JP2000100910A - 基板リフター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板処理に際し、基板保持部材の長手方向の
端に保持された基板の両面に対する処理液の流れが不均
一になることを防止できる基板リフターを提供する。 【解決手段】 ３本の基板保持部材１の長手方向一端側
に昇降用支持部材２を一体連接し、他端側に連結部材３
を一体連結して基板リフター４を構成する。基板保持部
材１には、基板５を立姿勢で嵌入保持する基板保持溝６
を長手方向に所定ピッチで形成する。基板保持部材１の
昇降用支持部材２側および連結部材３側に、その端部の
基板保持溝６から、基板保持溝６の配設間隔と等しい間
隔を隔てた位置に、基板５と同一厚みで同形状の第１お
よび第３の乱流防止板８ａ，１０を設け、基板５の処理
時に、基板保持部材１の両端に保持される基板５の両面
で処理液が均一に流れるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶用のガラス基板やマスクやフォトマスクなどの電子部
品製造用の基板の多数枚を保持し、それらの基板を、純
水やエッチング液などの処理液中に浸漬して処理する際
に用いる基板リフターに関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板リフターは、基板を立姿勢
で嵌入保持する基板保持溝を長手方向に所定間隔を隔て
て配設した基板保持部材の長手方向の一端側に昇降用支
持部材を一体的に取り付けて構成されている。そして、
昇降用支持部材に昇降装置を連動連結し、基板保持部材
に多数枚の基板を保持させ、それを槽本体内の基板処理
位置に下降し、基板の表面に処理液を供給して浸漬処理
する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
取り扱いやすさなどの面から、基板保持部材の長手方向
一端側に保持される基板の板面とそれに対向する昇降用
支持部材との対向距離が、隣り合う基板の板面が対向す
る基板対向距離に比べて大きくなるように構成されてい
る。

【０００４】また、基板保持部材の長手方向の他端と、
それに最も近い位置に形成される基板保持溝との距離も
隣り合う基板の板面が対向する基板対向距離に比べて大
に設定されている。

【０００５】その結果、基板保持部材を基板処理槽の槽
本体内に納めて基板を処理するときに、基板保持部材の
長手方向一端側に保持される基板の板面とそれに対向す
る昇降用支持部材との対向距離、および、槽本体の内側
壁面との距離のいずれもが、隣り合う基板の板面が対向
する基板対向距離に比べて大きくなる。

【０００６】このため、基板処理槽の下部より上向きに
供給される処理槽の流れは、基板保持部材の長手方向両
端それぞれに保持される基板において、基板と隣合う側
を流れる処理液の流れのレイノルズ数よりも、反対側を
流れる処理液の流れのレイノルズ数の方が大きくなって
乱流を生じやすくなり、基板保持部材の長手方向両端そ
れぞれに保持された基板の両面での処理液の流れが不均
一になる欠点があった。また、処理液の流れの不均一に
起因して、処理槽内に汚染の蓄積を生じやすい欠点があ
った。

【０００７】更に、処理槽を空にせず、異種の処理液を
供給することにより、槽内の処理液を異種類のものに置
換していく場合に、基板保持部材の長手方向両端それぞ
れに保持された基板の両面での処理液の流れの不均一に
起因して、隣り合う基板間の処理液を置換しづらくな
り、処理液の置換に時間を要し、処理効率が低下する欠
点があった。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板処理に際し、基板保持部材の長手
方向の端に保持された基板の両面に対する処理液の流れ
が不均一になることを防止できる基板リフターを提供す
ることを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板を立姿勢で嵌入保持
する基板保持溝を長手方向に所定間隔を隔てて配設した
基板保持部材と、前記基板保持部材の長手方向の一端側
に設けられた昇降用支持部材と、を備えた基板リフター
において、前記基板保持部材の基板配列方向の端の基板
保持溝から、前記基板保持溝の配設間隔と等しい間隔を
隔てた位置に、前記基板と同形状の乱流防止板を前記基
板保持部材に設けたことを特徴としている。

【００１０】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の基板リフターにおいて、乱流防止板を前記基板
保持部材に着脱可能に設けるものである。

【００１１】また、請求項３に記載の発明は、請求項１
または請求項２に記載の基板リフターにおいて、乱流防
止板を前記基板と同質の材料で形成するものである。

【００１２】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、
請求項１に記載の発明は、基板を保持した基板保持部材
を槽本体内に納めて処理するときに、基板保持部材の長
手方向の端に保持された基板から、隣り合う基板の間隔
と等しい間隔を隔てた位置に、基板と同形状の乱流防止
板を対向させる。これにより、隣合った基板との対向距
離と、基板と乱流防止板との対向距離とを等しくし、そ
れぞれの間を流れる処理液の流れのレイノルズ数を同じ
にして、処理液を均一に流す。

【００１３】また、請求項２に記載の発明は、基板保持
部材に基板を保持させたり、基板保持部材から基板を取
り出したりするときには、乱流防止板を取り外してお
き、乱流防止板に邪魔されずに、基板の保持・取り出し
作業を行えるようにする。

【００１４】また、請求項３に記載の発明は、乱流防止
板を基板と同質にして、処理する処理液と適合させる。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例を図面を用
いて詳細に説明する。図１は、本発明に係る基板リフタ
ーの第１実施例を示す全体斜視図、図２は一部切欠全体
正面図であり、３本の基板保持部材１の長手方向一端側
に昇降用支持部材２が一体連接されるとともに、基板保
持部材１の長手方向他端側が連結部材３により一体連結
されて基板リフター４が構成されている。

【００１６】基板保持部材１には、基板５（図３参照）
を立姿勢で嵌入保持する基板保持溝６が長手方向に所定
ピッチで形成されている。昇降用支持部材４の上端側
は、ネジ止めにより昇降装置７に連動連結され、基板保
持部材１を昇降するようになっている。

【００１７】基板保持部材１の基板配列方向の昇降用支
持部材２側の端部の基板保持溝６に対して、基板保持溝
６の配設間隔と等しい間隔を隔てた位置に、基板５と同
一厚みで同形状の第１の乱流防止板８ａが基板保持部材
１に一体連接され、更に、第１の乱流防止板８ａと昇降
用支持部材２との間隔の半分となる中間位置でかつ基板
保持溝６の配設間隔と等しい間隔を隔てた位置に、基板
５と同一厚みで同形状の第２の乱流防止板８が基板保持
部材１に一体連接されている。

【００１８】また、基板保持部材１の基板配列方向の連
結部材３側の端部の基板保持溝６に対して、基板保持溝
６の配設間隔と等しい間隔づつ隔てた２か所に、第１お
よび第２の保持溝９，９ａが形成され、その第１および
第２の保持溝９，９ａに、基板５と同一厚みで同形状の
第３および第４の乱流防止板１０，１０ａが着脱可能に
保持されている。図２では、第３および第４の乱流防止
板１０，１０ａを第１および第２の保持溝９，９ａに嵌
入する前の状態で浮かして示している。

【００１９】第１および第２の乱流防止板８ａ，８それ
ぞれは基板保持部材１と一体で、石英で形成されてい
る。また、第３および第４の乱流防止板１０，１０ａそ
れぞれも石英で形成されている。

【００２０】昇降用支持部材２には、基板５の上端縁に
沿った円弧面を有する開口１１が形成されている。

【００２１】次に、上記基板リフター４の適用例につい
て説明する。図３は、基板処理槽を示す一部切欠正面
図、図４は図３の断面側面図であり、昇降装置７が槽本
体１２の外側に設置され、基板保持部材１を槽本体１２
内の基板処理位置と槽本体１２上方の基板取り出し位置
とに昇降し、基板５を槽本体１２内に収納するとともに
処理後の基板５を槽本体１２から取り出す。

【００２２】槽本体１２内には、その底部の両側それぞ
れに、石英二重管で構成した、槽本体１２内に処理液を
供給する処理液供給部１３が設けられ、この処理液供給
部１３に処理液供給管１４が接続されている。処理液供
給管１４には、その上流側での切り換え構成により、エ
ッチング液などの薬液や純水を処理液として選択して供
給できるようになっている。

【００２３】槽本体１２の上端縁の周囲を囲むようにオ
ーバーフロー槽１５が設けられ、槽本体１２からオーバ
ーフローされる処理液を受け止めて排出するように構成
されている。

【００２４】基板処理位置に位置させた状態で、昇降用
支持部材２の板面とそれに対向する槽本体１２の内側壁
面との対向距離Ｓ１が、基板保持部材１に保持された隣
合う基板５の対向面間距離Ｓに等しい距離に設定されて
いる。

【００２５】また、基板保持部材１を基板処理位置に位
置させた状態で、第４の乱流防止板１０ａの板面とそれ
に対向する槽本体１２の内側壁面との距離Ｓ２が、基板
５の対向面間距離Ｓに等しくなるように設定されてい
る。

【００２６】このような昇降装置７と基板リフター４と
槽本体１２との設置構成により、基板保持部材１を基板
処理位置に位置させた状態で、昇降用支持部材２の板面
とそれに対向する槽本体１２の内側壁面との対向距離Ｓ
１、第４の乱流防止板１０ａの板面とそれに対向する槽
本体１２の内側壁面との距離Ｓ２、昇降用支持部材２の
板面と第２の乱流防止板８の板面との距離Ｓ３、第２の
乱流防止板８の板面と第１の乱流防止板８ａの板面との
距離Ｓ４、第１の乱流防止板８ａの板面とそれに対向す
る基板５の板面との距離Ｓ５、第３の乱流防止板１０の
板面とそれに対向する基板５の板面との距離Ｓ６、第３
の乱流防止板１０の板面と第４の乱流防止板１０ａの板
面との距離Ｓ７のいずれもが、基板５の対向面間距離Ｓ
に等しくなる。

【００２７】したがって、昇降用支持部材２とそれに対
向する槽本体１２の内側壁面との間、昇降用支持部材２
と第２の乱流防止板８間、第１および第２の乱流防止板
８ａ，８間、第１の乱流防止板８ａとそれに対向する基
板５間、第３の乱流防止板１０の板面とそれに対向する
基板５間、第３および第４の乱流防止板１０，１０ａ
間、および、第４の乱流防止板１０ａとそれに対向する
槽本体１２の内側壁面との間それぞれでの処理液の流れ
のレイノルズ数が、隣り合う基板５間の処理液の流れの
レイノルズ数と同じになる。

【００２８】このため、乱流の影響を受けて、基板５の
両面に対する処理液の流れに差を生じることを回避し、
処理液供給部１３からの処理液を槽本体１２内全体に均
一に供給できる。

【００２９】図５は、本発明に係る基板リフターの第２
実施例を示す一部切欠全体正面図であり、第１実施例と
異なるところは次の通りである。

【００３０】すなわち、第３および第４の乱流防止板１
０，１０ａが基板保持部材１に一体連接されている。他
の構成は第１実施例と同じであり、同一図番を付すこと
により、その説明は省略する。

【００３１】本発明の基板リフターを適用する基板処理
槽の槽本体１２としては、上述のような、底部の両側に
設けた処理液供給部１３から処理液を供給できるように
構成したものに限らず、図６の断面側面図に示すような
構成のものを用いても良い。

【００３２】すなわち、槽本体２１内の下部に、連通孔
を多数分散形成したパンチングプレート２２が設けら
れ、そのパンチングプレート２２の下方に、処理液を水
平方向に供給する供給ノズル２３が設けられている。

【００３３】これにより、パンチングプレート２２の下
方空間に供給された処理液を、連通孔を通じて均一な流
れとして基板２４に供給できる。基板２４を保持する構
成や槽本体２１の大きさは、第１実施例で説明したもの
と同じに構成されるものであり、図４におけると同じ番
号を付してその説明は省略する。

【００３４】第１実施例における第１および第２の乱流
防止板８ａ，８や、第３および第４の乱流防止板１０，
１０ａとしては、基板と同材質のシリコン単結晶材、Ｐ
ＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）材とかポリ塩化
ビニルで形成するとか、あるいは、ステンレス製の芯材
をポリテレフタレートエチレンで被覆して形成するな
ど、各種の構成が採用できる。

【００３５】上記実施例において、第１および第２の乱
流防止板８ａ，８を、基板保持部材１に着脱できるよう
に構成しても良く、その場合の第１および第２の乱流防
止板８ａ，８としても、第３および第４の乱流防止板１
０，１０ａと同様に各種の構成が採用できる。

【００３６】上記実施例では、基板保持部材１の長手方
向両端それぞれに２枚づつの乱流防止板８ａ，８、１
０，１０ａを設けているが、本発明としては、第２およ
び第４の乱流防止板８，１０ａを設けずに、基板保持部
材１の長手方向両端に設けられた、基板５を保持する基
板保持溝６に対して、基板保持溝６の配設間隔と等しい
間隔を隔てた位置に、１枚だけ設けるように構成するも
のでも良い。

【００３７】本発明の基板リフターとしては、上記基板
リフター４に昇降装置７を一体的に取り付けたものをも
含む。

【００３８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、基板を保持した基板保持部材
を槽本体内に納めて処理するときに、隣合った基板との
対向距離と、基板と乱流防止板との対向距離とを等しく
し、それぞれの間を流れる処理液の流れのレイノルズ数
を同じにできるから、基板保持部材の長手方向の端に保
持された基板において、その両面に対する処理液の流れ
に差を生じることを回避でき、槽本体内全体に処理液を
均一に供給できる。このため、不均一な流れに起因する
汚染の蓄積を防止できて処理品質を向上できる。また、
異種の処理液に置換する場合でも、槽本体内全体で同時
的に置換でき、置換を迅速に行えて処理効率を向上させ
ることができる。

【００３９】また、請求項２に記載の発明によれば、基
板保持部材に対する基板の保持・取り出し作業を、乱流
防止板に邪魔されずに容易に行えるから、処理効率を向
上できる。

【００４０】また、請求項３に記載の発明によれば、乱
流防止板を基板と同質にするから、処理する処理液が変
わっても、その処理液と乱流防止板との適合性を考慮せ
ずに済み、実用上便利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板リフターの第１実施例を示す
全体斜視図である。

【図２】第１実施例の一部切欠全体正面図である。

【図３】本発明の基板リフターを適用する基板処理槽を
示す一部切欠正面図である。

【図４】図３の断面側面図である。

【図５】第２実施例を示す一部切欠正面図である。

【図６】槽本体および処理液供給構成の変形例の断面側
面図である。

【符号の説明】

１…基板保持部材 ２…昇降用支持部材 ４…基板リフター ５…基板 ６…基板保持溝 ８ａ…第１の乱流防止板 ８…第２の乱流防止板 １０…第３の乱流防止板 １０ａ…第４の乱流防止板

フロントページの続き (72)発明者 徳利 憲太郎 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１ 大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB08 BB04 BB87 BB93 CB12 5F031 AA02 AA10 BB01 BB09 EE01 EE03 EE11 KK02 KK06

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を立姿勢で嵌入保持する基板保持溝
   を長手方向に所定間隔を隔てて配設した基板保持部材
   と、 前記基板保持部材の長手方向の一端側に設けられた昇降
   用支持部材と、 を備えた基板リフターにおいて、 前記基板保持部材の基板配列方向の端の基板保持溝か
   ら、前記基板保持溝の配設間隔と等しい間隔を隔てた位
   置に、前記基板と同形状の乱流防止板を前記基板保持部
   材に設けたことを特徴とする基板リフター。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板リフターにおい
   て、 乱流防止板が前記基板保持部材に着脱可能に設けられる
   ものである基板リフター。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の基板リ
   フターにおいて、 乱流防止板が前記基板と同質の材料で形成されたもので
   ある基板リフター。