JP2002080429A - 光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法 - Google Patents

光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法

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JP2002080429A JP2000291458A JP2000291458A JP2002080429A JP 2002080429 A JP2002080429 A JP 2002080429A JP 2000291458 A JP2000291458 A JP 2000291458A JP 2000291458 A JP2000291458 A JP 2000291458A JP 2002080429 A JP2002080429 A JP 2002080429A
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 医農薬品等として有用な光学活性な含フッ素
β−ヒドロキシエステルを高純度、高収率で得る方法、
また光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド
又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法を
提供する。 【解決手段】 一般式1の2,2−ジフルオロ−3−ケ
トエステル又は一般式5の3−パーフルオロアルキル−
3−ケトエステルを、一般式2の光学活性な配位子を有
するロジウム錯体等の遷移金属触媒を用いて不斉水素化
反応させ、一般式3又は6の光学活性な含フッ素β−ヒ
ドロキシエステルを得る方法。 (R及びRは互いに同一若しくは異なり、互いに共
同して環を形成してもよい脂肪族又は脂環式炭化水素
基、アリール基又はアラルキル基、R〜Rは互いに
同一若しくは異なり、互いに共同して環を形成してもよ
い脂肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル基、R
はパーフルオロアルキル基を示す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、たとえば医薬や農
薬等の生理活性物質として有用な光学活性な2,2−ジ
フルオロ−3−ヒドロキシエステル又は3−パーフルオ
ロアルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルから
なる光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び
光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は
/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並び
に光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、機能性や生理活性を有する既知
化合物から、その水素原子をフッ素原子に置き換えるこ
とによって得られる化合物は、そのフッ素原子の特異的
な電子効果によって、その機能や生理活性が強化された
り、或いは新しい機能や生理活性を発揮することが知ら
れている。
【0003】そのため、既知化合物の原料と類似の構造
を持つ含フッ素ビルディングブロックが設計されている
(「90年代のフッ素生理活性物質」石川延男監修CM
C社刊(1991))、「フッ素系材料の最新動向」山
辺正顕、松尾仁編集CMC社刊(1994))。
【0004】従来、光学活性な2,2−ジフルオロ−3
−ヒドロキシエステルの製造方法は、酵母などの微生物
を用いた合成法(特開平6−253889:Tetrahedro
n(1996) 52, 157)、純化学的な不斉合成法(Tetrahedr
on (1997)53, 10271 : Synthesis (1996), 1070 : Lieb
igs Ann. (1995) 1447 : 特願平11−339332:
日本薬学会第25回「反応と合成の進歩シンポジウム」
講演要旨集,pp. 210-212 (1999))などが知られてい
る。また、3−パーフルオロアルキル−3−ヒドロキシ
プロピオン酸エステルにおいても酵母などの微生物を用
いた合成法(Helv. Chim. Acta (1984), 67, 1843)が
報告されている。
【0005】また、従来から光学活性な含フッ素アルコ
ールの合成方法は非常に困難であり、これらを得るため
には、ラセミ体を合成した後に光学分割を行う方法(北
爪智哉、伊藤恵美造、特開平3−31238号)、酵素
を用いて合成した光学活性なトリフルオロプロペンオキ
サイドから誘導する方法(Tetraheron Lett.(1990)31,70
31)、或いは他の光学活性な化合物から誘導する方法(Ch
em.Ber.(1994)127,565)、また量論的エナンチオ選択的
な還元反応(J.Org.Chem.(1995)60,41)を用いなければな
らなかった。
【0006】しかしながら、上記のような合成方法は、
ラセミ体を合成した後に光学分割する際に生じる副生成
物、不十分な光学純度及び高価な試薬の大量使用などの
問題があった。
【0007】最近では、触媒的エナンチオ選択的な合成
法(Angew.Chem.Int.Ed.Engl.(1996)35,448;Chem.Lett.
(1996)861;特開平7−252174号、特開平7−11
8188号)が報告されているが、低い触媒活性や不十
分な光学純度などの問題が未だ残っている。
【0008】また、本出願人は、特願平11−2810
44号においてパーフルオロアルキル置換エノールエス
テルをルテニウム触媒を用いて不斉水素化し、加水分解
することによって98%ee以上の光学純度が得られる
ことを提起しているが、この反応は、パーフルオロアル
キルケトンを一度パーフルオロアルキル置換エノールエ
ステルに変換する必要があるため、工程数が多くなり、
またα位に水素がないケトンはエノールエステルに変換
できないため、基質の一般性に欠けるという問題点があ
る。
【0009】一方、従来、光学活性な含フッ素2−ヒド
ロキシアルカンアミドは光学活性な含フッ素2−ヒドロ
キシカルボン酸エステルからアミド化反応を行うことに
より合成されており(特開平9−59222号)、その
光学活性な含フッ素2−ヒドロキシカルボン酸の合成方
法は光学活性なトリフルオロプロペンオキサイドを酸化
する方法(特開平5−78277号)、分割剤を用いて
ラセミ体を光学分割する方法(Chem.Ber.(1992),125,279
5、日本化学会誌(1989),9,1576)などが報告されてい
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来公知
の合成方法では、得られる光学活性な生成物の光学純度
が低く、また用いる試薬が高価なため、大量合成には必
ずしも適していない。
【0011】また、上記従来公知の方法は、例えば特開
平5−78277号によると、合成過程に微生物を用い
るため、一方の異性体しか合成することができず、また
酸化反応は、大量生産には不向きである。また光学分割
法の場合、反応に用いる分割剤が高価であり、工程が長
く更に1当量以上必要とするため経済的に問題がある
上、収率は50%を超えない。
【0012】本出願人は、触媒的不斉水素化反応を用い
ることにより光学活性な含フッ素2−ヒドロキシカルボ
ン酸を合成できることを特願2000−038923号
において提起している。しかしながら、この方法は工程
数が長くなり、コストが高くなるという問題点がある。
【0013】本発明は、従来技術が有する上記のような
問題点を解決するためになされたものであって、その目
的は、医薬や農薬等の生理活性物質及び液晶材料等の中
間体として有用な光学活性な2,2−ジフルオロ−3−
ヒドロキシエステル及び3−パーフルオロアルキル−3
−ヒドロキシプロピオン酸エステルを高純度、高収率で
得る方法を提供することにあり、また、光学活性な含フ
ッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2
−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フ
ッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素
乳酸又はその誘導体の製造方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式[1]で表される2,2−ジフルオロ−3−ケトエ
ステルを、下記一般式[2]で表される光学活性(キラ
ル)な配位子(AMPP配位子)を有するロジウム錯体
等の遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることに
より、下記一般式[3]で表される光学活性な2,2−
ジフルオロ−3−ヒドロキシエステルを得ることを特徴
とする、2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシエステル
の製造方法に係るものである(以下、本発明の第1の発
明と称する。)。
【0015】
【化19】
【化20】
【化21】 (但し、前記一般式[1]、[2]及び[3]におい
て、R1及びR2は互いに同一の若しくは異なる基であっ
て、互いに共同して環状の基を形成してもよい脂肪族又
は脂環式炭化水素基、アリール基又はアラルキル基を示
し、また、R3、R4、R5及びR6は互いに同一の若しく
は異なる基であって、互いに共同して環状の基を形成し
てもよい脂肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル
基を示す。)
【0016】また、本発明は、下記一般式[5]で表さ
れる3−パーフルオロアルキル−3−ケトエステルを、
下記一般式[2]で表される光学活性な配位子(AMP
P配位子)を有するロジウム錯体等の遷移金属触媒を用
いて不斉水素化反応させることにより、下記一般式
[6]で表される光学活性な3−パーフルオロアルキル
−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルを得ることを特
徴とする、3−パーフルオロアルキル−3−ヒドロキシ
プロピオン酸エステルの製造方法に係るものである(以
下、本発明の第2の発明と称する。)。
【0017】
【化22】
【化23】
【化24】 (但し、前記一般式[5]、[2]及び[6]におい
て、Rfはパーフルオロアルキル基、R2は脂肪族炭化
水素基、アリール基又はアラルキル基を示し、また
3、R4、R5及びR6は互いに同一の若しくは異なる基
であって、互いに共同して環状の基を形成してもよい脂
肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル基を示
す。)
【0018】本発明によれば、前記一般式[1]で表さ
れる2,2−ジフルオロ−3−ケトエステルを、前記一
般式[2]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有するロジウム錯体等の遷移金属触媒を用いて不
斉水素化反応させるので、光学活性に富む前記一般式
[3]で表される2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシ
エステルを、従来技術による場合に比べて、高い光学純
度及び収率で製造することができる。
【0019】さらに本発明によれば、前記一般式[5]
で表される3−パーフルオロアルキル−3−ケトエステ
ルを、上記と同様の前記一般式[2]で表される光学活
性な配位子(AMPP配位子)を有するロジウム錯体等
の遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させるので、光
学活性に富む前記一般式[6]で表される3−パーフル
オロアルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステル
を、従来技術による場合に比べて、高い光学純度及び収
率で製造することができる。
【0020】また、本発明は、下記一般式[7]で表わ
されるカルボニルのα位に少なくともフッ素原子を2個
有する化合物と、下記一般式[8]で表されるカルボニ
ル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個有する化
合物とのうちの少なくとも1種を、下記一般式[9]で
表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有する
遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることによ
り、下記一般式[10]で表わされる光学活性な含フッ
素アルコール類を得る、光学活性な含フッ素アルコール
類の製造方法の製造方法に係るものである(以下、本発
明の第3の発明と称する。)。
【0021】
【化25】
【化26】
【化27】
【化28】 (但し、前記一般式[7]、[8]及び[10]におい
て、R7がフッ素原子若しくはパーフルオロアルキル基
である場合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ
カルボニル基、オキシカルボニル基又はカルボキシル基
を示す。前記置換基としては、ハロゲン原子、エステル
基、カルボキシル基、アミド基、ヒドロキシ基、アルキ
ルオキシ基、アリールオキシ基、シアノ基又はリン酸エ
ステル基などを示す。また、前記一般式[7]、[8]
及び[10]において、R7がオキシカルボニル基の場
合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。また、
前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12とR
13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子又は
置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R12
びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水素基
から選択される。また、R9とR10又はR9とR11は互い
に共同して環状の基を形成してもよい。また、R14、R
15、R16及びR17は互いに同一の若しくは異なる基であ
って、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基又
はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR17は互
いに共同して環状の基を形成してもよい。)
【0022】また、本発明は、下記一般式[11]で表
される2,2−ジヒドロキシパーフルオロアルカンアミ
ドと、下記一般式[12]で表わされる2−ケトパーフ
ルオロアルカンアミドと、下記一般式[13]で表され
る含フッ素ケトンとのうちの少なくとも一種を、下記一
般式[9]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させ
ることにより、下記一般式[14]で表わされる光学活
性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミドと、下記一
般式[15]で表される光学活性な含フッ素アルコール
との少なくとも一種を得る、光学活性な含フッ素2−ヒ
ドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素
アルコールの製造方法に係るものである(以下、本発明
の第4の発明と称する。)。
【0023】
【化29】
【化30】
【化31】
【化32】
【化33】
【化34】 (但し、前記一般式[11]、[12]及び[14]に
おいて、R18及びR19は互いに同一の若しくは異なる基
であって、互いに共同して環状の基を形成してもよく、
水素、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基、
アラルキル基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を示す。
また前記一般式[13]及び[15]において、R20
アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。ま
た、前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12
とR13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子
又は置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R
12及びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水
素基から選択される。また、R 9とR10又はR9とR11
互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
14、R15、R16、R17は互いに同一の若しくは異なる
基であって、アルキル基、シクロパラフィン基、アリー
ル基又はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR
17は互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
Rfはパーフルオロアルキル基を示す。)
【0024】また、本発明は、上記製造方法によって得
られた下記一般式[14]で表される光学活性な含フッ
素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水分解する工程を
経て、下記一般式[16]で表される光学活性な含フッ
素乳酸又はその誘導体を得る、光学活性な含フッ素乳酸
又はその誘導体の製造方法に係るものである(以下、本
発明の第5の発明と称する。)。
【0025】
【化35】
【化36】 (但し、前記一般式[14]において、R18及びR19
互いに同一の若しくは異なる基であって、互いに共同し
て環状の基を形成してもよく、水素、アルキル基、シク
ロパラフィン基、アリール基、アラルキル基、ヒドロキ
シ基又はアルコキシ基を示す。また、Rfはパーフルオ
ロアルキル基を示す。)
【0026】本発明によれば、上記一般式[7]で表わ
されるカルボニルのα位に少なくともフッ素原子を2個
有する化合物又は上記一般式[8]で表されるカルボニ
ル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個有する化
合物を上記一般式[9]で表される光学活性な配位子
(AMPP配位子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉
水素化反応させるので、上記一般式[10]で表わされ
る光学活性な含フッ素アルコール類を高光学純度、高収
率で製造することができる。
【0027】また、本発明によれば、上記一般式[1
1]で表される2,2−ジヒドロキシパーフルオロアル
カンアミドと、上記一般式[12]で表される2−ケト
パーフルオロアルカンアミドと、上記一般式[13]で
表される含フッ素ケトンとの少なくとも一種を、上記一
般式[9]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させ
るので、上記一般式[14]で表される光学活性な含フ
ッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び上記一般
式[15]で表される光学活性な含フッ素アルコール
を、従来技術による場合に比べて、短い工程、高光学純
度、高収率及び低コストで大量に製造することができ
る。
【0028】さらに本発明によれば、上記製造方法で得
られた上記一般式[14]で表される光学活性な含フッ
素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水分解する工程を
経て、上記一般式[16]で表される光学活性な含フッ
素乳酸又はその誘導体を、高い光学純度及び収率で製造
することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態に基づ
いて更に具体的に説明する。
【0030】本発明において、前記一般式[1]、
[2]、[3]、[5]、[6]、[7]、[8]、
[9]、[10]、[11]、[12]、[13]、
[14]及び[15]で示される脂肪族又は脂環式炭化
水素基、或いはアルキル基は、直鎖状、分枝鎖状又は環
状構造を持ち、その内部にハロゲン原子又はヘテロ原子
などの置換基を有してもよい炭素数1〜30の、枝分か
れがあってもよいメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等のアルキル基、またはこれと同等の炭素数から
なっていてよいシクロヘキシル基等のシクロパラフィン
基であってよい。
【0031】また、前記各一般式中に示されるアリール
基は、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基、
アンスリル基や、ヘテロ原子を有する複素環芳香族基等
が例示できる。その置換基としては、枝分かれがあって
もよい炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等を例示できる。
【0032】アラルキル基としては、ベンジル基、p−
メチルベンジル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、
α−フェネチル基等を例示できる。
【0033】アルコキシ基としては、直鎖状、分枝鎖状
又は環状構造を持つ炭素鎖で、その内部にハロゲン原子
又はヘテロ原子などの置換基を有してもよい炭素数1〜
30の、枝分かれがあってもよいメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基であっ
てよい。
【0034】本発明における、前記一般式[5]、
[6]、[7]、[8]、[10]、[11]、[1
2]、[13]、[14]、[15]及び[16]中に
示されるRf(パーフルオロアルキル基)の炭素数は1
〜10が好ましく、直鎖状又は分枝鎖状等の構造であっ
てよく、例えばCF3、C25、C37などがあるが、
特にCF3が好ましい。ここで、本発明の第5の発明に
おいて、上記Rfがトリフルオロメチル基の場合、光学
活性な3,3,3−トリフルオロ乳酸を得ることができ
る。
【0035】本発明における前記遷移金属触媒は、活性
が高く、不斉合成の選択性も高い触媒であって、下記一
般式[4]で表される遷移金属錯体を用いることが好まし
い。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VIII
族金属を表わし、Lは前記一般式[2]で表わされる光学
活性な配位子を表わし、Xはハロゲン、RfCO 2 -(R
fはパーフルオロアルキル基である。)、ClO4 -、B
4 -、BPh4 -、PF6 -などの陰イオンを表わし、nは
1又は2である。]
【0036】前記遷移金属触媒として、ロジウム錯体を
用いるのがよく、特に、下記一般式[4']で表されるロ
ジウム錯体を用いるのがよい。 一般式[4']: (RhLX)n (但し、前記一般式[4']において、Rhはロジウム原
子、Lは光学活性なAMPP配位子を表わし、X及びn
は前記したものと同じである。)
【0037】ここで、前記遷移金属触媒を、本発明の第
1の発明の原料である前記2,2−ジフルオロ−3−ケ
トエステル、本発明の第2の発明の原料である前記3−
パーフルオロアルキル−3−ケトエステル、本発明の第
3の発明の原料である上記一般式[7]で表わされるカ
ルボニル基のα位に少なくともフッ素原子を2個有する
化合物又は上記一般式[8]で表されるカルボニル水和
物のα位に少なくともフッ素原子を2個有する化合物、
又は本発明の第4の発明の原料である前記2,2−ジヒ
ドロキシパーフルオロアルカンアミド、前記2−ケトパ
ーフルオロアルカンアミド及び/又は前記含フッ素ケト
ンに対して、0.00001〜10モル%使用するのが
好ましく、0.01〜1モル%が更に好ましい。
【0038】本発明の第1又は2の製造方法によって、
前記一般式[3]の2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキ
シエステル又は前記一般式[6]の3−パーフルオロア
ルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルを少ない
触媒使用量でも大量合成が可能となり、光学活性な含フ
ッ素β−ヒドロキシエステルを高選択的に得ることがで
きる。
【0039】また、本発明の第3の製造方法によって、
前記一般式[10]で表わされる光学活性な含フッ素ア
ルコール類を、或いは本発明の第4の製造方法によっ
て、前記一般式[14]又は[15]で表される前記光
学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は前
記光学活性な含フッ素アルコールを少ない触媒使用量で
も大量合成が可能となり、高い選択性で得ることができ
る。一般式[11]〜[13]の化合物を併用すれば、
一般式[14]と[15]の化合物を同時に得ることも
できる。
【0040】本発明の各製造方法において使用する溶媒
は特に限定されるべきものではないが、好ましくはトル
エン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒
である。
【0041】反応温度については、反応基質やその他の
反応条件によって温度範囲を適宜選択することができる
が、好ましくは、−100℃〜200℃、更に20℃〜
100℃の範囲が特に好ましい。
【0042】また、本発明の各不斉水素化反応における
水素の圧力は、約1〜150kgf/cm2であってよ
いが、約5〜50kgf/cm2が特に好ましい。
【0043】なお、本発明の第1又は2の製造方法によ
って得られる各前記含フッ素β−ヒドロキシエステル
は、医薬、農薬等の合成中間体として有用である。
【0044】即ち、例えば一般式[3]で表される次の
化合物:
【化37】 が医薬品の中間体として使用できることは、米国特許第
4,857,507号において次のような類似の化合物
がRenin inhibitorとして活性のあるものとして報告さ
れていることから、十分に支持されるものである。
【化38】
【0045】本発明の第1の発明である前記含フッ素β
−ヒドロキシエステルの製造方法で用いる原料化合物で
ある2,2−ジフルオロ−3−ケトエステルは、公知の
化合物であり、例えば、日本薬学会第25回「反応と合
成の進歩シンポジウム」講演要旨集,pp.210−212
(1999)や、本出願人が既に提出した特願平11−33
9332号又は特願2000−062046などに示さ
れた方法を用いることにより、容易に合成することがで
きる。例えば、日本薬学会第25回「反応と合成の進歩
シンポジウム」講演要旨集,pp.210−212(1999)に
よる、2,2−ジフルオロ−3−ケトエステルの合成方
法では、以下に記す方法が報告されている。
【0046】ジフルオロケテンシリルアセタールと酸ハ
ライドをトリエチルアミンのような塩基存在下反応させ
ることにより、2,2−ジフルオロ−3−ケトエステル
を合成する方法。
【化39】
【0047】また、本発明における前記一般式[2]で表
わされる光学活性な配位子(AMPP配位子)は、例え
ば、Organometallics (1996), 15, 2440-2449、Tetrahe
dron(1997), 8, 1083-1099、特公平7−78070号公
報などに記載の方法を用いることにより合成できる。
【0048】本発明の第4の発明である上記光学活性な
含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミドの製造方法で用
いる、原料化合物である上記一般式[11]で表わされ
る2,2−ジヒドロキシパーフルオロアルカンアミド及
び上記一般式[12]で表わされる2−ケトパーフルオ
ロアルカンアミドは、公知の化合物であり、例えば、下
記のようにヘキサフルオロエポキシプロパン(以下、6
FOと称する。)を出発原料として容易に合成すること
が可能である(J.Org.Chem.31,1988,2312)。
【化40】
【0049】上記一般式[12]で表わされる化合物は
少量の水が存在すると、上記一般式[11]で表わされ
る化合物になることがあるため、出発原料は取り扱い易
さの点からは上記一般式[11]の化合物がより好まし
い。しかしながら、上記一般式[11]で表わされる化
合物のみを用いて不斉水素化反応を行う場合は、より高
温で反応を行う必要があるため、得られた化合物の光学
純度が若干低下することがある。
【0050】また、本発明の第5の発明における上記光
学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水
分解する工程を経て、上記一般式[16]の光学活性な
含フッ素乳酸又はその誘導体を得る工程において、上記
加水分解反応は、塩酸、硫酸などの酸を用いて行う方法
がある。
【0051】なお、前記した光学活性な含フッ素乳酸は
アルコール類等で更にエステル化して、エステル誘導体
に導くことも可能である。
【0052】下記に示すように、本発明の第4の発明の
上記光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド
の製造方法で用いる原料化合物である上記一般式[1
1]で表わされる2,2−ジヒドロキシパーフルオロア
ルカンアミド及び上記一般式[12]で表わされる2−
ケトパーフルオロアルカンアミドに代わり、α−ケトエ
ステルを不斉水素化しても、本発明の目的物質としての
上記光学活性の含フッ素乳酸を更にエステル化した化合
物である上記エステル誘導体を得ることができるが、こ
の場合、本発明と同様の触媒で不斉水素化反応を行って
も、反応に用いる基質が異なるので、光学収率は13%
eeと非常に選択性は悪い。
【化41】
【0053】なお、本発明の第4及び5の製造方法によ
って得られる上記光学活性な含フッ素アルコール及び上
記光学活性の含フッ素乳酸は、医薬や農薬等の生理活性
物質及び液晶材料の中間体として有用である。
【0054】即ち、例えば上記一般式[16]で表され
る光学活性な含フッ素乳酸のRf(パーフルオロアルキ
ル基)がトリフルオロメチル基(−CF3)の場合とし
ての下記一般式[17]で表される光学活性な3,3,
3−トリフルオロ乳酸:
【化42】 が医薬品の中間体として使用できることは、特開平6−
206857号において次のような化合物がHIVプロテ
アーゼインヒビターとして活性があるものとして報告さ
れていることから、十分に支持されるものである。
【化43】
【0055】また、液晶材料の中間体として特開平3−
145444及び特開平6−239797において次の
ような化合物が有用であることが報告されており、十分
に有用性が支持されるものである。
【化44】
【化45】
【0056】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はそれに限定されるものではない。
【0057】実施例1 (2,2−ジフルオロ−3−ヒ
ドロキシドデカン酸エチルの合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、下記構造式(1)
に示す(S)−AMPP(Cy)(5.6mg、0.01
1mmol)と[Rh(COD)OCOCF3]2(3.2
mg、0.005mmol)を精秤し、脱気したトルエ
ン(0.5ml)を加え室温で15分攪拌した。
【0058】この溶液を、アルゴンもしくは窒素雰囲気
下、100ml容量のステンレス製オートクレーブに加
え、脱気した2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン
酸エチル(556mg、2.0mmol)のトルエン
(2.5ml)溶液を加えた(但し、Rh−AMPP
(Cy)は基質に対し0.5mol%)。次いで、水素
圧20kgf/cm2、反応温度30℃で20時間攪拌
した。
【0059】得られた反応液の溶媒を留去した後、シリ
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
7:1)で精製し、目的化合物:2,2−ジフルオロ−
3−ヒドロキシドデカン酸エチル(556mg、収率9
9.6%)を得た。Daicel Chiralcel OD-Hカラムを用
いた高速液体クロマトグラフィーにより、光学純度を測
定したところ、97%eeであった。
【0060】
【化46】
【0061】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):0.81-0.94(m,3H),1.12-2.04(m,1
7H),1.37(t,J=7.1Hz,3H),3.90-4.12(m,1H),4.36(q,J=7.
1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.45(dd,J=264.1,7.5Hz,1
F),-123.01(dd,J=264.1,15.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2926,1760,1316,1094.
【0062】実施例2 (3−シクロヘキシル−2,2
−ジフルオロ−3−ヒドロキシプロピオン酸エチルの合
成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに3−シクロヘキシル−2,2−ジフルオロ−3−
オキソプロピオン酸エチルを用いたこと、及び反応温度
を30℃から70℃に変更したことを除いて、前記実施
例1と同様にして目的化合物:3−シクロヘキシル−
2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ルを得た(382mg、収率81%、光学純度94%e
e)。
【0063】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.01-2.08(m,12H),1.37(t,J=7.1
Hz,3H),3.71-3.91(m,1H),4.36(q,J=7.1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-111.98(dd,J=263.0,8.1Hz,1
F),-120.75(dd,J=263.0,17.7Hz,1F). IR(neat)cm-1:3480,2929,1760,1317,1096.
【0064】実施例3(4−ベンジルオキシ−2,2−
ジフルオロ−3−ヒドロキシブタン酸エチルの合成) 2,2−ジフロオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに4−ベンジルオキシ−2,2−ジフルオロ−3−
オキソブタン酸エチルを用いたことを除いて、前記実施
例1と同様にして目的化合物:4−ベンジルオキシ−
2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシブタン酸エチルを
得た(520mg、収率95%、光学純度95%e
e)。
【0065】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.29(t,J=7.2Hz,3H),2.84(brs,1
H),3.73(d,J=5.9Hz,1H),3.74(d,J=5.5Hz,1H),4.26(q,J=
7.2Hz,2H),4.18-4.37(m,1H),4.56(s,2H),7.29-7.42(m,5
H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-112.83(dd,J=262.0,8.6Hz,1
F),-120.60(dd,J=262.0,18.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3473,2876,1760,1314,1096.
【0066】実施例4(2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシ−5−フェニルペンタン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソ−5−フェニル
ペンタン酸エチルを用いたことを除いて、前記実施例1
と同様にして目的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒ
ドロキシ−5−フェニルペンタン酸エチルを得た(51
5mg、収率99.6%、光学純度96%ee)。
【0067】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.34(t,J=7.2Hz,3H),1.72-2.18
(m,3H),2.16-3.02(m,2H),3.90-4.12(m,1H),4.34(q,J=7.
2Hz,2H),7.15-7.37(m,5H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.14(dd,J=266.0,7.9Hz,1
F),-122.56(dd,J=266.0,13.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2940,1759,1317,1094.
【0068】実施例5(2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシ−4−フェニルブタン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソ−4−フェニル
ブタン酸エチルを用いたことを除いて、前記実施例1と
同様にして目的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシ−4−フェニルブタン酸エチルを得た(307m
g、収率63%、光学純度94%ee)。
【0069】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.36(t,J=7.2Hz,3H),2.17(brs,1
H),2.83(dd,J=14.2,10.1Hz,1H),3.08(dd,J=14.2,2.9Hz,
1H),4.18-4.40(m,1H),4.35(q,J=7.2Hz,2H),7.21-7.40
(m,5H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-123.21(dd,J=264.5,15.2Hz,1
F),-114.52(dd,J=264.5,7.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3497,2986,1759,1323,1085.
【0070】実施例6(2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシ−5−メチルヘキサン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソ−5−メチルヘ
キサン酸エチルを用いたこと、及び反応温度を30℃か
ら70℃に変更したことを除いて、前記実施例1と同様
にして目的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン酸エチルを得た(399mg、
収率95%、光学純度92%ee)。
【0071】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):0.81-0.94(m,3H),1.12-2.04(m,1
7H),1.37(t,J=7.1Hz,3H),3.90-4.12(m,1H),4.36(q,J=7.
1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.45(dd,J=264.1,7.5Hz,1
F),-123.01(dd,J=264.1,15.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2926,1760,1316,1094.
【0072】実施例7(2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシ−3−フェニルプロピオン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシ−3−フェ
ニルプロピオン酸エチルを用いたことを除いて、前記実
施例1と同様にして下記構造式(2)の目的化合物:
2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシ−3−フェニルプ
ロピオン酸エチルを得た(446mg、収率97%、光
学純度はR体84%ee)。
【化47】
【0073】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.29(t,J=7.0Hz,3H),1.58(brs,1
H),4.31(q,J=7.0Hz,2H),5.10-5.23(m,1H),7.35-7.50(m,
5H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-114.47(dd,J=261.7,7.9Hz,1
F),-120.88(dd,J=261.7,15.6Hz,1F). IR(neat)cm-1:3494,2987,1759,1320,1097.
【0074】実施例8(2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシブタン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソブタン酸エチル
を用いたことを除いて、前記実施例1と同様にして目的
化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシブタン酸
エチルを得た(312mg、収率93%、光学純度96
%ee)。
【0075】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.36(t,J=7.1Hz,3H),2.66(brs,1
H),4.09-4.35(m,1H),4.36(q,J=7.1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-124.45(dd,J=264.1,14.9Hz,1
F),-115.88(dd,J=264.1,7.1Hz,1F). IR(neat)cm-1:3436,2992,1760,1316,1107.
【0076】実施例9(4,4,4−トリフルオロ−3
−ヒドロキシ酪酸エステルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ酪酸エチ
ルを用いたことを除いて、前記実施例1と同様にして下
記構造式(3)の目的化合物:4,4,4−トリフルオ
ロ−3−ヒドロキシ酪酸エチル(3−トリフルオロメチ
ル−3−ヒドロキシプロピオン酸エチル)を得た(34
1mg、収率92%)。得られた目的化合物をα−メト
キシ−α−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸エステ
ル(MTPA ester)に変換し、ガスクロマトグ
ラフィーにより、光学純度を測定したところ、R体91
%eeであった。
【化48】
【0077】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.30(t,J=7.2Hz,3H),2.70(dd,J=
16.8,9.0Hz,1H),2.71(dd,J=13.3,9.0Hz,1H),3.45(d,J=
5.4Hz,1H),4.22(q,J=7.2Hz,2H),4.33-4.55(m,1H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-80.16(d,J=6.7Hz,3F). IR(neat)cm-1:3468,2990,1726,1278,1171,1131.
【0078】実施例10 (3−シクロヘキシル−2,
2−ジフルオロ−3−ヒドロキシプロピオン酸エチルの
合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、下記構造式(4)
に示す(S)−AMPP(Cp)(5.6mg、0.01
2mmol)と[Rh(COD)OCOCF3]2(3.2
mg、0.005mmol)を精秤し、脱気したトルエ
ン(0.5ml)を加え室温で15分攪拌した。
【0079】この溶液を、アルゴンもしくは窒素雰囲気
下、100ml容量のステンレス製オートクレーブに加
え、脱気した2,2−ジフルオロ−3−オキソ−3−シ
クロヘキシルプロピオン酸エチル(472mg、2.1
mmol)のトルエン(2.5ml)溶液を加えた(但
し、Rh−AMPP(Cp)は基質に対し0.5mol
%)。次いで、水素圧20kgf/cm2、反応温度7
0℃で20時間攪拌した。
【0080】得られた反応液の溶媒を留去した後、シリ
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
7:1)で精製し、目的化合物:2,2−ジフルオロ−
3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロピオン酸エチ
ル(458mg、収率97%)を得た。Daicel Chiralc
el OD-Hカラムを用いた高速液体クロマトグラフィーに
より、光学純度を測定したところ、94%eeであっ
た。
【化49】
【0081】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.01-2.08(m,12H),1.37(t,J=7.1
Hz,3H),3.71-3.91(m,1H),4.36(q,J=7.1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-111.98(dd,J=263.0,8.1Hz,1
F),-120.75(dd,J=263.0,17.7Hz,1F). IR(neat)cm-1:3480,2929,1760,1317,1096.
【0082】比較例1(2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシドデカン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチル27
8mg(1mmol)、RuBr2[(R)−BINA
P]10mg(0.01mmol)および脱気エタノー
ル(3ml)を入れ、水素を導入し(100atm)、
100℃で24時間攪拌した。反応容器を冷やした後、
水素を開放し、反応液を取り出した。
【0083】溶媒留去後、シリカゲルクロマトグラフィ
ーで単離精製し(酢酸エチル:ヘキサン=1:7)、目
的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシドデカ
ン酸エチルを得た(280mg、収率100%)。ダイ
セルOD−Hカラムにより、光学純度を測定したところ
(エタノール:ヘキサン=1:100)、78%eeで
あった。
【0084】この生成物の分析データを下記に示す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):0.81-0.94(m,3H),1.12-2.04(m,1
7H),1.37(t,J=7.1Hz,3H),3.90-4.12(m,1H),4.36(q,J=7.
1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.45(dd,J=264.1,7.5Hz,1
F),-123.01(dd,J=264.1,15.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2926,1760,1316,1094.
【0085】上記実施例1〜10より得られたデータを
反応スキームと共に、下記表1にまとめて示す。
【化50】
【0086】
【表1】
【0087】上記の結果から明らかなように、本発明に
基づく方法により、目的とする光学活性な含フッ素β−
ヒドロキシエステルを良好な転化率及び非常に高い光学
純度で得ることができる。
【0088】実施例11 ((S)−N−フェニル−
3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパンア
ミドの合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、下記構造式(1)
に示す(R)−AMPP(Cy)(1.68mg、0.
0033mmol)と[Rh(COD)OCOCF32
(0.98mg、0.0015mmol)を精秤し、脱
気したトルエン(0.15ml)を加え室温で15分攪
拌した。
【0089】この液を、アルゴンもしくは窒素雰囲気
下、N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ−2,2
−ジヒドロキシプロパンアミド(705mg、3.0m
mol)と脱気したトルエン(3ml)の入った100
ml容量のステンレス製オートクレーブに加え、水素圧
10kgf/cm2、反応温度70℃で20時間攪拌し
た。
【0090】得られた反応液の溶媒を留去した後、シリ
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)で精製し、目的化合物:(S)−N−フェニル
−3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパン
アミド(570mg、収率87%)を得た。Daicel Chi
ralcel ASカラムを用いた高速液体クロマトグラフィー
により、光学純度を測定したところ、75%eeであっ
た。
【0091】
【化51】
【0092】この目的化合物の分析データを下記に示
す。 白色結晶1 H NMR (THF-d8) δ(ppm):4.52 (q, J=7.4 Hz, 1H),6.9
8-7.70 (m, 5H), 9.20-9.45 (brs,1H).19 F NMR (THF-d8) δ(ppm):-76.22 (d, J=7.4 Hz, 3F).
【0093】また、得られた(S)−N−フェニル−
3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパンア
ミドはトルエンもしくは酢酸エチル−ヘキサンを用いて
再結晶することにより光学純度が98%eeまで向上し
た。
【0094】実施例12 (R)−AMPP(Cy)の代わりに下記構造式(2)
に示す(R)−AMPP(iPr)を用いたことを除い
て、前記実施例11と同様にして反応を行い、目的化合
物:(S)−N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ
−2−ヒドロキシプロパンアミドを得た(570mg、
収率87%、光学純度72%ee)。
【0095】
【化52】
【0096】実施例13 (R)−AMPP(Cy)の代わりに下記構造式(3)
に示す(R)−AMPP(C7)を用いたことを除い
て、前記実施例11と同様にして反応を行い、目的化合
物:(S)−N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ
−2−ヒドロキシプロパンアミドを得た(565mg、
収率86%、光学純度69%ee)。
【化53】
【0097】実施例14 (N−ベンジル−3,3,3
−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパンアミドの合
成) N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ−2,2−ジ
ヒドロキシプロパンアミドの代わりにN−ベンジル−
3,3,3−トリフルオロ−2,2−ジヒドロキシプロ
パンアミド(249mg、1.0mmol)を用い、前
記触媒量を0.5mol%、水素圧20kgf/cm2
に変更したこと以外は、前記実施例11と同様にして目
的化合物:N−ベンジル−3,3,3−トリフルオロ−
2−ヒドロキシプロパンアミドを得た(227mg、収
率97%、光学純度67%ee)。
【0098】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):4.31-4.55 (m, 4H), 6.51-6.8
3 (brs, 1H),7.20-7.42 (m, 5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-76.60 (d, J=7.2 Hz, 3F).
【0099】実施例15 N−ベンジル−3,3,3−トリフルオロ−2,2−ジ
ヒドロキシプロパンアミドの代わりにN−ベンジル−
3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパンアミド
(231mg、1.0mmol)を用い、反応温度を3
0℃に変更した以外は実施例2と同様にして目的化合
物:N−ベンジル−3,3,3−トリフルオロ−2−ヒ
ドロキシプロパンアミドを得た(168mg、収率72
%、光学純度77%ee)。
【0100】実施例16 ((S)−トリフルオロ乳酸
の合成) 実施例1で得られた光学純度75%eeの(S)−N−
フェニル−3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシ
プロパンアミド(150mg、0.685mmol)に
12N塩酸(1.0ml)を加え80℃で20時間攪拌
した後、反応液を室温にもどし、エーテルで抽出した。
その乾燥溶媒留去後、吸湿性の白色結晶(目的化合物:
(S)−トリフルオロ乳酸)を得た(83mg、収率8
4%)。この白色結晶の光学純度を測定したところ75
%eeであった。
【0101】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR (CD3OD) δ(ppm):4.65 (q, J = 7.6 Hz, 1H).19 F NMR (CD3OD) δ(ppm):-75.83 (d, J = 7.6 Hz, 3
F).
【0102】実施例17 ((R)−1,1,1−トリ
フルオロ−2−デカノールの合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、上記構造式(1)
に示す(S)−AMPP(Cy)(5.6mg、0.0
22mmol)と[Rh(COD)OCOCF 3
2(3.2mg、0.01mmol)を精秤し、脱気し
たトルエン(0.5ml)を加え室温で15分攪拌し
た。
【0103】この液を、アルゴンもしくは窒素雰囲気
下、1,1,1−トリフルオロ−2−デカノン(420
mg、2.0mmol)と脱気したトルエン(3ml)
の入った100ml容量のステンレス製オートクレーブ
に加え、水素圧20kgf/cm2、反応温度30℃で
20時間攪拌した。
【0104】得られた反応液の溶媒を留去した後、シリ
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
5:1)で精製し、目的化合物:(R)−1,1,1−
トリフルオロ−2−デカノール(420mg、収率99
%)を得た。上記得られた化合物を一度アセチル化した
後、光学分割ガスクロマトグラフ(WCOT FUSED SILICA5
0M X0.25MM COATED WITH CP-CYCLODEX B 236M DF=0.25U
M)を用いて光学収率を測定したところ、97%eeで
あった。
【0105】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm): 0.88(t,J=6.8,3H),1.12-1.80
(m,14H),2.11(d,J=6.2,1H),3.79-4.01(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.58(d,J=6.8,3F).
【0106】実施例18 ((R)−2,2,2−トリ
フルオロ−1−シクロヘキシルエタノールの合成) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりにト
リフルオロメチルシクロヘキシルケトンを用いたこと以
外は前記実施例17と同様にして目的化合物:(R)−
2,2,2−トリフルオロ−1−シクロヘキシルエタノ
ールを得た(327mg、収率90%、光学純度97%
ee)。
【0107】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm):1.10-2.20(m,12H),3.62-3.81
(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-76.14(d,J=7.8,3F).
【0108】実施例19 ((R)−1,1,1−トリ
フルオロ−2−オクタノールの合成) 1,1,1−トリフルオロー2−デカノンの代わりに
1,1,1−トリフルオロ−2−オクタノンを用いたこ
と以外は前記実施例17と同様にして目的化合物:
(R)−1,1,1−トリフルオロ−2−オクタノール
を得た(360mg、収率98%、光学純度97%e
e)。
【0109】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm):0.90(t,J=7.0,3H),1.20-2.10
(m,11H),3.82-4.00(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.61(d,J=6.2,3F).
【0110】実施例20 (1−シクロヘキシル−3,
3,3−トリフルオロ−2−プロパノールの合成) 1,1,1−トリフルオロー2−デカノンの代わりに1
−シクロヘキシル−3,3,3−トリフルオロ−2−プ
ロパノンを用いたこと以外は前記実施例17と同様にし
て目的化合物:1−シクロヘキシル−3,3,3−トリ
フルオロ−2−プロパノールを得た(380mg、収率
97%、光学純度98%ee)。
【0111】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm):0.75-2.12(m,14H),3.90-4.12
(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.78(d,J=6.6,3F).
【0112】実施例21 (3−フェニル−1,1,1
−トリフルオロ−2−プロパノールの合成) 1,1,1−トリフルオロー2−デカノンの代わりに3
−フェニル−1,1,1−トリフルオロ−2−プロパノ
ンを用いたこと以外は前記実施例11と同様にして目的
化合物:3−フェニル−1,1,1−トリフルオロ−2
−プロパノールを得た(370mg、収率97%、光学
純度97%ee)。
【0113】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):2.05-2.30 (brs, 1H),2.85(d
d,J=10.1,14.3,1H),3.07(dd,J=3.1,14.3,1H),4.15(ddq,
J=3.1,6.5,10.1,1H),7.20-7.42(m,5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.12(d,J=6.5,3F).
【0114】実施例22 (1,1,1−トリフルオロ
−4−フェニル−2−ブタノールの合成) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに
1,1,1−トリフルオロ−4−フェニル−2−ブタノ
ンを用いたこと以外は前記実施例11と同様にして目的
化合物:1,1,1−トリフルオロ−4−フェニル−2
−ブタノールを得た(402mg、収率99%、光学純
度96%ee)。
【0115】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm): 1.85-2.15(m,2H), 2.12-2.25
(brs,1H),2.68-3.02(m,2H),3.80-4.01(m,1H),7.19-7.39
(m,5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.44(d,J=6.3,3F).
【0116】実施例23 ((R)−2,2,2−トリ
フルオロ−1−フェニルエタノールの合成。) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに
1,1,1−トリフルオロアセトフェノンを用いたこと
以外は前記実施例17と同様にして目的化合物:(R)
−2,2,2−トリフルオロ−1−フェニルエタノール
を得た(325mg、収率93%、光学純度73%e
e)。
【0117】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):2.74 (d, J=4.6, 1H), 5.03
(dq, J=4.6, 6.6, 1H),7.35-7.52 (m, 5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-78.83 (d, J=6.6, 3F).
【0118】実施例24 (1−(ベンジルオキシ)−
3,3,3−トリフルオロ−2−プロパノールの合
成。) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに1
−(ベンジルオキシ)−3,3,3−トリフルオロ−2
−プロパノンを用いたこと以外は前記実施例17と同様
ににして目的化合物:1−(ベンジルオキシ)−3,
3,3−トリフルオロ−2−プロパノールを得た(44
0mg、収率100%、光学純度86%ee)。
【0119】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):2.90-3.02 (brs, 1H), 3.62-
3.79 (m, 2H),4.01-4.27 (m, 1H), 4.61 (s, 2H), 7.29
-7.42 (m, 5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-77.76 (d, J=7.0, 3F).
【0120】実施例25 ((R)−1,1,1,2,
2−ペンタフルオロ−3−ドデカノールの合成。) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに
1,1,1,2,2−ペンタフルオロ−3−ドデカノン
を用いたこと以外は前記実施例17と同様にして目的化
合物:(R)−1,1,1,2,2−ペンタフルオロ−
3−ドデカノールを得た(550mg、収率100%、
光学純度97%ee)。
【0121】この目的化合物の分析データを下記に示
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):0.89 (t, J=7.1, 3H), 1.11-
1.98 (m, 17H),3.91-4.02 (m, 1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-82.00 (s, 3F), -124.57 (d
d, J=6.6, 276.2, 1F),-131.01 (dd, J=15.5, 276.2, 1
F).
【0122】
【発明の作用効果】以上に明らかなように、本発明によ
れば、前記一般式[1]で表される2,2−ジフルオロ−
3−ケトエステル又は前記一般式[5]で表される3−パ
ーフルオロアルキル−3−ケトエステルを、前記一般式
[2]で表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を
有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させるの
で、例えば医薬や農薬等の生理活性物質として有用な光
学活性な含フッ素竅|ヒドロキシエステルを、高い光学
純度及び収率で製造することができる。
【0123】また、本発明によれば、上記一般式[7]
で表わされるカルボニルのα位に少なくともフッ素原子
を2個有する化合物又は上記一般式[8]で表されるカ
ルボニル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個有
する化合物を上記一般式[9]で表される光学活性な配
位子(AMPP配位子)を有する遷移金属触媒を用いて
不斉水素化反応させるので、上記一般式[10]で表わ
される光学活性な含フッ素アルコール類を高光学純度、
高収率で製造することができる。
【0124】また、本発明によれば、上記一般式[1
1]で表される2,2−ジヒドロキシパーフルオロアル
カンアミドと、上記一般式[12]で表される2−ケト
パーフルオロアルカンアミドと、上記一般式[13]で
表される含フッ素ケトンとの少なくとも一種を、上記一
般式[9]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させ
るので、上記一般式[14]で表される光学活性な含フ
ッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び上記一般
式[15]で表される光学活性な含フッ素アルコール
を、短い工程、高光学純度、高収率及び低コストで大量
に製造することができる。
【0125】さらに本発明によれば、上記製造方法で得
られた上記一般式[14]で表される光学活性な含フッ
素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水分解する工程を
経て、上記一般式[16]で表される光学活性な含フッ
素乳酸又はその誘導体を、高い光学純度及び収率で製造
することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 69/732 C07C 69/732 Z 231/12 231/12 231/18 231/18 235/16 235/16 Z // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 C07M 7:00 C07M 7:00 (72)発明者 浅田 大介 茨城県つくば市御幸が丘3番地 ダイキン 工業株式会社内 Fターム(参考) 4G069 AA06 AA08 BA27A BA27B BC29A BC65A BC69A BC71A BC71B BE13A BE13B BE25A BE25B BE33A BE34A BE34B BE35A BE37A BE37B BE38A BE38B CB02 CB57 DA02 FA01 4H006 AA02 AC41 AC81 BA24 BA48 BC10 BC11 BC34 BE20 BJ50 BM10 BM71 BN10 BV25 FE11 FE71 FE74 KA31 4H039 CA60 CB20 (54)【発明の名称】 光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製 造方法及び光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素ア ルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式[1]で表される2,2−ジ
    フルオロ−3−ケトエステルを、下記一般式[2]で表
    される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有する遷
    移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることにより、
    下記一般式[3]で表される光学活性な2,2−ジフル
    オロ−3−ヒドロキシエステルを得ることを特徴とす
    る、光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
    方法。 【化1】 【化2】 【化3】 (但し、前記一般式[1]、[2]及び[3]におい
    て、R1及びR2は互いに同一の若しくは異なる基であっ
    て、互いに共同して環状の基を形成してもよい脂肪族又
    は脂環式炭化水素基、アリール基又はアラルキル基を示
    し、また、R3、R4、R5及びR6は互いに同一の若しく
    は異なる基であって、互いに共同して環状の基を形成し
    てもよい脂肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル
    基を示す。)
  2. 【請求項2】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
    [4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項1に記
    載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製
    造方法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VI
    II族金属を表し、Lは前記一般式[2]で表される光学
    活性な配位子を表わし、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
    (Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
    4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表わ
    し、nは1又は2である。]
  3. 【請求項3】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯体
    を用いる、請求項2に記載した光学活性な含フッ素β−
    ヒドロキシエステルの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記ロジウム錯体として下記一般式
    [4’]で表されるロジウム錯体を用いる、請求項3に
    記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの
    製造方法。 一般式[4’]: (RhLX)n (但し、前記一般式[4’]において、Rhはロジウム
    原子、Lは光学活性なAMPP配位子を表わし、X及び
    nは前記したものと同じである。)
  5. 【請求項5】 前記遷移金属触媒を前記2,2−ジフル
    オロ−3−ケトエステルに対して、0.00001〜1
    0モル%使用する、請求項1に記載した光学活性な含フ
    ッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記不斉水素化反応の反応温度を−10
    0℃〜200℃とする、請求項1に記載した光学活性な
    含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記不斉水素化反応における水素の圧力
    を約1〜150kgf/cm2とする、請求項1に記載
    した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
    方法。
  8. 【請求項8】 下記一般式[5]で表される3−パーフ
    ルオロアルキル−3−ケトエステルを下記一般式[2]
    で表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有す
    る遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることによ
    り、下記一般式[6]で表される光学活性な3−パーフ
    ルオロアルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステル
    を得ることを特徴とする、光学活性な含フッ素β−ヒド
    ロキシエステルの製造方法。 【化4】 【化5】 【化6】 (但し、前記一般式[5]、[2]及び[6]において、Rf
    はパーフルオロアルキル基、R2は脂肪族炭化水素基、
    アリール基又はアラルキル基を示し、またR3、R 4、R
    5及びR6は互いに同一の若しくは異なる基であって、互
    いに共同して環状の基を形成してもよい脂肪族炭化水素
    基、アリール基又はアラルキル基を示す。)
  9. 【請求項9】 前記Rfの炭素数を1〜10とする、請
    求項8に記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエ
    ステルの製造方法。
  10. 【請求項10】 前記Rfを−CF3とする、請求項9
    に記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステル
    の製造方法。
  11. 【請求項11】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
    [4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項8に記載
    した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
    方法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VIII
    族金属を表わし、Lは前記一般式[2]で表わされる光学
    活性な配位子を表わし、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
    (Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
    4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表わ
    し、nは1又は2である。]
  12. 【請求項12】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯
    体を用いる、請求項11に記載した光学活性な含フッ素
    β−ヒドロキシエステルの製造方法。
  13. 【請求項13】 前記ロジウム錯体として下記一般式
    [4']で表されるロジウム錯体を用いる、請求項12に
    記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの
    製造方法。 一般式[4']: (RhLX)n (但し、前記一般式[4']において、Rhはロジウム原
    子、Lは光学活性なAMPP配位子を表わし、X及びn
    は前記したものと同じである。)
  14. 【請求項14】 前記遷移金属触媒を前記3−パーフル
    オロアルキル−3−ケトエステルに対して、0.000
    01〜10モル%使用する、請求項8に記載した光学活
    性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。
  15. 【請求項15】 前記不斉水素化反応の反応温度を−1
    00℃〜200℃とする、請求項8に記載した光学活性
    な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。
  16. 【請求項16】 前記不斉水素化反応における水素の圧
    力を約1〜150kgf/cm2とする、請求項8に記
    載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製
    造方法。
  17. 【請求項17】 下記一般式[7]で表わされるカルボ
    ニルのα位に少なくともフッ素原子を2個有する化合物
    と、下記一般式[8]で表されるカルボニル水和物のα
    位に少なくともフッ素原子を2個有する化合物とのうち
    の少なくとも1種を、下記一般式[9]で表される光学
    活性な配位子(AMPP配位子)を有する遷移金属触媒
    を用いて不斉水素化反応させることにより、下記一般式
    [10]で表わされる光学活性な含フッ素アルコール類
    を得る、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法。 【化7】 【化8】 【化9】 【化10】 (但し、前記一般式[7]、[8]及び[10]におい
    て、R7がフッ素原子若しくはパーフルオロアルキル基
    である場合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、
    シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ
    カルボニル基、オキシカルボニル基又はカルボキシル基
    を示す。前記置換基としては、ハロゲン原子、エステル
    基、カルボキシル基、アミド基、ヒドロキシ基、アルキ
    ルオキシ基、アリールオキシ基、シアノ基又はリン酸エ
    ステル基などを示す。また、前記一般式[7]、[8]
    及び[10]において、R7がオキシカルボニル基の場
    合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、シクロア
    ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。また、
    前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12とR
    13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子又は
    置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R12
    びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水素基
    から選択される。また、R9とR10又はR9とR11は互い
    に共同して環状の基を形成してもよい。また、R14、R
    15、R16及びR17は互いに同一の若しくは異なる基であ
    って、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基又
    はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR17は互
    いに共同して環状の基を形成してもよい。)
  18. 【請求項18】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
    [4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項17に
    記載した光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VI
    II族金属を表わし、Lは前記一般式[9]で表される光
    学活性な配位子を表し、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
    (Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
    4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表
    し、nは1又は2である。]
  19. 【請求項19】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯
    体を用いる、請求項18に記載した光学活性な含フッ素
    アルコール類の製造方法。
  20. 【請求項20】 前記ロジウム錯体として下記一般式
    [4’]で表されるロジウム錯体を用いる、請求項19
    に記載した光学活性な含フッ素アルコール類の製造方
    法。 一般式[4’]: (RhLX)n (但し、前記一般式[4’]において、Rhはロジウム
    原子、Lは光学活性なAMPP配位子を表し、X及びn
    は前記したものと同じである。)
  21. 【請求項21】 前記遷移金属触媒を前記一般式[7]
    で表わされるカルボニル基のα位に少なくともフッ素原
    子を2個有する化合物又は前記一般式[8]で表される
    カルボニル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個
    有する化合物に対して、0.00001〜10モル%使
    用する、請求項17に記載した光学活性な含フッ素アル
    コール類の製造方法。
  22. 【請求項22】 下記一般式[11]で表される2,2
    −ジヒドロキシパーフルオロアルカンアミドと、下記一
    般式[12]で表わされる2−ケトパーフルオロアルカ
    ンアミドと、下記一般式[13]で表される含フッ素ケ
    トンとのうちの少なくとも一種を、下記一般式[9]で
    表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有する
    遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることによ
    り、下記一般式[14]で表わされる光学活性な含フッ
    素2−ヒドロキシアルカンアミドと、下記一般式[1
    5]で表される光学活性な含フッ素アルコールとの少な
    くとも一種を得る、光学活性な含フッ素2−ヒドロキシ
    アルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコー
    ルの製造方法。 【化11】 【化12】 【化13】 【化14】 【化15】 【化16】 (但し、前記一般式[11]、[12]及び[14]に
    おいて、R18及びR19は互いに同一の若しくは異なる基
    であって、互いに共同して環状の基を形成してもよく、
    水素、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基、
    アラルキル基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を示す。
    また前記一般式[13]及び[15]において、R20
    アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。ま
    た、前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12
    とR13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子
    又は置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R
    12及びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水
    素基から選択される。また、R 9とR10又はR9とR11
    互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
    14、R15、R16、R17は互いに同一の若しくは異なる
    基であって、アルキル基、シクロパラフィン基、アリー
    ル基又はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR
    17は互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
    Rfはパーフルオロアルキル基を示す。)
  23. 【請求項23】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
    [4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項22に
    記載した光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンア
    ミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方
    法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VI
    II族金属を表わし、Lは前記一般式[9]で表される光
    学活性な配位子を表し、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
    (Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
    4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表
    し、nは1又は2である。]
  24. 【請求項24】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯
    体を用いる、請求項23に記載した光学活性な含フッ素
    2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含
    フッ素アルコールの製造方法。
  25. 【請求項25】 前記ロジウム錯体として下記一般式
    [4’]で表されるロジウム錯体を用いる、請求項24
    に記載した光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカン
    アミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造
    方法。 一般式[4’]: (RhLX)n (但し、前記一般式[4’]において、Rhはロジウム
    原子、Lは光学活性なAMPP配位子を表し、X及びn
    は前記したものと同じである。)
  26. 【請求項26】 前記遷移金属触媒を前記2,2−ジヒ
    ドロキシパーフルオロアルカンアミド、2−ケトパーフ
    ルオロアルカンアミド及び/又は含フッ素ケトンに対し
    て、0.00001〜10モル%使用する、請求項22
    に記載した光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカン
    アミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造
    方法。
  27. 【請求項27】 請求項17〜26のいずれか1項に記
    載した製造方法によって得られた下記一般式[14]で
    表される光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンア
    ミドを加水分解する工程を経て、下記一般式[16]で
    表される光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体を得
    る、光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方
    法。 【化17】 【化18】 (但し、前記一般式[14]及び[16]において、R
    18、R19及びRfは請求項22に記載したものと同じで
    ある。)
  28. 【請求項28】 前記Rfをトリフルオロメチル基とし
    て、光学活性な3,3,3−トリフルオロ乳酸を得る、
    請求項27に記載した光学活性な含フッ素乳酸又はその
    誘導体の製造方法。
  29. 【請求項29】 前記光学活性な含フッ素乳酸を更にエ
    ステル化する、請求項27に記載した光学活性な含フッ
    素乳酸又はその誘導体の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6815559B2 (en) 2002-06-20 2004-11-09 Central Glass Company, Limited Process for producing 3,3,3-trifluoro-2-hydroxypropionic acid or its derivative
JP2009073835A (ja) * 2008-09-11 2009-04-09 Central Glass Co Ltd 含フッ素化合物、溶解抑制剤、それらを用いたレジスト材料
WO2009121347A1 (de) * 2008-04-04 2009-10-08 Universität Hamburg Verfahren zur stereoselektiven synthese von phosphorverbindungen
JP2009544653A (ja) * 2006-07-27 2009-12-17 エフ.ホフマン−ラ ロシュ アーゲー 1,1,1−トリフルオロアセトンの不斉水素化

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5392217B2 (ja) * 2000-06-21 2014-01-22 ダイキン工業株式会社 光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60243093A (ja) * 1984-04-19 1985-12-03 エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー ロジウム−ジホスフイン錯体及びその製造方法
JPH09157196A (ja) * 1995-12-06 1997-06-17 Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan 光学活性アルコール類の製造方法
JPH11322649A (ja) * 1998-03-16 1999-11-24 Mitsubishi Chemical Corp 光学活性アルコールの製造方法
JP2000053593A (ja) * 1998-06-19 2000-02-22 Degussa Huels Ag エステル化合物および酸化合物の均一触媒によるエナンチオ選択的な水素添加のための方法および水素添加生成物の使用

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60243093A (ja) * 1984-04-19 1985-12-03 エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー ロジウム−ジホスフイン錯体及びその製造方法
JPH09157196A (ja) * 1995-12-06 1997-06-17 Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan 光学活性アルコール類の製造方法
JPH11322649A (ja) * 1998-03-16 1999-11-24 Mitsubishi Chemical Corp 光学活性アルコールの製造方法
JP2000053593A (ja) * 1998-06-19 2000-02-22 Degussa Huels Ag エステル化合物および酸化合物の均一触媒によるエナンチオ選択的な水素添加のための方法および水素添加生成物の使用

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6010044431, Tetrahedron: Asymmetry, 1998, 9(16), P2765−68 *
JPN6010044433, Tetrahedron: Asymmetry, 1998, 9(22), P4043−54 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6815559B2 (en) 2002-06-20 2004-11-09 Central Glass Company, Limited Process for producing 3,3,3-trifluoro-2-hydroxypropionic acid or its derivative
JP2009544653A (ja) * 2006-07-27 2009-12-17 エフ.ホフマン−ラ ロシュ アーゲー 1,1,1−トリフルオロアセトンの不斉水素化
WO2009121347A1 (de) * 2008-04-04 2009-10-08 Universität Hamburg Verfahren zur stereoselektiven synthese von phosphorverbindungen
US8350022B2 (en) 2008-04-04 2013-01-08 Universitaet Hamburg Method for the stereoselective synthesis of phosphorus compounds
JP2009073835A (ja) * 2008-09-11 2009-04-09 Central Glass Co Ltd 含フッ素化合物、溶解抑制剤、それらを用いたレジスト材料

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