回収を支援しうる水相に分
配する傾向を有する。酢酸ビニルは有機相に分配する傾
向を有する。
ち水リッチな水相および酢酸エチルリッチな有機相を形
成することができ、これらを分離しうることが判明し
た。酢酸は、副流からのその回収を支援しうる水相に分
配する傾向を有する。酢酸ビニルは有機相に分配する傾
向を有する。
【００２１】
【実施例】以下、実施例を参照して本発明を具体例につ
きさらに説明する。
きさらに説明する。
【００２２】この実施例は、本発明の具体例により行っ
た方法のコンピュータシミュレーションである。この実
施例は、蒸留カラムで遭遇する条件をシミュレートす
る。シミュレーションは順次に底部から上方向に数えて
４３理論段数にてモデル化される。シミュレーションは
１．１ｂａｒａの蒸留カラムの頂部における圧力で行っ
た。
た方法のコンピュータシミュレーションである。この実
施例は、蒸留カラムで遭遇する条件をシミュレートす
る。シミュレーションは順次に底部から上方向に数えて
４３理論段数にてモデル化される。シミュレーションは
１．１ｂａｒａの蒸留カラムの頂部における圧力で行っ
た。
【００２３】２種の供給流（少プロセス循環流（１）お
よびプロセス循環流（２））を段階４２にて蒸留カラム
に導入し、３種の供給流（粗酢酸ビニル含有供給流
（３）、プロセス循環流（４）およびプロセス循環流
（５））を段階２５にて蒸留カラムに導入する。
よびプロセス循環流（２））を段階４２にて蒸留カラム
に導入し、３種の供給流（粗酢酸ビニル含有供給流
（３）、プロセス循環流（４）およびプロセス循環流
（５））を段階２５にて蒸留カラムに導入する。
【００２４】蒸留にて供給流の各成分を分離すると共
に、カラムに沿った各種の位置から回収する。酢酸ビニ
ルと水の近共沸混合物をカラムの頂部にて形成させると
共に、主として酢酸と水とよりなる混合物をカラムの底
部から回収する。
に、カラムに沿った各種の位置から回収する。酢酸ビニ
ルと水の近共沸混合物をカラムの頂部にて形成させると
共に、主として酢酸と水とよりなる混合物をカラムの底
部から回収する。
【００２５】凝縮器を通過した際の蒸留カラムからの頭
上物は凝縮物を形成すると思われ、これは２つの液相と
排気ガスとを形成する。液相の一方（有機相）を部分的
に還流物としてカラムの頂部に戻し（流れ６）、有機相
の残部を第２液相（水相）と一緒に４９８．６２５ｋｇ
／ｈｒの速度で抜き取る。
上物は凝縮物を形成すると思われ、これは２つの液相と
排気ガスとを形成する。液相の一方（有機相）を部分的
に還流物としてカラムの頂部に戻し（流れ６）、有機相
の残部を第２液相（水相）と一緒に４９８．６２５ｋｇ
／ｈｒの速度で抜き取る。
【００２６】レボイラー蒸気の部分縮合も含ませて、３
３３．２６０ｋｇ／ｈｒの抜き取りを段階１より下でお
こなった。
３３．２６０ｋｇ／ｈｒの抜き取りを段階１より下でお
こなった。
【００２７】各流れの組成を下表１に示す。
【００２８】中間沸点成分として酢酸エチルはカラムの
中間領域に蓄積する。酢酸エチルを段階No．７からの流
出流としてカラムの側部から除去する。流出流は蒸気相
にて抜き取り、その特性を下表２に示す。
中間領域に蓄積する。酢酸エチルを段階No．７からの流
出流としてカラムの側部から除去する。流出流は蒸気相
にて抜き取り、その特性を下表２に示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】比較例 上記実施例の手順を反復したが、ただしトレイNo．７か
らの流出流を液相にて抜き取る。この液体流出流の特性
を下表２に示す。
らの流出流を液相にて抜き取る。この液体流出流の特性
を下表２に示す。
【００３１】
【表２】
【００３２】上記表２から見られるように、実施例の流
出流における酢酸エチルの濃度は比較例における酢酸エ
チルの濃度よりも高い。したがって、流出流を液体でな
く蒸気として抜き取れば、より高濃度の酢酸エチルを蒸
留カラムから抜き取ることができる。
出流における酢酸エチルの濃度は比較例における酢酸エ
チルの濃度よりも高い。したがって、流出流を液体でな
く蒸気として抜き取れば、より高濃度の酢酸エチルを蒸
留カラムから抜き取ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マイケル ピーター カー イギリス国、ティーエス17 ０ワイキュ ー、ストックトン、イングルビー バリッ ク、ローワラン ガーデンズ 18 (72)発明者 ロバート ウィリアム クラーク イギリス国、ワイオー25 ８エスキュー、 イースト ライディング オブ ヨークシ ャー、ドリフィールド、ブランデスバート ン、ハイマーズ クロース 28 (72)発明者 サイモン ジェームズ キッチン イギリス国、エルエス25 ５エイチジー、 ノース ヨークシャー、ヒラム、メイン ストリート、ヒルサイド ハウス（番地な し)
Claims (12)
- 【請求項１】 酢酸ビニルと酢酸と水と酢酸エチル不純
物とを含むプロセス流から酢酸エチルを除去するに際
し： （ａ）前記プロセス流を蒸留カラムに導入し、（ｂ）前
記プロセス流を蒸留して蒸留カラムの上端部で酢酸ビニ
ル含有フラクションを得ると共に、前記蒸留カラムの下
端部で酢酸含有フラクションを得、（ｃ）前記酢酸エチ
ル不純物を副流の１０重量％より高い濃度にて含む副流
を蒸気相にて前記蒸留カラムの中間領域から抜き取るこ
とを特徴とするプロセス流からの酢酸エチルの除去方
法。 - 【請求項２】 副流が１３重量％より高い酢酸エチル濃
度を有する請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 副流が１９重量％より高い酢酸エチル濃
度を有する請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 副流が８モル％より高い酢酸エチル濃度
を有する請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】 副流が１２モル％より高い酢酸エチル濃
度を有する請求項１に記載の方法。 - 【請求項６】 蒸留カラムが６０個のトレイを有すると
共に副流を底部から数えてトレイ６〜２０の領域で抜き
取る請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項７】 副流を底部から数えて８および／または
９番目のトレイの１個もしくはそれ以上から、またはト
レイ８および／または９の近くで抜き取る請求項６に記
載の方法。 - 【請求項８】 蒸留カラムが７２個の実トレイを有する
と共に、副流を底部から１０、１２もしくは１４番目の
トレイから抜き取る請求項１〜５のいずれか一項に記載
の方法。 - 【請求項９】 抜き取られた副流を追加蒸留カラムに導
入して酢酸エチルを濃縮する請求項１〜８のいずれか一
項に記載の方法。 - 【請求項１０】 追加蒸留カラムを１０未満の還流比に
て操作する請求項９に記載の方法。 - 【請求項１１】 抜き取られた副流を凝縮させて水リッ
チ相と酢酸エチルリッチ相とを成形させ、これらを分離
する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１２】 酢酸およびエチレンを触媒の存在下に
酸素と接触させて、酢酸ビニルと水と酢酸と酢酸エチル
不純物とを含む生成物流を生成させる酢酸ビニルの製造
方法において、酢酸エチル不純物を生成物流から請求項
１〜１１のいずれか一項に記載の方法により除去するこ
とを特徴とする酢酸ビニルの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9821970.2 | 1998-10-08 | ||
| GBGB9821970.2A GB9821970D0 (en) | 1998-10-08 | 1998-10-08 | Process for purifying a process system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000119219A true JP2000119219A (ja) | 2000-04-25 |
Family
ID=10840227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11282232A Pending JP2000119219A (ja) | 1998-10-08 | 1999-10-04 | プロセス流の精製方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0992483A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000119219A (ja) |
| KR (1) | KR20000028897A (ja) |
| CN (1) | CN1259511A (ja) |
| BR (1) | BR9904451A (ja) |
| GB (1) | GB9821970D0 (ja) |
| ID (1) | ID23349A (ja) |
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