JP2000084960A

JP2000084960A - 溶液製膜フィルムの製造方法

Info

Publication number: JP2000084960A
Application number: JP26168998A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Hosoi; 正広細井; Tamiaki Nagoshi; 民明名越; Minoru Hirota; 実広田
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1998-09-16
Filing date: 1998-09-16
Publication date: 2000-03-28

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた表面特性を有する光学用途フィルムの
製造方法を発明する。【解決手段】溶液製膜フィルムの製造方法において、
表面の欠点の最大長が５０μｍ以上、その最大深さが５
μｍ以上であるものが５個／ｍ²以下である支持体を使
用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願発明は表面性に優れた溶
液製膜フィルムの製造方法に関するものである。更に詳
細には光学用途に好適に用いうる表面欠点の無い平坦性
に優れた光学用フィルムの製造方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】高分子樹脂フィルムの表面欠点は、用途
によっては各種の問題を引き起こす場合が多い。特に高
精度、高機能の加工を施す光学用途のフィルムにおいて
は表面欠点の無いことが品質上重要視されている。

【０００３】光学用のフィルムは大別すると、無延伸の
状態で使われる場合（例えば、プラセル用途等）と延伸
して使われる場合（位相差フィルム、偏光フィルム用途
等）とがある。一般的にはフィルムの表面に塗布や各種
の物理、化学処理により加工して、機能性を持たせた材
料として使われる。

【０００４】この分野の用途ではフィルムに目視できる
大きさの欠陥があればもちろん使用することができない
が、無延伸フィルム中にある異物が小さい場合や、異物
とそれを含むフィルム本体との間に屈折率の差が小さい
場合には、光学的な欠陥としては容易には検出できない
のが通常である。このような場合は顕微鏡下で精査すれ
ば欠陥を検出できる。

【０００５】また、無延伸フィルムでは検出できない欠
点であっても延伸によってその異物の周辺に光学的な歪
みを生じるため、異物が核となって延伸によって周辺が
拡大されて欠点となる場合がある。この異物の検査方法
（検出方法）としては延伸したフィルムを偏光板にはさ
んで目視で観察するか、時には顕微鏡等で拡大して観察
する方法が採られる。この場合異物の部分は偏光異常と
なって星状に見えるため検出されるのである。

【０００６】このような事実からいわゆる異物はさしわ
たし約５０μｍ以上の大きさのものが光学用途では特に
問題になる。この程度に大きい異物は延伸によってその
周辺に光学歪みを生じるから実際には大きさが何倍にも
なって目視できる大きさにまで拡大されるからである。
例えばフィルムを２倍に１軸延伸した場合には無延伸の
とき約５０μｍの大きさを持った異物であると、約２倍
に拡大されて約１００μｍの大きさで光学的歪みを生じ
る。このため、この延伸したフィルムを偏向板に挟んで
見ると目視できるようになるのである。

【０００７】光学用途のフィルムは、その表面に各種の
加工が施され使用される場合が多い。例えば、ガスバリ
アー加工や電極膜付与加工などが行われる。この際にフ
ィルムの表面に欠陥（欠点）があると加工された膜が微
小な欠陥を持ち、例えば電極膜やガスバリアー膜の断裂
や膜厚の不均一による特性の不均一が起こる。このよう
な欠陥が例えばある部品の中に１個でもあるとその部品
全体に渉って重大な障害が及ぶという問題を生じること
がある。

【０００８】高分子樹脂フィルムの欠点は、便宜上内部
欠点と外部欠点に大別することができる。

【０００９】溶液製膜法でフィルムを製造する場合に
は、溶液を作成する際の溶媒や溶質に混入した、または
付着した塵埃、および溶液作成時に雰囲気から混入した
ごみ等が内部欠点となる。

【００１０】樹脂中の熱分解物、ゲル状物、並びに高分
子量成分難溶物、樹脂溶液中に生じる微結晶、および高
剪断力によって局所的に分子配向が起こり溶けにくくな
ったひげ状物なども異物の発生原因となり、これらが表
面欠点を生じる場合がある。このように溶液中に異物が
入っていてそれが原因となってフィルムの表面に現れる
欠点を内部欠点と呼ぶ。

【００１１】高分子樹脂の溶解においてはその溶解条
件、溶液の保存条件などを充分に考慮して条件を調整す
ることにより異物を減らす方策を実施している。

【００１２】次いで、溶液を必要な性能のフィルターで
濾過することによって異物を除去し、その後異物の存在
しないキャスト用の溶液として使用される。用いられる
フィルターエレメントの目開きはフィルムの要求品質に
応じて選択される。

【００１３】なお、内部欠点の解消方法として、溶液法
製膜において下記のような技術が提案されている。特開
平６−１４８４２６号公報に記載された発明は、光学用
途のフィルムにおいて、異物の大きさと発生頻度とを規
定したものであり、大きさが５〜５０μｍの高分子量異
物の個数が平面視した場合に２００個／平方ｃｍ以下で
あるポリカーボネートフィルムが記述されている。また
フィルター目開きの特定のものを用いて濾過する方法も
提案されている。このように高分子樹脂溶液のいわゆる
内部異物はしかるべき目開きのフィルターを用いること
によって、要すればフィルターの目開きを各種変えたり
組み合わせたりしたものを用いることによって除去する
ことができる。

【００１４】一方、フィルムの外部欠点にはフィルムの
搬送ロール表面の傷の転写や雰囲気からのごみの付着な
どによって生じる欠点が挙げられる。

【００１５】ロール表面の傷の場合、その傷を清掃や研
磨などで補修することにより、また、付着ごみは搬送系
に弱粘着性表面を持ったロールを用いることなどにより
フィルム面のごみをそのロール表面に付着させて除去す
ることができる。

【００１６】しかし溶液製膜法の場合には、さらに、キ
ャスト支持体表面が表面欠点を持っていて、その欠点が
フィルム表面へ転写することによって表面欠点を生じる
場合がある。この種の外部欠点はフィルムが例えば溶媒
を含んだ軟らかい状態のところで支持体表面を転写する
ことによって起こるものである。いわゆるフィルムで支
持体表面のレプリカを採ったと同じ状態になるのであ
る。

【００１７】このようにして生じた欠点は光学用途のフ
ィルムの場合、さしわたしが比較的小さくとも深さが深
い場合にはその影響が顕在化する。

【００１８】すなわち、支持体表面の欠点部とそこに接
触したフィルム表面との剥離性が、欠点の無い部分と比
較して幾分悪くなるためか、その表面部が引張られてフ
ィルム表面に突起状に浮き出す状態になるというのがこ
の欠点の発生のメカニズムとなっていると考えられる。

【００１９】この欠点はフィルムを顕微鏡観察すること
によって、フィルム面上でフィルムと支持体との接触面
に比較的偏平な突起として見出すことができる。

【００２０】また、フィルムを延伸して光学用途に使用
する場合には上記の転写欠点（外部欠点）は延伸の倍率
に応じて通常は引き伸ばされて大きくなり、フィルムの
重大な品質上の欠点となる。

【００２１】例えば、このような外部欠点を持つポリカ
ーボネートフィルムを１軸延伸して偏光板に挟んで観察
すると、この外部欠点を核とする光学歪みが見られる。

【００２２】この欠点は前述の内部欠点とは外観が異な
るため容易に判別することができる。すなわち、内部欠
点は偏光板間観察では通常星状に見える一方、この外部
欠点は、核がフィルムの表面にあって偏平になっている
ためか、核が小さいにもかかわらず、光学的歪みとして
観察される範囲が極めて大きくなるのである。この大き
さは延伸の温度、倍率などの条件によって変わるが、核
の大きさの数十〜百倍に及ぶことがある。フィルムの欠
点部は核のあった面（すなわち、フィルムがキャスト支
持体の表面と接触した面）に突起状に発生する。

【００２３】ポリカーボネートフィルムが５０μｍ以上
の大きさで高さが５μｍを超える外部欠点を持つ場合、
延伸して使用する光学用のフィルムとしては致命的問題
となる。

【００２４】フィルムの外部欠点を回避または解消する
技術として下記のものが提案されている。すなわち、特
開平１−２４５４１５号公報では磁気記録媒体として有
用な平滑な表面を得るために、フィルム表面の支持体と
反対面側を利用することが提案されている。これは製膜
時に支持体に接触した表面欠点の多い面の使用を避け
て、支持体に接触しなかった表面欠点の無い面を使用す
る技術である。

【００２５】しかしこの技術は本願発明におけるような
光学用途のフィルムに適用することはできない。この理
由については先に詳細に述べた通りであるが、光学用途
においては通常はフィルムに光を透過させてフィルムの
両面を使う場合が多いからである。

【００２６】特開平９−１５６８号公報には、溶液製膜
法フィルムの製造方法において、支持体の表面の５０μ
ｍ以上の介在物が５個／ｃｍ²以下であること、更に、
支持体表面の１００μｍ以上の介在物が１個／ｃｍ²以
下であること、支持体の表面粗さＲｔが１μｍ以下であ
ることを特徴とする溶液製膜法フィルムの製造方法が開
示されている。

【００２７】この方法は磁気記録媒体用に要求される平
滑な表面を形成して、表面性、耐久性に優れたフィルム
を得る技術である。

【００２８】この技術を光学用途のフィルムの製造方法
に適用する場合支持体の表面欠点の頻度が余りにも多い
のが問題である。光学用途の一つである位相差フィルム
においては、Ａ−４版程度の大きさの中に１００μｍ以
上の大きさの光学的な欠陥が１個でもあるとそのフィル
ムは位相差フィルムとして使うことができないからであ
る。

【００２９】従来技術により光学用の無欠点フィルムを
製造する方法においては、内部欠点は充分に制御するこ
とができるようになってきているが、外部欠点、特に溶
液製膜法において発生する場合があるキャスト支持体の
表面欠陥の転写による欠点については未だ問題が残され
ているのが現状である。

【００３０】

【発明が解決しようとする課題】本願発明は上記実状に
鑑みなされたものであり、その目的は表面欠点を解消
し、光学用途に有用な透明性と表面平坦性に優れた高分
子樹脂フィルムを提供することにある。本発明はかかる
問題点を解決するために、溶液製膜法フィルムの製造に
おいて支持体の表面性と、この支持体を使用して製膜し
たフィルムの表面性との関係を明確にすることにより、
従来では得られなかった平坦性のすぐれたフィルムを提
供できる溶液製膜フィルムの製造方法を提供することで
ある。

【００３１】

【課題を解決するための手段】本願発明者らは上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、高分子樹脂フィル
ムの溶液製膜法において、キャスト支持体表面を下記の
如くすることにより目的を達成できることを見出し、本
願発明に到達したものである。

【００３２】すなわち本願発明は次のとおりである。

【００３３】１．高分子樹脂溶液を支持体上に流延し
てフィルムに成形する溶液製膜フィルムの製造方法にお
いて、その支持体表面の欠点の最大長が５０μｍ以上、
その最大深さが５μｍ以上であるものが５個／ｍ²以下
であることを特徴とする溶液製膜フィルムの製造方法。

【００３４】２．支持体の表面の欠点でその最大長が
７０μｍを越えるものが存在しないことを特徴とする上
記１に記載の溶液製膜フィルムの製造方法。

【００３５】３．支持体の表面の中心線平均表面粗さ
Ｒａが１ｎｍ〜３ｎｍであることを特徴とする上記１ま
たは２に記載の溶液製膜フィルムの製造方法。

【００３６】４．溶液製膜フィルムが芳香族ポリカー
ボネートフィルムであることを特徴とする上記１〜３に
記載の溶液製膜フィルムの製造方法。

【００３７】本願発明の溶液製膜フィルムの製造に使用
される支持体の形態はドラムあるいはエンドレスベルト
がある。また支持体の材質としては、鉄、ステンレス
（ＳＵＳ）、ニッケル、チタン、タンタル、銅等があ
り、更にこれらの表面にクロム、ニッケル等のメッキ処
理や、樹脂コーテイング等の物理的、並びに化学的処理
が施されていてもよい。

【００３８】エンドレスベルトの場合その厚みは０．５
ｍｍ〜２．５ｍｍが好ましい。薄過ぎる場合ベルトが面
内で伸びて変形を受け易くなるので好ましくない。一方
厚過ぎる場合には、エンドレスベルトをプリーにまき掛
け廻す時に厚み方向において繰り返し歪みの差を生じ易
くなるため、ベルトが機械的に劣化し易くなるという問
題がある。より好ましいベルトの厚みは１ｍｍ〜２ｍｍ
である。

【００３９】本願発明においては、支持体の表面の欠点
について、その最大長が５０μｍ以上でその最大深さが
５μｍ以上であるものが５個／ｍ²以下である必要があ
る。好ましくはその最大長が５０μｍ以上でその最大深
さが４μｍ以上であるものが５個／ｍ²以下であり、よ
り好ましくはその最大長が５０μｍ以上でその最大深さ
が３μｍ以上であるものが５個／ｍ²以下である。

【００４０】最大長が５０μｍ以上でその最大深さが５
μｍより大きい場合にはキャストされた高分子樹脂フィ
ルムに転写される欠点が光学用途のフィルムの品質とし
て問題となる表面欠点を生じせしめ得るからである。

【００４１】また、支持体の表面の欠点についてその最
大長が７０μｍを超えるものが存在しないものであるこ
とが好ましい。

【００４２】その最大長が７０μｍを超えるものが存在
する場合は、光学用フィルムを製膜した場合にフィルム
に転写された表面欠点が重大な問題を起こし得るからで
ある。

【００４３】また、支持体の表面の中心線平均表面粗さ
Ｒａが１〜３ｎｍであることが好ましく、１〜２ｎｍで
あることがより好ましい。３ｎｍより大きいとフィルム
の表面が粗れ、フィルムの曇り度（ヘーズ値）が上昇し
易くなるので好ましくない。

【００４４】このような表面性を有する支持体を得るに
は不純物の少ない金属材料を用いることが重要である。
金属材料を支持体の形に加工し、清浄な環境において表
面を充分に研磨して平坦性を持たせることが必要であ
る。通常はキャスト用の支持体としてはステンレス（Ｓ
ＵＳ）よりなる原板を研磨して超鏡面研磨板とする。

【００４５】表面の平坦性や表面欠点の発生（大きさ出
現頻度等）は鏡面研磨時の条件である、研磨薬液の濃度
や研磨時の砥粒の種類並びに砥粒の粒子径の調整、機械
研磨の各種の条件並びに研磨時に生じる熱の除去方法な
どによって左右される。実質上無欠点の鏡面を作成する
には極めて高度の技術が必要とされる。

【００４６】なお、本願発明でいう溶液製膜法フィルム
とは、高分子樹脂と溶媒とを主成分とする溶液を押し出
しダイより支持体上にキャスト後、乾燥させて溶媒を除
去して成形させたフィルムを指す。

【００４７】溶媒の種類は高分子樹脂を溶解するもので
あれば特に限定されない。また溶液中の高分子樹脂の濃
度は高分子の種類にも依るが、一般的に１５〜３５ｗｔ
％であり、溶液中には高分子樹脂と溶媒以外に目的に応
じて、紫外線吸収剤、滑剤、可塑剤、導電性微粒子、酸
化防止剤その他の添加剤が混合されていても差し支えな
い。

【００４８】高分子樹脂の例としては、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサ
ルフォン、芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミド、二酢
酸セルロースや三酢酸セルロースなどのセルロースポリ
マー、酢酸ビニール、ポリビニールアルコールなどが挙
げられる。

【００４９】（高分子樹脂）本発明の溶液製膜フィルム
は、高分子樹脂が芳香族ポリカーボネートであると本発
明の効果が大きく好ましい。このため以下においては光
学用ポリカーボネートフィルムの溶液製膜法の場合につ
いて述べる。ここで芳香族ポリカーボネートとは、芳香
族ジヒドロキシ化合物とホスゲン、ジフェニルカボネー
トの如き炭酸結合生成性の化合物とを、溶液状態、バル
ク、溶融状態等で反応せしめることにより得られる重合
体のことをいう。

【００５０】上記芳香族ジヒドロキシ化合物の例として
は、具体的には、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチルフェニニル）プロパン、２，２−ビス（４−
ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，
２−ビス（４ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５
−ジブロモフェニル）プロパンなどのビス（ヒドロキシ
アリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサンなどのビス（ヒドロキシ
アリール）シクロアルカン類、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニールエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，
３−ジメチルフェニールエーテルなどのジヒドロキシア
リールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメ
チルフェニルスルフィドなどのジヒドロキシアリールス
ルフィド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
キシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチル
フェニルスルホキシドなどのジヒドロキシアリールスル
ホキシド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェ
ニルスルホンなどのジヒドロキシアリールスルホン類な
どが挙げられる。

【００５１】このうちでは特に２，２ビス（４ヒドロキ
シフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）が好ましく
用いられる。これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は単独
または組み合わせて用いることができる。

【００５２】また、一般に炭酸成分の一部をテレフタル
酸および／またはイソフタル酸成分で置き換えたポリカ
ーボネートを使用することも可能である。このような構
成単位をビスフェノールＡからなるポリカーボネートの
構成成分の一部に使用することにより、ポリカーボネー
トの性質、例えば耐熱性、溶解性を改良することができ
る。このような共重合体についても本願発明を用いるこ
とができる。

【００５３】（高分子の分子量）本願発明において用い
ることのできる樹脂材料の分子量としては、特に限定は
ないが、例えば芳香族ポリカーボネートの分子量として
は、濃度０．５ｇ／ｄｌの塩化メチレン溶液中２０℃で
の粘度測定から求めた粘度平均分子量が１０，０００以
上２００，０００以下、このましくは２０，０００以上
１２０，０００以下の範囲のものを挙げることができ
る。

【００５４】（溶媒）また、本願発明において用いるこ
とのできる樹脂材料の溶媒としては、特に限定はなく、
通常知られた溶媒が使用できるが、芳香族ポリカーボネ
ートの溶液を作成するために用いられる溶媒としては、
例えば、塩化メチレンまたは１，３−ジオキソランやそ
の混合物あるいはこれらを主体とする溶媒を挙げること
ができる。すなわち、塩化メチレンまたは１，３−ジオ
キソランの含有量が９８．０〜９９．９重量％、エタノ
ール単独またはエタノールとペンタノールとの混合物の
含有量が０．１〜２．０重量％である溶媒がその例であ
る。

【００５５】（溶液製膜）上記の溶媒に芳香族ポリカー
ボネートを溶解させた溶液を作成する。この溶液は通常
はポリカーボネートが１５〜２５重量％になるように調
整する。

【００５６】上記のように調製された樹脂溶液を押出し
ダイより押出して、支持体上に流延し、溶媒を蒸発乾燥
させ、含有溶媒量が２０重量％前後の値になるまで乾燥
して該支持体より剥ぎ取る。

【００５７】フィルムを無延伸の状態で使用する用途に
おいては該フィルムを更にピンテンターや懸垂型乾燥機
を通してフィルムの光学的特性（屈折率）を制御しつつ
更に乾燥させ溶媒の含有量を所定の値になるまで低下さ
せる。

【００５８】フィルムを延伸して用いる場合にも無延伸
フィルムと同様な工程を通し、延伸を適宜組合わせて、
延伸フィルムを製造する。

【００５９】こうして得られたフィルムを巻き取って光
学用途の芳香族ポリカーボネートフィルムが得られる。

【００６０】製膜するフィルムの厚さは限定されないが
一般には２０μｍ〜２００μｍである。特に薄いフィル
ムになると、支持体の表面欠点がフィルムに転写して支
持体面側だけでなく、フィルムが接触しなかった反支持
体面側まで表面性を悪化させる場合があるので、表面の
欠点が少ないものを使用することが好ましい。

【００６１】本発明の測定方法、効果の評価方法は次の
方法によった。

【００６２】（１）表面欠点の測定比較的大きな欠点は支持体表面に斜め方向から、例えば
カドニカライトで照射して目視でその有無を確認でき
る。小さい欠点の場合は顕微鏡観察に依った。

【００６３】顕微鏡観察に依る場合は、Ａ−４版の大き
さの支持体の表面を金属顕微鏡（ユニオン光学（株）製
のロールスコープｍｏｄｅｌＲＭＭ）で観察し欠点を
検出した。次いでその欠点の最大長を計測した。

【００６４】形態上は、アバタ状や彗星状やかさぶた状
のものが支持体の表面欠点としてみとめられた。具体的
には表面を４ｃｍ²（２ｃｍ＊２ｃｍ）毎に区切り、そ
の中からランダムに５区画を観察しすべての欠点の最大
長と数および欠点の深さを求めた。

【００６５】欠点の深さはキーエンス（株）製の表面形
状測定器ＶＦ−７５００を用いて測定した。

【００６６】この際欠点一つにつきその深さを場所を変
えて求め最も大きな値を欠点の最大深さとした。

【００６７】フィルムの表面欠点（支持体表面の欠点が
転写されたもの）を測定する場合は、ニコン（株）製の
光学顕微鏡Ｅ−８００を用いて透過光で観察してその大
きさを求めた。また、フィルムの欠点の高さ（支持体表
面の欠点が転写されているため欠点部は凸状になること
が多い）を上記のＶＦ−７５００を用いて測定した。

【００６８】なお、フィルムの内部欠点（異物）と外部
欠点（異物）の判別はこれらの方法により容易に実施で
きた。

【００６９】（２）支持体の中心線平均表面粗さ（Ｒ
ａ）の測定中心線平均表面粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ−Ｂ０
６０１に依った。

【００７０】測定装置は（株）小坂研究所の接触式表面
粗さ計（Ｓｕｒｆｃｏｒｄｅｒ，ＳＥ−３０Ｃ）を用い
て測定した。測定条件は下記の通りであった。触針先端半径：２μｍ測定の圧力：３０ｍｇカットオフ：０．０８ｍｍ測定長：１．０ｍｍデータは、同一資料について５回繰り返し測定した測定
値（μｍ単位による少数点以下４桁目までの値）につい
て、最も大きな値を一つ除き、残りの４つのデータの平
均値の小数点以下５桁目を四捨五入して、少数点以下４
桁目までをｎｍ単位で表示した。

【００７１】以下、本発明の溶液製膜フィルムの製造方
法をポリカーボネートを例にとって説明する。ただし本
願発明はこれに限定されるものではない。

【００７２】

【実施例】［実施例１］芳香族ポリカーボネート樹脂
（帝人化成（株）製の商品名「パンライト（登録商標）
グレードＣ−１４００ＱＪ」）、粘度平均分子量３８，
０００、をエタノールとメチレンクロライドの混合溶媒
（エタノール１．５重量％、メチレンクロライド９８．
５重量％）に溶解させ、１８重量％の溶液を作成した。

【００７３】この溶液をフィルター（アドヴァンテック
（株）製のフィルター、商品名デプスカートリッジフィ
ルター、ＴＣＰＤ−０５Ａ、平均孔径０．５μｍ）に通
し内部異物を除去した。こうしてキャスト用の清浄な溶
液を作成した。

【００７４】一方、キャスト用の支持体としてＳＵＳ−
３１６よりなる鏡面研磨板を準備した。これは、鏡面研
磨時の研磨薬液の濃度調整や研磨時の砥粒の種類並びに
粒子径を調整して、更に機械研磨の条件も調整して作成
したものである。

【００７５】この支持体の表面特性は下記の通りであっ
た。すなわち、小欠点（欠点のうち最大長が５０μｍ以
上７０μｍ以下で最大深さ５μｍ以上のもの）は０．５
個／ｍ²、大欠点（欠点のうち最大長が７０μｍを越え
るもの）は無かった。また、表面粗さＲａは２ｎｍであ
った。

【００７６】この支持体をＡ−４版の大きさに切り出
し、ハンドコート（手製の流延用ダイで支持体に溶液を
塗布すること）のための支持体を準備した。

【００７７】次いで、溶液並びに支持体の温度を１５±
１．０℃に調節して、乾燥後のフィルムの厚みが８０μ
ｍになるように液膜の厚みを調節して当該支持体上に溶
液をハンドコートした。

【００７８】その後、溶液を塗布した支持体ごと４０℃
の熱風乾燥機にて５分間乾燥させた。

【００７９】次いで６０℃の熱風乾燥機にて５分間更に
乾燥させた。その後、室温まで冷却し、フィルムを支持
体より剥ぎ取った。ひきつづいて１４５℃の熱風乾燥機
にて１時間充分に乾燥させ、無延伸フィルムを得た。更
にこのフィルムをＢ−５版の大きさの短冊状に切り出し
１６０℃の温度にて１．２５倍に一軸延伸した。

【００８０】得られた無延伸フィルムとその一軸延伸フ
ィルムについて表面の欠点を調べた結果、得られたフィ
ルムの表面特性は次のようなものであった。

【００８１】すなわち、その無延伸フィルムの表面粗さ
Ｒａは２．１ｎｍであり、表面欠点の最大長が５０μｍ
以上でその高さが５μｍを超えるものは無かった。ま
た、この無延伸フィルムを一軸延伸したフィルムはその
表面粗さＲａが２．３ｎｍであり、表面欠点の最大長が
５０μｍ以上でその高さが３μｍを超えるものは無かっ
た。

【００８２】この一軸延伸フィルムを２枚の偏光板に挟
んで目視で表面欠点を調べたが、目視できる欠点は見出
せなかった。実施例１のフィルムは光学用の芳香族ポリ
カーボネートフィルムとして表面欠点の極めて少ない優
れたものであった。

【００８３】［比較例１］キャスト用の支持体として、
ＳＵＳ−３１６よりなる鏡面研磨板であって、鏡面研磨
時の研磨薬液の濃度調整や研磨時の砥粒の種類並びに粒
子径を調整して、更に機械研磨の条件も調整して作成し
たものであるが、実施例１とは異なる調製条件で準備し
たものを使用した以外は実施例１と同様にしてフィルム
を作製した。

【００８４】この支持体の表面特性は下記の通りであっ
た。すなわち、小欠点（欠点のうち最大長が５０μｍ以
上７０μｍ以下で最大深さ５μｍ以上のもの）は７個／
ｍ²であり、大欠点（大きさ７０μｍを越えるもの）は
無かった。また、表面粗さＲａは２ｎｍであった。

【００８５】この支持体を用いて作成した無延伸フィル
ムはその表面粗さＲａが２．１ｎｍで、表面欠点の最大
長が５０μｍ以上７０μｍ以下でその高さが５μｍを越
えるものが３個／ｍ²であった。

【００８６】この無延伸フィルムを一軸延伸したフィル
ムはその表面粗さＲａが２．３ｎｍで、表面欠点の最大
長が５０μｍ以上７０μｍ以下でその高さが５μｍを越
えるものが３個／ｍ²であった。この一軸延伸フィルム
を実施例１と同様に２枚の偏光板に挟んで目視で表面欠
点を調べたところ、フィルム面を精査すると光学的に不
均一な微小な突起状の欠点が見出された。

【００８７】上記のごとく、本願発明の実施例１のフィ
ルムは表面欠点が少なく、平坦性に優れたものであっ
た。またこれを一軸延伸したフィルムも表面の平坦性と
表面欠点の極めて少ない光学用途として優れたものであ
った。これに比して、比較例のフィルムは大きな表面欠
点が多く、光学用途として用いる場合に加工性が悪く問
題の多いものであった。

【００８８】

【発明の効果】本発明の表面を有する支持体を使用する
ことにより製造される溶液製膜フィルムは表面の平坦性
にすぐれ、また、表面欠点が解消された極めて優れたも
のとなり、特に芳香族ポリカーボネートフィルムとして
光学用途に好適な表面を形成することができる。このた
めフィルム表面に各種材料の塗布や金属薄膜の付与を行
う高機能化の際にもフィルムの加工性が格段に向上する
ものとなる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者広田実愛媛県松山市北吉田町77番地帝人株式会社松山事業所内Ｆターム(参考） 4F205 AA28 AC05 AH73 AJ09 AR13 GA07 GB01 GC06 GE02 GE03 GF24 GN13 GN22 GN24 GN28 GN29 GW21

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】高分子樹脂溶液を支持体上に流延してフ
ィルムに成形する溶液製膜フィルムの製造方法におい
て、その支持体表面の欠点の最大長が５０μｍ以上、そ
の最大深さが５μｍ以上であるものが５個／ｍ²以下で
あることを特徴とする溶液製膜フィルムの製造方法。
【請求項２】支持体の表面の欠点でその最大長が７０
μｍを越えるものが存在しないことを特徴とする請求項
１に記載の溶液製膜フィルムの製造方法。
【請求項３】支持体の表面の中心線平均表面粗さＲａ
が１ｎｍ〜３ｎｍであることを特徴とする請求項１また
は２に記載の溶液製膜フィルムの製造方法。
【請求項４】溶液製膜フィルムが芳香族ポリカーボネ
ートフィルムであることを特徴とする請求項１〜３に記
載の溶液製膜フィルムの製造方法。