JP2000091487A - リードピンの部分めっき方法 - Google Patents
リードピンの部分めっき方法Info
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Abstract
き面を正確に形成できるリードピンの部分めっき方法を
提供する。 【解決手段】 最初にリードピン10は、その表面全体
がめっき加工され、金属皮膜12が形成される。次に、
めっき加工したリードピン10の一端を、ゲル状部材1
4によって被覆する。その状態で、ゲル状部材14の外
側に露出したリードピン10の所望のめっき面部分16
に、金属皮膜剥離剤18を作用させて、このめっき面部
分16の金属皮膜12を剥離する。このようにして、リ
ードピン10の表面の所望位置に金属皮膜12のめっき
面が形成され、それらめっき面の間に、リードピン10
の素材表面20が環状に露出形成される。最初に多層め
っきを施した場合は、リードピン10の所望位置に下層
のめっき面20が露出形成される。
Description
関し、特に、半導体パッケージ等の電子部品に使用可能
なリードピンの表面に部分的なめっき面を形成するため
のリードピンの部分めっき方法に関する。
れるリードピンにおいて、リードピンの表面全体をめっ
き加工することは周知である。特に、リードピンでは種
々の特性が要求されるので、異なる金属皮膜を順次積層
する多層めっきを施すことが一般的である。そのような
多層めっきの1つとして、ニッケルの下地層の上に金の
最外層を被着したものが知られている。
ードピンは、複数の半導体チップを1つの基板に搭載し
たマルチチップモジュールと称する半導体パッケージで
好適に使用できる。この場合、リードピンは通常その一
端で、金/すず合金のはんだを用いてモジュール基板の
表面に固定される。ところで従来、マルチチップモジュ
ールは、アレイ状に配置した多数のリードピンを介して
回路基板に表面実装されるが、チップの交換等の補修を
行う必要が生じたときには、マルチチップモジュール全
体を回路基板から取外した状態で補修作業を行ってい
る。このようなモジュールの取外しを容易にするため
に、リードピンはその他端で、金/すず合金よりも融点
の低いすず/鉛合金のはんだを用いて回路基板に実装さ
れる。そして、リードピンに熱を加えてすず/鉛はんだ
のみを溶融させることにより、モジュールの取外しを可
能にしている。
に接続しているすず/鉛はんだを溶融させると、溶融し
たすず/鉛合金がリードピンの金めっき面上を流れて、
リードピンをモジュール基板に接続している金/すずは
んだまで到達する場合がある。そのため、1つのマルチ
チップモジュールに対し、補修作業が複数回に及んでモ
ジュールの取外しが繰り返されると、金/すず合金にす
ず/鉛合金が混入して、金/すずはんだの融点を低下さ
せてしまう危惧がある。金/すずはんだの融点が低下す
ると、次の補修作業に際し、すず/鉛はんだだけでなく
金/すずはんだまでが溶融して、リードピンがモジュー
ル基板から脱落してしまう問題が生じる。
するためには、リードピンの両端のはんだの間の金めっ
き部分に、溶融したすず/鉛合金の流動を阻止する手段
を設ければよい。そのような手段としては、はんだ間の
金めっき部分に、所望長さだけ金の最外層を有しない環
状のニッケル下地面部分又はリードピン素材面部分を形
成することが有効である。ニッケル下地面又はリードピ
ン素材面は、金めっき面に比較して酸化し易く、それに
よりはんだ濡れ性が劣化するので、溶融したすず/鉛合
金の流動を環状のニッケル下地面部分又はリードピン素
材面部分で阻止することができる。
リードピン素材面部分をリードピンのはんだ間の金めっ
き部分に形成するには、例えば、リードピンの両端部分
のみに個別にめっきを施す方法や、はんだ間の金めっき
部分を表面研磨して金めっき層を剥離する方法が考えら
れる。しかし、いずれの方法も、マルチチップモジュー
ル用のリードピンのような微細なリードピンに正確に施
すことは困難であり、大量生産にも不向きである。
表面の所望位置に部分的なめっき面を正確に形成できる
リードピンの部分めっき方法を提供することにある。本
発明の他の目的は、大量生産に容易に対応できるリード
ピンの部分めっき方法を提供することにある。本発明の
さらに他の目的は、マルチチップモジュール用のリード
ピンの製造に好適に使用できるリードピンの部分めっき
方法を提供することにある。
に、請求項1に記載の発明は、リードピンの表面に部分
的なめっき面を形成する方法であって、リードピンの表
面全体をめっき加工し、めっき加工したリードピンの一
端をゲル状部材によって被覆し、ゲル状部材の外側に露
出したリードピンのめっき面部分に金属皮膜剥離剤を作
用させて、めっき面部分の金属皮膜を剥離することを特
徴とするリードピンの部分めっき方法を提供する。
のリードピンの部分めっき方法において、リードピンの
表面全体に、異なる金属皮膜を積層してなる多層めっき
を施し、多層めっきの最外層の金属皮膜を金属皮膜剥離
剤によって剥離する部分めっき方法を提供する。請求項
3に記載の発明は、請求項2に記載のリードピンの部分
めっき方法において、多層めっきが、ニッケルの下地層
と金の最外層とを備える部分めっき方法を提供する。
いずれか1項に記載のリードピンの部分めっき方法にお
いて、リードピンの他端に膨出部分を形成し、膨出部分
を支持しつつ一端をゲル状部材に埋め込む部分めっき方
法を提供する。請求項5に記載の発明は、請求項4に記
載のリードピンの部分めっき方法において、膨出部分が
はんだボールからなる部分めっき方法を提供する。
に記載のリードピンの部分めっき方法において、複数の
孔を有した支持板を用意し、支持板の複数の孔の各々に
リードピンを挿入して孔の縁部で膨出部分を支持し、複
数のリードピンのめっき面部分に同時に金属皮膜剥離剤
を作用させる部分めっき方法を提供する。請求項7に記
載の発明は、請求項6に記載のリードピンの部分めっき
方法において、支持板に撥水処理を施し、支持板とゲル
状部材との間に位置するリードピンのめっき面部分の金
属皮膜を剥離する部分めっき方法を提供する。
のリードピンの部分めっき方法において、撥水処理がポ
リテトラフルオロエチレン含有ニッケルめっき皮膜から
なる部分めっき方法を提供する。請求項9に記載の発明
は、請求項1〜8のいずれか1項に記載のリードピンの
部分めっき方法において、リードピンのめっき面部分を
金属皮膜剥離剤に浸漬した状態で振動を加えながら金属
皮膜を剥離する部分めっき方法を提供する。請求項10
に記載の発明は、請求項1〜9のいずれか1項に記載の
リードピンの部分めっき方法において、ゲル状部材が紙
粘土からなる部分めっき方法を提供する。
明をその実施形態に基づき詳細に説明する。まず図1を
参照して、本発明に係るリードピンの部分めっき方法を
概念的に説明する。最初にリードピン10は、その表面
全体がめっき加工され、金属皮膜12が形成される。次
に、めっき加工したリードピン10の一端を、ゲル状部
材14によって被覆する。その状態で、ゲル状部材14
の外側に露出したリードピン10の所望のめっき面部分
16に、金属皮膜剥離剤18を作用させて、このめっき
面部分16の金属皮膜12を剥離する。このようにし
て、リードピン10の表面の所望位置(図ではリードピ
ン10の両端)に金属皮膜12のめっき面が形成され、
それらめっき面の間にリードピン10の素材表面20が
環状に露出する。
に多層のめっき加工を施した場合には、最外層の金属皮
膜12に適合する金属皮膜剥離剤18を用いることによ
り、最外層の金属皮膜12のみを剥離する。それによ
り、リードピン10の両端に金属皮膜12のめっき面が
形成されるとともに、それらめっき面の間に下層(例え
ば下地層)のめっき面20が環状に露出形成されること
になる。
リードピンの部分めっき方法を実施するための部分めっ
き加工装置を示す。この実施形態では、最初にリードピ
ン30は、その表面全体に、ニッケルの下地層と金の最
外層とからなる多層めっきが施される。またリードピン
30の一端には、金/すず合金からなるはんだボール3
2が取付けられる(図2(b)参照)。次に、一面に複
数の貫通孔34を有した支持板36を用意し、支持板3
6上に複数のリードピン30を載せる(図2(a))。
その状態で支持板36に振動を加えることにより、支持
板36の複数の貫通孔34の各々にリードピン30を自
動的に挿入して、各孔34の縁部で各リードピン30の
はんだボール32の根元を支持する(図2(b))。
属板や種々のプラスチック板を使用できる。特に、複数
のリードピン30の所望位置に正確に所望のめっき面を
形成するために、支持板36が少なくともそれら複数の
リードピン30を支持した状態で実質的に撓まない程度
を剛性を有することが好ましい。また同様の理由で、後
述するように支持板36の表面に撥水処理を施すことが
有利である。
材40を一杯に充填し、その上面をへら42で平坦化す
る(図3(a)、(b))。ゲル状部材40としては、
寒天、こんにゃく、紙粘土、ゴム粘土等、ゲル状の性質
を呈し得る種々の材料を使用できるが、特に後述するよ
うに、油分を含まないもの、液体(金属皮膜剥離剤)が
浸透し難いものが有利である。
持板36を、スペーサ44を介して槽38の上端に載せ
る。このとき、複数のリードピン30のはんだボール3
2に抑え板46を載せて荷重を加え、リードピン30の
浮き上がりを防止しながら、それらリードピン30の先
端をゲル状部材40に埋め込む(図4)。支持板36の
下面とゲル状部材40の上面との間の距離は、リードピ
ン30の最外層の金皮膜を剥離する部分の長さに相当
し、スペーサ44の厚みに応じて決まる。
との間の空間に、金皮膜を剥離可能な液状の金属皮膜剥
離剤48を浸入させ、その空間に位置する複数のリード
ピン30の金めっき面部分50に同時に金属皮膜剥離剤
48を作用させて金皮膜を剥離する。このとき、それら
リードピン30の金めっき面部分50を金属皮膜剥離剤
48に浸漬した状態で、支持板36に振動を加えること
により、金属皮膜剥離剤48内の気泡や局所的な空気溜
まりを排除しながら、金皮膜を剥離することが望まし
い。
のリードピン30の各々において、はんだボール32の
隣接部分とはんだボール32から離れた先端部分とのそ
れぞれに環状ないし筒状の金めっき面52が形成される
とともに、それら金めっき面52の間の所望位置に正確
に、下地層のニッケルめっき面54が環状に露出形成さ
れる。
たリードピン30は、例えば図6(a)、(b)に例示
するマルチチップモジュール60において、アレイ状に
立設される多数のリードピンとして使用できる。この場
合、各リードピン30は、金/すず合金のはんだボール
32が溶融したフェレット32aを介してマルチチップ
モジュール60のモジュール基板62に固定される。ま
たマルチチップモジュール60は、図7に示すように、
各リードピン30の先端の金めっき面52の部分で、す
ず/鉛合金のはんだ66を介して回路基板68に実装さ
れる。補修のためにマルチチップモジュール60を回路
基板68から取外すときには、例えば回路基板68側か
ら各リードピン30に、すず/鉛はんだ66のみを溶融
可能な熱を加える。このとき、溶融したすず/鉛合金
は、はんだ濡れ性に劣るニッケルめっき面54の存在に
より、各リードピン30上での軸方向の流動を阻止され
る。その結果、各リードピン30をモジュール基板62
に接続している金/すずフェレット32aの融点が低下
する課題が解決されるので、補修作業を繰り返し実施し
ても、リードピン30がモジュール基板から脱落してし
まう危惧はない。
が、本発明はこれに限定されるものでなく、様々な変形
が可能である。例えば上記実施形態においては、微細な
リードピンの中間部の金属皮膜部分を剥離する手順を説
明したが、リードピンの一端をゲル状部材に埋め込んで
マスキングする上記手法によって、リードピンの他端ま
で含めた部分の金属皮膜を剥離できることは明らかであ
る。また上記実施形態では、多層めっきの最外層である
金皮膜の剥離について述べたが、単層めっきの金属皮膜
の剥離や、パラジウム、すず、インジウム、銀−すず−
インジウム合金等の金以外の金属皮膜の剥離に関して
も、それらに適合する金属皮膜剥離剤を使用することに
より、本発明を適用可能なことは言うまでもない。
めに、本願発明者らが行った実験の結果を幾つかの実施
例として説明する。一般にマルチチップモジュール用の
リードピンは、線径0.2〜0.5mm、長さ3〜10mm
で、その一端に直径0.4〜0.7mmのはんだボールを
備えた状態で製品化される。またリードピン表面には、
1〜3μmのニッケルの下地層と約1.0μmの金の最
外層とからなる多層めっきが施される。以下の各実施例
では、これに適合した構成を有するリードピンを使用し
た。
のリードピンに対し、所望位置の金めっき部分の剥離を
一斉に行った。装置の仕様及び金剥離の条件を以下に示
す。 ・装置仕様 支持板…縦170mm×横200mm×厚み0.3mmのステ
ンレス板 直径約0.33mmの貫通孔をエッチングで5412個形
成 ゲル状部材…油粘土(商品名「デビカ油ねんど」、株式
会社大和) ・金剥離の条件 剥離液…商品名「オーロストリッパーL」(日進化成株
式会社) 原液1Lを10Lの水で希釈 剥離液の温度…40℃ 剥離時間…60〜90秒 実験の結果、図5に示すリードピン30を製造すること
ができた。しかし、油粘土に含まれる油分が、リードピ
ン30の金めっき面に沿って這い上がり、局部的に金め
っきが剥離されない部分が残された。
た以外は、実施例1と同一の装置仕様及び金剥離条件で
剥離を行った。 ・ゲル状部材…熱膨張性マイクロカプセル入り紙粘土
(商品名「かるい紙ねんど」、サンスター文具株式会
社) 実験の結果、油の這い上がりは防止できたが、油分がな
いため、ゲル状部材中に剥離液が浸透し、リードピンの
先端側で局部的に金めっきが剥離された。また、剥離液
がリードピンと支持板との間隙に浸入し、はんだボール
側でも金剥離部位が不揃いになった。
た以外は、実施例1と同一の装置仕様及び金剥離条件で
剥離を行った。 ・ゲル状部材…小麦粉を水で練って作製した粘土状物質 実験の結果、このゲル状部材は水分に弱く、剥離液の接
触によりベタベタに軟化してしまい、金めっきの部分剥
離は不十分な状態になった。
は剥離液に対する耐久性はあるが、リードピンに沿って
油が這い上がる油汚れの問題を生じ、また油分を含まな
いゲル状部材は水分に弱く、剥離液に侵される問題を生
じることが判った。ゲル状部材の耐水性と非油汚れ性
は、本質的に両立し難いものであるが、発明者らは第一
義的には非油汚れ性が重要であると考え、次の実施例4
に示す紙粘土を用いることに想到した。この紙粘土は、
パルプ繊維を主成分とし、これをポリビニルアルコール
又はカルボキシメチルセルロース(CMC)のような高
粘性の合成糊料の水溶液で練り上げたものである。剥離
液の内部への浸透を防止できる程度の適当な硬さに練り
上げた紙粘土は、ゲル状部材としてリードピン先端部を
良好に被覆して剥離液から保護することができる。
に、支持板に撥水処理を施した以外は、実施例1と同一
の装置仕様及び金剥離条件で剥離を行った。 ・支持板撥水処理…ポリテトラフルオロエチレン粒子2
3%を含む無電解ニッケルめっき(商品名「ニムフロ
ン」、上村工業株式会社) ・ゲル状部材…紙粘土(商品名「ころりん山のなかよし
隊」、株式会社大和) 撥水加工した支持板を用いたことにより、リードピンと
支持板との間隙への剥離液の浸入が防止され、結果とし
てはんだボール近傍の剥離部位が一定になる効果が確認
された。またゲル状部材として上記紙粘土を用いたこと
により、リードピンは油汚れを起こすこともなく、複数
のリードピンの中間部位を均一に剥離することができ
た。剥離液に浸す時間が60〜90秒と短時間であるか
ら、紙粘土への剥離液の浸透は回避され、リードピン先
端部が略完全に保護されることが確認できた。
に係るリードピンの部分めっき方法によれば、リードピ
ンの表面の所望位置に部分的なめっき面を正確かつ容易
に形成することが可能となる。複数の孔を有した支持板
により複数のリードピンを支持して、それらリードピン
に同時に金属皮膜剥離剤を作用させる構成とすれば、リ
ードピンの大量生産にも容易に対応できる。本発明の部
分めっき方法を、マルチチップモジュール用のリードピ
ンの製造に適用すれば、補修作業を繰り返し実施しても
モジュール基板から脱落しない優れた耐久性を有するリ
ードピンが作製される。
念的に示す図である。
っき方法を実施するための部分めっき加工装置の図で、
(a)支持板の斜視図、(b)支持板の部分拡大断面図
である。
っき方法を実施するための部分めっき加工装置の図で、
(a)槽及びゲル状部材の斜視図、(b)槽及びゲル状
部材の部分拡大断面図である。
っき方法を実施するための部分めっき加工装置の部分拡
大断面図である。
ドピンの正面図である。
ードピンを使用可能なマルチチップモジュールの概略図
で、(a)斜視図、(b)部分拡大断面図である。
状態を示す部分拡大断面図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 リードピンの表面に部分的なめっき面を
形成する方法であって、 リードピンの表面全体をめっき加工し、 めっき加工した前記リードピンの一端をゲル状部材によ
って被覆し、 前記ゲル状部材の外側に露出した前記リードピンのめっ
き面部分に金属皮膜剥離剤を作用させて、該めっき面部
分の金属皮膜を剥離する、ことを特徴とするリードピン
の部分めっき方法。 - 【請求項2】 前記リードピンの表面全体に、異なる金
属皮膜を積層してなる多層めっきを施し、該多層めっき
の最外層の金属皮膜を前記金属皮膜剥離剤によって剥離
する請求項1に記載のリードピンの部分めっき方法。 - 【請求項3】 前記多層めっきが、ニッケルの下地層と
金の最外層とを備える請求項2に記載のリードピンの部
分めっき方法。 - 【請求項4】 前記リードピンの他端に膨出部分を形成
し、該膨出部分を支持しつつ前記一端を前記ゲル状部材
に埋め込む請求項1〜3のいずれか1項に記載のリード
ピンの部分めっき方法。 - 【請求項5】 前記膨出部分がはんだボールからなる請
求項4に記載のリードピンの部分めっき方法。 - 【請求項6】 複数の孔を有した支持板を用意し、該支
持板の該複数の孔の各々に前記リードピンを挿入して該
孔の縁部で前記膨出部分を支持し、複数の該リードピン
の前記めっき面部分に同時に前記金属皮膜剥離剤を作用
させる請求項4又は5に記載のリードピンの部分めっき
方法。 - 【請求項7】 前記支持板に撥水処理を施し、該支持板
と前記ゲル状部材との間に位置する前記リードピンの前
記めっき面部分の前記金属皮膜を剥離する請求項6に記
載のリードピンの部分めっき方法。 - 【請求項8】 前記撥水処理がポリテトラフルオロエチ
レン含有ニッケルめっき皮膜からなる請求項7に記載の
リードピンの部分めっき方法。 - 【請求項9】 前記リードピンの前記めっき面部分を前
記金属皮膜剥離剤に浸漬した状態で振動を加えながら前
記金属皮膜を剥離する請求項1〜8のいずれか1項に記
載のリードピンの部分めっき方法。 - 【請求項10】 前記ゲル状部材が紙粘土からなる請求
項1〜9のいずれか1項に記載のリードピンの部分めっ
き方法。
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---|---|---|---|
JP10-240993 | 1998-07-15 | ||
JP24099398 | 1998-07-15 | ||
JP29574898A JP4079527B2 (ja) | 1998-07-15 | 1998-10-16 | リードピンの部分めっき方法 |
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JP2000091487A true JP2000091487A (ja) | 2000-03-31 |
JP4079527B2 JP4079527B2 (ja) | 2008-04-23 |
Family
ID=26535025
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---|---|---|---|
JP29574898A Expired - Fee Related JP4079527B2 (ja) | 1998-07-15 | 1998-10-16 | リードピンの部分めっき方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
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JP7441613B2 (ja) | 2019-06-05 | 2024-03-01 | Fdk株式会社 | 高密度実装モジュール |
JP2020202332A (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 新光電気工業株式会社 | リードピン及びリードピン付き配線基板 |
JP7309469B2 (ja) | 2019-06-12 | 2023-07-18 | 新光電気工業株式会社 | リードピン及びリードピン付き配線基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4079527B2 (ja) | 2008-04-23 |
US6268017B1 (en) | 2001-07-31 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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