JP2000053705A - ゲル濃度と膨潤度の高いゴム重合体 - Google Patents

ゲル濃度と膨潤度の高いゴム重合体

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JP2000053705A JP11215656A JP21565699A JP2000053705A JP 2000053705 A JP2000053705 A JP 2000053705A JP 11215656 A JP11215656 A JP 11215656A JP 21565699 A JP21565699 A JP 21565699A JP 2000053705 A JP2000053705 A JP 2000053705A
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デール・アール.・ケラー
Michael T Gallagher
マイケル・テイー.・ギヤラガー
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 標準ゴム加工装置で支障なく加工可能なゴム
重合体を製造する。 【解決手段】 ゴム重合体を電子ビーム放射線で処理
し、前記ゴム重合体のゲル濃度と膨潤指数を調節する段
階を含むゴム重合体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は部分架橋(高いゲル
濃度と高い膨潤性)を提供するように改質した重合性モ
ノマーから構成されるエラストマー材料、前記ゴム重合
体の製造及び全種の成形品の製造におけるその使用に関
する。
【0002】
【従来の技術】今日の製造施設から入手可能な特にエチ
レン−酢酸ビニル又はエチレン−アクリレート型の多く
のゴム重合体は低粘度であるため、最終成形品への加工
中に多くの加工上の問題を生じ、これらの用途の多くで
使用できなくなっている。この種の問題には、加工装置
表面への粘着、押出中の剛性不足及び成形中の質量/嵩
圧力の低さがある。ゴム重合体の製造中に、このような
材料のゲル濃度はその後の加工段階中に作業可能な安全
率を維持するように一般に20重量%を優に下回る非常
に低レベルに維持することが認められている。重合体の
加硫中に、化学的(通常は硫黄による)及び/又は放射
線処理もしくは過酸化物硬化系による遊離基架橋により
ゲル濃度を著しく上昇させている。例えば、エラストマ
ーの放射線重合はW.Hofmann,“the Ru
bber Technology Handboo
k”,403〜406頁,Munich,Vienn
a,New York,1989刊に詳細に記載されて
いる。また、高エネルギー線による重合は“the H
andbook forVulcanization
and Vulcanization Additiv
es”,359〜363頁,(BAYER AG,Le
verkusen,1965)に記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来技術によ
り製造した重合体は通常のゴム加工装置では作業性が非
常に不良であることが多い。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、ゴム重合体を
電子ビーム放射線で処理し、前記ゴム重合体のゲル濃度
と膨潤指数を調節する段階を含むゴム重合体の製造方法
に関する。本発明は、ゴム重合体を含む成形品と、この
ようなゴム重合体の製造方法にも関する。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明の課題は、標準ゴム加工装
置で支障なく加工可能なゴム重合体を製造することであ
った。これは、ゴム混合物の混合とその後の加工中に、
ミキサーブレードや練りロールへの粘着、プロファイル
圧潰及び成形中のふくれ等をなくすことを意味する。本
発明の第1の主題は、 ・ 重合体の総量に対して30〜80%のゲル濃度と、
ゲルに対して0.3〜0.7の膨潤指数をもち、 ・ 電子ビーム放射線処理により部分架橋を含む重合体
を形成し、 ・ 本発明により成形形材、押出形材、フィルムシート
及び他の全種の成形品を造するのに使用できる 重合性モノマーを主成分とするゴム重合体である。本発
明によるゴム重合体のゲル濃度と膨潤指数は下記方法に
従って測定する。試料をo−ジクロロベンゼンに加え、
これにイオノール1g/lを加え、溶剤1リットル当た
り12.5gのポリマーを得る。試料を6時間140℃
で震盪した後、温度を140℃に維持したまま、1時間
20,000rpmで遠心分離する。ゾル溶液を分離
し、その後の分析に備える。まずゲルの湿量を測定した
後、重量が安定するまでチャンバー内で減圧乾燥して乾
量を測定する。下式によりゲル濃度と膨潤指数を計算す
る。 ゲル濃度=[ゲル乾量/試料総重量]×100 膨潤指数=[ゲル乾量/ゲル湿量] 本発明によると、重合体は30〜80%のゲル濃度をも
つべきであり、加工性の点では40〜70%が好まし
い。膨潤指数は0.4〜0.6とすべきであるが、0.
3未満〜0.7以上にすることもできる。
【0006】本発明によるゴム重合体は重合性モノマー
から構成され、これらのモノマーは個々に使用してもよ
いし、種々の混合物として使用してもよい。最適混合比
はゴム重合体から製造する最終製品の用途によって異な
り、適当な試験により容易に決定することができる。ゴ
ム重合体の主鎖は、重合体の耐酸化及びオゾン性を高く
するように≧90%飽和されていることが好ましい。エ
チレン性不飽和モノマー、ジエン又はトリエンは重合性
モノマーであるとみなされる。モノマーは場合により置
換されていてもよく、その場合には置換基はハロゲン
(特に塩素、臭素、ヨウ素)、場合により置換基をもつ
アルキル基(特にメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、
tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル)、場
合により置換基をもつアルコキシ基(特にメトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキ
シ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、イソブト
キシ)、場合により置換基をもつアリール基(特にフェ
ノキシ、p−メチルフェノキシ)、場合により置換基を
もつオキシカルボニル基(特にアセトキシ、プロピオニ
ルオキシ、ブチリルオキシ)、場合により置換基をもつ
カルボキシル基又はエステル化カルボキシル基(特にメ
チルカルボキシレート、エチルカルボキシレート、プロ
ピルカルボキシレート)、場合により置換基をもつシア
ノ、スルホネート、ビニルエステル及びアリル基から選
択することができる。置換基自体が置換されている場合
には、これらの置換基はC1 −C20基又はハロゲンで置
換されていることが好ましい。
【0007】特に好ましいモノマーはエチレン、プロピ
レン、1−ブテン、2−ブテン、1−ペンテン、クロロ
エチレン、スチレン、メチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルメタクリレート、メタクリル酸、酢
酸ビニル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテ
ル、シアノアクリレート、ブタジエン、イソプレン、ク
ロロプレン及びエチニルノルボルネンである。エチレン
と酢酸ビニル、エチレンと上記アクリレート及び上記純
アクリレートから構成されるゴム重合体が特に好まし
い。上記重合体に関して、モノマーの相互混合比即ちポ
リマー又は重合体を形成するためにモノマーを相互に反
応させる比は一般に0.1%〜99.9%、好ましくは
5%〜95%、より好ましくは30%〜80%である。
例えば、エチレン−酢酸ビニルポリマー(EVM)で
は、エチレンが40〜80%存在する場合には、酢酸ビ
ニルは60〜20%存在する。
【0008】本発明によるゴム重合体のゲル濃度と膨潤
度は電離放射線により調節することが好ましい。好まし
い電離放射線源は電子ビームである。本発明によるゴム
重合体のゲル濃度と膨潤度を調節できるようにするため
には、5〜75、好ましくは5〜45、より好ましくは
10〜40kGy(キログレイ)の電子ビーム放射線量
で電離放射線処理を実施する。エネルギーのS.I.単
位はグレイであり、材料1kg当たりエネルギー1ジュ
ールの吸収線量として定義される。照射は任意の適当な
装置を用いて実施することができ、例えばRadiat
ion Dynamics,Inc.製Dynamit
ronを使用できる。電離放射線処理は0〜130℃の
温度で通常通りに実施すればよい。電子ビーム放射線処
理は室温又はその付近で実施するのがごく一般的であ
る。本発明では、十分な架橋増進を保証するのに適した
ラジカル移動度を提供するために十分な温度が必要であ
る。好ましい方法は、既存製造方法に一般的な標準手順
を使用してモノマーを重合体に変換した後、最終重合体
を電離放射線で処理することに基づく。これらの最終生
成物の処理は、粉末からスラブに至る種々の形態に放射
線源を照射することにより実施される。主要な条件は、
照射する電離放射線が照射される重合体を完全に透過す
ることである。
【0009】最終包装製品でゲル濃度を均一に分布させ
るように確保するためには、後処理ブレンディングを実
施すると有利であることが判明した。例えばゴム重合体
が微粉状の場合には、粉末ミキサーを使用して均質化す
ることができる。この均質化方法を使用すると、照射す
る試料又は容器の形状と寸法に関係なくゲル濃度の均一
な製品を得ることができる。電子ビーム処理が平均所望
ゲル濃度を上回る場合には、放射線照射していない製品
とブレンドして希釈すればよい。放射線照射したゴム重
合体を既知量の慣用添加剤及び加工助剤と混合し、例え
ばEncyclopedia of Polymer
Science andEngineering,第4
巻,66頁以下(Compounding)及び第17
巻,666頁以下(Vulcanization)に記
載されているように成形品を製造することができる。利
用可能な添加剤及び製造助剤としては、カーボンブラッ
ク、無機充填剤、金属酸化物、油類、脂肪酸、有機過酸
化物又は他の架橋剤、軟化剤、粘着防止剤、分離剤、帯
電防止剤、難燃剤及び防腐剤が挙げられる。
【0010】更に、混合又は配合工程中に本発明による
ゲル濃度の高い重合体を他のポリマーと混合し、製造し
ようとする成形品の最終成分特性を変えることもでき
る。重合体の例としては、アクリレートゴム(AC
M)、ポリブタジエン(BR)、ポリクロロプレン(C
R)、塩素化及びクロロスルホン化ポリエチレン(C
M,CSM)、ポリ塩化ビニル(PVC)、エチレン−
プロピレンゴム(EPM)、エチレン−プロピレン−ジ
エンゴム(EPDM)、エチレン−酢酸ビニルゴム(E
VM)、ポリイソプレン(IR,NR)、アクリロニト
リル−ブタジエンゴム(NBR)、水素化アクリロニト
リル−ブタジエンゴム(HNBR)、スチレン−ブタジ
エンゴム(SBR)、エチレン−メチル(メタ)アクリ
レートゴム、特にエチレン−酢酸ビニルゴム、エチレン
−メチル(メタ)アクリレートゴム及びアクリレートゴ
ムが挙げられる。例えば、エチレン−酢酸ビニルゴムは
Bayer AGから商標名Levapren(登録商
標)で市販されており、エチレン−アクリレートゴムは
DuPont又はDuPont Dow elasto
mersからVAMAC(登録商標)として市販されて
いる。
【0011】これらの重合体を本発明によるゴム重合体
に個々に加えてもよいし、相互の混合物として加えても
よい。その場合、ゴム重合体と添加する重合体の混合比
は0.1〜99.9:99.90〜0.1%である。配
合中にEVM/HNBR等のポリマーブレンドを形成す
ると、性質を強化したり、経費を増減できる。最適混合
比は予備試験により容易に決定することができ、混合物
の所期用途によって異なる。本発明によるゴム重合体を
使用した成形品の製造は、ゴム加工産業の慣用装置であ
るバンバリーミキサー、押出機、カレンダー及び射出成
形機等を使用して実施することができる。本発明による
ゴム重合体は良好な製造能に加え、高い充填能を示す。
更に、多量の軟化剤を加え、低温柔軟性の高い重合体を
配合することもできる。本発明によるゴム重合体の別の
重要な利点は、連続製造で一定という注型適性の明白な
改善である。特に、放射線照射していないLevapr
en(登録商標)は粘着性が高いため、短時間しか注型
できない。この欠点は、本発明による照射により解決さ
れる。
【0012】以下、実施例により本発明を更に説明す
る。実施例 Levapren(登録商標)はエチレンと酢酸ビニル
の共重合体であり、Bayer AGの登録商標であ
る。Levapren(登録商標)400は酢酸ビニル
含量40%である。Rhenogran(登録商標)P
50はRhein Chemie Rheinau G
mbH製水解防腐剤である。Aktiplast(登録
商標)PPはRhein Chemie Rheina
u GmbH製加工助剤である。TAIC−50(2)
はRhein Chemie Rheinau Gmb
H製重合活性剤である。実施例に記載するムーニー値は
MonsantoレオメーターODR R−100を使
用して測定し、ゲル濃度と膨潤指数は上記方法を使用し
て測定した。
【0013】実施例1 20MUのムーニー粘度(ML1+4)と1%未満のゲ
ル濃度をもつLevapren(登録商標)400に上
記方法により35kGyのEビーム放射線を照射した。
測定値はムーニー粘度(ML1+4)60MU、ゲル濃
度61%及び膨潤指数0.4であった。実施例2 (比較例) 20MUのムーニー粘度(ML1+4)と1%未満のゲ
ル濃度をもつLevapren(登録商標)400に上
記方法により65kGyのEビーム放射線を照射した。
測定値はムーニー粘度>100MU、ゲル濃度82%及
び膨潤指数0.82であった。混合物の製造 常用混合物を使用した。慣用方法(Encyclope
dia of Polymer Science an
d Engineering,第4巻,66頁以下参
照)を使用して実験室内ミキサーで混合物成分を混合し
た。Rhenogran(登録商標)とAktipla
st(登録商標)はRhein Chemie Rhe
inau GmbHの登録商標である。実施例2の生成
物から加工可能な混合物を生成することはできなかっ
た。
【0014】
【表1】
【0015】混合特性
【表2】
【0016】首振りダイレオメーターであるMonsa
nto−ODR,R−100を試験装置として使用し、
177℃における化合物の硬化特性を測定した。
【表3】
【0017】加硫ゴム性質: プレス加硫:(10分/177℃)
【表4】
【0018】実施例1は本発明により処理したEVMゴ
ムを示し、実施例2では過度に高い放射線量を選択し
た。表1から明らかなように、ポリマーに放射線を照射
すると粘度が増すため、成形品の品質が改善される。等
級付けによると、成形工程中の空気移動が良好であるた
め、ふくれが著しく減ると共に表面外観が改善される。
【0019】以上、例示の目的で本発明を詳細に説明し
たが、以上の説明は単に例示の目的に過ぎず、発明の精
神及び範囲内で種々の変形が当業者により可能であり、
本発明は請求の範囲によってのみ制限されると理解され
たい。
【0020】以下、本発明の実施態様を要約すれば次の
通りである: 1. ゴム重合体を電子ビーム放射線で処理し、前記ゴ
ム重合体のゲル濃度と膨潤指数を調節する段階を含むゴ
ム重合体の製造方法。 2. 前記ゴム重合体が1種以上の重合性モノマーを含
む上記第1項に記載の方法。 3. 前記重合性モノマーがエチレンと酢酸ビニル、エ
チレンとアクリレート、又はアクリレートから構成され
る群から選択される上記第2項に記載の方法。 4. 前記電子ビーム放射線処理が5〜75kGyの放
射線量で実施される上記第1項に記載の方法。 5. 前記放射線量が10〜40kGyである上記第4
項に記載の方法。 6. 重合体の総重量に対して約40〜80%のゲル濃
度と、約0.3〜0.7の膨潤指数をもつ1種以上の重
合性モノマーを含むゴム重合体を含む成形品。
【0021】7. 前記ゴム重合体がエチレンと酢酸ビ
ニル、エチレンとアクリレート、又はアクリレートから
構成される群から選択される重合性モノマーを含む上記
第6項に記載の成形品。 8. 前記ゴム重合体の前記ゲル濃度と膨潤指数が電子
ビーム放射線処理により調節される上記第6項に記載の
成形品。 9. 電離放射線処理が5〜75kGyの放射線量で実
施される上記第8項に記載の成形品。 10. 電離放射線処理が10〜40kGyの放射線量
で実施される上記第9項に記載の成形品。 11. 前記成形品が成形形材である上記第6項に記載
の成形品。 12. 前記成形品が押出品である上記第6項に記載の
成形品。 13. 前記成形品がフィルムシートである上記第6項
に記載の成形品。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ゴム重合体を電子ビーム放射線で処理
    し、前記ゴム重合体のゲル濃度と膨潤指数を調節する段
    階を含むゴム重合体の製造方法。
  2. 【請求項2】 重合体の総重量に対して約40〜80%
    のゲル濃度と、約0.3〜0.7の膨潤指数をもつ1種
    以上の重合性モノマーを含むゴム重合体を含む成形品。
JP11215656A 1998-07-31 1999-07-29 ゲル濃度と膨潤度の高いゴム重合体 Pending JP2000053705A (ja)

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