JPH02214574A - 塗布方法 - Google Patents
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、走行する支持体上に、複数の塗布液を同時ま
たは逐次重層塗布する改良された方法に関する。
たは逐次重層塗布する改良された方法に関する。
[発明の背景]
走行する可撓性支持体上に樹脂成分を含む塗料を塗布し
たのち乾燥して製品を得る技術、たとえば磁気記録媒体
を製造する技術において、複数の塗布液を支持体上に同
時または逐次に重層塗布する方法の一つとして、特開昭
63−164023号には、連続移動している可撓性支
持体上に実質的に同一特性の複数の塗布液を互いに未乾
燥の状態の上に重ね合わせるように連続塗布し、かつそ
の最終塗布層はエクストルージョンコーターを使用し、
該ヘッドから吐出する塗布液の液圧力によりコーターと
支持体との間隙を保持するようにして塗布することを要
旨とする方法が提案されている。
たのち乾燥して製品を得る技術、たとえば磁気記録媒体
を製造する技術において、複数の塗布液を支持体上に同
時または逐次に重層塗布する方法の一つとして、特開昭
63−164023号には、連続移動している可撓性支
持体上に実質的に同一特性の複数の塗布液を互いに未乾
燥の状態の上に重ね合わせるように連続塗布し、かつそ
の最終塗布層はエクストルージョンコーターを使用し、
該ヘッドから吐出する塗布液の液圧力によりコーターと
支持体との間隙を保持するようにして塗布することを要
旨とする方法が提案されている。
このように、エクストルージョンコーターを支持体に押
し付けて塗布液を塗布する方法は、平滑で良好な塗布層
を得ることができる。
し付けて塗布液を塗布する方法は、平滑で良好な塗布層
を得ることができる。
ところで、エクストルージョンコーターにより、2層同
時重層塗布を行う場合は、従来においては上層と下層は
同じ塗布幅で塗布し、上下の塗布面が支持体上でずれな
いようにコーターをセツティングするときにその位置を
調節している。ところが、この方法ではコーターのセツ
ティングが少しでもずれると、上層と下層の塗布位置が
支持体上でずれてしまい、塗布面の幅方向の両端部にお
いて上層部分と下層部分の各単独しか塗布されない部分
が生じる。
時重層塗布を行う場合は、従来においては上層と下層は
同じ塗布幅で塗布し、上下の塗布面が支持体上でずれな
いようにコーターをセツティングするときにその位置を
調節している。ところが、この方法ではコーターのセツ
ティングが少しでもずれると、上層と下層の塗布位置が
支持体上でずれてしまい、塗布面の幅方向の両端部にお
いて上層部分と下層部分の各単独しか塗布されない部分
が生じる。
この場合、下層だけしか塗布されない部分においては格
別の問題はないが、上層だけしか塗布されない部分にお
いては、下層の欠如によりその部分におけるエクストル
ージョンコーターの押圧か弱く、このためこの部分に空
気が混入して塗布ムラが生じる。
別の問題はないが、上層だけしか塗布されない部分にお
いては、下層の欠如によりその部分におけるエクストル
ージョンコーターの押圧か弱く、このためこの部分に空
気が混入して塗布ムラが生じる。
そして、このように塗布ムラが生じると、その後の巻取
り工程において巻乱れや巻きシワが起こり、またキュア
ー処理時にシワが発生したり、さらにスリッティング(
切り込み)ができなくなる等のトラブルが生じる。
り工程において巻乱れや巻きシワが起こり、またキュア
ー処理時にシワが発生したり、さらにスリッティング(
切り込み)ができなくなる等のトラブルが生じる。
[発明の目的1
本発明はエクストルージョンコータを使用して走行する
支持体上に塗布液を重層塗布した場合に生じる叙上の欠
陥を是正することを目的としたものであって、この目的
は次に述べる二つの発明により達成することができる。
支持体上に塗布液を重層塗布した場合に生じる叙上の欠
陥を是正することを目的としたものであって、この目的
は次に述べる二つの発明により達成することができる。
[発明の構成]
この出願の第1の発明は走行する支持体上に複数の塗布
液を重層塗布するにあたり、最下層(第1層)以外の層
の塗布にエクストルージョンコーターを使用し、かつ塗
布層が上層になるにしたがい、その塗布幅を狭くするこ
とを特徴とする塗布方法を要旨とするものであり、第2
の発明は走行する支持体上に複数の塗布液を重層塗布す
るにあたり、最下層(第1層)以外の層の塗布にエクス
トルージョンコーターを使用し、かつ塗布層が上層にな
るにしたがい、その塗布幅を最下層と同一かまたは狭く
し、そしてエクストルージョンコーターが支持体の幅方
向(長手方向に対して直角方向)に移動可能であること
を特徴とする塗布方法を要旨とするものである。
液を重層塗布するにあたり、最下層(第1層)以外の層
の塗布にエクストルージョンコーターを使用し、かつ塗
布層が上層になるにしたがい、その塗布幅を狭くするこ
とを特徴とする塗布方法を要旨とするものであり、第2
の発明は走行する支持体上に複数の塗布液を重層塗布す
るにあたり、最下層(第1層)以外の層の塗布にエクス
トルージョンコーターを使用し、かつ塗布層が上層にな
るにしたがい、その塗布幅を最下層と同一かまたは狭く
し、そしてエクストルージョンコーターが支持体の幅方
向(長手方向に対して直角方向)に移動可能であること
を特徴とする塗布方法を要旨とするものである。
これらの両発明にしたがえば、走行する支持体上にエク
ストルージョンコーターを用いて塗布液を同時または逐
次重層塗布した場合においても、塗布層の端部において
上層のみしか塗布されない部分が発生することがないの
で、製品の巻き乱れ、巻取りシワ等が発生することがな
く、かつキュアー処理やスリッティング等を支障なく行
うことができる。
ストルージョンコーターを用いて塗布液を同時または逐
次重層塗布した場合においても、塗布層の端部において
上層のみしか塗布されない部分が発生することがないの
で、製品の巻き乱れ、巻取りシワ等が発生することがな
く、かつキュアー処理やスリッティング等を支障なく行
うことができる。
本発明は、その技術的思想から明らかなように、単に、
先に例示した磁気記録媒体の製造その他写真用フィルム
等の製造技術のみに適用されるものではなく、およそ走
行する可撓性支持体上に樹脂様成分を含む塗料を重層塗
布したのち乾燥して製品と成す技術を含むものであれば
、いかなる技術にも適用可能であって、用いられる支持
体としては、たとえば特開昭63−164023号に記
載されているような支持体、すなわち、一般にその幅が
0.3mm〜3 tas長さが45m−10,000m
、厚さが5〜200μ鴫のポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレン−2゜6−す7タレート、セルロースダ
イアセテート、セルローストリアセテート、セルロース
アセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミ
ド等のプラスチックフィルム;紙;紙にポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレンブテンJ[合体等の炭素数が
2〜lOのα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネー
トした紙;アルミニウム、銅、錫等の金属箔からなる可
撓性帯状物、あるいは該帯状物を基材としてその表面に
予備的な加工層を形成せしめている帯状物が含まれる。
先に例示した磁気記録媒体の製造その他写真用フィルム
等の製造技術のみに適用されるものではなく、およそ走
行する可撓性支持体上に樹脂様成分を含む塗料を重層塗
布したのち乾燥して製品と成す技術を含むものであれば
、いかなる技術にも適用可能であって、用いられる支持
体としては、たとえば特開昭63−164023号に記
載されているような支持体、すなわち、一般にその幅が
0.3mm〜3 tas長さが45m−10,000m
、厚さが5〜200μ鴫のポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレン−2゜6−す7タレート、セルロースダ
イアセテート、セルローストリアセテート、セルロース
アセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミ
ド等のプラスチックフィルム;紙;紙にポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレンブテンJ[合体等の炭素数が
2〜lOのα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネー
トした紙;アルミニウム、銅、錫等の金属箔からなる可
撓性帯状物、あるいは該帯状物を基材としてその表面に
予備的な加工層を形成せしめている帯状物が含まれる。
以下、本発明を、たとえば磁気記録媒体の製造に適用し
た場合の一般的実施態様について説明すると、第1図に
おいて、lは巻出しロール、2は可撓性支持体、3は搬
送ロール、4は第1の塗布装置[最下層(第1層)形成
用塗布装置] 5は第2の塗布装置[上層(第2層)形
成用エクストルージョンコーター] 6は磁場配向用永
久磁石装置、7は乾燥装置、8はカレンダーロ、9は取
りロールである。
た場合の一般的実施態様について説明すると、第1図に
おいて、lは巻出しロール、2は可撓性支持体、3は搬
送ロール、4は第1の塗布装置[最下層(第1層)形成
用塗布装置] 5は第2の塗布装置[上層(第2層)形
成用エクストルージョンコーター] 6は磁場配向用永
久磁石装置、7は乾燥装置、8はカレンダーロ、9は取
りロールである。
まず、巻出しロールlより繰り出された可撓性支持体2
上に、第1の塗布装置4により磁性液を塗布して最下層
の磁性層を塗設する。
上に、第1の塗布装置4により磁性液を塗布して最下層
の磁性層を塗設する。
この除用いる第1の塗布装置は、もちろん第1図に示し
たようなエクストルージョンコーターを用いても何ら差
し支えはないが、本発明においてはこの第1層の形成用
は、エクストルージョンコート法に限定するものではな
く、たとえば、ロールコート、グラビアフート、スライ
ドビートコート等の公知の任意の塗布法で行うことがで
きる。
たようなエクストルージョンコーターを用いても何ら差
し支えはないが、本発明においてはこの第1層の形成用
は、エクストルージョンコート法に限定するものではな
く、たとえば、ロールコート、グラビアフート、スライ
ドビートコート等の公知の任意の塗布法で行うことがで
きる。
次いで、第1層がまだ湿潤状態を保っているうちに、こ
の第1層の上に最2層を塗布する。
の第1層の上に最2層を塗布する。
この際本発明においては、第2層の塗布幅を第1層の塗
布幅よりも狭くして上層のみが塗布される部分が生じな
いようにすることが必要とされる。
布幅よりも狭くして上層のみが塗布される部分が生じな
いようにすることが必要とされる。
さらに本発明においては、上層のみが塗布される部分が
生じないようにすることを完全なものにするためエクス
トルージョンコーター5は支持体の横幅方向(長手方向
に対して直角の方向)に移動可能にするようにすること
が好ましい。
生じないようにすることを完全なものにするためエクス
トルージョンコーター5は支持体の横幅方向(長手方向
に対して直角の方向)に移動可能にするようにすること
が好ましい。
さらに、本発明においては上下の塗布幅が同じである場
合にはエクストルージョンコーター5を支持体の横幅方
向の移動可能とし、上下の塗布面がずれないようにする
ことが必要とされる。
合にはエクストルージョンコーター5を支持体の横幅方
向の移動可能とし、上下の塗布面がずれないようにする
ことが必要とされる。
このようにして、同一または異なった組成の磁性液を塗
布して磁性層を形成させた支持体2は磁場配向用永久磁
石装置6内を通過させて磁性体粒子に磁場配向を加えた
後、乾燥装置7により乾燥させる。
布して磁性層を形成させた支持体2は磁場配向用永久磁
石装置6内を通過させて磁性体粒子に磁場配向を加えた
後、乾燥装置7により乾燥させる。
乾燥後の磁気記録媒体は次いでカレンダーロール8によ
り表面平滑化処理をした後、巻取りロール9により巻き
取られる。
り表面平滑化処理をした後、巻取りロール9により巻き
取られる。
本発明に用いられる磁性材料としては、例えば7−Fe
、O,、CO含含有−Fe、O,またはCo被被着−F
e20.のようなC0−1−Fe203、Fe50イC
o含有Fe、O,またはC。
、O,、CO含含有−Fe、O,またはCo被被着−F
e20.のようなC0−1−Fe203、Fe50イC
o含有Fe、O,またはC。
被着Fe50.のようなCo−7−Fe2O2; Cr
J等の酸化物磁性体、その他、たとえばFe、 Ni、
Fe−Ni合金。
J等の酸化物磁性体、その他、たとえばFe、 Ni、
Fe−Ni合金。
Fe−Co合金、 Fe−N1−P合金、Fe−Ni−
Co合金、 Fe−Mn−Zn合金、 Fe−Ni−Z
n合金、 Fe−Go−Ni−Cr合金、 Fe−C。
Co合金、 Fe−Mn−Zn合金、 Fe−Ni−Z
n合金、 Fe−Go−Ni−Cr合金、 Fe−C。
−Ni−P合金、 Co−P合金、 Co−Cr合金等
のFe、 Ni、 G。
のFe、 Ni、 G。
を主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁性体(粉末)
が挙げられる。これらの金属磁性体に対する添加物とし
てはSi、 Cu、 Zn、 A(2,P、 Mn、
Or等の元素又はこれらの化合物が含まれていても良い
。
が挙げられる。これらの金属磁性体に対する添加物とし
てはSi、 Cu、 Zn、 A(2,P、 Mn、
Or等の元素又はこれらの化合物が含まれていても良い
。
またバリウムフェライト等の六方晶系フェライト、窒化
鉄等も使用される。
鉄等も使用される。
本発明に用いられるバインダー樹脂としては、耐摩耗性
のあるポリウレタンが挙げられる。これは、他の物質に
対する接着力が強く、反復して加わる応用力または屈曲
に耐えて機械的に強靭であり、且つ耐摩耗性、耐候性が
良好である。
のあるポリウレタンが挙げられる。これは、他の物質に
対する接着力が強く、反復して加わる応用力または屈曲
に耐えて機械的に強靭であり、且つ耐摩耗性、耐候性が
良好である。
またポリウレタンの他に、繊維素系樹脂及び塩化ビニル
系共重合体を併用すれば、磁性層中の磁性粉の分散性が
向上してその機械的強度が増大する。但し繊維素系樹脂
及び塩化ビニル系共重合体のみでは層が硬くなりすぎる
が、これは上述のポリウレタンの存在によって防止でき
る。
系共重合体を併用すれば、磁性層中の磁性粉の分散性が
向上してその機械的強度が増大する。但し繊維素系樹脂
及び塩化ビニル系共重合体のみでは層が硬くなりすぎる
が、これは上述のポリウレタンの存在によって防止でき
る。
使用可能な繊維素系樹脂には、セルロースエーテル、セ
ルロース無機酸エステル、セルロース有機酸エステル等
が使用できる。上記のポリウレタン、塩化ビニル系共重
合体は、部分的に加水分解されていてもよい。塩化ビニ
ル系共重合体として、好ましくは、塩化ビニル−酢酸ビ
ニルを含む共重合体または塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコールを含む共重合体が挙げられる。
ルロース無機酸エステル、セルロース有機酸エステル等
が使用できる。上記のポリウレタン、塩化ビニル系共重
合体は、部分的に加水分解されていてもよい。塩化ビニ
ル系共重合体として、好ましくは、塩化ビニル−酢酸ビ
ニルを含む共重合体または塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコールを含む共重合体が挙げられる。
またフェノキシ樹脂も使用することができる。
フェノキシ樹脂は機械的強度が大きく、寸法安定性にす
ぐれ、耐熱、耐水、耐薬品性がよく、接着性がよい等の
長所を有する。
ぐれ、耐熱、耐水、耐薬品性がよく、接着性がよい等の
長所を有する。
これらの長所は前記したポリウレタンと長短相補って磁
気記録媒体の物性の経時安定性を著しく高めることがで
きる。
気記録媒体の物性の経時安定性を著しく高めることがで
きる。
更に前記したバインダー樹脂の他、熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂との混合
物が使用されてもよい。
化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂との混合
物が使用されてもよい。
磁気テープの磁性層の耐久性を向上させるために磁性塗
料に各種硬化剤を含有させることができ、例えばインシ
アナートを含有させることができる。
料に各種硬化剤を含有させることができ、例えばインシ
アナートを含有させることができる。
芳香族イソシアナートとしては、例えばトリレンジイソ
シアナート(TDI)等及びこれらイソシアナート活性
水素化合物との付加体などがあり、平均分子嚢としては
100〜3.000の範囲のものが好適である。
シアナート(TDI)等及びこれらイソシアナート活性
水素化合物との付加体などがあり、平均分子嚢としては
100〜3.000の範囲のものが好適である。
また脂肪族インシアナートとしては、ヘキサメチレンジ
イソシアナート(HMDI)等及びこれらインシアナー
トと活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これらの
脂肪族インシアナート及びこれらイソシアナートと活性
水素化合物の付加体などの中でも、好ましいのは分子量
が100〜3,000の範囲のものである。脂肪族イン
シアナートのなかでも非脂環式のインシアナート及びこ
れら化合物と活性水素化合物の付加体が好ましい。
イソシアナート(HMDI)等及びこれらインシアナー
トと活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これらの
脂肪族インシアナート及びこれらイソシアナートと活性
水素化合物の付加体などの中でも、好ましいのは分子量
が100〜3,000の範囲のものである。脂肪族イン
シアナートのなかでも非脂環式のインシアナート及びこ
れら化合物と活性水素化合物の付加体が好ましい。
上記磁性層を形成するのに使用される磁性塗料には分散
剤が使用され、また必要に応じ潤滑剤、研磨剤、マット
剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させてもよい。本発明
に使用される分散剤としては、燐酸エステル、アミン化
合物、アルキルサルフェート、脂肪酸アミド、高級アル
コール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スル
ホ琥珀酸エステル、公知の界面活性剤等及びこれらの塩
があり、また、陰性有機基(例えば−〇〇〇〇)を有す
る重合体分散剤の塩を使用することも出来る。
剤が使用され、また必要に応じ潤滑剤、研磨剤、マット
剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させてもよい。本発明
に使用される分散剤としては、燐酸エステル、アミン化
合物、アルキルサルフェート、脂肪酸アミド、高級アル
コール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スル
ホ琥珀酸エステル、公知の界面活性剤等及びこれらの塩
があり、また、陰性有機基(例えば−〇〇〇〇)を有す
る重合体分散剤の塩を使用することも出来る。
これら分散剤は1種類のみで用いても、或は2種類以上
を併用してもよい。また、潤滑剤としては、シリコーン
オイル、グラファイト、カーボンブラックグラフトポリ
マ、二硫化モリブテン、二硫化タングステン、ラウリル
酸、ミリスチン酸、炭素原子数12〜16の一塩基性脂
肪酸と該脂肪酸の炭素原子数と合計して炭素原子数が2
1〜23個の一価のアルコールから成る脂肪酸エステル
(いわゆる蝋)等も使用できる。これらの潤滑剤はバイ
ンダー100重量部に対して0.2〜20重量部の範囲
で添加される。
を併用してもよい。また、潤滑剤としては、シリコーン
オイル、グラファイト、カーボンブラックグラフトポリ
マ、二硫化モリブテン、二硫化タングステン、ラウリル
酸、ミリスチン酸、炭素原子数12〜16の一塩基性脂
肪酸と該脂肪酸の炭素原子数と合計して炭素原子数が2
1〜23個の一価のアルコールから成る脂肪酸エステル
(いわゆる蝋)等も使用できる。これらの潤滑剤はバイ
ンダー100重量部に対して0.2〜20重量部の範囲
で添加される。
研磨剤どしては、一般に使用される材料で熔融アルミナ
、αアルミナ等の各種アルミナ、炭化珪素、酸化クロム
、コランダム、人造コランダム、人造ダイヤモンド、ざ
くろ石、エメリ(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等が使
用される。これらの研磨剤は平均粒子径0.05〜5μ
mの大きさのものが使用され、特に好ましくは0.1〜
2μmである。これらの研磨剤は結合剤100重量部に
対して1〜20重量部の範囲で添加される。
、αアルミナ等の各種アルミナ、炭化珪素、酸化クロム
、コランダム、人造コランダム、人造ダイヤモンド、ざ
くろ石、エメリ(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等が使
用される。これらの研磨剤は平均粒子径0.05〜5μ
mの大きさのものが使用され、特に好ましくは0.1〜
2μmである。これらの研磨剤は結合剤100重量部に
対して1〜20重量部の範囲で添加される。
マット剤としては、有機質粉末或は無機質粉末を夫々に
或は混合して用いられる。
或は混合して用いられる。
用いられる有機質粉末としては、アクリルスチレン系樹
脂、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末
、フタロシアニン系顔料が好ましいが、ポリオレフィン
系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹
脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン樹脂
粉末等も使用でき、無機質粉末としては酸化珪素、酸化
チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化クロ
ム、炭化珪素、炭化カルシウム、α−Fe20.、タル
ク、カオリン、硫酸カルシウム、窒化硼素、弗化亜鉛、
二酸化モリブデンが挙げられる。
脂、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末
、フタロシアニン系顔料が好ましいが、ポリオレフィン
系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹
脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン樹脂
粉末等も使用でき、無機質粉末としては酸化珪素、酸化
チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化クロ
ム、炭化珪素、炭化カルシウム、α−Fe20.、タル
ク、カオリン、硫酸カルシウム、窒化硼素、弗化亜鉛、
二酸化モリブデンが挙げられる。
帯電防止剤としては、カーボンブラックをはじめ、グラ
ファイト、酸化錫−酸化アンチモン系化合物、酸化チタ
ン−酸化錫−酸化アンチモン系化合物などの導電性粉末
;サポニンなどの天然界面活性剤;アルキレンオキサイ
ド系、グリセリン系、グリシドール系などのノニオン界
面活性剤;高級アルキルアミン類、第4級アンモニウム
塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニウムまた
はスルホニウム類などのカチオン界面活性剤;カルボン
酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤ニアミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐
酸エステル類等の両性活性剤などがあげられる。
ファイト、酸化錫−酸化アンチモン系化合物、酸化チタ
ン−酸化錫−酸化アンチモン系化合物などの導電性粉末
;サポニンなどの天然界面活性剤;アルキレンオキサイ
ド系、グリセリン系、グリシドール系などのノニオン界
面活性剤;高級アルキルアミン類、第4級アンモニウム
塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニウムまた
はスルホニウム類などのカチオン界面活性剤;カルボン
酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤ニアミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐
酸エステル類等の両性活性剤などがあげられる。
磁性塗料に配合される溶媒或はこの塗料の塗布時の希釈
溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノール等の
アルコール類;酸エステル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
乳酸エチル、チレングリコール七ノアセテート等のエス
テル類;グリコールジメチルエーテル、グリコールモノ
エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ7ラン等の
エーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素;メチレンクロライド、工チレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素等のものが使用できる。
溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノール等の
アルコール類;酸エステル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
乳酸エチル、チレングリコール七ノアセテート等のエス
テル類;グリコールジメチルエーテル、グリコールモノ
エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ7ラン等の
エーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素;メチレンクロライド、工チレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素等のものが使用できる。
支持体と磁性層の中間には接着性を向上させる中間層を
設けても良い。
設けても良い。
さらに磁性塗布液を重層塗布する場合に、本発明の効果
を損なわない上で、各磁性層の上下又は中間に非磁性層
を設けてもよい。
を損なわない上で、各磁性層の上下又は中間に非磁性層
を設けてもよい。
支持体上に塗布された磁性層は必要により層中の強磁性
金属酸化物粉末を配向させる処理を施したのち、形成し
た磁性層を乾燥する。
金属酸化物粉末を配向させる処理を施したのち、形成し
た磁性層を乾燥する。
この場合、配向磁場は交流または直流で約500−50
00.0e程度であり、乾燥温度は約50−120°C
程度、乾燥時間は約0.5〜10分間程度である。また
、必要に応じて表面平滑化処理を施したり、所望の形状
に裁断したりして、本発明の磁気録媒媒体を製造する。
00.0e程度であり、乾燥温度は約50−120°C
程度、乾燥時間は約0.5〜10分間程度である。また
、必要に応じて表面平滑化処理を施したり、所望の形状
に裁断したりして、本発明の磁気録媒媒体を製造する。
本発明を実施するに当たり、上層の塗布幅を隣接する下
層の塗布幅よりも狭くして上層のみが塗布される部分が
生じない様にするかまたは上層の塗布幅が隣接する下層
の塗布幅と等しい場合には上層用のエクストルージョン
コーターについて支持体の横幅方向に可動なようにして
、上層のみが塗布される部分が生じないよう微調整をす
ることは言うまでもないが前者の場合においても、上層
用のエクストルージョンコーターについて支持体の横幅
方向に可動なようにすることが望ましい。
層の塗布幅よりも狭くして上層のみが塗布される部分が
生じない様にするかまたは上層の塗布幅が隣接する下層
の塗布幅と等しい場合には上層用のエクストルージョン
コーターについて支持体の横幅方向に可動なようにして
、上層のみが塗布される部分が生じないよう微調整をす
ることは言うまでもないが前者の場合においても、上層
用のエクストルージョンコーターについて支持体の横幅
方向に可動なようにすることが望ましい。
[実施例]
次に、実施例を用いて本発明を更に具体的に説明する。
支持体として、厚み15μm1幅550mmのポリエチ
レンテレフタレートフィルムを用い、メタル粉(BET
60m3/g)を有する3000cpsの磁性塗布液を
、第1図に示す製造装置を用い、ウエント膜厚で15μ
mに塗布し、乾燥して磁気記録シートを得た。
レンテレフタレートフィルムを用い、メタル粉(BET
60m3/g)を有する3000cpsの磁性塗布液を
、第1図に示す製造装置を用い、ウエント膜厚で15μ
mに塗布し、乾燥して磁気記録シートを得た。
第1図によりその製造法の概略を示すと、巻出しロール
lより繰り出した支持体2上に第1のエクストルージョ
ンコーター4により第1の磁性層(下層)を塗布する。
lより繰り出した支持体2上に第1のエクストルージョ
ンコーター4により第1の磁性層(下層)を塗布する。
ついで湿潤状態を維持している第1の塗布層の上に第2
のエクストルージョンコーター5を用いて第2の磁性層
を塗布する。
のエクストルージョンコーター5を用いて第2の磁性層
を塗布する。
このようにして、上下2層が塗布された支持体2は磁場
配向用永久磁石装置6内を通過した後、乾燥装置7内で
乾燥され、次いでカレンダーロール8で平滑化処理され
た後、巻取りロール9により巻き取られる。
配向用永久磁石装置6内を通過した後、乾燥装置7内で
乾燥され、次いでカレンダーロール8で平滑化処理され
た後、巻取りロール9により巻き取られる。
第1層および第2層の塗布条件と得られた結果第1表
判定基準
◎:巻乱れ無し
O:塗布面の片端で弱い巻乱れ発生。しかし、キュアー
スリッティングとも問題なし。
スリッティングとも問題なし。
Δ:塗布面の片端で弱い巻き乱れ発生。キュアーは悪化
したが、スリッティングは問題なし。
したが、スリッティングは問題なし。
×:巻乱れが発生し、キュアー時にシワ発生。スリッテ
ィングできず。
ィングできず。
××=巻取りシワ発生。
[発明の効果】
本発明に従えば、走行する支持体上にエクストルージョ
ンコーターを用いて塗布液を同時または逐次重布した場
合においても、塗布層の横幅方向の端部において上層の
みしか塗布されない部分が発生することがないので、製
品の巻き乱れ、巻取りシワ等が発生することなく、かつ
キュアー処理やスリッティング等を支障なく行うことが
できる。
ンコーターを用いて塗布液を同時または逐次重布した場
合においても、塗布層の横幅方向の端部において上層の
みしか塗布されない部分が発生することがないので、製
品の巻き乱れ、巻取りシワ等が発生することなく、かつ
キュアー処理やスリッティング等を支障なく行うことが
できる。
第1図は本発明の一実施態様を表す70−シートである
。 1 巻出しロール 2 支持体 3 搬送ロール 4 第1のエクストルージョンコーター5 第2のエク
ストルージョンコーター6 磁場配向用永久磁石装置 7 乾燥装置 8 カレンダロール 9 巻取りロール
。 1 巻出しロール 2 支持体 3 搬送ロール 4 第1のエクストルージョンコーター5 第2のエク
ストルージョンコーター6 磁場配向用永久磁石装置 7 乾燥装置 8 カレンダロール 9 巻取りロール
Claims (2)
- (1)走行する支持体上に複数の塗布液を重層塗布する
にあたり、最下層(第1層)以外の層の塗布にエクスト
ルージョンコーターを使用し、かつ塗布層が上層になる
にしたがい、その塗布幅を狭くすることを特徴とする塗
布方法。 - (2)走行する支持体上に複数の塗布液を重層塗布する
にあたり、最下層(第1層)以外の層の塗布にエクスト
ルージョンコーターを使用し、かつ塗布層が上層になる
にしたがい、その塗布幅を最下層と同一かまたは狭くし
、そしてエクストルージョンコーターの少なくとも1つ
を支持体の幅方向(長手方向に対して直角方向)に移動
可能であるようにすることを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3554389A JPH02214574A (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3554389A JPH02214574A (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | 塗布方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02214574A true JPH02214574A (ja) | 1990-08-27 |
Family
ID=12444645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3554389A Pending JPH02214574A (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | 塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02214574A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016131926A (ja) * | 2015-01-19 | 2016-07-25 | 住友ベークライト株式会社 | 塗工装置、塗工方法、金属箔張基板、回路基板、電子部品搭載基板および電子機器 |
-
1989
- 1989-02-14 JP JP3554389A patent/JPH02214574A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016131926A (ja) * | 2015-01-19 | 2016-07-25 | 住友ベークライト株式会社 | 塗工装置、塗工方法、金属箔張基板、回路基板、電子部品搭載基板および電子機器 |
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