JP2000065506A - 厚さ測定用治具 - Google Patents

厚さ測定用治具

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JP2000065506A
JP2000065506A JP10236834A JP23683498A JP2000065506A JP 2000065506 A JP2000065506 A JP 2000065506A JP 10236834 A JP10236834 A JP 10236834A JP 23683498 A JP23683498 A JP 23683498A JP 2000065506 A JP2000065506 A JP 2000065506A
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JP
Japan
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measured
measurement
thickness
sphere
jig
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JP10236834A
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English (en)
Inventor
Masatomo Yamauchi
正智 山内
Takahiro Inoue
隆弘 井上
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NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ハイトゲージにて基板等の厚さを測定する際
の作業性を向上させるとともに、サブミクロン単位まで
の正確な測定を可能とする治具を提供する。 【解決手段】 ハイトゲージにて測定対象物の厚さを測
定する際に、測定対象物を載置して用いる治具である。
当該治具1は平板状のベース2の表面の数箇所に、球体
3を、その一部が露出し、かつ露出部分の高さが一定と
なるように埋設してなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】 本発明は、セラミック基
板、ガラス基板等の、特に平板形状を有する物品の厚さ
を、簡便かつ正確に測定するための治具に関する。
【0002】
【従来の技術】 セラミック基板やガラス基板のような
平板形状を有する物品の厚さの測定には、ハイトゲージ
が広く使用されている。通常のハイトゲージは、測定ヘ
ッド、石定盤及びこれら測定ヘッドと石定盤とをつなぐ
心棒から構成される。従来、ハイトゲージによる厚さの
測定は、図6のように石定盤8に直接測定対象物6を載
置し、その表面に測定ヘッド7を接触させて、このとき
の石定盤8と測定ヘッド7との間隔を測定対象物の厚さ
として測定していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】 ところで、集積回路
の作製において、5〜10ミリ角程度の微小サイズの基
板上に、フォトリソグラフィー工程により微細な集積回
路パターンを形成する場合には、次のような理由によ
り、基板に対してサブミクロン単位の厳しい形状精度
(厚さ精度)が要求される。
【0004】 すなわち、フォトリソグラフィー工程に
おいては、レジストと呼ばれるマスキング剤を基板表面
に塗布してマスクを被せ、その上からステッパと呼ばれ
る露光機にて白色光を照射してレジストパターンを転写
してから、不必要なレジストを除去するが、例えば線幅
が0.2μm程度の微細形状パターンを形成する場合に
は、露光機の焦点深度もサブミクロンレベルまで小さく
なる。したがって、その焦点深度を得るために、基板に
対して厳しい形状精度が求められるのである。
【0005】 このような厳しい形状精度の要求に応え
るためには、その形状精度の確認手段としての厚さ測定
にも高い精度が必要となる。上記のようなハイトゲージ
を用いた測定法により、測定対象物の厚さをサブミクロ
ン単位まで測定しようとする場合、ハイトゲージの石定
盤とその上に載置する測定対象物との間に塵や埃等の異
物が介在する、いわゆる「ゴミかみ」を防止することが
不可欠である。
【0006】 このため、従来はハイトゲージの石定盤
の表面と測定対象物の裏面とに対して有機溶剤を染み込
ませた脱脂綿で拭き掃除を行っていたが、測定毎に拭き
掃除を実施したり、それに使用する脱脂綿を交換したり
するのは手間を要し作業性を損なうという問題があっ
た。また、この拭き掃除の際に脱脂綿の屑が飛散して、
石定盤と測定対象物の間に挟まり、却って正確な測定を
妨げることがあった。
【0007】 本発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、ハイトゲー
ジにて基板等の厚さを測定する際の作業性を向上させる
とともに、サブミクロン単位までの正確な測定を可能と
する治具を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】 本発明によれば、ハイ
トゲージにて測定対象物の厚さを測定する際に、測定対
象物を載置して用いる治具であって、平板状のベースの
表面の数箇所に、球体を、その一部が露出し、かつ露出
部分の高さが一定となるように埋設してなることを特徴
とする厚さ測定用治具、が提供される。
【0009】
【発明の実施の形態】 本発明の治具は、ハイトゲージ
にて物品の厚さを測定する際に使用する物であり、測定
対象物を載置するために用いられる。すなわち、当該治
具は、ハイトゲージの石定盤に載置され、従来は石定盤
に直接載せられていた測定対象物を、この治具に載置し
て測定を実施する。
【0010】 図1は、本発明の治具の一実施形態を示
す説明図で、(a)が正面図、(b)が側面図、(c)が平面
図である。当該治具1は、平板状のベース2の表面の数
箇所に、球体3を、その一部が露出し、かつ露出部分の
高さhが一定となるように埋設して構成されている。ベ
ース2の下面には、ハイトゲージの石定盤に載置した際
における、ベース2と石定盤との間のゴミかみを防ぐた
めに、逃げ溝4を形成しておくことが好ましい。ベース
2の材質としてはSUS等の鋼が好適に用いられ、ま
た、球体3には直径1mm程度の超硬合金製又は硬質ガ
ラス製のものを使用するのが好ましい。
【0011】 球体は、ベース表面に設けられた孔にエ
ポキシ樹脂等の熱可塑性樹脂を用いて埋め込み固定され
ていることが好ましい。このように熱可塑性樹脂を用い
て球体を固定しておくと、樹脂に熱を加えて軟化させる
ことにより球体を随時着脱することが可能となるので、
測定対象物との接触などによって球体に傷が生じた際
に、球体を容易に新しい物に交換できる。
【0012】 治具1上に載置された測定対象物6は、
球体3によって、ベース2から一定の間隔をもって点で
支持されることになるが、支持の安定性を考慮すると、
測定対象物6を少なくとも4つの球体で支持できるよう
に、球体3が配置されていることが好ましい。なお、こ
の配置は測定対象物の寸法や形状によって異なる。
【0013】 また、ベース上には、図2に示すような
ガイドフレーム5を設けることが好ましい。このような
ガイドフレーム5を設けると、後述のように、測定対象
物6を治具1上で移動させる際に、測定対象物6が球体
3上から脱落するのを防止することができる。図2にお
いて、ガイドフレーム5は球体3の露出部分の高さhを
超えるような厚みを有する細長い板状の2つの部材から
なり、これらを測定対象物6の幅よりも若干広めの間隔
をおいてベース2上に平行に配置している。このガイド
フレーム5によって、測定対象物6を治具1の長手方向
に移動させる際に、誤って球体3上から治具1の短手方
向に落下させるのを防止できる。
【0014】 ガイドフレーム5は、ねじ止め等の手段
により、ベース2から着脱可能に設けることが好まし
い。このように、ガイドフレームを着脱可能に設けてお
くと、ベースが汚れた際にガイドレールを取り外してベ
ースの汚れを拭き取ることが可能となるので便利であ
る。
【0015】 次に、本発明の治具を使用した厚さの測
定方法を説明する。まず、図3のように、ハイトゲージ
の石定盤8の上に本発明の治具1を載せ、この治具1上
に測定対象物を載置することなく、測定ヘッド7を球体
3に接触させた状態として、このときの測定厚さがゼロ
となるようにハイトゲージをリセットする。
【0016】 次いで、測定ヘッドを一旦、上方に移動
させ、図4のように、治具1上に測定対象物6を載置
し、治具1上にて測定対象物6を滑らせるように左右又
は前後方向に移動させて、球体3と測定対象物6の裏面
を軽く摺り合わせ、測定対象物6の裏面に付着していた
異物を脱落させる。その後、図5のように、ハイトゲー
ジの測定ヘッド7を測定対象物6の表面に接触させ、こ
のときの球体3と測定ヘッド7との間隔を測定対象物の
厚さとして測定する。
【0017】 なお、測定対象物は、図4のように球体
に接触・支持された状態で治具上を容易に移動させるこ
とができるため、測定対象物の異なる複数の部位の厚さ
を測定することも容易であり、このため本発明の治具
は、測定対象物の特定部位の厚さのみならず、平行度の
測定にも好適に使用できる。
【0018】 本発明の治具は、測定対象物を球体によ
り点で支持するので、測定対象物裏面の球体との接触点
以外の部分に異物が付着していたとしても、それが厚さ
の測定に影響を与えることはない。また、測定対象物裏
面の球体との接触点に異物が付着していたとしても、上
記のように、測定前に球体と測定対象物の裏面を軽く摺
り合わせることにより、容易に異物を払い落とすことが
できる。更に、測定対象物の支持にエッジ部分のない球
体を用いているので、このように球体と測定対象物の裏
面を軽く摺り合わせた程度では、測定対象物が傷つくこ
とはない。
【0019】
【発明の効果】 以上説明したように、ハイトゲージに
よる厚さの測定に本発明の治具を使用すれば、ハイトゲ
ージの石定盤と測定対象物との間に異物が介在する、い
わゆるゴミかみの問題が解消されるため、微小サイズの
基板のような厳しい形状精度が求められる物品の厚さを
サブミクロン単位まで精度良く測定できる。また、従来
のように測定毎にハイトゲージの石定盤と測定対象物と
を拭き掃除する必要も無くなるので、作業性が著しく向
上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る治具の一実施形態を示す説明図
で、(a)が正面図、(b)が側面図、(c)が平面図であ
る。
【図2】 本発明に係る治具の他の実施形態を示す平面
図である。
【図3】 本発明の治具を用いた厚さの測定方法を示す
側面図である。
【図4】 本発明の治具を用いた厚さの測定方法を示す
側面図である。
【図5】 本発明の治具を用いた厚さの測定方法を示す
側面図である。
【図6】 ハイトゲージによる従来の厚さ測定方法を示
す側面図である。
【符号の説明】
1…治具、2…ベース、3…球体、4…逃げ溝、5…ガ
イドフレーム、6…測定対象物、7…測定ヘッド、8…
石定盤。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハイトゲージにて測定対象物の厚さを測
    定する際に、測定対象物を載置して用いる治具であっ
    て、平板状のベースの表面の数箇所に、球体を、その一
    部が露出し、かつ露出部分の高さが一定となるように埋
    設してなることを特徴とする厚さ測定用治具。
  2. 【請求項2】 測定対象物を少なくとも4つの球体で支
    持できるように、球体が配置された請求項1記載の厚さ
    測定用治具。
  3. 【請求項3】 上記球体が、ベース表面に設けられた孔
    に熱可塑性樹脂を用いて埋め込み固定された請求項1記
    載の厚さ測定用治具。
  4. 【請求項4】 上記ベース上に、測定対象物が球体上か
    ら脱落するのを防止するためのガイドフレームを設けた
    請求項1記載の厚さ測定用治具。
  5. 【請求項5】 上記ガイドフレームが、ベース上に着脱
    可能に設けられた請求項4記載の厚さ測定用治具。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Effective date: 20020402