JP3448955B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JP3448955B2 JP3448955B2 JP11605694A JP11605694A JP3448955B2 JP 3448955 B2 JP3448955 B2 JP 3448955B2 JP 11605694 A JP11605694 A JP 11605694A JP 11605694 A JP11605694 A JP 11605694A JP 3448955 B2 JP3448955 B2 JP 3448955B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、走行する支持体に塗
布液を塗布する塗布装置に係り、特に可撓性ウエブに磁
性分散液を塗布する塗布装置に関する。
布液を塗布する塗布装置に係り、特に可撓性ウエブに磁
性分散液を塗布する塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、薄膜塗布の高速化等の要請から、
エクストルージョン型塗布装置が各方面で採用されてい
る（特開昭 58-104666号、特開昭 60-238179号、特開昭
62-117666号及び特開平2-265672号の各公報に記載の発
明）。これらのエクストルージョン型塗布装置は、その
先端（以下、ダイヘッドと称する）に上流側リップ及び
下流側リップを備え、これらのリップ間に塗布液（例え
ば磁性分散液）を押出し可能なスロット部が形成され、
上流側リップ及び下流側リップに対向して走行する支持
体（例えばウエブ）に上記塗布液を塗布するものであ
る。
エクストルージョン型塗布装置が各方面で採用されてい
る（特開昭 58-104666号、特開昭 60-238179号、特開昭
62-117666号及び特開平2-265672号の各公報に記載の発
明）。これらのエクストルージョン型塗布装置は、その
先端（以下、ダイヘッドと称する）に上流側リップ及び
下流側リップを備え、これらのリップ間に塗布液（例え
ば磁性分散液）を押出し可能なスロット部が形成され、
上流側リップ及び下流側リップに対向して走行する支持
体（例えばウエブ）に上記塗布液を塗布するものであ
る。
【０００３】図４（Ａ）及び図５（Ａ）に示すように、
このようなエクストルージョン型塗布装置１、１１の上
流側リップ２、１２や下流側リップ３、１３のうち下流
側リップ３、１３は、その先端面（塗布作業面）の形状
が平面あるいは単一円弧面に形成されている。この理由
の一つは加工容易性である。つまり、下流側リップ３及
び１３は、超硬合金等の高硬度な材料にて構成され、然
も高度な加工精度（サブミクロン単位）が要求されるの
で、下流側リップ３及び１３の塗布作業面は平面や単一
円弧面等単純な形状に限定されている。尚、図４及び図
５中の符号４、１４はスロット部を示す。
このようなエクストルージョン型塗布装置１、１１の上
流側リップ２、１２や下流側リップ３、１３のうち下流
側リップ３、１３は、その先端面（塗布作業面）の形状
が平面あるいは単一円弧面に形成されている。この理由
の一つは加工容易性である。つまり、下流側リップ３及
び１３は、超硬合金等の高硬度な材料にて構成され、然
も高度な加工精度（サブミクロン単位）が要求されるの
で、下流側リップ３及び１３の塗布作業面は平面や単一
円弧面等単純な形状に限定されている。尚、図４及び図
５中の符号４、１４はスロット部を示す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、下側リップ
３及び１３の塗布作業面は、塗布速度や塗布膜厚、更に
は塗布液品種等の塗布操作条件に極めて密接な関係があ
り、この塗布操作条件を考慮してその形状が決定されな
ければならない。
３及び１３の塗布作業面は、塗布速度や塗布膜厚、更に
は塗布液品種等の塗布操作条件に極めて密接な関係があ
り、この塗布操作条件を考慮してその形状が決定されな
ければならない。
【０００５】例えば、下側リップ３の塗布作業面が平面
の塗布装置１では、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示すよう
に、下流側リップ３の塗布作業面とウエブ５との間に押
出されてウエブ５に作用する塗布液６の液圧は、下流側
リップ３の塗布作業面の上流端（点ｂ）に対応した位置
と、下流端（点ｃ）の直前に対応した位置とにおいて圧
力が集中し、大きくなる。点ｂ対応位置にて塗布液６の
液圧を所定値以上に設定することは、塗布膜にエア混入
に基づく塗膜欠陥を発生させない等の観点から必要であ
る。しかし、それ以外の位置においては、液圧を低く設
定して、ウエブ５に作用する負荷を低減する必要があ
る。従って、この塗布装置１の場合には、良好な塗布を
実現できる塗布操作条件の範囲が極めて狭いものとな
る。
の塗布装置１では、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示すよう
に、下流側リップ３の塗布作業面とウエブ５との間に押
出されてウエブ５に作用する塗布液６の液圧は、下流側
リップ３の塗布作業面の上流端（点ｂ）に対応した位置
と、下流端（点ｃ）の直前に対応した位置とにおいて圧
力が集中し、大きくなる。点ｂ対応位置にて塗布液６の
液圧を所定値以上に設定することは、塗布膜にエア混入
に基づく塗膜欠陥を発生させない等の観点から必要であ
る。しかし、それ以外の位置においては、液圧を低く設
定して、ウエブ５に作用する負荷を低減する必要があ
る。従って、この塗布装置１の場合には、良好な塗布を
実現できる塗布操作条件の範囲が極めて狭いものとな
る。
【０００６】また、下流側リップ１３の塗布作業面が単
一円弧面の塗布装置１１では、図５（Ａ）及び（Ｂ）に
示すように、下流側リップ１３の塗布作業面とウエブ５
との間に押出されてウエブ５に作用する塗布液６の液圧
は、点ｃの直前に対応した位置において集中しないが、
点ｂｃ間において不要な圧力が生成されてしまう。この
ため、塗布操作条件が僅かに変更されると、図５（Ｂ）
の破線に示す範囲で塗布液の圧力が変動し、ウエブ５に
作用する負荷が増大してしまう。このため、この塗布装
置１１の場合にも、良好な塗布を実現できる塗布操作条
件の範囲が狭くなってしまう。
一円弧面の塗布装置１１では、図５（Ａ）及び（Ｂ）に
示すように、下流側リップ１３の塗布作業面とウエブ５
との間に押出されてウエブ５に作用する塗布液６の液圧
は、点ｃの直前に対応した位置において集中しないが、
点ｂｃ間において不要な圧力が生成されてしまう。この
ため、塗布操作条件が僅かに変更されると、図５（Ｂ）
の破線に示す範囲で塗布液の圧力が変動し、ウエブ５に
作用する負荷が増大してしまう。このため、この塗布装
置１１の場合にも、良好な塗布を実現できる塗布操作条
件の範囲が狭くなってしまう。
【０００７】この発明は、上述の事情を考慮してなされ
たものであり、良好な塗布を実現できる塗布操作条件の
範囲を拡大できる塗布装置を提供することを目的とす
る。
たものであり、良好な塗布を実現できる塗布操作条件の
範囲を拡大できる塗布装置を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、上流側リップ及び下流側リップを備え、これらのリ
ップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が形成され、
上記上流側リップ及び下流側リップに対向して走行する
支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置であって、この
塗布装置の上流側及び下流側に位置し、前記支持体を上
記塗布装置に押し付けるべく配置された一対のガイドロ
ールを備えた塗布装置において、上記下流側リップに
は、上記支持体に対向して上記塗布液に接する塗布作業
面が形成され、上記塗布作業面と上記支持体との間に押
圧された上記塗布液の液圧が、上記塗布作業面の下流側
リップの上流端近傍で最大となり、下流に向かって略直
線状に減少し、下流端で最小となるように上記塗布作業
面は下式の３次関数形状に形成されたものである。 ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） 但し、上記下流側リップの上流端を原点とし、ｘ軸を下
流側を正として前記一対のガイドロールに対する塗布側
の接線と平行にとり、このｘ軸と直交し上記スロット部
からの塗布液押出し方向の反対方向を正としてｙ軸をと
る。
は、上流側リップ及び下流側リップを備え、これらのリ
ップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が形成され、
上記上流側リップ及び下流側リップに対向して走行する
支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置であって、この
塗布装置の上流側及び下流側に位置し、前記支持体を上
記塗布装置に押し付けるべく配置された一対のガイドロ
ールを備えた塗布装置において、上記下流側リップに
は、上記支持体に対向して上記塗布液に接する塗布作業
面が形成され、上記塗布作業面と上記支持体との間に押
圧された上記塗布液の液圧が、上記塗布作業面の下流側
リップの上流端近傍で最大となり、下流に向かって略直
線状に減少し、下流端で最小となるように上記塗布作業
面は下式の３次関数形状に形成されたものである。 ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） 但し、上記下流側リップの上流端を原点とし、ｘ軸を下
流側を正として前記一対のガイドロールに対する塗布側
の接線と平行にとり、このｘ軸と直交し上記スロット部
からの塗布液押出し方向の反対方向を正としてｙ軸をと
る。
【０００９】
【作用】塗布膜における塗布作業面と、塗布液を介して
走行する支持体との間隔が塗布方向において不均一にな
ると前述の不要な圧力を生じ、塗布操作条件の範囲が狭
くなったり、塗布ムラが生じたりする。このため、塗布
作業面と支持体との間隔を平行に保つことが必要であ
る。
走行する支持体との間隔が塗布方向において不均一にな
ると前述の不要な圧力を生じ、塗布操作条件の範囲が狭
くなったり、塗布ムラが生じたりする。このため、塗布
作業面と支持体との間隔を平行に保つことが必要であ
る。
【００１０】そこで、本発明者らは、鋭意研究の結果、
請求項１に記載の発明に係る塗布装置の如く、塗布作業
面形状を ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） の３次関数に形成して、上記塗布作業面と支持体との間
隔が平行に保たれるようにした。従って、下流側リップ
の塗布作業面と支持体との間に押出された塗布液の液圧
は、塗布作業面の下流側リップの上流端近傍で最大とな
り、下流へ向かって不要な圧力を生ずることなく略直線
状に減少し、下流端で最小となる。この結果、塗布速度
や塗布液粘度等の塗布操作条件が異なって、上記塗布作
業面及び支持体間の塗布液の液圧が変動しても、この液
圧の変動は許容範囲内に納まる。このため、良好な塗布
を実現できる塗布操作条件の範囲を拡大できる。
請求項１に記載の発明に係る塗布装置の如く、塗布作業
面形状を ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） の３次関数に形成して、上記塗布作業面と支持体との間
隔が平行に保たれるようにした。従って、下流側リップ
の塗布作業面と支持体との間に押出された塗布液の液圧
は、塗布作業面の下流側リップの上流端近傍で最大とな
り、下流へ向かって不要な圧力を生ずることなく略直線
状に減少し、下流端で最小となる。この結果、塗布速度
や塗布液粘度等の塗布操作条件が異なって、上記塗布作
業面及び支持体間の塗布液の液圧が変動しても、この液
圧の変動は許容範囲内に納まる。このため、良好な塗布
を実現できる塗布操作条件の範囲を拡大できる。
【００１１】
【実施例】図１は、この発明に係る塗布装置の第１実施
例を示すダイヘッドの断面図である。図２は、図１のII
部を拡大して示す断面図と、塗布液の液圧と塗布作業面
長さとの関係を示すグラフである。
例を示すダイヘッドの断面図である。図２は、図１のII
部を拡大して示す断面図と、塗布液の液圧と塗布作業面
長さとの関係を示すグラフである。
【００１２】図１及び図２に示す塗布装置２０はエクス
トルージョン型塗布装置であり、連続的に走行する支持
体に塗布液を塗布するものである。ここで、支持体とし
てはプラスチック、紙、布あるいは金属等の可撓性シー
トまたはウエブである。また、塗布液としては磁性分散
液、感光液、感熱分散液あるいは粘着液であり、それぞ
れ磁気記録媒体、写真フィルム、感熱紙あるいは粘着テ
ープを製造するものである。この実施例では、支持体と
してウエブ２１を用い、塗布液として磁性分散液２２を
用いて、磁気記録媒体を製造する場合を示す。
トルージョン型塗布装置であり、連続的に走行する支持
体に塗布液を塗布するものである。ここで、支持体とし
てはプラスチック、紙、布あるいは金属等の可撓性シー
トまたはウエブである。また、塗布液としては磁性分散
液、感光液、感熱分散液あるいは粘着液であり、それぞ
れ磁気記録媒体、写真フィルム、感熱紙あるいは粘着テ
ープを製造するものである。この実施例では、支持体と
してウエブ２１を用い、塗布液として磁性分散液２２を
用いて、磁気記録媒体を製造する場合を示す。
【００１３】塗布装置２０はダイヘッド２３を有し、こ
のダイヘッド２３に上流側リップ２４及び下流側リップ
２５が形成される。これらの上流側リップ２４及び下流
側リップ２５間にスロット部２６が形成され、このスロ
ット部２６が液バッファ部２７に連通される。上流側リ
ップ２４及び下流側リップ２５は、ウエブ２１の幅と略
同一幅に設定される。また、スロット部２６及び液バッ
ファ部２７は、上流側リップ２４及び下流側リップ２５
の全幅方向に延在して構成される。
のダイヘッド２３に上流側リップ２４及び下流側リップ
２５が形成される。これらの上流側リップ２４及び下流
側リップ２５間にスロット部２６が形成され、このスロ
ット部２６が液バッファ部２７に連通される。上流側リ
ップ２４及び下流側リップ２５は、ウエブ２１の幅と略
同一幅に設定される。また、スロット部２６及び液バッ
ファ部２７は、上流側リップ２４及び下流側リップ２５
の全幅方向に延在して構成される。
【００１４】液バッファ部２７は液供給系２８に接続さ
れ、この液供給系２８からの磁性分散液２２を、塗布幅
方向において塗布量が一定となるように分配させ、スロ
ット部２６へ供給する。このスロット部２６から、上流
側リップ２４のリップ面３０及び下流側リップ２５の塗
布作業面２９（後述）と走行するウエブ２１との間に、
磁性分散液２２が連続的に押し出されて、ウエブ２１に
この磁性分散液２２が塗布され、ウエブ２１の幅方向に
均一な塗布膜３１が形成される。
れ、この液供給系２８からの磁性分散液２２を、塗布幅
方向において塗布量が一定となるように分配させ、スロ
ット部２６へ供給する。このスロット部２６から、上流
側リップ２４のリップ面３０及び下流側リップ２５の塗
布作業面２９（後述）と走行するウエブ２１との間に、
磁性分散液２２が連続的に押し出されて、ウエブ２１に
この磁性分散液２２が塗布され、ウエブ２１の幅方向に
均一な塗布膜３１が形成される。
【００１５】ここで、上記ウエブ２１は、２つのガイド
ローラ３２に案内され、ダイヘッド２３に押し込まれ、
上流側リップ２４のリップ面３０及び下流側リップ２５
の塗布作業面２９（後述）に対向し、背面が支持される
ことなく走行する。２つのガイドローラ３２間の距離Ｌ
R は、例えば10〜40cmに設定される。また、ダイヘッド
２３によるウエブ２１の押込量Ｌ0 は、ウエブ２１に作
用する張力Ｔの変動やウエブ２１の走行時に、スロット
部２６から押し出される磁性分散液２２の液圧の変動を
考慮して極力小さくすることが好ましく、例えば約40mm
以下に設定される。
ローラ３２に案内され、ダイヘッド２３に押し込まれ、
上流側リップ２４のリップ面３０及び下流側リップ２５
の塗布作業面２９（後述）に対向し、背面が支持される
ことなく走行する。２つのガイドローラ３２間の距離Ｌ
R は、例えば10〜40cmに設定される。また、ダイヘッド
２３によるウエブ２１の押込量Ｌ0 は、ウエブ２１に作
用する張力Ｔの変動やウエブ２１の走行時に、スロット
部２６から押し出される磁性分散液２２の液圧の変動を
考慮して極力小さくすることが好ましく、例えば約40mm
以下に設定される。
【００１６】上記下流側リップ２５の先端面で、ウエブ
２１に対向し磁性分散液２２と接する面は、塗布に寄与
する塗布作業面２９である。この塗布作業面２９は、下
流側リップの上流端Ｂを原点とし、両ガイドロール３２
に接する塗布側の接線Ｍと平行にｘ軸をとり、このｘ軸
に直交し、上記スロット部２６からの塗布液押出し方向
の反対方向を正としてｙ軸をとると、 ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） の３次関数形状に形成される。尚、ウエブ２１は、塗布
作業面２９の形状を決定する上記３次関数を下流側ギャ
ップｇ1 だけ平行移動した形状に設定されている。
２１に対向し磁性分散液２２と接する面は、塗布に寄与
する塗布作業面２９である。この塗布作業面２９は、下
流側リップの上流端Ｂを原点とし、両ガイドロール３２
に接する塗布側の接線Ｍと平行にｘ軸をとり、このｘ軸
に直交し、上記スロット部２６からの塗布液押出し方向
の反対方向を正としてｙ軸をとると、 ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） の３次関数形状に形成される。尚、ウエブ２１は、塗布
作業面２９の形状を決定する上記３次関数を下流側ギャ
ップｇ1 だけ平行移動した形状に設定されている。
【００１７】ところで、上記３次関数の定数ａ、ｂ、ｃ
は、塗布作業面２９とウエブ２１との間に押し出された
磁性分散液２２の最大液圧をＰ1 、ウエブ２１の面密度
をρｆ、ウエブ２１の走行速度（塗布速度）をＶ、下流
側リップ２５のリップ長をｌ1 、スロット部２６のスロ
ット幅をｌs 、上流側リップ２４のリップ面３０とウエ
ブ２１間に押し出される磁性分散液２２のビード長をｌ
b とすると、
は、塗布作業面２９とウエブ２１との間に押し出された
磁性分散液２２の最大液圧をＰ1 、ウエブ２１の面密度
をρｆ、ウエブ２１の走行速度（塗布速度）をＶ、下流
側リップ２５のリップ長をｌ1 、スロット部２６のスロ
ット幅をｌs 、上流側リップ２４のリップ面３０とウエ
ブ２１間に押し出される磁性分散液２２のビード長をｌ
b とすると、
【数２】
にそれぞれ設定される。
【００１８】これら定数は、例えばａ＝−0.511 、ｂ＝
0.766 、Ｃ＝−0.181 に設定される。
0.766 、Ｃ＝−0.181 に設定される。
【００１９】従って、下流側リップ２５の塗布作業面２
９とウエブ２１との間に押出されてウエブ２１に作用す
る磁性分散液２２の液圧は、図３の実線に示すように、
塗布作業面２９の上流端Ｂ（スロット部２６の開口端）
に対応する位置で最大Ｐ1 となり、下流に向かって略直
線状に減少し、塗布作業面２９の下流端Ｃに対応する位
置において最小となる。また、ビードの上端Ａにおいて
も最小となる。
９とウエブ２１との間に押出されてウエブ２１に作用す
る磁性分散液２２の液圧は、図３の実線に示すように、
塗布作業面２９の上流端Ｂ（スロット部２６の開口端）
に対応する位置で最大Ｐ1 となり、下流に向かって略直
線状に減少し、塗布作業面２９の下流端Ｃに対応する位
置において最小となる。また、ビードの上端Ａにおいて
も最小となる。
【００２０】このため、塗布速度、塗布膜圧、塗布液品
種等の塗布操作条件が変更されたとしても、下流側リッ
プ２５の塗布作業面２９とウエブ２１との間の液圧の変
化は、図２の破線で示す小さな範囲Ｗに納まり、液圧が
所定値以上になってウエブ２１に作用する負荷を増大さ
せることがない。この結果、良好な塗布を実現できる塗
布操作条件の範囲を拡大することができる。
種等の塗布操作条件が変更されたとしても、下流側リッ
プ２５の塗布作業面２９とウエブ２１との間の液圧の変
化は、図２の破線で示す小さな範囲Ｗに納まり、液圧が
所定値以上になってウエブ２１に作用する負荷を増大さ
せることがない。この結果、良好な塗布を実現できる塗
布操作条件の範囲を拡大することができる。
【００２１】図３は、この発明に係る塗布装置の第２実
施例を示すダイヘッドの断面図と、塗布液の液圧と塗布
作業面長さとの関係を示すグラフである。この第２実施
例において、前記第１実施例と同様な部分は、同一の符
号を付すことにより説明を省略する。
施例を示すダイヘッドの断面図と、塗布液の液圧と塗布
作業面長さとの関係を示すグラフである。この第２実施
例において、前記第１実施例と同様な部分は、同一の符
号を付すことにより説明を省略する。
【００２２】この塗布装置４０では、下流側リップが下
流側第１リップ４１と下流側第２リップ４２とから構成
され、これらの下流側第１リップ４１及び下流側第２リ
ップ４２間に第２スロット部４３が形成される。下流側
第１リップ４１は、上流側リップ２４に接近してスロッ
ト部２６を構成し、下流側第２リップ４２は、下流側第
１リップ４１との間で第２スロット部４３を構成する。
尚、この実施例では、スロット部２６を以下、第１スロ
ット部と称する。これらの第１スロット部２６及び第２
スロット部４３からウエブ２１へ、種類の異なったある
いは同一種類の磁性分散液２２が押出されて塗布され、
多層状態の塗布膜４４が形成される。
流側第１リップ４１と下流側第２リップ４２とから構成
され、これらの下流側第１リップ４１及び下流側第２リ
ップ４２間に第２スロット部４３が形成される。下流側
第１リップ４１は、上流側リップ２４に接近してスロッ
ト部２６を構成し、下流側第２リップ４２は、下流側第
１リップ４１との間で第２スロット部４３を構成する。
尚、この実施例では、スロット部２６を以下、第１スロ
ット部と称する。これらの第１スロット部２６及び第２
スロット部４３からウエブ２１へ、種類の異なったある
いは同一種類の磁性分散液２２が押出されて塗布され、
多層状態の塗布膜４４が形成される。
【００２３】上記下流側第１リップ４１の塗布作業面４
５と上記下流側第２リップ４２の塗布作業面４６は、下
流側第１リップ４１の上流端Ｆを原点とし、両ガイドロ
ール３２に接する塗布側の接線Ｍと平行にｘ軸をとり、
このｘ軸に直交し、上記スロット部２６からの塗布液押
出し方向の反対方向を正としてｙ軸をとると、 ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） の３次関数形状に形成される。
５と上記下流側第２リップ４２の塗布作業面４６は、下
流側第１リップ４１の上流端Ｆを原点とし、両ガイドロ
ール３２に接する塗布側の接線Ｍと平行にｘ軸をとり、
このｘ軸に直交し、上記スロット部２６からの塗布液押
出し方向の反対方向を正としてｙ軸をとると、 ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） の３次関数形状に形成される。
【００２４】従って、この第２実施例においても、塗布
作業面４５及び塗布作業面４６とウエブ２１との間に押
し出されてウエブ２１に作用する磁性分散液２２の液圧
は、下流側第１リップ４１の上流端Ｆの対応位置で最大
となり、下流側第２リップ４２の上流端Ｈの対応位置で
若干増大するが、ウエブ２２の流れに沿って略直線状に
減少し、下流側第２リップ４２の下流端Ｉで最小とな
る。このため、この第２実施例においても、第１実施例
と同様に、良好な塗布を実現できる塗布操作条件の範囲
を拡大できる。
作業面４５及び塗布作業面４６とウエブ２１との間に押
し出されてウエブ２１に作用する磁性分散液２２の液圧
は、下流側第１リップ４１の上流端Ｆの対応位置で最大
となり、下流側第２リップ４２の上流端Ｈの対応位置で
若干増大するが、ウエブ２２の流れに沿って略直線状に
減少し、下流側第２リップ４２の下流端Ｉで最小とな
る。このため、この第２実施例においても、第１実施例
と同様に、良好な塗布を実現できる塗布操作条件の範囲
を拡大できる。
【００２５】尚、この第２実施例では、下流側第１リッ
プ４１の塗布作業面４５及び下流側第２リップ４２の塗
布作業面４６が同一の３次関数形状に形成されるものを
述べたが、上記塗布作業面４５或いは塗布作業面４６の
いずれか一方が上記３次関数形状に形成されたものであ
っても良く、また、これらの両塗布作業面４５及び４６
が定数ａ、ｂ、ｃの異なった３次関数で形成されていて
も良い。
プ４１の塗布作業面４５及び下流側第２リップ４２の塗
布作業面４６が同一の３次関数形状に形成されるものを
述べたが、上記塗布作業面４５或いは塗布作業面４６の
いずれか一方が上記３次関数形状に形成されたものであ
っても良く、また、これらの両塗布作業面４５及び４６
が定数ａ、ｂ、ｃの異なった３次関数で形成されていて
も良い。
【００２６】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る塗布装置
によれば、良好な塗布を実現できる塗布操作条件の範囲
を拡大することができる。
によれば、良好な塗布を実現できる塗布操作条件の範囲
を拡大することができる。
【図１】図１は、この発明に係る塗布装置の第１実施例
を示すダイヘッドの断面図である。
を示すダイヘッドの断面図である。
【図２】図２は、図１の一部を拡大して示す断面図と、
塗布液の液圧と塗布作業面長さとの関係を示すグラフで
ある。
塗布液の液圧と塗布作業面長さとの関係を示すグラフで
ある。
【図３】図３は、この発明に係る塗布装置の第２実施例
を示すダイヘッドの断面図と、塗布液の液圧と塗布作業
面長さとの関係を示すグラフである。
を示すダイヘッドの断面図と、塗布液の液圧と塗布作業
面長さとの関係を示すグラフである。
【図４】図４（Ａ）は、第１従来例の塗布装置の一部を
拡大して示す断面図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）
の塗布装置における塗布液の液圧を塗布作業面長さとの
関係で示すグラフである。
拡大して示す断面図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）
の塗布装置における塗布液の液圧を塗布作業面長さとの
関係で示すグラフである。
【図５】図５（Ａ）は、第２従来例の塗布装置の一部を
拡大して示す断面図であり、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）
の塗布装置における塗布液の液圧を塗布作業面長さとの
関係で示すグラフである。
拡大して示す断面図であり、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）
の塗布装置における塗布液の液圧を塗布作業面長さとの
関係で示すグラフである。
２０ 塗布装置
２１ ウエブ
２２ 磁性分散機
２４ 上流側リップ
２５ 下流側リップ
２９ 塗布作業面
４０ 塗布装置
４１ 下流側第１リップ
４２ 下流側第２リップ
４３ 第２スロット部
４５、４６ 塗布作業面
ＬR ガイドローラ間距離
Ｐ1 最大液圧
ρｆ ウエブ面密度
Ｖ ウエブ走行速度
Ｔ ウエブ張力
ｌ1 下流側リップのリップ長
ｌs スロット部のスロット幅
ｌb ビード長
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 陳 永展
栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式
会社内
(72)発明者 沼田 敏晴
栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式
会社内
(56)参考文献 特開 平５−192627（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−32768（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−60179（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B05C 5/02
B05D 1/26
G11B 5/848
Claims (3)
- 【請求項１】 上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が
形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対向し
て走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置であ
って、この塗布装置の上流側及び下流側に位置し、前記
支持体を上記塗布装置に押し付けるべく配置された一対
のガイドロールを備えた塗布装置において、上記下流側
リップには、上記支持体に対向して上記塗布液に接する
塗布作業面が形成され、上記塗布作業面と上記支持体と
の間に押圧された上記塗布液の液圧が、上記塗布作業面
の下流側リップの上流端近傍で最大となり、下流に向か
って略直線状に減少し、下流端で最小となるように上記
塗布作業面は下式の３次関数形状に形成されたことを特
徴とする塗布装置。 ｙ＝ａｘ3 ＋ｂｘ2 ＋ｃｘ（ａ、ｂ、ｃ：定数） 但し、上記下流側リップの上流端を原点とし、ｘ軸を下
流側を正として前記一対のガイドロールに対する塗布側
の接線と平行にとり、このｘ軸と直交し上記スロット部
からの塗布液押出し方向の反対方向を正としてｙ軸をと
る。 - 【請求項２】 上記スロット出口における塗布液の最大
液圧をＰ1 、上記支持体の面密度をρｆ、上記支持体の
走行速度（塗布速度）をＶ、上記支持体に作用する張力
をＴ、下流側リップ長さをｌ1 、スロット部のスロット
幅をｌs 、ビード長をｌb 、上記支持体を支持するロー
ル間距離をＬR とすると、 に設定されたものである請求項１に記載の塗布装置。但
し、上記ビードとは、スロット出口から上記支持体上流
側へ張り出した液だまりのことである。 - 【請求項３】 １つの上流側リップと、少なくとも２つ
以上の下流側リップとを有し、各リップ間にそれぞれス
ロット部が形成され、少なくとも２層以上の塗布膜を形
成することが可能な塗布装置において、下流側リップの
少なくとも１つ以上の塗布作業面が、請求項１に記載の
３次関数形状に形成された塗布装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11605694A JP3448955B2 (ja) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 塗布装置 |
| US08/294,741 US5534065A (en) | 1993-08-23 | 1994-08-23 | Coating apparatus |
| US08/636,520 US6033476A (en) | 1993-08-23 | 1996-04-23 | Coating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11605694A JP3448955B2 (ja) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07299404A JPH07299404A (ja) | 1995-11-14 |
| JP3448955B2 true JP3448955B2 (ja) | 2003-09-22 |
Family
ID=14677617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11605694A Expired - Fee Related JP3448955B2 (ja) | 1993-08-23 | 1994-05-06 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3448955B2 (ja) |
-
1994
- 1994-05-06 JP JP11605694A patent/JP3448955B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07299404A (ja) | 1995-11-14 |
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