JP2000058621A - 基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及び再分配機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 装置の大型化を避け、カセットから基板を多
数枚迅速且つ安定して、基板を汚染することなく、取り
出し、搬送して支持台に高密度で載置し、この支持台を
洗浄槽及び乾燥槽に搬送して、所定の処理を行った後、
再びカセットに収納する基板洗浄装置用の基板高速集合
搬送及び再分配機構を提供すること。 【解決手段】 複数のカセットからの各基板１をカセッ
トにおける収納間隔よりも狭い載置間隔支持台３に高密
度載置して、該支持台を洗浄槽に搬送するための洗浄搬
送機構に受け渡しし、また、洗浄槽から該洗浄搬送機構
により逆搬送されてきた支持台に載置されている処理済
みの基板を、支持台から取り出し、再びそれぞれのカセ
ットに元通りに分配して返送し、元の収納間隔で収納す
る、基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及び再分配機
構。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体産業におけ
る大口径シリコンウエハ（直径３００ｍｍ）等の基板の
洗浄装置内の搬送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、シリコンウエハ（直径２００ｍ
ｍ、基板間隔６．３５ｍｍ）等の洗浄装置では、基板２
５枚入りカセットを１ケ又は２ケより基板を取出して、
カセットの基板間隔のまま搬送し、支持台に移送、載置
し、洗浄、乾燥していた。この場合、支持台の長さは直
径２００ｍｍのシリコンウエハ相互の基板間隔６．３５
ｍｍで、５０枚移送、載置すると、基板間隔数は５０−
１＝４９で、全基板間隔は６．３５×４９≒３１１ｍｍ
となり、装置の大型化を招いている。一方、基板の大口
径化は当業界の趨勢であり、基板の大口径化に伴い、両
面研磨された基板が標準となり、従来の真空チャック方
式の取出しでは基板の裏面の汚染があり、基板の裏側も
極力使用しない基板の搬送装置が求められている。ま
た、自動洗浄装置（洗浄搬送タクトタイムは約３００
秒）において、例えば、基板２５枚入りカセット２ケよ
り基板５０枚を取出す場合、基板を１枚づつ移し替えた
場合には洗浄時間内に移し替えを終了させることができ
ないので、生産性の向上を図るため、同時に複数枚の基
板を取出せる機構が必要になった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来の技術の現状に鑑み、基板の大口径化に対応し、装
置の大型化を避け、カセットから基板を多数枚迅速且つ
安定して、基板を汚染することなく、取り出し、搬送し
て支持台に高密度で載置し、この支持台を洗浄槽及び乾
燥槽（本明細書においてはこれら槽を一括して便宜上
「洗浄槽」と称する）に搬送して、所定の処理を行なっ
た後、再びカセットに収納する基板洗浄装置ハーフピッ
チ搬送機構、すなわち基板洗浄装置用の基板高速集合搬
送及び再分配機構を提供することにある。具体的には、
例えば、１０ｍｍ間隔で２５枚収納されているカセット
（基板は垂直方向）より、２５枚同時に挟持し、５ｍｍ
間隔で５０枚収納できる支持台に垂直に収納、載置する
機構及びその逆の移し替え機構で、基板挟持機構によ
り、２回の動作により、２カセット分の基板を搬送し、
支持台に５ｍｍ間隔で５０枚の基板を移送、載置させ、
洗浄、乾燥を終了した基板を再び基板挟持機構により、
２回の動作により、２カセット分の基板を搬送し、カセ
ットに移送、収納する基板洗浄装置ハーフピッチ搬送機
構、すなわち基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及び再
分配機構を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明の、
（１）「第１のカセットから等間隔で収納されている基
板を取出し、支持台に搬送して載置し、次に、同様にそ
の余のカセットから基板を取出し、既に基板が載置され
ている前記支持台に搬送して追加載置することにより、
複数のカセットからの各基板を前記カセットにおける収
納間隔よりも狭い載置間隔で前記支持台に高密度載置し
て、該支持台を洗浄槽に搬送するための洗浄搬送機構に
受け渡しし、また、該洗浄槽から該洗浄搬送機構により
逆搬送されてきた該支持台に載置されている処理済みの
基板を、該支持台から取り出し、再び前記それぞれのカ
セットに元通りに分配して返送し、元の収納間隔で収納
する、基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及び再分配機
構であって、第１のカセット（２）に収納されている基
板群（１ａ）を、該カセットに収納されている収納間隔
を維持したまま、基板挟持搬送機構（５）により、挟持
して該カセット（２）から取り出し、支持台（３）まで
搬送し、支持台（３）と該基板挟持搬送機構（５）とを
所定の載置位置関係に置いて支持台（３）に該基板群
（１ａ）を前記収納間隔で載置し、次に他のカセット
（２ｂ）に収納されている他の基板群（１ｂ）を、その
収納間隔を維持したまま、前記基板挟持搬送機構（５）
により挟持して取り出し、前記基板群（１ａ）の各基板
が既に載置されている前記支持台（３）まで搬送し、該
支持台（３）と該基板挟持搬送機構（５）との位置関係
を前記所定の載置位置関係から変更して、前記他の基板
群（１ｂ）の各基板が、前記基板群（１ａ）の各基板の
間の各間隔にそれぞれ配置されるように支持台（３）に
載置することにより、複数のカセットからの基板を支持
台（３）に前記収納間隔よりも高密度の載置間隔で載置
して、該支持台（３）を前記洗浄搬送機構に受け渡しで
きるような状態になし、また、該洗浄搬送機構により該
洗浄槽から逆搬送されてきた該支持台（３）から、これ
に載置されている処理済み基板を、挟持し、再び前記そ
れぞれのカセットに元通りに分配搬送して元の収納間隔
で収納することを特徴とする、基板洗浄装置用の基板高
速集合搬送及び再分配機構」、（２）「前記基板が、シ
リコンウエハ等のウエハ円盤であることを特徴とする前
記第（１）項に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合搬
送及び再分配機構」、（３）「前記収納カセット（２）
（２ｂ）が、等間隔で前記基板を２５枚収納する蓋付き
カセットであることを特徴とする、前記第（１）項又は
第（２）項に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合搬送
及び再分配機構」、（４）「前記収納カセット（２）
（２ｂ）が、蓋付きのカセットケースに収容されている
ことを特徴とする、前記第（１）項乃至第（３）項のい
ずれか１に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及
び再分配機構」、（５）「前記基板挟持搬送機構（５）
が、左右１対の上ホルダー対（５３）（５５）及び下ホ
ルダー対（５４）（５６）を横架した左右の挟持アーム
対（５１ａ）（５２ａ）、及び（５１ｂ）（５２ｂ）を
垂下しており、該上下ホルダー（５３）（５５）及び
（５４）（５６）の開閉により基板が挟持及び挟持開放
されることを特徴とする、前記第（１）項乃至第（３）
項のいずれか１に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合
搬送及び再分配機構」、（６）「前記他のカセット（２
ｂ）が、第１のカセット（２）と同様の基板を同様の等
間隔で収納し、前記所定の載置位置関係からの前記支持
台（３）と基板挟持搬送機構（５）との位置関係の変更
が、前記収納間隔の１／２の距離の相対的位置変更であ
ることを特徴とする、前記第（１）項乃至第（５）項の
いずれか１に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合搬送
及び再分配機構」、（７）「前記カセットにおける基板
相互の収納間隔が、前記基板の厚さを含めて約１０ｍｍ
間隔であるとき、前記支持台（３）上での基板の前記高
密度な載置間隔が、前記基板の厚さを含めて約５ｍｍ間
隔であることを特徴とする、前記第（６）項に記載の基
板洗浄装置用の基板高速集合搬送及び再分配機構」、
（８）「前記相対的位置変更が、支持台（３）に付帯す
る支持台移動機構（３２）によりなされることを特徴と
する、前記第（６）項に記載の基板洗浄装置用の基板高
速集合搬送及び再分配機構」、（９）「前記相対的位置
変更が、前記基板挟持搬送機構（５）に付帯する位置微
調整手段によりなされることを特徴とする、前記第
（６）項に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及
び再分配機構」、（１０）「前記位置微調整手段が、空
圧シリンダ又はステップモータであることを特徴とす
る、前記第（９）項に記載の基板洗浄装置用の基板高速
集合搬送及び再分配機構」、（１１）「前記基板挟持搬
送機構（５）が、左右１対の上ホルダー対（５３）（５
５）及び下ホルダー対（５４）（５６）が横架されてい
る左右の挟持アーム対（５１ａ）（５２ａ）、及び（５
１ｂ）（５２ｂ）を垂設しており、該上下ホルダー対
（５３）（５５）及び（５４）（５６）の開閉により基
板が挟持及び開放され、該ホルダーのホルダー軸（５３
１）周囲に、それぞれ、前記収納間隔に相当する幅の凹
状帯（５３２）と凸状体（５３３）が交互に設けられ、
該凸状体の外周面には基板受け溝（５３４）が設けら
れ、該基板受け溝（５３４）の底部は該凹状帯（５３
２）の底部よりもホルダー軸（５３１）の中心から離れ
ていることを特徴とする、前記第（１）項乃至第（１
０）項のいずれか１に記載の基板洗浄装置用の基板高速
集合搬送及び再分配機構」、（１２）「前記基板カセッ
ト（２）（２ｂ）が蓋付ケース内に収容され、前記カセ
ットから基板を取出す操作の前に、ケースをケース搬送
機にてカセット取出し位置に搬送する操作、真空吸着手
段を有するケース蓋開閉機構によりケースの蓋を真空吸
着して開く操作が行なわれ、前記カセットから基板を取
出す操作の後に、空カセットをカセット搬送機により取
出したケースに戻す操作、ケース蓋開閉機構によりケー
スの蓋を閉める操作、ケース搬送機にてケースを元の位
置に払い戻す操作が行なわれることを特徴とする、前記
第（４）項に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合搬送
及び再分配機構」、および（１３）「カセット搬送機に
よりカセット（２）（２ｂ）を基板取出し位置に搬送す
る操作を有し、前記再びカセットに元通りに分配して返
送し、元の収納間隔で収納する操作の前に、前記蓋付ケ
ース内に収容された空ケースをケース搬送機にてカセッ
ト取出し位置に搬送する操作、真空吸着手段を有するケ
ース蓋開閉機構により空ケースの蓋を真空吸着して開く
操作が行なわれ、前記再びカセットに元通りに分配して
返送し、元の収納間隔で収納する操作の後に、基板が収
納たカセットをカセット搬送機により取出したケースに
戻す操作、ケース蓋開閉機構によりケースの蓋を閉める
操作、ケース搬送機にてケースを元の位置に払い戻す操
作が行なわれることを特徴とする、前記第（１）項又は
第（１２）項のいずれかに記載の基板洗浄装置用の基板
高速集合搬送及び再分配機構」により達成される。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面によ
って詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例に制
限されるものではない。図１（Ａ）は、基板（１）が垂
直方向でカセット（２）に収納され基板群（１ａ）とな
っている状況を示す立面図、頂部平面図及び側面図であ
り、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のカセット（２）を収納
する蓋付ケースを示すものである。本例においてはこの
ようなカセット（２）に収納されている基板（１）の基
板群（１ａ）及び図示してない同様なその余のカセット
（２ｂ）に収納されている基板（１）の他の基板群（１
ｂ）が取り扱われる場合について説明する。ここでは、
１つのカセットに基板（１）が２５枚、その基板（１）
相互の間隔は、１０ｍｍで収納されている場合を例示し
ているが、カセットの基板間隔寸法と後述する支持台の
間隔寸法は一例であり、本発明は、それら間隔寸法及び
基板枚数を制限するものではなく、装置の規模、態様な
どにより適宜選択されるものである。

【０００６】図２は、基板（１）の挟持態様を示すもの
であり、図２（Ａ）は、基板（１）をカセット（２）か
ら取り出す際及びカセット（２）に収納する際の挟持態
様を示すものであり、図２（Ｂ）は、基板（１）を支持
台（３）に載置する際及び支持台（３）から取り外す際
の態様を示し、図２（Ｃ）は、本発明における基板挟持
搬送機構（５）の右側面を説明するものである。

【０００７】基板挟持搬送機構（５）は、左右１対の上
ホルダー対（５３）（５５）及び下ホルダー対（５４）
（５６）を横架した左右の挟持アーム対（５１ａ）（５
２ａ）、及び（５１ｂ）（５２ｂ）を垂下しており、該
上下ホルダー（５３）（５５）及び（５４）（５６）の
開閉により、基板が挟持及び挟持開放される（ただし図
２（Ｃ）においては左側の上下ホルダー片（５３）（５
４）を横架した左の挟持アーム片（５１ａ）（５２ａ）
は右の挟持アーム片（５１ｂ）（５２ｂ）の蔭になり見
えない）。

【０００８】基板（１）をカセット（２）から取り出す
場合、基板（１）が２５枚収納されたカセット（２）よ
り、基板押上げ機構（４）により、すべての基板（１）
を押し上げ、カセット上部の挟持機構（５）から垂設さ
れた複数のアーム対（５１ａ）（５２ａ）、及び（５１
ｂ）（５２ｂ）によりすべての基板（１）を挟持し、所
定位置に置かれた図２（Ｂ）に示される支持台（３）ま
で基板（１）を搬送し、載置する。

【０００９】以下、理解を容易にするため、便宜上初回
搬送の基板（１）の基板群を（１ａ）、２回目搬送の基
板（１）の基板群を（１ｂ）として、これら両基板
（１）を支持台（３）に搬送して載置（ロード）及び取
外し（アンロード）する場合につき、載置の要部を説明
する図３をも参照しつつ詳細に説明すると、所定位置に
置かれた第１のカセット（２）に収納されている基板群
（１ａ）は基板押上げ機構（４）によりカセット（２）
から押し上げられ、カセット（２）に収納されている収
納間隔を維持したまま、基板挟持搬送機構（５）によ
り、挟持されてカセット（２）から取り出され（図２
（Ａ））、所定の載置位置に置かれた支持台（３）まで
搬送され、ここで、基板挟持搬送機構（５）の挟持端が
降下して基板群（１ａ）が前記収納間隔で支持台（３）
に載置（図２（Ｂ））され、その結果、図３（Ａ）に示
されるような載置状態が創設される。必ずしも必要不可
欠でないので図示してないがその際、基板群（１ａ）を
より受領し易くするため、支持台（３）の下に昇降機構
を充接することもできる。

【００１０】次に、２回目搬送として、初回搬送と同じ
ように、その余のカセット（２ｂ）に収納されている基
板の基板群（１ｂ）を、その収納間隔を維持したまま、
基板挟持搬送機構（５）により挟持して取り出し、基板
群（１ａ）の各基板が既に載置されている支持台（３）
まで搬送し、支持台（３）と基板挟持搬送機構（５）と
の位置関係を前記所定の載置位置関係から変更して、基
板群（１ｂ）の各基板（１）が、基板群（１ａ）の各基
板の間の各間隔にそれぞれ配置されるように支持台
（３）に載置（図３（Ｂ））することにより、複数のカ
セットからの基板を支持台（３）に、収納間隔よりも高
密度の載置間隔で載置（図３（Ｃ））する。この例にお
いては、基板（１）の載置間隔はカセット（２）に収納
されていたときの収納間隔と同じであり、２回目の基板
群（１ｂ）の載置に際しては、支持台移動機構（３２）
により、基板群（１ａ）の各基板が既に載置されている
支持台（３）を、１回目の載置のときの位置よりも、前
記間隔の１／２の分だけずらしてそこに基板挟持搬送機
構（５）の挟持端を降下させて、カセット（２）と同様
の基板を同様の等間隔で収納しているカセット（２ｂ）
からの基板群（１ｂ）の各基板が、基板群（１ａ）の各
基板の間に挿入されるようにしている。

【００１１】例えば、支持台（３）には、カセット
（２）に収納時の基板（１）相互間隔１０ｍｍの１／２
の５ｍｍ間隔で基板（１）が垂直に自立する窪み（３
１）が、５０個穿設されている（この窪み（３１）は後
述するように、凹状帯（５３２）と基板受溝（５３４）
とからなる）。この結果、支持台（３）には、基板群
（１ａ）と基板群（１ｂ）の計５０枚が垂直に自立載置
され、その長さは、５×４９＝２４５ｍｍで、従来の３
１１．１５ｍｍより６６．１５ｍｍ（約２１％）短くな
り、設備の大型化を避けることができる。

【００１２】このような支持台（３）と基板挟持搬送機
構（５）との位置変更は、支持台移動機構（３２）によ
ることが好ましいが、位置変更は相対的なものであり、
したがって支持台移動機構（３２）に代えて、基板挟持
搬送機構（５）に付帯する位置微調整手段、例えば空圧
シリンダ又はステップモータ、を用いてなされてもよ
く、さらに、２回目の基板群（１ｂ）の挿入だけでな
く、可能であればその余の基板群を挿入するための３回
目の追加載置を行なってもよい。

【００１３】図４には、本発明における基板挟持搬送機
構（５）の挟持端の１例が具体的に示される。この例に
おいて、基板挟持搬送機構（５）の上下ホルダー対（５
３）（５５）及び（５４）（５６）のホルダーのホルダ
ー軸、例えば左上ホルダー片（５３）のホルダー軸（５
３１）周囲には、それぞれ、前記基板の収納間隔に相当
する幅の凹状帯（５３２）と凸状体（５３３）が交互に
設けられ、凸状体（５３３）の外周面には基板受溝（５
３４）が設けられ、基板受溝（５３４）の底部は、該凹
状帯（５３２）の底部よりもホルダー軸（５３１）の中
心から離れており、これによって、既に支持台（３）に
載置されている基板群（１ａ）と、上下ホルダーとは干
渉しない構造となっている。したがって、収納間隔に相
当する幅が例えば１０ｍｍである場合、基板（１）を垂
直に５０枚５ｍｍ間隔で垂直、自立、載置するため、同
じ挟持アーム（５１ａ）（５２ａ）で２回に亘って移
送、載置しても、ホルダー軸（５３１）は、基板（１
ａ）に接触しない構造としている。

【００１４】そして、基板群（１ａ）（１ｂ）を載置せ
られた支持台（３）は、後述する洗浄搬送機構より洗浄
槽に搬送される。また、この洗浄搬送機構により洗浄槽
から逆搬送されてきた支持台（３）から、これに載置さ
れている処理済み基板を、挟持し、再び前記それぞれの
カセットに元通りに分配搬送して元の収納間隔で収納す
るアンロード操作は、上記ロード操作の逆である。

【００１５】図５、図６、図７は、本発明が適用され
る、基板を、収納されているカセットより取出し、当該
基板を支持台に搬送、載置し、この支持台を洗浄槽、乾
燥槽に搬送の上、所定の洗浄、乾燥操作を行なった後、
再び支持台からカセットに移送、収納する、基板の支持
台へのロード及びアンロード施設、洗浄搬送機（機構）
及び基板洗浄施設の各具体例を示すものである。

【００１６】図５は、そのロード側のみを示した図であ
り、基板が収納されているカセットが、蓋付きケースに
収納されている一般的な場合を示している。この図にお
ける基板洗浄施設は基本的に、ケース投入搬送機（２０
ａ）、ケース払出し搬送機（２０ｂ）、蓋取り外し機構
（２２）、カセット搬送機（２４）、基板押し上げ機構
（４）、洗浄搬送機（３５）、支持台（３）及び支持台
移動機構（３２）より構成されており、基板押し上げ機
構（４）及び基板支持台（３）は湿式（水没）されるこ
とも可能である。図５において、ケースがケース搬送機
によりカセット取出し部に搬送され、ケースの蓋を蓋取
り外し機構により取り外し、カセット搬送機によりカセ
ットを基板押し上げ部へ搬送し、基板押し上げ機構によ
り基板を上昇させ、基板挟持機構により基板を挟持し支
持台へ搬送する。空カセットは基板取出し後、カセット
搬送機により空ケースに戻され、ケース蓋を閉めて、次
のケースに入れ替え、支持台を移動し上記手順にて再度
基板を支持台へ搬送する。支持台へ基板５０枚が揃うと
洗浄搬送機にて洗浄槽へ搬送する。

【００１７】支持台（３）への載置（ロード）及び取外
し（アンロード）の要部を中心に説明してきたが、この
説明から明らかなように本発明においては、基板カセッ
ト（２）（２ｂ）が蓋（２ｃ）付ケース（２ａ）内に収
容され、カセット（２）（２ｂ）から基板（１）を群と
して取出す操作の前に、ケース（２ａ）をケース搬送機
（２０）にてカセット取出し位置に搬送する操作、真空
吸着手段を有するケース蓋開閉機構（２２）によりケー
ス（２ａ）の蓋（２ｃ）を真空吸着して開く操作を行な
うことを包含し、カセット（２）（２ｂ）から基板
（１）を取出す操作の後に、空のカセット（２）（２
ｂ）をカセット搬送機（２４）により取出したケース
（２ａ）に戻す操作、ケース蓋開閉機構（２２）により
ケース（２ａ）の蓋（２ｃ）を閉める操作、ケース搬送
機（２０）にてケース（２ａ）を元の位置に払い戻す操
作を行なうことを包含する。

【００１８】アンロードの場合は前記のように逆であ
り、すなわちカセット（２）（２ｂ）はカセット搬送機
（２４）により基板取出し位置に搬送されるが、再びカ
セット（２）（２ｂ）に元通りに分配して返送し、元の
収納間隔で収納される前に、蓋（２ｃ）付ケース（２
ａ）内に収容された空ケースはケース搬送機にてカセッ
ト（２）（２ｂ）からカセット取出し位置に搬送され、
真空吸着手段を有するケース蓋開閉機構（２２）により
空ケース（２ａ）の蓋（２ｃ）が真空吸着により開か
れ、再びカセットに元通りに分配されて返送され、元の
収納間隔で収納され、その後、基板が収納されたカセッ
トはカセット搬送機により取出したケースに戻され、ケ
ース蓋開閉機構（２２）によりケースの蓋が閉められ、
ケース搬送機（２０ｂ）にてケースは元の位置に払い戻
される。

【００１９】図６は、洗浄搬送機の構成を示した図であ
る。この図において、洗浄搬送装置は、上下左右搬送機
により、並列して設けている複数の洗浄槽に沿って移動
し、挟持機構駆動部を所望の洗浄槽（又は乾燥槽）に誘
導し、この端に付属する挟持部材により挟持された支持
台（３）が有する基板を、支持台（３）と共にあるいは
好ましくは支持台（３）から挟持部材に取外して基板の
みを槽中の基板支持台に移し、洗浄槽の薬液又は純水中
に垂下し、所定の処理後、ゆっくりと上昇させ、これを
所定の槽について繰り返す。

【００２０】図７は、本発明における基板洗浄装置施設
全体の構成例を示した図である。この図では洗浄槽（薬
液、水洗）が合計６槽であるが、本発明は槽の数量を限
定するものではない。また、洗浄搬送装置（３５）が４
台であるが、本発明はこの数量を限定するものではな
い。また本発明は洗浄前の基板を収納したカセット
（２）（２ｂ）入りケース（２ａ）の保管数量、及び洗
浄済みの基板を収納したカセット（２）（２ｂ）入りケ
ース（２ａ）を図の各４つに限定するものではない。こ
の例においては洗浄槽（３７）へは、基板（１）のみ投
入、払い出しをする。

【００２１】

【発明の効果】以上、詳細かつ具体的な説明から明らか
なように、基板大口径化により、洗浄槽、装置の大型化
を余儀なくされているが、本発明によって洗浄基板間隔
を小さくすることにより、装置の小型化が実現できると
共に、搬送時間の短縮により、生産性の向上に大きく貢
献する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用される、基板が２５枚収納されて
いるカセット、及びケースを示す。

【図２】本発明における基板の挟持搬送の態様を示す。

【図３】本発明における基板の支持台載置（ロード）及
び取外し（アンロード）の要部を説明する図である。

【図４】本発明における基板挟持搬送機構の挟持端の例
を詳細に説明する図である。

【図５】本発明における基板の支持台へのロード及びア
ンロード施設を示す図である。

【図６】本発明における洗浄搬送機（機構）を示す図で
ある。

【図７】本発明における基板洗浄施設を示す図である。

【符号の説明】

１ 基板 １ａ 基板群 １ｂ 基板群 ２ カセット ２ａ カセットケース ２ｂ カセット ２ｃ ケース蓋 ３ 支持台 ４ 基板押上げ機構 ５ 基板挟持搬送機構 ２０ ケース搬送機 ２０ａ ケース投入搬送機 ２０ｂ ケース払出し搬送機 ２２ ケース蓋取り外し機構 ２４ カセット搬送機 ３１ 窪み ３２ 支持台移動機構 ３５ 洗浄搬送機（機構） ３７ 洗浄槽 ５１ａ 挟持アーム対 ５１ｂ 挟持アーム対 ５２ａ 挟持アーム対 ５２ｂ 挟持アーム対 ５３ 上ホルダー対 ５４ 下ホルダー対 ５５ 上ホルダー対 ５６ 下ホルダー対 ５３１ ホルダー軸 ５３２ 凹状帯 ５３３ 凸状体 ５３４ 基板受け溝

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１のカセットから等間隔で収納されて
   いる基板を取出し、支持台に搬送して載置し、次に、同
   様にその余のカセットから基板を取出し、既に基板が載
   置されている前記支持台に搬送して追加載置することに
   より、複数のカセットからの各基板を前記カセットにお
   ける収納間隔よりも狭い載置間隔で前記支持台に高密度
   載置して、該支持台を洗浄槽に搬送するための洗浄搬送
   機構に受け渡しし、また、該洗浄槽から該洗浄搬送機構
   により逆搬送されてきた該支持台に載置されている処理
   済みの基板を、該支持台から取り出し、再び前記それぞ
   れのカセットに元通りに分配して返送し、元の収納間隔
   で収納する、基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及び再
   分配機構であって、 第１のカセット（２）に収納されている基板群（１ａ）
   を、該カセットに収納されている収納間隔を維持したま
   ま、基板挟持搬送機構（５）により、挟持して該カセッ
   ト（２）から取り出し、支持台（３）まで搬送し、支持
   台（３）と該基板挟持搬送機構（５）とを所定の載置位
   置関係に置いて支持台（３）に該基板群（１ａ）を前記
   収納間隔で載置し、次に他のカセット（２ｂ）に収納さ
   れている他の基板群（１ｂ）を、その収納間隔を維持し
   たまま、前記基板挟持搬送機構（５）により挟持して取
   り出し、前記基板群（１ａ）の各基板が既に載置されて
   いる前記支持台（３）まで搬送し、該支持台（３）と該
   基板挟持搬送機構（５）との位置関係を前記所定の載置
   位置関係から変更して、前記他の基板群（１ｂ）の各基
   板が、前記基板群（１ａ）の各基板の間の各間隔にそれ
   ぞれ配置されるように支持台（３）に載置することによ
   り、複数のカセットからの基板を支持台（３）に前記収
   納間隔よりも高密度の載置間隔で載置して、該支持台
   （３）を前記洗浄搬送機構に受け渡しできるような状態
   になし、また、該洗浄搬送機構により該洗浄槽から逆搬
   送されてきた該支持台（３）から、これに載置されてい
   る処理済み基板を、挟持し、再び前記それぞれのカセッ
   トに元通りに分配搬送して元の収納間隔で収納すること
   を特徴とする、基板洗浄装置用の基板高速集合搬送及び
   再分配機構。
2. 【請求項２】 前記基板挟持搬送機構（５）が、左右１
   対の上ホルダー対（５３）（５５）及び下ホルダー対
   （５４）（５６）が横架されている左右の挟持アーム対
   （５１ａ）（５２ａ）、及び（５１ｂ）（５２ｂ）を垂
   下しており、該上下ホルダー対（５３）（５５）及び
   （５４）（５６）の開閉により基板が挟持及び開放さ
   れ、該ホルダーのホルダー軸（５３１）周囲に、それぞ
   れ、前記収納間隔に相当する幅の凹状帯（５３２）と凸
   状体（５３３）が交互に設けられ、該凸状体の外周面に
   は基板受け溝（５３４）が設けられ、該基板受け溝（５
   ３４）の底部は該凹状帯（５３２）の底部よりもホルダ
   ー軸（５３１）の中心から離れていることを特徴とす
   る、請求項１に記載の基板洗浄装置用の基板高速集合搬
   送及び再分配機構。
3. 【請求項３】 前記基板カセット（２）（２ｂ）が蓋付
   ケース内に収容され、前記カセットから基板を取出す操
   作の前に、ケースをケース搬送機にてカセット取出し位
   置に搬送する操作、真空吸着手段を有するケース蓋開閉
   機構によりケースの蓋を真空吸着して開く操作が行なわ
   れ、前記カセットから基板を取出す操作の後に、空カセ
   ットをカセット搬送機により取出したケースに戻す操
   作、ケース蓋開閉機構によりケースの蓋を閉める操作、
   ケース搬送機にてケースを元の位置に払い戻す操作が行
   なわれることを特徴とする、請求項１に記載の基板洗浄
   装置用の基板高速集合搬送及び再分配機構。