JP2000053593A - エステル化合物および酸化合物の均一触媒によるエナンチオ選択的な水素添加のための方法および水素添加生成物の使用 - Google Patents
エステル化合物および酸化合物の均一触媒によるエナンチオ選択的な水素添加のための方法および水素添加生成物の使用Info
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Abstract
のための方法および有機合成系中での水素添加誘導体の
使用を提供する。 【解決手段】 一般式(II): 【化2】
Description
H、(C1〜C18)−アルキル、(C6〜C18)−アリー
ル、(C7〜C19)−アラルキル、(C3〜C18)−ヘテ
ロアリール、(C4〜C19)−ヘテロアラルキル、(C1
〜C8)−アルキル−(C6〜C18)−アリール、(C1
〜C8)−アルキル−(C3〜C19)−ヘテロアリール、
(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜C8)−アルキ
ル−(C3〜C8)−シクロアルキル、(C3〜C8)−シ
クロアルキル−(C1〜C8)−アルキルまたはカルボキ
シ保護基を表し、R′=H、(C1〜C18)−アルキ
ル、(C6〜C18)−アリール、(C7〜C1 9)−アラル
キル、(C3〜C18)−ヘテロアリール、(C4〜C19)
−ヘテロアラルキル、(C1〜C8)−アルキル−(C6
〜C18)−アリール、(C1〜C8)−アルキル−(C3
−C19)−ヘテロアリール、(C3〜C8)−シクロアル
キル、(C1〜C8)−アルキル−(C3〜C8)−シクロ
アルキル、(C3〜C8)−シクロアルキル−(C1〜
C8)−アルキルを表し、その際、前記の基は(C1〜C
8)−アシルまたは(C1〜C8)−アルキルオキシカル
ボニルにより置換されていてもよく、X=O、CH
R″、NR″、NNHR″であり、R″=H、OH、
R′、(C1〜C18)−アルコキシ、(C2〜C18)−ア
ルコキシアルキル、(C1〜C18)−アシル、(C1〜C
18)−アシルオキシであってもよく、その際、分子中の
異なった位置に関してR″は異なった形であってもよ
く、あるいはRとR′またはR′とR″またはR″とR
は、(C1〜C4)−架橋を介して相互に結合しており、
該架橋は直鎖状または分枝鎖状の(C1〜C8)−アルキ
ル、(C1〜C8)−アシル、(C1〜C8)−アルコキ
シ、(C2〜C8)−アルコキシアルキル基により一置換
または複数置換されていてもよく、かつ/または環中に
N、O、P、Sのようなヘテロ原子を有していてもよ
い]の化合物を、C2−対称のフェロセニル触媒を用い
て、均一触媒によりエナンチオ選択的に水素添加するた
めの方法に関する。
選択水素添加により製造した誘導体の、有機合成系中で
のキラルな中間体としての使用に関する。
に立体中心をエナンチオ選択的に導入することは、特殊
な適用に関して工業的規模で確立されている。エナンチ
オ選択生成物は、生理活性な作用物質の製造のための貴
重な出発物質である。
一触媒による水素添加のためのビスホスフィン触媒の使
用は公知である(Burk et al., Tetrahedron 1994, 439
9)。
Eur. J. 1998, 4, 950-968)、ハヤシ等(Hayashi et a
l., J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1989, 495-496)お
よびイケダ等(Ikeda et al., Tetrahedron Lett. 199
6, 4545-4448)は、C2−対称なフェロセニル−(ビス
−t−ホスフィン)−配位子を有するPd−錯体を記載
している。とりわけこの錯体は、非対称アリル化の際に
のみ使用された。従来エナンチオ選択的な水素添加の際
の触媒としてのその使用は知られていない。
m. Soc. Jpn. 1980, 53, 1132-1137)は、エナンチオ選
択的な均一触媒による水素添加における非C2−対称フ
ェロセニル−(ビス−t−ホスフィン)−配位子の使用
に関して報告している。しかしこの配位子では、良好な
エナンチオマー過剰量は極めて散発的に得られるのみで
ある。
等(Kang et al., Tetrahedron Lett. 1998, 39, 5523-
5526)は、アセトアミドケイ皮酸誘導体のエナンチオ選
択的な水素添加のために適切な触媒としてC2−対称フ
ェロセニル錯体を開示している。
は、C2−対称フェロセニル触媒を用いて、別の不飽和
系を均一触媒によりエナンチオ選択的に水素添加するた
めの方法を提供することである。
素原子と、別の炭素原子または酸素原子または窒素原子
との間の二重結合と解釈する。
り、請求項1に記載の方法により解決される。有利な実
施態様は、請求項1に依存する下位クレームの対象であ
る。
ものである。
H、(C1〜C18)−アルキル、(C6〜C18)−アリー
ル、(C7〜C19)−アラルキル、(C3〜C18)−ヘテ
ロアリール、(C4〜C19)−ヘテロアラルキル、(C1
〜C8)−アルキル−(C6〜C18)−アリール、(C1
〜C8)−アルキル−(C3〜C19)−ヘテロアリール、
(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜C8)−アルキ
ル−(C3〜C8)−シクロアルキル、(C3〜C8)−シ
クロアルキル−(C1〜C8)−アルキルまたはカルボキ
シ保護基を表し、R′=H、(C1〜C18)−アルキ
ル、(C6〜C18)−アリール、(C7〜C1 9)−アラル
キル、(C3〜C18)−ヘテロアリール、(C4〜C19)
−ヘテロアラルキル、(C1〜C8)−アルキル−(C6
〜C18)−アリール、(C1〜C8)−アルキル−(C3
−C19)−ヘテロアリール、(C3〜C8)−シクロアル
キル、(C1〜C8)−アルキル−(C3〜C8)−シクロ
アルキル、(C3〜C8)−シクロアルキル−(C1〜
C8)−アルキルを表し、その際、前記の基は(C1〜C
8)−アシルまたは(C1〜C8)−アルキルオキシカル
ボニルにより置換されていてもよく、X=O、CH
R″、NR″、NNHR″であり、R″=H、OH、
R′、(C1〜C18)−アルコキシ、(C2〜C18)−ア
ルコキシアルキル、(C1〜C18)−アシル、(C1〜C
18)−アシルオキシであってもよく、その際、異なった
位置に関してR″は異なった形であってもよく、あるい
はRとR′またはR′とR″またはR″とRは、(C1
〜C4)−架橋を介して相互に結合しており、該架橋は
直鎖状または分枝鎖状の(C1〜C8)−アルキル、(C
1〜C8)−アシル、(C1〜C8)−アルコキシ、(C2
〜C8)−アルコキシアルキル基により一置換または複
数置換されていてもよく、かつ/または環中にN、O、
P、Sのようなヘテロ原子を有していてもよい]の化合
物を均一触媒によりエナンチオ選択的に水素添加するた
めに、一般式(II):
NR6R7、SR6、(C1〜C18)−アルキル、(C1〜
C18)−アルコキシ、(C2〜C18)−アルコキシアル
キル、(C1〜C18)−アシルオキシ、(C6〜C18)−
アリール、(C7〜C19)−アラルキル、(C3〜C18)
−ヘテロアリール、(C4〜C19)−ヘテロアラルキ
ル、(C1〜C8)−アルキル−(C6〜C18)−アリー
ル、(C1〜C8)−アルキル−(C 3〜C19)−ヘテロ
アリール、(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜
C8)−アルキル−(C3〜C8)−シクロアルキル、
(C3〜C8)−シクロアルキル−(C1〜C8)−アルキ
ルを表すか、あるいはR1およびR2は、直鎖状または分
枝鎖状の(C1〜C8)−アルキル、(C1〜C8)−アシ
ル、(C1〜C8)−アルコキシ、(C2〜C8)−アルコ
キシアルキルにより一置換または複数置換されている、
および/または環中にN、O、P、Sのようなヘテロ原
子を有していてもよい(C3〜C7)−炭素環を介して結
合しており、R3は、(C2〜C18)−アルキル、(C1
〜C18)−アルコキシ、(C2〜C18)−アルコキシア
ルキル、(C1〜C18)−アシルオキシ、(C6〜C18)
−アリール、(C7〜C19)−アラルキル、(C3〜
C18)−ヘテロアリール、(C4〜C19)−ヘテロアラ
ルキル、(C1〜C8)−アルキル−(C6〜C18)−ア
リール、(C1〜C8)−アルキル−(C3〜C19)−ヘ
テロアリール、(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1
〜C8)−アルキル−(C3〜C8)−シクロアルキル、
(C3〜C8)−シクロアルキル−(C1〜C8)−アルキ
ルを表し、R4は、(C1〜C18)−アルキル、(C6〜
C18)−アリール、(C3〜C18)−ヘテロアリール、
(C1〜C8)−アルキル−(C6〜C18)−アリール、
(C1〜C8)−アルキル−(C3−C19)−ヘテロアリ
ール、(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜C8)−
アルキル−(C3〜C8)−シクロアルキルを表し、R5
は、Hまたは基B−X−Zを表し、その際、Bは、群C
R8 2、NR8、O、S、SiR8 2の基であり、Xは、
1,4′−ビフェニル、1−エチレン、2−エチレン、
1−プロピレン、3−プロピレン、PEG−(2〜1
0)のようなスペーサであり、かつZは、O−、NH
−、COO−、CONH、エテニル−、NHCONH
−、OCONH−またはNHCOO−のような官能基を
介してポリマーに結合している基を表すか、あるいは、
両方のシクロペンタジエニル環の基R5は、α,ω−
(C2〜C4)−アルキレン架橋を介して相互に結合して
おり、R6、R7は、相互に無関係にH、(C1〜C18)
−アルキル、(C1〜C18)−アルコキシ、(C2〜
C18)−アルコキシアルキル、(C1〜C18)−アシ
ル、(C6〜C18)−アリール、(C7〜C19)−アラル
キル、(C3〜C18)−ヘテロアリール、(C4〜C19)
−ヘテロアラルキル、(C1〜C8)−アルキル−(C6
〜C18)−アリール、(C1〜C8)−アルキル−(C3
〜C19)−ヘテロアリール、(C3〜C8)−シクロアル
キル、(C1〜C8)−アルキル−(C3〜C8)−シクロ
アルキル、(C3〜C8)−シクロアルキル−(C1〜
C8)−アルキルを表すか、あるいは、R6およびR
7は、直鎖状または分枝鎖状の(C1〜C8)−アルキ
ル、(C1〜C8)−アシル、(C1〜C8)−アルコキ
シ、(C2〜C8)−アルコキシアルキルにより一置換ま
たは複数置換されている、および/または環中にN、
O、P、Sのようなヘテロ原子を有していてもよい(C
3〜C7)−炭素環を介して結合しており、R8は、H、
(C1〜C18)−アルキルを表し、かつMは、Co、N
i、Rh、Ru、Ir、Pd、ReまたはPtのような
第7または第8副族の金属原子または金属イオンであ
る]の触媒を使用することにより、予測不可能なほど良
好な、ないし極めて良好な収率および良好な、ないし極
めて良好なエナンチオマー過剰量で所望の水素添加誘導
体が得られる。
関係に、H、N(C1〜C8)−アルキル2、NH(C1〜
C8)−アシル、N(C1〜C8)−アシル2、O(C1〜
C8)−アシル、(C1〜C8)−アルキル、(C1〜
C8)−アルコキシ、(C2〜C8)−アルコキシアルキ
ル、(C3〜C7)−シクロアルキル、(C6〜C18)−
アリールを表し、R3が、(C3〜C7)−シクロアルキ
ル、(C6〜C18)−アリールを表し、R4が、(C1〜
C8)−アルキル、(C3〜C7)−シクロアルキル、
(C6〜C 18)−アリールを表し、R5が、Hを表す一般
式(II)の化合物を触媒として使用する。
係にH、O(C1〜C8)−アシル、N(C1〜C8)−ア
ルキル2、(C1〜C8)−アルキルを表し、R3が、(C
6〜C18)−アリールを表し、R4が、フェニルを表し、
R5が、Hを表す、一般式(II)の化合物を触媒とし
て使用することは殊に有利である。
℃〜150℃、有利には20℃〜80℃で実施すること
ができる。
00kPa、有利には50kPa〜8000kPaであ
る。
に関して阻害することがない限り、当業者に公知のあら
ゆる溶剤を使用することができる。有利にはエーテル、
例えばTHF、DME、MTBE、アルコール、例えば
MeOH、EtOH、プロパノール、ブタノールを使用
することができる。
7311.8号に相応して行うことができる。
均一触媒による水素添加の際に、例えば以下の第1表に
記載したような優れた値を示す。
て低い。しかし、この濃度は工業的な適用のためにはさ
らに低下させることができる。この2点は、本発明によ
る配位子を工業的な規模で適用するために極めて有利で
ある。というのもこの方法により得られる生成物のため
のコストは、相応してより低くなり、ひいては従来技術
の配位子系を使用する場合より顕著に経済的な利用が保
証されるからである。
ポリマーマトリックス、例えば直鎖状PMMA、ポリス
チレンまたはPEGならびに非直鎖状デンドリマー(Den
drimer)への結合のために使用することができる。基R5
の、本発明による錯体のシクロペンタジエニル環への結
合は、遊離の位置により、および環により変化する。従
って環へのポリマーの結合は十分である。基として、こ
の目的のために該当する当業者に公知のあらゆる基を使
用することができる。錯体触媒の分子の拡大のための適
切な概説は、Tetrahedron Asymmetry 1998, 9, 691〜69
6頁に記載されている。基R5は、有利には配置B−X−
Zからなり、その際、Bは、群CR8 2、NR8、O、
S、SiR8 2の基であり、Xは、例えば1,4′−ビフ
ェニル、1−エチレン、2−エチレン、1−プロピレ
ン、3−プロピレン、PEG−(2〜10)のようなス
ペーサであり、かつZは、上記のポリマーに結合してい
る例えばO−、NH−、COO−、CONH、エテニル
−、NHCONH−、OCONH−またはNHCOO−
官能基のような官能性の基である。あるいは両方のシク
ロペンタジエニル環の基R5は、α,ω−(C2〜C4)
−アルキレン架橋を介して相互に結合していてもよい。
セトアミドケイ皮酸誘導体以外に、その他の不飽和化合
物もまた一部極めて高いee値で水素添加することがで
きることは、従来の技術水準では知られていなかった。
しかしその分だけ一層意外であり、これに劣らず有利で
あることは、タイプ(I)の化合物もまたエナンチオ選
択的に反応させることができることである。
アルキルとして、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルまたはオクチル
から18個の炭素原子を有する基までが、その全ての結
合異性体も含めて該当する。基(C1〜C18)−アルコ
キシは、基(C1〜C18)−アルキルに相応するが、た
だしその際、該アルキルは酸素原子を介して分子に結合
している。(C2〜C18)−アルコキシアルキルとし
て、アルキル鎖が少なくとも1個の酸素官能基により中
断されている基が該当し、この場合、2つの酸素原子が
相互に結合していることはできない。炭素原子の数は、
基の中に含まれる炭素原子の総数を表す。
−、O−、P−、S−原子を含有する基により一置換ま
たは複数置換されていてもよい。これは特に上記の種類
のアルキル基であり、これは前記のヘテロ原子をその鎖
中に1つまたは複数有していてもよいか、もしくはこれ
は前記のヘテロ原子を介して分子に結合している。(C
1〜C8)−アルキル基に関しては、上記の記載は相応し
て最大8個の炭素原子を有するアルキル基に該当する。
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシルもしくはシクロヘプチル基などと解釈する。これ
らは1つまたは複数のハロゲンおよび/またはN−、O
−、P−、S−原子含有の基により置換されていてもよ
いか、および/またはN−、O−、P−、S−原子含有
の基を環中に有していてもよく、例えば1−ピペリジ
ル、2−ピペリジル、3−ピペリジル、4−ピペリジ
ル、1−ピロリジニル、2−ピロリジニル、3−ピロリ
ジニル、2−テトラヒドロフリル、3−テトラヒドロフ
リル、2−モルホリニル、3−モルホリニル、4−モル
ホリニルである。
C8)−アルキル基は、上記のシクロアルキル基を表す
が、該基は、上記のアルキル基を介して分子に結合して
いる。
の範囲では、上記で定義した、最大18個の炭素原子を
有するアルキル基を意味するが、該基は、COO官能基
を介して分子に結合している。(C1〜C8)−アシルオ
キシに関しては同様のことが該当する。
では、上記で定義した、最大18個の炭素原子を有する
アルキル基を意味するが、該基は、CO官能基を介して
分子に結合している。(C1〜C8)−アシルオキシに関
しては同様のことが該当する。
基は、本発明の範囲では、上記で定義した、最大8個の
炭素原子を有するアルキル基を意味するが、該基は、O
CO官能基を介して分子に結合している。
個の炭素原子を有する芳香族基と解釈する。特にこのた
めにフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基、ビフェニル基のような化合物が挙げられ、こ
れらは場合により(C1〜C8)−アルコキシ、NR
6R7、(C1〜C8)−アシル、(C1〜C8)−アシルオ
キシにより置換されていてもよい。
C8)−アルキル基を介して分子に結合している(C6〜
C18)−アリール基である。
発明の範囲では、3〜18個の炭素原子からなる5員、
6員または7員の芳香族の環系を表し、これはヘテロ原
子、例えば窒素、酸素または硫黄を環中に有している。
このようなヘテロ原子は、例えば特に1−フリル、2−
フリル、3−フリル、例えば1−ピロリル、2−ピロリ
ル、3−ピロリル、1−チエニル、2−チエニル、3−
チエニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジ
ル、2−インドリル、3−インドリル、4−インドリ
ル、5−インドリル、6−インドリル、7−インドリ
ル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル、5−ピラゾリ
ル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、5−イミダ
ゾリル、アクリジニル(Acridinyl)、キノリニル、フェ
ナントリジニル(Phenanthridinyl)、2−ピリミジニ
ル、4−ピリミジニル、5−ピリミジニル、6−ピリミ
ジニルである。
(C7〜C19)−アラルキル基に相応するヘテロ芳香族
系と解釈する。
(J. Jones, The Chemical Synthesis of Peptide, Oxf
ord Science Pub. 1991, 第33頁以降)に記載の基と
解釈する。
びヨウ素が該当する。
2SO4、H3PO4、CF3COOH、p−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸と、該当する分子とからなる
イオン性の付加化合物と解釈する。
味する。
は、本発明の範囲では、その光学的な対掌体を有する混
合物中のエナンチオマーの割合が、50%より多く、か
つ100%未満である範囲と解釈する。
は、1つのジアステレオマーが、1つまたは複数のその
他のジアステレオマーに対して過剰であることと解釈す
る。
は、本発明の範囲では、全ての可能なジアステレオマー
を包含し、その際、それぞれのジアステレオマーの両方
の光学的な対掌体もまた挙げられるものとする。
マトリックス、例えば直鎖状のPMMA、ポリスチレン
またはPEGならびに非直鎖状のデンドリマーと解釈す
る。
る。
D)2X 0.01ミリモルおよびフェロセニル配位子
0.01ミリモルを、アルゴン下でアセトン1mlに溶
解させる。次いで、HBr 0.022ミリモル(c=
0.3M、適量のMeOH中の48%HBrから製造)
を、溶液に添加し、かつ室温で30分間撹拌する。引き
続き、アセトンを留去し、かつ残留物を相応する溶剤1
2ml中に溶解させる。ケトエステル1ミリモルの添加
後、該溶液をアルゴン下で100ml鋼製オートクレー
ブへ移し、かつ10分間H2を用いて数回洗浄後に、相
応する水素圧で反応温度に加熱する。引き続き該混合物
を24時間撹拌し、濾過し、かつHPLCによりエナン
チオマー過剰量を測定した。
ー過剰量をHPLCを用いて測定した(キラルセル(Chi
ralcel)OD、n−ヘプタン/イソプロパノール99:
1、流れ0.6mL/分、T=20℃:tR=10.5
5(S)、12.24(R)。
ー過剰量をHPLCを用いて測定した(キラルセルO
D、n−ヘプタン/イソプロパノール95:5、流れ
0.6mL/分、T=20℃:tR=14.73
(S)、23.44(R)。
1ミリモルおよびフェロセニル配位子0.01ミリモル
を、相応する溶剤12mlに溶解させる。不飽和エステ
ル1ミリモルの添加後に、該溶液をアルゴン下で100
ml鋼製オートクレーブへ移し、かつ10分間H2を用
いて数回洗浄後に、相応する水素圧で反応温度に加熱す
る。引き続き該混合物を24時間撹拌し、濾過し(場合
により使用される酸をMe3SiCHN2でエステル化す
る)、かつHPLCによりエナンチオマー過剰量を測定
した(キラルセルOD、n−ヘプタン/イソプロパノー
ル95:5、流れ0.6mL/分、T=20℃:tR=
18.05(S)、21.13(R)。 α−フェニルアクリル酸: 溶剤:THF 反応温度:60℃ 圧力:5000kPa α−フェニルアクリル酸メチルエステル: 溶剤:MeOH 反応温度:60℃ 圧力:5000kPa
Claims (7)
- 【請求項1】 一般式(I): 【化1】 [式中、 nは、0〜3の整数であり、R=H、(C1〜C18)−
アルキル、(C6〜C18)−アリール、(C7〜C19)−
アラルキル、(C3〜C18)−ヘテロアリール、(C4〜
C19)−ヘテロアラルキル、(C1〜C8)−アルキル−
(C6〜C18)−アリール、(C1〜C8)−アルキル−
(C3〜C19)−ヘテロアリール、(C3〜C8)−シク
ロアルキル、(C1〜C8)−アルキル−(C3〜C8)−
シクロアルキル、(C3〜C8)−シクロアルキル−(C
1〜C8)−アルキルまたはカルボキシ保護基を表し、 R′=H、(C1〜C18)−アルキル、(C6〜C18)−
アリール、(C7〜C1 9)−アラルキル、(C3〜C18)
−ヘテロアリール、(C4〜C19)−ヘテロアラルキ
ル、(C1〜C8)−アルキル−(C6〜C18)−アリー
ル、(C1〜C8)−アルキル−(C3−C19)−ヘテロ
アリール、(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜
C8)−アルキル−(C3〜C8)−シクロアルキル、
(C3〜C8)−シクロアルキル−(C1〜C8)−アルキ
ルを表し、その際、前記の基は(C1〜C8)−アシルま
たは(C1〜C8)−アルキルオキシカルボニルにより置
換されていてもよく、 X=O、CHR″、NR″、NNHR″であり、 R″=H、OH、R′、(C1〜C18)−アルコキシ、
(C2〜C18)−アルコキシアルキル、(C1〜C18)−
アシル、(C1〜C18)−アシルオキシであってもよ
く、その際、異なった位置に関してR″は異なった形で
あってもよく、 あるいはRとR′またはR′とR″またはR″とRは、
(C1〜C4)−架橋を介して相互に結合しており、該架
橋は直鎖状または分枝鎖状の(C1〜C8)−アルキル、
(C1〜C8)−アシル、(C1〜C8)−アルコキシ、
(C2〜C8)−アルコキシアルキル基により一置換また
は複数置換されていてもよく、かつ/または環中にN、
O、P、Sのようなヘテロ原子を有していてもよい]の
化合物を均一触媒によりエナンチオ選択的に水素添加す
るための方法において、一般式(II): 【化2】 [式中、 R1、R2は、相互に無関係にH、NR6R7、SR6、
(C1〜C18)−アルキル、(C1〜C18)−アルコキ
シ、(C2〜C18)−アルコキシアルキル、(C1〜
C18)−アシルオキシ、(C6〜C18)−アリール、
(C7〜C19)−アラルキル、(C3〜C18)−ヘテロア
リール、(C4〜C19)−ヘテロアラルキル、(C1〜C
8)−アルキル−(C6〜C18)−アリール、(C1〜
C8)−アルキル−(C 3〜C19)−ヘテロアリール、
(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜C8)−アルキ
ル−(C3〜C8)−シクロアルキル、(C3〜C8)−シ
クロアルキル−(C1〜C8)−アルキルを表すか、 あるいはR1およびR2は、直鎖状または分枝鎖状の(C
1〜C8)−アルキル、(C1〜C8)−アシル、(C1〜
C8)−アルコキシ、(C2〜C8)−アルコキシアルキ
ルにより一置換または複数置換されている、および/ま
たは環中にN、O、P、Sのようなヘテロ原子を有して
いてもよい(C3〜C7)−炭素環を介して結合してお
り、 R3は、(C2〜C18)−アルキル、(C1〜C18)−ア
ルコキシ、(C2〜C18)−アルコキシアルキル、(C1
〜C18)−アシルオキシ、(C6−C18)−アリール、
(C7〜C19)−アラルキル、(C3〜C18)−ヘテロア
リール、(C4〜C19)−ヘテロアラルキル、(C1〜C
8)−アルキル−(C6〜C18)−アリール、(C1〜
C8)−アルキル−(C3〜C19)−ヘテロアリール、
(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜C8)−アルキ
ル−(C3〜C8)−シクロアルキル、(C3〜C8)−シ
クロアルキル−(C1〜C8)−アルキルを表し、 R4は、(C1〜C18)−アルキル、(C6〜C18)−ア
リール、(C3〜C18)−ヘテロアリール、(C1〜
C8)−アルキル−(C6〜C18)−アリール、(C1〜
C8)−アルキル−(C3−C19)−ヘテロアリール、
(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1〜C8)−アルキ
ル−(C3〜C8)−シクロアルキルを表し、 R5は、Hまたは基B−X−Zを表し、その際、Bは、
群CR8 2、NR8、O、S、SiR8 2の基であり、X
は、1,4′−ビフェニル、1−エチレン、2−エチレ
ン、1−プロピレン、3−プロピレン、PEG−(2〜
10)のようなスペーサであり、かつZは、O−、NH
−、COO−、CONH、エテニル−、NHCONH
−、OCONH−またはNHCOO−のような官能基を
介してポリマーに結合している基を表すか、 あるいは、両方のシクロペンタジエニル環の基R5は、
α,ω−(C2〜C4)−アルキレン架橋を介して相互に
結合しており、 R6、R7は、相互に無関係にH、(C1〜C18)−アル
キル、(C1〜C18)−アルコキシ、(C2〜C18)−ア
ルコキシアルキル、(C1〜C18)−アシル、(C6〜C
18)−アリール、(C7〜C19)−アラルキル、(C3〜
C18)−ヘテロアリール、(C4〜C19)−ヘテロアラ
ルキル、(C1〜C8)−アルキル−(C6〜C18)−ア
リール、(C1〜C8)−アルキル−(C3〜C19)−ヘ
テロアリール、(C3〜C8)−シクロアルキル、(C1
〜C8)−アルキル−(C3〜C8)−シクロアルキル、
(C3〜C8)−シクロアルキル−(C1〜C8)−アルキ
ルを表すか、 あるいは、R6およびR7は、直鎖状または分枝鎖状の
(C1〜C8)−アルキル、(C1〜C8)−アシル、(C
1〜C8)−アルコキシ、(C2〜C8)−アルコキシアル
キルにより一置換または複数置換されている、および/
または環中にN、O、P、Sのようなヘテロ原子を有し
ていてもよい(C3〜C7)−炭素環を介して結合してお
り、 R8は、H、(C1〜C18)−アルキルを表し、 かつMは、Co、Ni、Rh、Ru、Ir、Pd、Re
またはPtのような第7または第8副族の金属原子また
は金属イオンである]の触媒を用いることを特徴とす
る、均一触媒によりエナンチオ選択的に水素添加するた
めの方法。 - 【請求項2】 式中で、 R1、R2が、相互に無関係に、H、N(C1〜C8)−ア
ルキル2、NH(C1〜C8)−アシル、N(C1〜C8)
−アシル2、O(C1〜C8)−アシル、(C1〜C8)−
アルキル、(C1〜C8)−アルコキシ、(C2〜C8)−
アルコキシアルキル、(C3〜C7)−シクロアルキル、
(C6〜C18)−アリールを表し、 R3が、(C3〜C7)−シクロアルキル、(C6〜C18)
−アリールを表し、 R4が、(C1〜C8)−アルキル、(C3〜C7)−シク
ロアルキル、(C6〜C 18)−アリールを表し、 R5が、Hを表す一般式(II)の触媒を使用する、請
求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 式中で、R1、R2が、相互に無関係に
H、O(C1〜C8)−アシル、N(C1〜C8)−アルキ
ル2、(C1〜C8)−アルキルを表し、 R3が、(C6〜C18)−アリールを表し、 R4が、フェニルを表し、 R5が、Hを表す、請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 反応の際の温度が、0℃〜150℃、有
利には20℃〜80℃である、請求項1から3までのい
ずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】 反応の際の水素圧が、10kPa〜10
000kPa、有利には50kPa〜8000kPaで
ある、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方
法。 - 【請求項6】 反応の際の溶剤として、THF、DM
E、MTBEのようなエーテル、MeOH、EtOH、
プロパノール、ブタノールのようなアルコールを使用す
る、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】 有機合成系中でのキラルな中間体として
の、請求項1に記載の方法により製造した生成物の使
用。
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