JP2852865B2 - 塗布装置 - Google Patents
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/03—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
- B29C48/07—Flat, e.g. panels
- B29C48/08—Flat, e.g. panels flexible, e.g. films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/15—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. extrusion moulding around inserts
- B29C48/154—Coating solid articles, i.e. non-hollow articles
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は塗布装置に係り、特
に、多層の塗布膜を支持体上に形成するに好適な押し出
し型の塗布装置に関する。
に、多層の塗布膜を支持体上に形成するに好適な押し出
し型の塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、押し出し型塗布装置によっ
て、走行する支持体に多層の塗布液を押し出して多層塗
布膜を上記支持体上に形成する技術が知られている（特
開昭63-88080及び特開平2-251265の各公報に記載の発
明）。
て、走行する支持体に多層の塗布液を押し出して多層塗
布膜を上記支持体上に形成する技術が知られている（特
開昭63-88080及び特開平2-251265の各公報に記載の発
明）。
【０００３】このような従来技術では、１つの上流側リ
ップと、２以上の下流側リップと、上記各リップ間に形
成されて塗布液を押し出し可能な複数のスロット部とを
備えて塗布装置が構成され、上流側リップから下流側リ
ップの方向へ走行する支持体上に上記各スロット部から
同一もしくは異なった成分構成の塗布液が押し出される
ようになっている。これにより、上流側のスロット部に
おいて支持体に塗着された塗布液上に、下流側のスロッ
ト部から他の塗布液が重なって塗着されて、多層構造の
塗布膜が支持体上に形成される。
ップと、２以上の下流側リップと、上記各リップ間に形
成されて塗布液を押し出し可能な複数のスロット部とを
備えて塗布装置が構成され、上流側リップから下流側リ
ップの方向へ走行する支持体上に上記各スロット部から
同一もしくは異なった成分構成の塗布液が押し出される
ようになっている。これにより、上流側のスロット部に
おいて支持体に塗着された塗布液上に、下流側のスロッ
ト部から他の塗布液が重なって塗着されて、多層構造の
塗布膜が支持体上に形成される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述のような従来技術
では、支持体上に多層塗布膜が形成されるのであれば、
この多層塗布の表面性状が必ずしも平滑とはいえない。
つまり、条件によっては、多層塗布膜の表面にスジ状の
塗布むらが発生したり、上・下層塗布膜が存在しない部
分が表われて塗りむらが生ずることがある。
では、支持体上に多層塗布膜が形成されるのであれば、
この多層塗布の表面性状が必ずしも平滑とはいえない。
つまり、条件によっては、多層塗布膜の表面にスジ状の
塗布むらが発生したり、上・下層塗布膜が存在しない部
分が表われて塗りむらが生ずることがある。
【０００５】また、図４に示すように、支持体（ウエ
ブ）走行方向下流側に位置する第２下流側リップ３の塗
布作業面５が、支持体走行方向上流側に位置する第１下
流側リップ２の塗布作業面４における下流端ａでの接線
６から支持体側に突出していると、塗布膜の多層構造が
安定せず、場合によっては上層と下層が混ざってしまう
ことがある。尚、図４中の符号１は上流側リップを示
す。
ブ）走行方向下流側に位置する第２下流側リップ３の塗
布作業面５が、支持体走行方向上流側に位置する第１下
流側リップ２の塗布作業面４における下流端ａでの接線
６から支持体側に突出していると、塗布膜の多層構造が
安定せず、場合によっては上層と下層が混ざってしまう
ことがある。尚、図４中の符号１は上流側リップを示
す。
【０００６】この発明は、上述の事情を考慮してなされ
たものであり、塗布膜の多層構造を安定化できる塗布装
置を提供することを目的とする。
たものであり、塗布膜の多層構造を安定化できる塗布装
置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明
は、上流側リップと、支持体走行方向に関して、該上流
側リップの下流側に位置する第１下流側リップと第２下
流側リップを含む少なくとも２つの下流側リップであ
り、該少なくとも２つの下流側リップのうちの第２下流
側リップは支持体走行方向に関して、少なくとも２つの
下流側リップの第１下流側リップの下流に位置するよう
にし、上記上流側リップと第１下流側リップの間及び第
１下流側リップと第２下流側リップの間に形成されて塗
布液を押し出し可能とするスロット部を備え、上記上流
側リップ及び上記下流側リップに対向して走行する支持
体に上記塗布液を塗布する塗布装置において、上記それ
ぞれの下流側リップには、塗布液が支持体に接する塗布
作業面が形成され、第２下流側リップの塗布作業面は、
第１下流側リップの塗布作業面の下流端から引いた接線
より第２下流側リップの塗布作業面へ垂線を降ろし、こ
の垂線のうち最短の乗線の長さとして測定した最短距離
ｄによって支持体から離れるような位置にセットされ、
該最短距離は下式となるようにセットされるようにした
ものである。 ０．１＜ｔ／ｄ＜０．８ ここで、ｔは第１下流側リップと第２下流側リップの間
に位置するスロットから押し出された塗布液の押し出し
によって形成された直後の未乾燥状態の塗布膜の厚さを
表わす。
は、上流側リップと、支持体走行方向に関して、該上流
側リップの下流側に位置する第１下流側リップと第２下
流側リップを含む少なくとも２つの下流側リップであ
り、該少なくとも２つの下流側リップのうちの第２下流
側リップは支持体走行方向に関して、少なくとも２つの
下流側リップの第１下流側リップの下流に位置するよう
にし、上記上流側リップと第１下流側リップの間及び第
１下流側リップと第２下流側リップの間に形成されて塗
布液を押し出し可能とするスロット部を備え、上記上流
側リップ及び上記下流側リップに対向して走行する支持
体に上記塗布液を塗布する塗布装置において、上記それ
ぞれの下流側リップには、塗布液が支持体に接する塗布
作業面が形成され、第２下流側リップの塗布作業面は、
第１下流側リップの塗布作業面の下流端から引いた接線
より第２下流側リップの塗布作業面へ垂線を降ろし、こ
の垂線のうち最短の乗線の長さとして測定した最短距離
ｄによって支持体から離れるような位置にセットされ、
該最短距離は下式となるようにセットされるようにした
ものである。 ０．１＜ｔ／ｄ＜０．８ ここで、ｔは第１下流側リップと第２下流側リップの間
に位置するスロットから押し出された塗布液の押し出し
によって形成された直後の未乾燥状態の塗布膜の厚さを
表わす。
【０００８】また、請求項２に記載の発明は、上流側リ
ップと、支持体走行方向に関して、該上流側リップの下
流側に位置する第１下流側リップと第２下流側リップを
含む少なくとも２つの下流側リップであり、該少なくと
も２つの下流側リップのうちの第２下流側リップは支持
体走行方向に関して、少なくとも２つの下流側リップの
第１下流側リップの下流に位置するようにし、上記上流
側リップと第１下流側リップの間及び第１下流側リップ
と第２下流側リップの間に形成されて塗布液を押し出し
可能とするスロット部を備え、上記上流側リップ及び上
記下流側リップに対向して走行する支持体に上記塗布液
を塗布する塗布装置を用いた塗布方法において、上記そ
れぞれの下流側リップには、塗布液が支持体に接する塗
布作業面が形成され、第２下流側リップの塗布作業面
は、第１下流側リップの塗布作業面の下流端から引いた
接線より第２下流側リップの塗布作業面へ垂線を降ろ
し、この垂線のうち最短の垂線の長さとして測定した最
短距離ｄによって支持体から離れるような位置にセット
され、該最短距離は下式となるようにセットされるよう
にしたものである。 ０．１＜ｔ／ｄ＜０．８ ここで、ｔは第１下流側リップと第２下流側リップの間
に位置するスロットから押し出された塗布液の押し出し
によって形成された直後の未乾燥状態の塗布膜の厚さを
表わす。
ップと、支持体走行方向に関して、該上流側リップの下
流側に位置する第１下流側リップと第２下流側リップを
含む少なくとも２つの下流側リップであり、該少なくと
も２つの下流側リップのうちの第２下流側リップは支持
体走行方向に関して、少なくとも２つの下流側リップの
第１下流側リップの下流に位置するようにし、上記上流
側リップと第１下流側リップの間及び第１下流側リップ
と第２下流側リップの間に形成されて塗布液を押し出し
可能とするスロット部を備え、上記上流側リップ及び上
記下流側リップに対向して走行する支持体に上記塗布液
を塗布する塗布装置を用いた塗布方法において、上記そ
れぞれの下流側リップには、塗布液が支持体に接する塗
布作業面が形成され、第２下流側リップの塗布作業面
は、第１下流側リップの塗布作業面の下流端から引いた
接線より第２下流側リップの塗布作業面へ垂線を降ろ
し、この垂線のうち最短の垂線の長さとして測定した最
短距離ｄによって支持体から離れるような位置にセット
され、該最短距離は下式となるようにセットされるよう
にしたものである。 ０．１＜ｔ／ｄ＜０．８ ここで、ｔは第１下流側リップと第２下流側リップの間
に位置するスロットから押し出された塗布液の押し出し
によって形成された直後の未乾燥状態の塗布膜の厚さを
表わす。
【０００９】
【作用】本発明範囲である０．１＜ｔ／ｄ＜０．８の下
限値以下であるｔ／ｄ＝０．１では、メニスカスむらが
生じ、０．１＜ｔ／ｄ＜０．８の上限値以上であるｔ／
ｄ＝０．８では、斑点むら（塗りむら）が生じる。即
ち、本発明範囲である０．１＜ｔ／ｄ＜０．８にするこ
とは、安定した塗布を行なうために実用上極めて有用な
臨界的意義がある。
限値以下であるｔ／ｄ＝０．１では、メニスカスむらが
生じ、０．１＜ｔ／ｄ＜０．８の上限値以上であるｔ／
ｄ＝０．８では、斑点むら（塗りむら）が生じる。即
ち、本発明範囲である０．１＜ｔ／ｄ＜０．８にするこ
とは、安定した塗布を行なうために実用上極めて有用な
臨界的意義がある。
【００１０】
【００１１】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図１は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。図２は、図１の一部を
拡大して示す断面図である。図３は、図２のIII 部を更
に拡大して示す断面図である。
明する。図１は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。図２は、図１の一部を
拡大して示す断面図である。図３は、図２のIII 部を更
に拡大して示す断面図である。
【００１２】図１に示す塗布装置２０はエクストルージ
ョン型塗布装置であり、連続的に走行する支持体に塗布
膜を塗布して、多層状態の塗布膜を形成するものであ
る。ここで、支持体としてはプラスチック、紙、布或い
は金属等の可撓性シート又はウエブである。また、塗布
液としては磁性分散液、感光液、感熱分散液或いは粘着
液であり、それぞれ磁気記録媒体、写真フィルム、感熱
紙或いは粘着テープを製造するものである。この実施例
では、支持体としてウエブ２１を用い、塗布液として磁
性分散液２２Ａ、２２Ｂを用いて、磁気記録媒体を製造
する場合を示す。磁性分散液２２Ａ及び２２Ｂは後述の
ように成分構成が異なる塗布液である。
ョン型塗布装置であり、連続的に走行する支持体に塗布
膜を塗布して、多層状態の塗布膜を形成するものであ
る。ここで、支持体としてはプラスチック、紙、布或い
は金属等の可撓性シート又はウエブである。また、塗布
液としては磁性分散液、感光液、感熱分散液或いは粘着
液であり、それぞれ磁気記録媒体、写真フィルム、感熱
紙或いは粘着テープを製造するものである。この実施例
では、支持体としてウエブ２１を用い、塗布液として磁
性分散液２２Ａ、２２Ｂを用いて、磁気記録媒体を製造
する場合を示す。磁性分散液２２Ａ及び２２Ｂは後述の
ように成分構成が異なる塗布液である。
【００１３】塗布装置２０はダイヘッド２３を有し、こ
のダイヘッド２３上には、ウエブ２１の走行方向に順次
上流側リップ２４、第１下流側リップ２５、及び第２下
流側リップ２６が形成される。上流側リップ２４及び第
１下流側リップ２５間に第１スロット部２７が形成さ
れ、この第１スロット部２７が第１液バッファ部２８に
連通される。また、第１下流側リップ２５と第２下流側
リップ２６間に第２スロット部２９が形成され、この第
２スロット部２９が第２液バッファ３０に連通される。
のダイヘッド２３上には、ウエブ２１の走行方向に順次
上流側リップ２４、第１下流側リップ２５、及び第２下
流側リップ２６が形成される。上流側リップ２４及び第
１下流側リップ２５間に第１スロット部２７が形成さ
れ、この第１スロット部２７が第１液バッファ部２８に
連通される。また、第１下流側リップ２５と第２下流側
リップ２６間に第２スロット部２９が形成され、この第
２スロット部２９が第２液バッファ３０に連通される。
【００１４】上流側リップ２４、第１下流側リップ２５
及び第２下流側リップ２６は、ウエブ２１の幅とほぼ同
一幅に設定される。また、第１スロット部２７及び第１
液バッファ部２８は、上流側リップ２４及び第１下流側
リップ２５の全幅方向に延在して構成される。第２スロ
ット部２９及び第２液バッファ３０も、第１下流側リッ
プ２５及び第２下流側リップ２６の全幅方向に延在して
構成される。
及び第２下流側リップ２６は、ウエブ２１の幅とほぼ同
一幅に設定される。また、第１スロット部２７及び第１
液バッファ部２８は、上流側リップ２４及び第１下流側
リップ２５の全幅方向に延在して構成される。第２スロ
ット部２９及び第２液バッファ３０も、第１下流側リッ
プ２５及び第２下流側リップ２６の全幅方向に延在して
構成される。
【００１５】第１液バッファ部２８は第１液供給系３１
に接続され、この第１液供給系３１からの磁性分散液２
２Ａを、塗布幅方向において塗布量が一定となるよう分
配させ、第１スロット部２７へ供給する。第２液バッフ
ァ３０は、第２液供給系３２に接続され、この第２液供
給系３２からの磁性分散液２２Ｂを、塗布幅方向に塗布
量が一定となるよう分散させ、第２スロット部２９へ供
給する。
に接続され、この第１液供給系３１からの磁性分散液２
２Ａを、塗布幅方向において塗布量が一定となるよう分
配させ、第１スロット部２７へ供給する。第２液バッフ
ァ３０は、第２液供給系３２に接続され、この第２液供
給系３２からの磁性分散液２２Ｂを、塗布幅方向に塗布
量が一定となるよう分散させ、第２スロット部２９へ供
給する。
【００１６】ここで、ウエブ２１は、図示しないガイド
ローラ等に案内されて、上記上流側リップ２４、第１下
流側リップ２５及び第２下流側リップ２６に対し、背面
が支持されることなく走行する。この走行するウエブ２
１に、塗布装置２０の第１スロット部２７から磁性分散
液２２Ａが、第２スロット部２９から磁性分散液２２Ｂ
が順次連続的に押し出されて塗布され、ウエブ２１に塗
着された磁性分散液２２Ａ上に磁性分散液２２Ｂが塗着
されて、ウエブ２１の幅方向に均一な多層状態の塗布膜
３３（下層塗布膜３３Ａ、上層塗布膜３３Ｂ）が形成さ
れる。多層塗布膜３３Ａは磁性分散液２２Ａにより形成
され、上層塗布膜３３Ｂは磁性分散液２２Ｂにより形成
される。
ローラ等に案内されて、上記上流側リップ２４、第１下
流側リップ２５及び第２下流側リップ２６に対し、背面
が支持されることなく走行する。この走行するウエブ２
１に、塗布装置２０の第１スロット部２７から磁性分散
液２２Ａが、第２スロット部２９から磁性分散液２２Ｂ
が順次連続的に押し出されて塗布され、ウエブ２１に塗
着された磁性分散液２２Ａ上に磁性分散液２２Ｂが塗着
されて、ウエブ２１の幅方向に均一な多層状態の塗布膜
３３（下層塗布膜３３Ａ、上層塗布膜３３Ｂ）が形成さ
れる。多層塗布膜３３Ａは磁性分散液２２Ａにより形成
され、上層塗布膜３３Ｂは磁性分散液２２Ｂにより形成
される。
【００１７】上記第１下流側リップ２５、第２下流側リ
ップ２６のそれぞれの先端面で、ウエブ２１に対向し磁
性分散液２２Ａ、２２Ｂにそれぞれ接する面は、塗布に
寄与する塗布作業面３４、３５である。これらの塗布作
業面３４、３５は、ウエブ２１側に凸に湾曲して形成さ
れる。第１下流側リップ２５の塗布作業面３４において
ウエブ２１の走行方向に沿う下流端Ａから接線Ｔを引
き、この接線Ｔよりもウエブ２１に対し遠ざかる位置
に、第２下流側リップ２６の塗布作業面３５が設置され
る。この実施例では、上記接線Ｔと第２下流側リップ２
６の塗布作業面３５との距離をｄとし、第２スロット部
２９から押し出されて形成されて、第２下流側リップ２
６から離れた直後で未乾燥状態の上層塗布膜３３Ｂの膜
厚をｔとすると、上記距離ｄは、 0.1 ＜ｔ／ｄ＜1.0 の範囲に設定される。
ップ２６のそれぞれの先端面で、ウエブ２１に対向し磁
性分散液２２Ａ、２２Ｂにそれぞれ接する面は、塗布に
寄与する塗布作業面３４、３５である。これらの塗布作
業面３４、３５は、ウエブ２１側に凸に湾曲して形成さ
れる。第１下流側リップ２５の塗布作業面３４において
ウエブ２１の走行方向に沿う下流端Ａから接線Ｔを引
き、この接線Ｔよりもウエブ２１に対し遠ざかる位置
に、第２下流側リップ２６の塗布作業面３５が設置され
る。この実施例では、上記接線Ｔと第２下流側リップ２
６の塗布作業面３５との距離をｄとし、第２スロット部
２９から押し出されて形成されて、第２下流側リップ２
６から離れた直後で未乾燥状態の上層塗布膜３３Ｂの膜
厚をｔとすると、上記距離ｄは、 0.1 ＜ｔ／ｄ＜1.0 の範囲に設定される。
【００１８】ここで、距離ｄは、厳密には、第１下流側
リップ２５の塗布作業面３４の下流端Ａから引いた接線
Ｔより第２下流側リップ２６の塗布作業面３５へ垂線を
降ろし、この垂線のうち最短の垂線の長さとして定義さ
れる。
リップ２５の塗布作業面３４の下流端Ａから引いた接線
Ｔより第２下流側リップ２６の塗布作業面３５へ垂線を
降ろし、この垂線のうち最短の垂線の長さとして定義さ
れる。
【００１９】次に、表１及び表２に実験例を示す。これ
らの実験では、下層塗布膜３３Ａの成分構成は、重量比
で 鉄を主体とする針状金属粉末 100 重量部 アルミナ 7 重量部 カーボンブラック 3 重量部 スルホン酸基含有塩化ビニル−アクリル酸共重合体樹脂
8 重量部 スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 6 重量部 ステアリン酸 1 重量部 2 −エチルヘキシルミリステート 2 重量部 ポリイソシアネート 4 重量部 溶剤 230 重量部 （メチルエチルケトン／トルエン／シクロヘキサノン＝
2/1/2 ） である。また、上層塗布膜３３Ｂの成分構成は、重量比
で α酸化鉄（α−Ｆｅ2 Ｏ3 ） 100 重量部 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 10 重量部 ポリエステル系ポリウレタン樹脂 3 重量部 ブチルステアレート 1 重量部 オレイン酸 0.5重量部 溶剤 250 重量部 （メチルエチルケトン／トルエン／シクロヘキサノン＝
3/1/2 ） である。また、ウエブ２１の走行速度ｕは200m/minであ
る。ここで、ウエブ２１の幅をＷとし、第２スロット部
２９からの磁性分散液２２Ｂの押し出し量をＶとする
と、第２下流側リップ２６から離れた直後で半乾燥状態
の上層塗布膜３３Ｂの膜厚ｔは ｔ＝Ｖ／（Ｗ・ｕ） にて決定される。従って、磁性分散液２２Ｂの押し出し
量Ｖを調整して、上層塗布膜３３Ｂの膜厚ｔを所望の厚
さに設定する。
らの実験では、下層塗布膜３３Ａの成分構成は、重量比
で 鉄を主体とする針状金属粉末 100 重量部 アルミナ 7 重量部 カーボンブラック 3 重量部 スルホン酸基含有塩化ビニル−アクリル酸共重合体樹脂
8 重量部 スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 6 重量部 ステアリン酸 1 重量部 2 −エチルヘキシルミリステート 2 重量部 ポリイソシアネート 4 重量部 溶剤 230 重量部 （メチルエチルケトン／トルエン／シクロヘキサノン＝
2/1/2 ） である。また、上層塗布膜３３Ｂの成分構成は、重量比
で α酸化鉄（α−Ｆｅ2 Ｏ3 ） 100 重量部 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 10 重量部 ポリエステル系ポリウレタン樹脂 3 重量部 ブチルステアレート 1 重量部 オレイン酸 0.5重量部 溶剤 250 重量部 （メチルエチルケトン／トルエン／シクロヘキサノン＝
3/1/2 ） である。また、ウエブ２１の走行速度ｕは200m/minであ
る。ここで、ウエブ２１の幅をＷとし、第２スロット部
２９からの磁性分散液２２Ｂの押し出し量をＶとする
と、第２下流側リップ２６から離れた直後で半乾燥状態
の上層塗布膜３３Ｂの膜厚ｔは ｔ＝Ｖ／（Ｗ・ｕ） にて決定される。従って、磁性分散液２２Ｂの押し出し
量Ｖを調整して、上層塗布膜３３Ｂの膜厚ｔを所望の厚
さに設定する。
【００２０】表１はｄ＝10μm の実験例であり、表２は
ｄ＝ 5μm の実験例である。それぞれの実験例におい
て、膜厚ｔを変化させて塗布膜３３の多層構造の安定性
及び表面性状を観察すると、ｔ／ｄ＜1.0 で下層塗布膜
３３Ａ及び上層塗布膜３３Ｂの層間の境界が安定し、塗
布膜３３の表面に塗りむらがなくなる。特に、ｔ／ｄ＜
0.6 とすると、層間界面の安定性と表面性状が更に良好
になる。また、ｔ／ｄ＞0.1 で塗布液がダイリップ（作
業面３５）から離反する点において、塗布幅方向に発生
するメニスカスによってひき起こされるスジむらを低減
でき、ｔ／ｄ＞0.2 でメニスカスむらによるスジむらの
発生を完全に防止できる。
ｄ＝ 5μm の実験例である。それぞれの実験例におい
て、膜厚ｔを変化させて塗布膜３３の多層構造の安定性
及び表面性状を観察すると、ｔ／ｄ＜1.0 で下層塗布膜
３３Ａ及び上層塗布膜３３Ｂの層間の境界が安定し、塗
布膜３３の表面に塗りむらがなくなる。特に、ｔ／ｄ＜
0.6 とすると、層間界面の安定性と表面性状が更に良好
になる。また、ｔ／ｄ＞0.1 で塗布液がダイリップ（作
業面３５）から離反する点において、塗布幅方向に発生
するメニスカスによってひき起こされるスジむらを低減
でき、ｔ／ｄ＞0.2 でメニスカスむらによるスジむらの
発生を完全に防止できる。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
【００２３】上述のように、上記実施例よれば、0.1 ＜
ｔ／ｄ＜1.0 とし、好ましくは0.2＜ｔ／ｄ＜0.6 とす
ることで、多層塗布膜３３の多層構造を安定化でき、更
にメニスカスによるむらのない品質の良好な塗布膜３３
をウエブ２１上に形成できる。
ｔ／ｄ＜1.0 とし、好ましくは0.2＜ｔ／ｄ＜0.6 とす
ることで、多層塗布膜３３の多層構造を安定化でき、更
にメニスカスによるむらのない品質の良好な塗布膜３３
をウエブ２１上に形成できる。
【００２４】尚、上記実施例では、第１下流リップ２５
の塗布作業面３４及び第２下流リップ２６の塗布作業面
３５がともに湾曲な場合を述べたが、塗布作業面３４の
みが湾曲で塗布作業面３５が平面形状であっても良い。
また、上記実施例では、塗布膜３３が２層の場合を述べ
たが、３層以上の塗布膜を形成する塗布装置であっても
適用できる。
の塗布作業面３４及び第２下流リップ２６の塗布作業面
３５がともに湾曲な場合を述べたが、塗布作業面３４の
みが湾曲で塗布作業面３５が平面形状であっても良い。
また、上記実施例では、塗布膜３３が２層の場合を述べ
たが、３層以上の塗布膜を形成する塗布装置であっても
適用できる。
【００２５】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る塗布装置
によれば、塗布膜の多層構造を安定化できる。
によれば、塗布膜の多層構造を安定化できる。
【図１】図１は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。
示すダイヘッドの断面図である。
【図２】図２は、図１の一部を拡大して示す断面図であ
る。
る。
【図３】図３は、図２のIII 部を更に拡大して示す断面
図である。
図である。
【図４】図４は従来のダイヘッドを示す要部断面図であ
る。
る。
２０ 塗布装置 ２１ ウエブ ２２Ａ、２２Ｂ 磁性分散液 ２４ 上流側リップ ２５ 第１下流側リップ ２６ 第２下流側リップ ２７ 第１スロット部 ２９ 第２スロット部 ３３ 塗布膜 ３３Ａ 下層塗布膜 ３３Ｂ 上層塗布膜 ３４、３５ 塗布作業面 Ａ 第１下流側リップの塗布作業面における下流端 Ｔ 接線 ｔ 上層塗布膜の膜厚 ｄ 距離
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 武士 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式 会社内 (56)参考文献 特開 平４−4071（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−88080（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−296917（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B05C 5/00 - 5/02 B05D 1/00 - 7/26
Claims (2)
- 【請求項１】 上流側リップと、 支持体走行方向に関して、該上流側リップの下流側に位
置する第１下流側リップと第２下流側リップを含む少な
くとも２つの下流側リップであり、該少なくとも２つの
下流側リップのうちの第２下流側リップは支持体走行方
向に関して、少なくとも２つの下流側リップの第１下流
側リップの下流に位置するようにし、 上記上流側リップと第１下流側リップの間及び第１下流
側リップと第２下流側リップの間に形成されて塗布液を
押し出し可能とするスロット部を備え、上記上流側リッ
プ及び上記下流側リップに対向して走行する支持体に上
記塗布液を塗布する塗布装置において、 上記それぞれの下流側リップには、塗布液が支持体に接
する塗布作業面が形成され、 第２下流側リップの塗布作業面は、第１下流側リップの
塗布作業面の下流端から引いた接線より第２下流側リッ
プの塗布作業面へ垂線を降ろし、この垂線のうち最短の
垂線の長さとして測定した最短距離ｄによって支持体か
ら離れるような位置にセットされ、該最短距離は下式と
なるようにセットされることを特徴とする塗布装置。 ０．１＜ｔ／ｄ＜０．８ ここで、ｔは第１下流側リップと第２下流側リップの間
に位置するスロットから押し出された塗布液の押し出し
によって形成された直後の未乾燥状態の塗布膜の厚さを
表わす。 - 【請求項２】 上流側リップと、 支持体走行方向に関して、該上流側リップの下流側に位
置する第１下流側リップと第２下流側リップを含む少な
くとも２つの下流側リップであり、該少なくとも２つの
下流側リップのうちの第２下流側リップは支持体走行方
向に関して、少なくとも２つの下流側リップの第１下流
側リップの下流に位置するようにし、 上記上流側リップと第１下流側リップの間及び第１下流
側リップと第２下流側リップの間に形成されて塗布液を
押し出し可能とするスロット部を備え、上記上流側リッ
プ及び上記下流側リップに対向して走行する支持体に上
記塗布液を塗布する塗布装置を用いた塗布方法におい
て、 上記それぞれの下流側リップには、塗布液が支持体に接
する塗布作業面が形成され、 第２下流側リップの塗布作業面は、第１下流側リップの
塗布作業面の下流端から引いた接線より第２下流側リッ
プの塗布作業面へ垂線を降ろし、この垂線のうち最短の
垂線の長さとして測定した最短距離ｄによって支持体か
ら離れるような位置にセットされ、該最短距離は下式と
なるようにセットされることを特徴とする塗布方法。 ０．１＜ｔ／ｄ＜０．８ ここで、ｔは第１下流側リップと第２下流側リップの間
に位置するスロットから押し出された塗布液の押し出し
によって形成された直後の未乾燥状態の塗布膜の厚さを
表わす。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6077856A JP2852865B2 (ja) | 1993-12-28 | 1994-03-25 | 塗布装置 |
| DE4446466A DE4446466B4 (de) | 1993-12-28 | 1994-12-23 | Überzugsvorrichtung |
| US08/654,790 US5743722A (en) | 1993-12-28 | 1996-05-29 | Coating apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34896893 | 1993-12-28 | ||
| JP5-348968 | 1993-12-28 | ||
| JP6077856A JP2852865B2 (ja) | 1993-12-28 | 1994-03-25 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07232119A JPH07232119A (ja) | 1995-09-05 |
| JP2852865B2 true JP2852865B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=26418908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6077856A Expired - Fee Related JP2852865B2 (ja) | 1993-12-28 | 1994-03-25 | 塗布装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5743722A (ja) |
| JP (1) | JP2852865B2 (ja) |
| DE (1) | DE4446466B4 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0677712B2 (ja) * | 1986-09-30 | 1994-10-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| JP2691443B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1997-12-17 | コニカ株式会社 | ２層塗布方法とその装置 |
| JP2581975B2 (ja) * | 1989-04-05 | 1997-02-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| JP2565414B2 (ja) * | 1990-04-16 | 1996-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| JP2601367B2 (ja) * | 1990-04-20 | 1997-04-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP2684485B2 (ja) * | 1992-02-13 | 1997-12-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
-
1994
- 1994-03-25 JP JP6077856A patent/JP2852865B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-23 DE DE4446466A patent/DE4446466B4/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-05-29 US US08/654,790 patent/US5743722A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5743722A (en) | 1998-04-28 |
| DE4446466A1 (de) | 1995-06-29 |
| JPH07232119A (ja) | 1995-09-05 |
| DE4446466B4 (de) | 2005-05-25 |
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