JP2000084458A - ガイドロール装置および塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 形成しようとする塗膜の厚さが薄い場合や、
走行を高速化した場合でも、非磁性支持体を良好な走行
性をもって案内することができるガイドロール装置を提
供する。 【解決手段】 ガイドロール（またはコンタクトロー
ル）１１は、アルミニウムやスチール等の導電性を有す
る素材から構成されるロール１１ａの表面に、無電解ニ
ッケルメッキ皮膜中に四フッ化エチレン微粒子が均一に
分散共析された複合メッキ被膜が形成されている。な
お、四フッ化エチレンの含有率は、３０〜４０ｖｏｌ％
程度であり、また、その表面粗度は０．５〜１．０μｍ
程度であり、更に、皮膜表面の水に対するぬれ角は６０
〜８０度程度となるように設定されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガイドロール装置
および塗布装置に関し、特に、薄膜の走行を案内するガ
イドロール装置、および、薄膜を連続的に走行させ、そ
の表面に所定の塗料を塗布する塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、オーディオテープやビデオテー
プ等の磁気テープは、ポリエステルフィルム等の長尺の
非磁性支持体上に、強磁性粉末や結合剤、分散剤、潤滑
剤等を有機溶媒に分散混練した磁性塗料を塗布してなる
磁性層が形成されている。これらの磁性塗料を非磁性支
持体上に塗布、乾燥して磁性層を形成する塗布装置に
は、非磁性支持体が塗布工程及び乾燥工程を経て連続走
行するために走行系が設けられている。上記走行系は非
磁性支持体を巻き出すための巻き出しロールと、巻き取
るための巻き取りロールと、その走行を駆動するための
駆動ロールと、非磁性支持体を適正な位置に案内するた
めの複数のガイドロール等より構成されている。このよ
うな塗布装置においては、良好な成膜を行うために、非
磁性支持体の走行安定性を保つこと及び形状品質や成膜
状態に影響を及ぼさないことが重要となる。

【０００３】例えば、非磁性支持体の走行を不安定化す
る要因としては、非磁性支持体とガイドロールとが面接
触することによって生じる走行抵抗、ガイドロールの回
転によって発生するエアフィルム等が考えられる。ま
た、形状品質を害する要因としては、上記走行要因や主
にガイドロールで発生する静電気によるしわ（以下、リ
ンケルと称する）等が考えられる。さらには、ロールの
回転不良等にて成膜状態に悪影響を及ぼすものとして、
上記要因によるスクラッチ等が考えられ、スクラッチが
発生すると画質の乱れやノイズ特性劣化を招く。

【０００４】このため、従来よりガイドロールにおいて
は、その材質、形状等で走行安定化の工夫がなされ、例
えば表面にクロームメッキを施したスチール製ガイドロ
ール、アルマイト処理したアルミ製ガイドロール、図４
に示すようなサンドブラスト処理等による凹凸にクロー
ムメッキを施したガイドロール２０、あるいは図５に示
すようなクロススパイラル溝等の切り溝２２ａを施し、
クロームメッキ処理したガイドロール２２等が知られて
いる。これらは何れも面接触抵抗を低減する工夫や、エ
アフィルムの逃げ道が形成されるようにしたものであ
る。

【０００５】近年、上記塗布装置においては、非磁性支
持体の走行速度を高速化すると共に、非磁性支持体の厚
みも薄膜化され、さらには、磁性層も薄膜化の要求が高
まる傾向にあり、従来のガイドロールでは、これらの要
求に対処しきれなくなってきている。例えば図４及び図
５に示したガイドロールを使用した場合でも、非磁性支
持体の走行速度が高速化してガイドロールの回転数が増
加してくると、エアフィルムが移動しなくなり、このエ
アフィルムが非磁性支持体の走行方向へ巻き込まれ、ス
リップシフト（幅方向のずれ）や細かいリンケル等を誘
発し、非磁性支持体の走行不良を招く虞れがあった。

【０００６】また、図５に示す切り溝２２ａが施されて
いるガイドロール２２は、走行する非磁性支持体が溝部
を密閉することにより溝内部が真空となり、非磁性支持
体が溝に対して圧着状態となって、非磁性支持体自体や
塗膜に溝の跡が付くようなことがあり、品質を損なう現
象が生じている。

【０００７】さらには、特開平５−１２４７６１号公報
には、図６に示すようなガイドロール２３が開示されて
いる。このガイドロール２３は、ロール２３ａの表面に
形成した螺旋状の溝２３ｂ内に、ロール２３ａと摩擦係
数が異なるシリコンゴム等の材料２３ｃを充填したもの
であるが、このガイドロール２３でも走行速度が４００
ｍ／分以上の場合や非磁性支持体が薄膜（３．０μｍ〜
７．０μｍ程度）である場合は、高速化によるゴムの歪
みが増し、ロール精度（振れ、真円度、うねり等）が悪
化し易くなる。その影響で特に薄膜の非磁性支持体を走
行する場合は、スチール製のガイドロールよりスクラッ
チやリンケル等の発生が多い傾向にある。

【０００８】また、ガイドロール表面に導電性がない所
謂不導体の処理（アルマイト処理等）を施したり、ガイ
ドロールの材質に不導体を用いた場合、高速走行になる
と、ガイドロールと非磁性支持体との接触抵抗等によ
り、非磁性支持体に静電気が帯電しガイドロール上等で
放電し、特に薄膜の非磁性支持体はその影響で塵埃の付
着やリンケルやスリップシフトの発生を起こし易い状態
になる。

【０００９】そこで、本発明者は、以上の問題点を解決
するための手法を、特開平１０−１３９２４２号公報に
開示している。この手法では、導電性を有するロールの
表面に、フッ素樹脂の微粒子を含有する金属−フッ素樹
脂複合被膜を形成することにより、非磁性支持体の摺動
性を高め、走行抵抗を減少させている。

【００１０】また、ロールの表面に微小な凹凸を形成す
ることにより、エアフィルムの発生を抑制している。更
に、金属−フッ素樹脂複合被膜は導電性を有しているの
で、ロールとして導電性を有する素材を用いることによ
り静電気の発生が防止される。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、形成し
ようとする磁性膜の膜厚が薄い場合（特に、２．０μｍ
未満の場合）には、前述の特開平１０−１３９２４２号
公報に開示した手法によっても、塗装ムラやスクラッチ
が僅かに発生するという問題点があった。

【００１２】即ち、薄い磁性膜を形成する場合には、非
磁性支持体上に磁性膜を確実に形成するために、非磁性
支持体の表面に平滑化処理を施し、また、非磁性支持体
と磁性膜との接着力を高めるために非磁性支持体に易接
層を形成する場合が多いが、このような平滑化や易接層
の形成がなされると、ガイドロールの走行抵抗が増加す
るため、安定走行が阻害され、結果として塗装ムラやス
クラッチ等が発生するという問題点があった。

【００１３】また、塗料を塗布する塗装部に対して非磁
性支持体を当接させるためのコンタクトロール（ガイド
ロールの一種）にあっては、エアフィルムを防止するた
めに形成されている凹凸などによっても非磁性支持体に
微小な振動を誘発し、塗装ムラやスクラッチ等が発生す
るという問題点があった。

【００１４】更に、走行抵抗が増大したり、振動が発生
すると、非磁性支持体の表面層や易接層形成の一部が削
れたり、または塗布面が接する場合（表、裏面塗膜形成
の場合）、磁性膜の一部が剥離（削れ）してコンタクト
ロールに付着するため、コンタクトロールの走行抵抗が
一層増大し、前述のような不具合が更に顕著になるとい
う問題点もあった。

【００１５】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みてなされたものであり、塗装膜の厚みが薄い場合
や、非磁性支持体の走行を高速化した場合でも、非磁性
支持体を良好な走行性を持って案内できるガイドロール
装置を提供することを目的とする。

【００１６】また、本発明は、塗装膜の厚みが薄い場合
や、非磁性支持体の走行を高速化した場合でも、塗装ム
ラやスクラッチ等の発生を抑制する塗布装置を提供する
ことを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、薄膜の走行を案内するガイドロール装置
において、導電性を有する素材から構成されるロールの
表面に、金属被膜中にフッ素樹脂が分散共析された複合
メッキ層が形成されていることを特徴とするガイドロー
ル装置が提供される。

【００１８】ここで、ロールは導電性を有する素材から
構成されている。また、ロールの表面には金属被膜中に
フッ素樹脂が分散共析された複合メッキ層が形成されて
いる。

【００１９】また、本発明では、薄膜を連続的に走行さ
せ、その表面に所定の塗料を塗布する塗布装置におい
て、前記薄膜を巻き出しロールから巻き出す巻き出し機
構部と、前記巻き出し機構部によって巻き出された前記
薄膜を巻き取る巻き取り機構部と、前記巻き出し機構部
と前記巻き取り機構部の間に配置され、前記薄膜の表面
に対して前記所定の塗料を塗布する塗布機構部と、前記
塗布機構部の上流側と下流側に配置されたコンタクトロ
ールにより、前記薄膜が所定の膜圧により前記塗布機構
部に当接するように保持するコンタクトロール機構部
と、を有し、前記コンタクトロールは、導電性を有する
素材から構成されるロールの表面に、金属被膜中にフッ
素樹脂が分散共析された複合メッキ層が形成されている
ことを特徴とする塗布装置が提供される。

【００２０】ここで、巻き出し機構部は、薄膜を巻き出
しロールから巻き出す。巻き取り機構部は、巻き出し機
構部によって巻き出された薄膜を巻き取る。塗布機構部
は、巻き出し機構部と巻き取り機構部の間に配置され、
薄膜の表面に対して所定の塗料を塗布する。コンタクト
ロール機構部は、塗布機構部の上流側と下流側に配置さ
れたコンタクトロールにより、薄膜が所定の膜圧により
塗布機構部に当接するように保持する。そして、コンタ
クトロールは、導電性を有する素材から構成されるロー
ルの表面に、金属被膜中にフッ素樹脂が分散共析された
複合メッキ層が形成されている。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面を参照して説明する。本発明の塗布装置は、磁気テー
プを製造する際に非磁性支持体上に磁性塗料又はバック
コート塗料を塗布する。

【００２２】図１は塗布装置の構成を示す模式図であ
る。この塗布装置は、非磁性支持体２の走行方向上流側
から順に、巻き出しロール１、駆動ロール３ａ、コンタ
クトロール１１、塗布部５、ターンロール７ａ、乾燥装
置８、ターンロール７ｂ、駆動ロール３ｂ、巻き取りロ
ール９等が配設されて構成されている。なお、駆動ロー
ル３ａ，３ｂには、それぞれニップロール４が圧接され
ている。

【００２３】巻き出しロール１から繰り出された非磁性
支持体２は、駆動ロール３ａによって駆動され、後述す
る塗布部５により、磁性塗料やバックコート塗料等が非
磁性支持体２上に塗布され塗膜が形成される。塗膜形成
後の非磁性支持体２は、乾燥装置８によって乾燥され、
駆動ロール３ｂによってさらに移動され、巻き取りロー
ル９に巻き取られる。

【００２４】非磁性支持体２の走行路の所定の位置に
は、複数のガイドロール１０が配設されており、非磁性
支持体２を案内すると共に、適当なテンションをかけ円
滑な走行が行われるようになっている。

【００２５】図２は、塗布部５およびコンタクトロール
１１の詳細な構成例を示す模式的な断面図である。ポン
プ１２は、塗布部５に塗料を供給する。塗布部５の内部
には、塗料溜まり５ａが形成されており、この部分に塗
料を一旦蓄積した後、スリット５ｂに供給する。スリッ
ト５ｂは、塗料溜まり５ａから供給された塗料を薄膜化
して非磁性支持体２の表面に塗布する。なお、この塗布
部５は、連続的に走行する非磁性支持体２上に塗料を押
し出しながら塗布するエクトルルージョン型である。

【００２６】コンタクトロール１１は、塗布部５のスリ
ット５ｂの上下に形成されているリップ（図示せず）に
非磁性支持体２を適当なテンションで当接させる。な
お、非磁性支持体２の素材としてはポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−２などのポリエステル樹脂や
芳香族ポリアミド樹脂フィルム等が使用可能である。

【００２７】また、塗膜の磁性粉としては、Ｆｅ−Ｃ
ｏ，Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ
−Ｍｎ−Ｚｎ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｂ等のＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉを主成分とする金属粒子が
好適に用いられる。

【００２８】結合剤としては、塩化ビニリンデン、アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン、ブ
タジエン、アクトロニトロ等の重合体、或いは共重合体
であるポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等が用いら
れる。これらを上記強磁性粉末と混練分散して磁性層を
形成する。

【００２９】更に、溶剤としては、公知のものが何れも
使用可能でありアセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系、酢
酸メチル、酢酸エチル等のエステル系、グリコールジメ
チルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が用いられ
る。更にまた、添加剤として分散剤、内添剤、研磨剤、
帯電防止剤、防錆剤等が加えられても良い。また、必要
に応じてバックコート層、トップコート層等が形成され
ても良い。

【００３０】図３（Ａ）は、上記のコンタクトロール１
１の構成例を示す概観図であり、図３（Ｂ）はその要部
を示す断面図である。図３に示すコンタクトロール１１
は、ロール１１ａの表面に無電解ニッケルメッキ中に四
フッ化エチレン微粉末微粒子を均一に分散共析した複合
メッキ被膜１１ｂが形成されている。

【００３１】コンタクトロール１１を構成するロール１
１ａの素材としては、アルミニウムやスチール等の導電
性を有するものを使用する。なお、皮膜処理前のロール
１１ａの表面粗度は、皮膜処理後の精度や研磨加工精度
が確保できるように、Ｒｚ＝０．３μｍ以下となるよう
に加工することが望ましい。

【００３２】複合メッキ皮膜１１ｂは、無電解ニッケル
皮膜中に四フッ化エチレンの微粒子が均一に分散共析さ
れており、四フッ化エチレンの含有率が２０〜３０ｖｏ
ｌ％になるように設定されている。複合メッキ皮膜１１
ｂの表面粗度はＲｚ＝０．５〜１．５μｍ程度となるよ
うに設定されており、また、複合メッキ皮膜１１ｂのぬ
れ角は６０〜８０度程度となるように設定されている。
なお、「ぬれ角」とは、ぬれ性を評価する指標であり、
その角度が小さい程ぬれ性が高く、走行抵抗が大きい。
反対に、ぬれ角が大きい程、撥水性が高く、また、粘着
性が低く、走行抵抗が小さい。

【００３３】なお、四フッ化エチレンの含有量が２０ｖ
ｏｌ％未満の場合は、ぬれ角が６０度未満になり、非磁
性支持体２の走行抵抗が増加してコンタクトロール１１
の回転速度が不規則となり、スティックスリップや微小
振動を発生し、更には、上流側、下流側のコンタクトロ
ール１１の表面に汚れが蓄積され、塗布ムラやスクラッ
チ等の品質劣化を招くことになる。また、表面粗度が
０．５μｍ未満および１．６μｍ以上になるように表面
研磨加工を施した場合にも上記のような品質劣化が発生
する。

【００３４】逆に、四フッ化エチレンの含有量が３１ｖ
ｏｌ％以上である場合は、ぬれ角が８１度以上になるの
で、走行抵抗が減少してコンタクトロールの回転による
振動の影響が緩和される回転抑制効果を期待できる。し
かしながら、四フッ化エチレンは軟らかい素材であるの
で、その含有率が上昇すると、表面の精度（振れ、うね
りである真直度等）が損なわれ、耐久性が低下する。

【００３５】なお、硬度の向上を目的として複合メッキ
被膜１１ｂに対して熱処理（例えば４００℃〜５００℃
による熱処理）を施すことも考えられるが、熱による変
形（歪み）等で振れが発生したり、真直の精度が低下す
る場合があり、また、ぬれ角が６０度未満、つまり、四
フッ化エチレンの含有率が２０ｖｏｌ％未満である場合
と同じ状態になることから、熱処理は、あまり好ましい
とはいえない。

【００３６】なお、複合メッキ被膜１１ｂの膜厚は、１
０μｍ〜３０μｍ程度とされているが、これは膜厚が１
０μｍ未満の場合は耐久性が低下し、逆に、３０μｍを
越えるとガイドロール表面の精度（真直度等）が損なわ
れ、非磁性支持体２の走行が不安定になり、リンケルや
スリップシフトが発生し易くなるためである。

【００３７】次に、本発明のコンタクトロール１１を使
用することによる非磁性支持体２の走行が安定化された
ことを実証するために、本発明のコンタクトロール（実
施例１〜４）と従来のコンタクトロール（比較例１〜
８）を比較検討する実験を行った。その結果を表１に示
す。

【００３８】

【表１】 なお、無電解ニッケルメッキ中に四フッ化エチレン微粉
末微粒子を均一に分散共析した複合メッキとしては、市
販されている日本カニゼン社のカニフロン（商品名）を
用いているが、これに限定されるものでない。非磁性支
持体２としては、６．０μｍ厚または、６２μｍ厚のポ
リエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を使用
し、この非磁性支持体２の６．０μｍ厚を５００ｍ／分
で、また、６２μｍ厚を１５０ｍ／分となるように走行
速度を設定した。そして、上記塗布装置で得られた磁気
テープについて、コンタクトロール１１の位置におい
て、塗装ムラ（縦状のムラや横段模様等）、スクラッ
チ、および、コンタクトロール１１の汚れを観察した。

【００３９】各評価項目に示す○印は、塗りムラが無
く、塗膜表面または非磁性支持体２の表面にスクラッチ
発生が無く、また、コンタクトロール１１にも汚れが無
い状態を示している。△印は、若干の塗りムラやスクラ
ッチがマクロ透過顕微鏡や低倍率（５０倍等）顕微鏡等
により観察されるが、その程度が自社規格内にあり、ま
た、コンタクトロール１１に若干の汚れが観察され、ス
クラッチ等の影響があった状態を示す。×印は、塗布ム
ラやスクラッチが塗膜形成状態で観察され、画質、ノイ
ズなどの特性が自社規格外の場合である状態を示してい
る。

【００４０】この表に示す実施例１では、アルミニウム
のロール１１ａの表面に四フッ化エチレン微粉末微粒子
の含有量が２０〜２５ｖｏｌ％である複合メッキ被膜１
１ｂが形成されたコンタクトロール１１が用いられてい
る。複合メッキ被膜１１ｂの表面粗度は０．５〜１．０
μｍであり、また、水に対するぬれ角（接触角度）は７
０〜７７度となるように設定されている。この実施例１
の実験結果は、塗りムラ、スクラッチ、コンタクトロー
ルの汚れの何れも発生していない。

【００４１】次に示す実施例２では、スチールのロール
１１ａに四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量が２０
〜２５ｖｏｌ％の複合メッキ被膜１１ｂが形成されたコ
ンタクトロール１１が用いられている。複合メッキ被膜
１１ｂの表面粗度は１．１〜１．５μｍであり、また、
水に対するぬれ角は６０〜６８度となるように設定され
ている。この実施例２の場合でも、塗りムラ、スクラッ
チ、コンタクトロールの汚れは何れも発生していない。

【００４２】実施例３では、アルミニウムのロール１１
ａに四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量が２６〜３
０ｖｏｌ％の複合メッキ被膜１１ｂが形成されたコンタ
クトロール１１が用いられている。複合メッキ被膜１１
ｂの表面粗度は０．５〜１．０μｍであり、また、水に
対するぬれ角は７５〜８０度となるように設定されてい
る。この実施例３の場合でも、塗りムラ、スクラッチ、
コンタクトロールの汚れは何れも発生していない。

【００４３】実施例４では、スチールのロール１１ａに
四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量が２６〜３０ｖ
ｏｌ％の複合メッキ被膜１１ｂが形成されたコンタクト
ロール１１が用いられている。複合メッキ被膜１１ｂの
表面粗度は１．１〜１．５μｍであり、また、水に対す
るぬれ角は６５〜７２度となるように設定されている。
この実施例４の場合でも、塗りムラ、スクラッチ、コン
タクトロールの汚れは何れも発生していない。

【００４４】以上に示した実施例１〜４では、何れの場
合も、四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量は２０〜
３０ｖｏｌ％の範囲であり、また、表面粗度は０．５μ
ｍ〜１．５μｍであり、更に、ぬれ角は６０〜８０度の
範囲とされている。このような範囲内では、塗りムラ、
スクラッチ、コンタクトロールの汚れの何れも発生して
いないことが分かる。

【００４５】比較例１〜４は、実施例１〜４の場合と同
様の複合メッキ皮膜を形成した場合であって、四フッ化
エチレンの含有率その他を前述の場合とは異なる範囲に
設定した場合の結果を示している。

【００４６】即ち、比較例１では、スチールのロール１
１ａに四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量が２０ｖ
ｏｌ％未満の複合メッキ被膜１１ｂが形成されたコンタ
クトロール１１が用いられている。複合メッキ被膜１１
ｂの表面粗度は０．３〜０．７μｍであり、また、水に
対するぬれ角は５０〜５９度となるように設定されてい
る。この比較例１の場合では、若干の塗りムラ、スクラ
ッチ、コンタクトロールの汚れが発生している。

【００４７】比較例２では、スチールのロール１１ａに
四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量が２０ｖｏｌ％
未満の複合メッキ被膜１１ｂが形成されたコンタクトロ
ール１１が用いられている。複合メッキ被膜１１ｂの表
面粗度は１．３〜１．８μｍであり、また、水に対する
ぬれ角は４５〜５０度となるように設定されている。こ
の比較例２の場合でも、若干の塗りムラ、スクラッチ、
コンタクトロールの汚れが発生している。

【００４８】比較例３では、スチールのロール１１ａに
四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量が３１ｖｏｌ％
以上の複合メッキ被膜１１ｂが形成されたコンタクトロ
ール１１が用いられている。複合メッキ被膜１１ｂの表
面粗度は０．７〜１．２μｍであり、また、水に対する
ぬれ角は８５〜８８度となるように設定されている。こ
の比較例３の場合でも、若干の塗りムラ、スクラッチ、
コンタクトロールの汚れが発生している。

【００４９】比較例４では、スチールのロール１１ａに
四フッ化エチレン微粉末微粒子の含有量が３１ｖｏｌ％
以上の複合メッキ被膜１１ｂが形成されたコンタクトロ
ール１１が用いられている。複合メッキ被膜１１ｂの表
面粗度は１．４〜１．８μｍであり、また、水に対する
ぬれ角は８１〜８５度となるように設定されている。こ
の比較例４の場合でも、若干の塗りムラ、スクラッチ、
コンタクトロールの汚れが発生している。

【００５０】以上の比較例１〜４に示すように、実施例
１〜４において示した範囲を逸脱した場合には、若干の
塗りムラ、スクラッチ、コンタクトロールの汚れが発生
することになる。

【００５１】次に、比較例５〜８では、硬質クロームま
たは硬質アルマイトが形成されたコンタクトロールを使
用した場合の実験結果を示している。このような場合に
は、何れの場合も良好な結果が示されていない。

【００５２】即ち、比較例５では、スチールのロールに
硬質クロームの被膜が形成されたコンタクトロールが用
いられている。硬質クロームの被膜の表面粗度は０．３
〜０．４μｍであり、また、水に対するぬれ角は４５〜
５０度となるように設定されている。この比較例５の実
験結果は、コンタクトロールの汚れ以外は、全て規格外
となっている。

【００５３】比較例６では、スチールのロールに硬質ク
ロームの被膜が形成されたコンタクトロール１１が用い
られている。硬質クロームの被膜の表面粗度は０．５〜
１．０μｍであり、また、水に対するぬれ角は３７〜４
２度となるように設定されている。この比較例６の場合
では、全ての項目が規格外となっている。

【００５４】比較例７では、アルミニウムのロールに硬
質アルマイトの被膜が形成されたコンタクトロールが用
いられている。硬質アルマイトの被膜の表面粗度は０．
３〜０．４μｍであり、また、水に対するぬれ角は５０
〜５９度となるように設定されている。この比較例７の
場合では、コンタクトロールの汚れ以外は、全て規格外
となっている。

【００５５】比較例８では、アルミニウムのロールに硬
質アルマイトの被膜が形成されたコンタクトロールが用
いられている。硬質アルマイトの被膜の表面粗度は０．
５〜１．０μｍであり、また、水に対するぬれ角は４５
〜５０度となるように設定されている。この比較例８の
場合では、全ての項目が規格外となっている。

【００５６】なお、図４〜６に示す従来例も対象として
実験を試みたが、何れの場合も表面に形成された凹凸に
よって微小な振動が発生し、実験を継続する意義を有し
なかったのでこれらについては表から除外した。

【００５７】以上から分かるように、実施例１〜４に示
すように、四フッ化エチレンの含有量が２０ｖｏｌ％〜
３０ｖｏｌ％の範囲に設定し、表面処理後の表面粗度を
０．５μｍ〜１．５μｍ程度とし、また、ぬれ角を６０
度〜８０度程度に設定することにより、良好な塗布状態
が得を得ることができる。

【００５８】なお、比較例１〜４のように四フッ化エチ
レンの含有量が２０ｖｏｌ％未満では、表面粗度を０．
３μｍ〜１．７μｍにしてもぬれ角が小さくなって摩擦
抵抗が高くなる傾向にあり、コンタクトロールの回転増
加に伴う回転不良や微少振動によって塗布ムラ等が発生
し易くなる。

【００５９】以上に述べたように、本発明によれば、塗
布装置の塗布部の上流側および下流側に配置されている
コンタクトロールの表面に、無電解ニッケルメッキ中に
四フッ化エチレン微粉末微粒子を均一に分散共析した複
合メッキ皮膜を形成するようにしたので、良好なロール
表面粘度や摺動性を確保でき、塗装膜の厚みが薄い場合
や、非磁性支持体の走行を高速化した場合でも非磁性支
持体の走行を安定化することが可能となる。

【００６０】また、本発明によれば、走行速度が遅い場
合でも従来の場合と比較して走行抵抗が少なくなり、コ
ンタクトロールの回転を抑制することができるため、結
果的に塗布ムラ、スクラッチ等の発生を抑制することが
できる。

【００６１】特に、四フッ化エチレンの含有量を２０ｖ
ｏｌ％〜３０ｖｏｌ％とし、その表面粗度が０．５μｍ
〜１．５μｍ程度となるように研磨加工を行い、水との
ぬれ角が６０度〜８０度の範囲となるようにした場合に
は、接触抵抗に起因して発生するコンタクトロールの汚
れや塵挨の堆積等を防止することができる。また、それ
らの要因に端を発する微振動の発生や、ロール回転不良
等の発生を抑制するとともに、コンタクトロールの汚れ
に起因するスクラッチを防止することもできる。その結
果として、塗布状態を良好に保つことが可能となる。

【００６２】なお、以上の実施の形態では、エクトルル
ージョン型の塗布装置に使用されているコンタクトロー
ルを例として説明を行ったが、例えば、グラビアロール
塗布装置において平滑化処理を行うスムーザー装置のガ
イドロールや塵埃等が付着することを防止するガイドロ
ールに対して本発明を適用することも可能である。

【００６３】また、以上の実施の形態では、フッ素樹脂
の微粒子を含有する金属−フッ素樹脂複合メッキとし
て、無電解ニッケル−ＰＴＦＥ複合メッキを例示した
が、パーフルオロエチレン（ＰＦＥ）又はパーフルオロ
アルコキシ（ＰＦＡ）等の他のフッ素樹脂の微粒子を無
電解ニッケルメッキに分散共析させた複合メッキを用い
てもよい。

【００６４】

【発明の効果】以上説明したように本発明のガイドロー
ル装置によれば、導電性を有するロール表面に金属被膜
中にフッ素樹脂が分散共析された複合メッキ層を形成す
るようにしたので、塗布する塗料の膜厚が薄い場合や、
高速走行時でも非磁性支持体を安定して走行させること
ができる。また、コンタクトロールへの汚れや塵埃の付
着を防止することができる。

【００６５】更に、本発明の塗布装置によれば、非磁性
支持体の表面に塗料を安定して塗布し、乾燥、巻き取り
までの安定走行が行えるとともに、塗布面の品質や形状
品質を向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の構成例を示す模式図であ
る。

【図２】図１に示すコンタクトロールと塗布部の構成例
を示す模式図である。

【図３】（Ａ）は本発明のコンタクトロール装置の構成
例を示す外観図であり、（Ｂ）はその要部の断面を示す
断面図である。

【図４】従来のガイドロール装置の構成例を示す平面図
である。

【図５】従来のガイドロール装置の他の構成例を示す平
面図である。

【図６】従来のガイドロール装置の更に他の構成例を示
す平面図である。

【符号の説明】

１…巻き出しロール、２…非磁性支持体、３ａ，３ｂ…
駆動ロール、４…ニップロール、５…塗布部、７ａ，７
ｂ…ターンロール、８…乾燥装置、９…巻き取りロー
ル、１０…ガイドロール、１１…コンタクトロール、１
２…ポンプ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薄膜の走行を案内するガイドロール装置
   において、 導電性を有する素材から構成されるロールの表面に、金
   属被膜中にフッ素樹脂が分散共析された複合メッキ層が
   形成されていることを特徴とするガイドロール装置。
2. 【請求項２】 前記フッ素樹脂の含有率は、２０ｖｏｌ
   ％乃至３０ｖｏｌ％であることを特徴とする請求項１記
   載のガイドロール装置。
3. 【請求項３】 前記複合メッキ層の表面の水に対するぬ
   れ角は、６０度乃至８０度であることを特徴とする請求
   項１記載のガイドロール装置。
4. 【請求項４】 前記複合メッキ層の表面粗度は、０．５
   μｍ乃至１．５μｍであることを特徴とする請求項１記
   載のガイドロール装置。
5. 【請求項５】 前記ロールの表面粗度は、０．３μｍ以
   下であることを特徴とする請求項１記載のロールガイド
   装置。
6. 【請求項６】 前記金属被膜は、無電解ニッケルメッキ
   被膜であり、 前記フッ素樹脂は、四フッ化エチレンであることを特徴
   とする請求項１記載のガイドロール装置。
7. 【請求項７】 薄膜を連続的に走行させ、その表面に所
   定の塗料を塗布する塗布装置において、 前記薄膜を巻き出しロールから巻き出す巻き出し機構部
   と、 前記巻き出し機構部によって巻き出された前記薄膜を巻
   き取る巻き取り機構部と、 前記巻き出し機構部と前記巻き取り機構部の間に配置さ
   れ、前記薄膜の表面に対して前記所定の塗料を塗布する
   塗布機構部と、 前記塗布機構部の上流側と下流側に配置されたコンタク
   トロールにより、前記薄膜が所定の膜圧により前記塗布
   機構部に当接するように保持するコンタクトロール機構
   部と、を有し、 前記コンタクトロールは、導電性を有する素材から構成
   されるロールの表面に、金属被膜中にフッ素樹脂が分散
   共析された複合メッキ層が形成されていることを特徴と
   する塗布装置。