JP2002080429A - 光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法 - Google Patents
光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法Info
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Abstract
β−ヒドロキシエステルを高純度、高収率で得る方法、
また光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド
又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法を
提供する。 【解決手段】 一般式1の2,2−ジフルオロ−3−ケ
トエステル又は一般式5の3−パーフルオロアルキル−
3−ケトエステルを、一般式2の光学活性な配位子を有
するロジウム錯体等の遷移金属触媒を用いて不斉水素化
反応させ、一般式3又は6の光学活性な含フッ素β−ヒ
ドロキシエステルを得る方法。 (R1及びR2は互いに同一若しくは異なり、互いに共
同して環を形成してもよい脂肪族又は脂環式炭化水素
基、アリール基又はアラルキル基、R3〜R6は互いに
同一若しくは異なり、互いに共同して環を形成してもよ
い脂肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル基、R
fはパーフルオロアルキル基を示す。)
Description
薬等の生理活性物質として有用な光学活性な2,2−ジ
フルオロ−3−ヒドロキシエステル又は3−パーフルオ
ロアルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルから
なる光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び
光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は
/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並び
に光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法に
関するものである。
化合物から、その水素原子をフッ素原子に置き換えるこ
とによって得られる化合物は、そのフッ素原子の特異的
な電子効果によって、その機能や生理活性が強化された
り、或いは新しい機能や生理活性を発揮することが知ら
れている。
を持つ含フッ素ビルディングブロックが設計されている
(「90年代のフッ素生理活性物質」石川延男監修CM
C社刊(1991))、「フッ素系材料の最新動向」山
辺正顕、松尾仁編集CMC社刊(1994))。
−ヒドロキシエステルの製造方法は、酵母などの微生物
を用いた合成法(特開平6−253889:Tetrahedro
n(1996) 52, 157)、純化学的な不斉合成法(Tetrahedr
on (1997)53, 10271 : Synthesis (1996), 1070 : Lieb
igs Ann. (1995) 1447 : 特願平11−339332:
日本薬学会第25回「反応と合成の進歩シンポジウム」
講演要旨集,pp. 210-212 (1999))などが知られてい
る。また、3−パーフルオロアルキル−3−ヒドロキシ
プロピオン酸エステルにおいても酵母などの微生物を用
いた合成法(Helv. Chim. Acta (1984), 67, 1843)が
報告されている。
ールの合成方法は非常に困難であり、これらを得るため
には、ラセミ体を合成した後に光学分割を行う方法(北
爪智哉、伊藤恵美造、特開平3−31238号)、酵素
を用いて合成した光学活性なトリフルオロプロペンオキ
サイドから誘導する方法(Tetraheron Lett.(1990)31,70
31)、或いは他の光学活性な化合物から誘導する方法(Ch
em.Ber.(1994)127,565)、また量論的エナンチオ選択的
な還元反応(J.Org.Chem.(1995)60,41)を用いなければな
らなかった。
ラセミ体を合成した後に光学分割する際に生じる副生成
物、不十分な光学純度及び高価な試薬の大量使用などの
問題があった。
法(Angew.Chem.Int.Ed.Engl.(1996)35,448;Chem.Lett.
(1996)861;特開平7−252174号、特開平7−11
8188号)が報告されているが、低い触媒活性や不十
分な光学純度などの問題が未だ残っている。
44号においてパーフルオロアルキル置換エノールエス
テルをルテニウム触媒を用いて不斉水素化し、加水分解
することによって98%ee以上の光学純度が得られる
ことを提起しているが、この反応は、パーフルオロアル
キルケトンを一度パーフルオロアルキル置換エノールエ
ステルに変換する必要があるため、工程数が多くなり、
またα位に水素がないケトンはエノールエステルに変換
できないため、基質の一般性に欠けるという問題点があ
る。
ロキシアルカンアミドは光学活性な含フッ素2−ヒドロ
キシカルボン酸エステルからアミド化反応を行うことに
より合成されており(特開平9−59222号)、その
光学活性な含フッ素2−ヒドロキシカルボン酸の合成方
法は光学活性なトリフルオロプロペンオキサイドを酸化
する方法(特開平5−78277号)、分割剤を用いて
ラセミ体を光学分割する方法(Chem.Ber.(1992),125,279
5、日本化学会誌(1989),9,1576)などが報告されてい
る。
の合成方法では、得られる光学活性な生成物の光学純度
が低く、また用いる試薬が高価なため、大量合成には必
ずしも適していない。
平5−78277号によると、合成過程に微生物を用い
るため、一方の異性体しか合成することができず、また
酸化反応は、大量生産には不向きである。また光学分割
法の場合、反応に用いる分割剤が高価であり、工程が長
く更に1当量以上必要とするため経済的に問題がある
上、収率は50%を超えない。
ることにより光学活性な含フッ素2−ヒドロキシカルボ
ン酸を合成できることを特願2000−038923号
において提起している。しかしながら、この方法は工程
数が長くなり、コストが高くなるという問題点がある。
問題点を解決するためになされたものであって、その目
的は、医薬や農薬等の生理活性物質及び液晶材料等の中
間体として有用な光学活性な2,2−ジフルオロ−3−
ヒドロキシエステル及び3−パーフルオロアルキル−3
−ヒドロキシプロピオン酸エステルを高純度、高収率で
得る方法を提供することにあり、また、光学活性な含フ
ッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2
−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フ
ッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素
乳酸又はその誘導体の製造方法を提供することにある。
般式[1]で表される2,2−ジフルオロ−3−ケトエ
ステルを、下記一般式[2]で表される光学活性(キラ
ル)な配位子(AMPP配位子)を有するロジウム錯体
等の遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることに
より、下記一般式[3]で表される光学活性な2,2−
ジフルオロ−3−ヒドロキシエステルを得ることを特徴
とする、2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシエステル
の製造方法に係るものである(以下、本発明の第1の発
明と称する。)。
て、R1及びR2は互いに同一の若しくは異なる基であっ
て、互いに共同して環状の基を形成してもよい脂肪族又
は脂環式炭化水素基、アリール基又はアラルキル基を示
し、また、R3、R4、R5及びR6は互いに同一の若しく
は異なる基であって、互いに共同して環状の基を形成し
てもよい脂肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル
基を示す。)
れる3−パーフルオロアルキル−3−ケトエステルを、
下記一般式[2]で表される光学活性な配位子(AMP
P配位子)を有するロジウム錯体等の遷移金属触媒を用
いて不斉水素化反応させることにより、下記一般式
[6]で表される光学活性な3−パーフルオロアルキル
−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルを得ることを特
徴とする、3−パーフルオロアルキル−3−ヒドロキシ
プロピオン酸エステルの製造方法に係るものである(以
下、本発明の第2の発明と称する。)。
て、Rfはパーフルオロアルキル基、R2は脂肪族炭化
水素基、アリール基又はアラルキル基を示し、また
R3、R4、R5及びR6は互いに同一の若しくは異なる基
であって、互いに共同して環状の基を形成してもよい脂
肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル基を示
す。)
れる2,2−ジフルオロ−3−ケトエステルを、前記一
般式[2]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有するロジウム錯体等の遷移金属触媒を用いて不
斉水素化反応させるので、光学活性に富む前記一般式
[3]で表される2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシ
エステルを、従来技術による場合に比べて、高い光学純
度及び収率で製造することができる。
で表される3−パーフルオロアルキル−3−ケトエステ
ルを、上記と同様の前記一般式[2]で表される光学活
性な配位子(AMPP配位子)を有するロジウム錯体等
の遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させるので、光
学活性に富む前記一般式[6]で表される3−パーフル
オロアルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステル
を、従来技術による場合に比べて、高い光学純度及び収
率で製造することができる。
されるカルボニルのα位に少なくともフッ素原子を2個
有する化合物と、下記一般式[8]で表されるカルボニ
ル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個有する化
合物とのうちの少なくとも1種を、下記一般式[9]で
表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有する
遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることによ
り、下記一般式[10]で表わされる光学活性な含フッ
素アルコール類を得る、光学活性な含フッ素アルコール
類の製造方法の製造方法に係るものである(以下、本発
明の第3の発明と称する。)。
て、R7がフッ素原子若しくはパーフルオロアルキル基
である場合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ
カルボニル基、オキシカルボニル基又はカルボキシル基
を示す。前記置換基としては、ハロゲン原子、エステル
基、カルボキシル基、アミド基、ヒドロキシ基、アルキ
ルオキシ基、アリールオキシ基、シアノ基又はリン酸エ
ステル基などを示す。また、前記一般式[7]、[8]
及び[10]において、R7がオキシカルボニル基の場
合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。また、
前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12とR
13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子又は
置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R12及
びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水素基
から選択される。また、R9とR10又はR9とR11は互い
に共同して環状の基を形成してもよい。また、R14、R
15、R16及びR17は互いに同一の若しくは異なる基であ
って、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基又
はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR17は互
いに共同して環状の基を形成してもよい。)
される2,2−ジヒドロキシパーフルオロアルカンアミ
ドと、下記一般式[12]で表わされる2−ケトパーフ
ルオロアルカンアミドと、下記一般式[13]で表され
る含フッ素ケトンとのうちの少なくとも一種を、下記一
般式[9]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させ
ることにより、下記一般式[14]で表わされる光学活
性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミドと、下記一
般式[15]で表される光学活性な含フッ素アルコール
との少なくとも一種を得る、光学活性な含フッ素2−ヒ
ドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素
アルコールの製造方法に係るものである(以下、本発明
の第4の発明と称する。)。
おいて、R18及びR19は互いに同一の若しくは異なる基
であって、互いに共同して環状の基を形成してもよく、
水素、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基、
アラルキル基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を示す。
また前記一般式[13]及び[15]において、R20は
アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。ま
た、前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12
とR13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子
又は置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R
12及びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水
素基から選択される。また、R 9とR10又はR9とR11は
互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
R14、R15、R16、R17は互いに同一の若しくは異なる
基であって、アルキル基、シクロパラフィン基、アリー
ル基又はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR
17は互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
Rfはパーフルオロアルキル基を示す。)
られた下記一般式[14]で表される光学活性な含フッ
素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水分解する工程を
経て、下記一般式[16]で表される光学活性な含フッ
素乳酸又はその誘導体を得る、光学活性な含フッ素乳酸
又はその誘導体の製造方法に係るものである(以下、本
発明の第5の発明と称する。)。
互いに同一の若しくは異なる基であって、互いに共同し
て環状の基を形成してもよく、水素、アルキル基、シク
ロパラフィン基、アリール基、アラルキル基、ヒドロキ
シ基又はアルコキシ基を示す。また、Rfはパーフルオ
ロアルキル基を示す。)
されるカルボニルのα位に少なくともフッ素原子を2個
有する化合物又は上記一般式[8]で表されるカルボニ
ル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個有する化
合物を上記一般式[9]で表される光学活性な配位子
(AMPP配位子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉
水素化反応させるので、上記一般式[10]で表わされ
る光学活性な含フッ素アルコール類を高光学純度、高収
率で製造することができる。
1]で表される2,2−ジヒドロキシパーフルオロアル
カンアミドと、上記一般式[12]で表される2−ケト
パーフルオロアルカンアミドと、上記一般式[13]で
表される含フッ素ケトンとの少なくとも一種を、上記一
般式[9]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させ
るので、上記一般式[14]で表される光学活性な含フ
ッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び上記一般
式[15]で表される光学活性な含フッ素アルコール
を、従来技術による場合に比べて、短い工程、高光学純
度、高収率及び低コストで大量に製造することができ
る。
られた上記一般式[14]で表される光学活性な含フッ
素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水分解する工程を
経て、上記一般式[16]で表される光学活性な含フッ
素乳酸又はその誘導体を、高い光学純度及び収率で製造
することができる。
いて更に具体的に説明する。
[2]、[3]、[5]、[6]、[7]、[8]、
[9]、[10]、[11]、[12]、[13]、
[14]及び[15]で示される脂肪族又は脂環式炭化
水素基、或いはアルキル基は、直鎖状、分枝鎖状又は環
状構造を持ち、その内部にハロゲン原子又はヘテロ原子
などの置換基を有してもよい炭素数1〜30の、枝分か
れがあってもよいメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等のアルキル基、またはこれと同等の炭素数から
なっていてよいシクロヘキシル基等のシクロパラフィン
基であってよい。
基は、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基、
アンスリル基や、ヘテロ原子を有する複素環芳香族基等
が例示できる。その置換基としては、枝分かれがあって
もよい炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等を例示できる。
メチルベンジル基、ナフチルメチル基、フルフリル基、
α−フェネチル基等を例示できる。
又は環状構造を持つ炭素鎖で、その内部にハロゲン原子
又はヘテロ原子などの置換基を有してもよい炭素数1〜
30の、枝分かれがあってもよいメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基であっ
てよい。
[6]、[7]、[8]、[10]、[11]、[1
2]、[13]、[14]、[15]及び[16]中に
示されるRf(パーフルオロアルキル基)の炭素数は1
〜10が好ましく、直鎖状又は分枝鎖状等の構造であっ
てよく、例えばCF3、C2F5、C3F7などがあるが、
特にCF3が好ましい。ここで、本発明の第5の発明に
おいて、上記Rfがトリフルオロメチル基の場合、光学
活性な3,3,3−トリフルオロ乳酸を得ることができ
る。
が高く、不斉合成の選択性も高い触媒であって、下記一
般式[4]で表される遷移金属錯体を用いることが好まし
い。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VIII
族金属を表わし、Lは前記一般式[2]で表わされる光学
活性な配位子を表わし、Xはハロゲン、RfCO 2 -(R
fはパーフルオロアルキル基である。)、ClO4 -、B
F4 -、BPh4 -、PF6 -などの陰イオンを表わし、nは
1又は2である。]
用いるのがよく、特に、下記一般式[4']で表されるロ
ジウム錯体を用いるのがよい。 一般式[4']: (RhLX)n (但し、前記一般式[4']において、Rhはロジウム原
子、Lは光学活性なAMPP配位子を表わし、X及びn
は前記したものと同じである。)
1の発明の原料である前記2,2−ジフルオロ−3−ケ
トエステル、本発明の第2の発明の原料である前記3−
パーフルオロアルキル−3−ケトエステル、本発明の第
3の発明の原料である上記一般式[7]で表わされるカ
ルボニル基のα位に少なくともフッ素原子を2個有する
化合物又は上記一般式[8]で表されるカルボニル水和
物のα位に少なくともフッ素原子を2個有する化合物、
又は本発明の第4の発明の原料である前記2,2−ジヒ
ドロキシパーフルオロアルカンアミド、前記2−ケトパ
ーフルオロアルカンアミド及び/又は前記含フッ素ケト
ンに対して、0.00001〜10モル%使用するのが
好ましく、0.01〜1モル%が更に好ましい。
前記一般式[3]の2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキ
シエステル又は前記一般式[6]の3−パーフルオロア
ルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルを少ない
触媒使用量でも大量合成が可能となり、光学活性な含フ
ッ素β−ヒドロキシエステルを高選択的に得ることがで
きる。
前記一般式[10]で表わされる光学活性な含フッ素ア
ルコール類を、或いは本発明の第4の製造方法によっ
て、前記一般式[14]又は[15]で表される前記光
学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は前
記光学活性な含フッ素アルコールを少ない触媒使用量で
も大量合成が可能となり、高い選択性で得ることができ
る。一般式[11]〜[13]の化合物を併用すれば、
一般式[14]と[15]の化合物を同時に得ることも
できる。
は特に限定されるべきものではないが、好ましくはトル
エン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒
である。
反応条件によって温度範囲を適宜選択することができる
が、好ましくは、−100℃〜200℃、更に20℃〜
100℃の範囲が特に好ましい。
水素の圧力は、約1〜150kgf/cm2であってよ
いが、約5〜50kgf/cm2が特に好ましい。
って得られる各前記含フッ素β−ヒドロキシエステル
は、医薬、農薬等の合成中間体として有用である。
化合物:
4,857,507号において次のような類似の化合物
がRenin inhibitorとして活性のあるものとして報告さ
れていることから、十分に支持されるものである。
−ヒドロキシエステルの製造方法で用いる原料化合物で
ある2,2−ジフルオロ−3−ケトエステルは、公知の
化合物であり、例えば、日本薬学会第25回「反応と合
成の進歩シンポジウム」講演要旨集,pp.210−212
(1999)や、本出願人が既に提出した特願平11−33
9332号又は特願2000−062046などに示さ
れた方法を用いることにより、容易に合成することがで
きる。例えば、日本薬学会第25回「反応と合成の進歩
シンポジウム」講演要旨集,pp.210−212(1999)に
よる、2,2−ジフルオロ−3−ケトエステルの合成方
法では、以下に記す方法が報告されている。
ライドをトリエチルアミンのような塩基存在下反応させ
ることにより、2,2−ジフルオロ−3−ケトエステル
を合成する方法。
わされる光学活性な配位子(AMPP配位子)は、例え
ば、Organometallics (1996), 15, 2440-2449、Tetrahe
dron(1997), 8, 1083-1099、特公平7−78070号公
報などに記載の方法を用いることにより合成できる。
含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミドの製造方法で用
いる、原料化合物である上記一般式[11]で表わされ
る2,2−ジヒドロキシパーフルオロアルカンアミド及
び上記一般式[12]で表わされる2−ケトパーフルオ
ロアルカンアミドは、公知の化合物であり、例えば、下
記のようにヘキサフルオロエポキシプロパン(以下、6
FOと称する。)を出発原料として容易に合成すること
が可能である(J.Org.Chem.31,1988,2312)。
少量の水が存在すると、上記一般式[11]で表わされ
る化合物になることがあるため、出発原料は取り扱い易
さの点からは上記一般式[11]の化合物がより好まし
い。しかしながら、上記一般式[11]で表わされる化
合物のみを用いて不斉水素化反応を行う場合は、より高
温で反応を行う必要があるため、得られた化合物の光学
純度が若干低下することがある。
学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水
分解する工程を経て、上記一般式[16]の光学活性な
含フッ素乳酸又はその誘導体を得る工程において、上記
加水分解反応は、塩酸、硫酸などの酸を用いて行う方法
がある。
アルコール類等で更にエステル化して、エステル誘導体
に導くことも可能である。
上記光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンアミド
の製造方法で用いる原料化合物である上記一般式[1
1]で表わされる2,2−ジヒドロキシパーフルオロア
ルカンアミド及び上記一般式[12]で表わされる2−
ケトパーフルオロアルカンアミドに代わり、α−ケトエ
ステルを不斉水素化しても、本発明の目的物質としての
上記光学活性の含フッ素乳酸を更にエステル化した化合
物である上記エステル誘導体を得ることができるが、こ
の場合、本発明と同様の触媒で不斉水素化反応を行って
も、反応に用いる基質が異なるので、光学収率は13%
eeと非常に選択性は悪い。
って得られる上記光学活性な含フッ素アルコール及び上
記光学活性の含フッ素乳酸は、医薬や農薬等の生理活性
物質及び液晶材料の中間体として有用である。
る光学活性な含フッ素乳酸のRf(パーフルオロアルキ
ル基)がトリフルオロメチル基(−CF3)の場合とし
ての下記一般式[17]で表される光学活性な3,3,
3−トリフルオロ乳酸:
206857号において次のような化合物がHIVプロテ
アーゼインヒビターとして活性があるものとして報告さ
れていることから、十分に支持されるものである。
145444及び特開平6−239797において次の
ような化合物が有用であることが報告されており、十分
に有用性が支持されるものである。
明するが、本発明はそれに限定されるものではない。
ドロキシドデカン酸エチルの合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、下記構造式(1)
に示す(S)−AMPP(Cy)(5.6mg、0.01
1mmol)と[Rh(COD)OCOCF3]2(3.2
mg、0.005mmol)を精秤し、脱気したトルエ
ン(0.5ml)を加え室温で15分攪拌した。
下、100ml容量のステンレス製オートクレーブに加
え、脱気した2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン
酸エチル(556mg、2.0mmol)のトルエン
(2.5ml)溶液を加えた(但し、Rh−AMPP
(Cy)は基質に対し0.5mol%)。次いで、水素
圧20kgf/cm2、反応温度30℃で20時間攪拌
した。
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
7:1)で精製し、目的化合物:2,2−ジフルオロ−
3−ヒドロキシドデカン酸エチル(556mg、収率9
9.6%)を得た。Daicel Chiralcel OD-Hカラムを用
いた高速液体クロマトグラフィーにより、光学純度を測
定したところ、97%eeであった。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):0.81-0.94(m,3H),1.12-2.04(m,1
7H),1.37(t,J=7.1Hz,3H),3.90-4.12(m,1H),4.36(q,J=7.
1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.45(dd,J=264.1,7.5Hz,1
F),-123.01(dd,J=264.1,15.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2926,1760,1316,1094.
−ジフルオロ−3−ヒドロキシプロピオン酸エチルの合
成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに3−シクロヘキシル−2,2−ジフルオロ−3−
オキソプロピオン酸エチルを用いたこと、及び反応温度
を30℃から70℃に変更したことを除いて、前記実施
例1と同様にして目的化合物:3−シクロヘキシル−
2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ルを得た(382mg、収率81%、光学純度94%e
e)。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.01-2.08(m,12H),1.37(t,J=7.1
Hz,3H),3.71-3.91(m,1H),4.36(q,J=7.1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-111.98(dd,J=263.0,8.1Hz,1
F),-120.75(dd,J=263.0,17.7Hz,1F). IR(neat)cm-1:3480,2929,1760,1317,1096.
ジフルオロ−3−ヒドロキシブタン酸エチルの合成) 2,2−ジフロオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに4−ベンジルオキシ−2,2−ジフルオロ−3−
オキソブタン酸エチルを用いたことを除いて、前記実施
例1と同様にして目的化合物:4−ベンジルオキシ−
2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシブタン酸エチルを
得た(520mg、収率95%、光学純度95%e
e)。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.29(t,J=7.2Hz,3H),2.84(brs,1
H),3.73(d,J=5.9Hz,1H),3.74(d,J=5.5Hz,1H),4.26(q,J=
7.2Hz,2H),4.18-4.37(m,1H),4.56(s,2H),7.29-7.42(m,5
H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-112.83(dd,J=262.0,8.6Hz,1
F),-120.60(dd,J=262.0,18.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3473,2876,1760,1314,1096.
ロキシ−5−フェニルペンタン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソ−5−フェニル
ペンタン酸エチルを用いたことを除いて、前記実施例1
と同様にして目的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒ
ドロキシ−5−フェニルペンタン酸エチルを得た(51
5mg、収率99.6%、光学純度96%ee)。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.34(t,J=7.2Hz,3H),1.72-2.18
(m,3H),2.16-3.02(m,2H),3.90-4.12(m,1H),4.34(q,J=7.
2Hz,2H),7.15-7.37(m,5H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.14(dd,J=266.0,7.9Hz,1
F),-122.56(dd,J=266.0,13.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2940,1759,1317,1094.
ロキシ−4−フェニルブタン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソ−4−フェニル
ブタン酸エチルを用いたことを除いて、前記実施例1と
同様にして目的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒド
ロキシ−4−フェニルブタン酸エチルを得た(307m
g、収率63%、光学純度94%ee)。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.36(t,J=7.2Hz,3H),2.17(brs,1
H),2.83(dd,J=14.2,10.1Hz,1H),3.08(dd,J=14.2,2.9Hz,
1H),4.18-4.40(m,1H),4.35(q,J=7.2Hz,2H),7.21-7.40
(m,5H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-123.21(dd,J=264.5,15.2Hz,1
F),-114.52(dd,J=264.5,7.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3497,2986,1759,1323,1085.
ロキシ−5−メチルヘキサン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソ−5−メチルヘ
キサン酸エチルを用いたこと、及び反応温度を30℃か
ら70℃に変更したことを除いて、前記実施例1と同様
にして目的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン酸エチルを得た(399mg、
収率95%、光学純度92%ee)。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):0.81-0.94(m,3H),1.12-2.04(m,1
7H),1.37(t,J=7.1Hz,3H),3.90-4.12(m,1H),4.36(q,J=7.
1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.45(dd,J=264.1,7.5Hz,1
F),-123.01(dd,J=264.1,15.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2926,1760,1316,1094.
ロキシ−3−フェニルプロピオン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシ−3−フェ
ニルプロピオン酸エチルを用いたことを除いて、前記実
施例1と同様にして下記構造式(2)の目的化合物:
2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシ−3−フェニルプ
ロピオン酸エチルを得た(446mg、収率97%、光
学純度はR体84%ee)。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.29(t,J=7.0Hz,3H),1.58(brs,1
H),4.31(q,J=7.0Hz,2H),5.10-5.23(m,1H),7.35-7.50(m,
5H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-114.47(dd,J=261.7,7.9Hz,1
F),-120.88(dd,J=261.7,15.6Hz,1F). IR(neat)cm-1:3494,2987,1759,1320,1097.
ロキシブタン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに2,2−ジフルオロ−3−オキソブタン酸エチル
を用いたことを除いて、前記実施例1と同様にして目的
化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシブタン酸
エチルを得た(312mg、収率93%、光学純度96
%ee)。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.36(t,J=7.1Hz,3H),2.66(brs,1
H),4.09-4.35(m,1H),4.36(q,J=7.1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-124.45(dd,J=264.1,14.9Hz,1
F),-115.88(dd,J=264.1,7.1Hz,1F). IR(neat)cm-1:3436,2992,1760,1316,1107.
−ヒドロキシ酪酸エステルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチルの代
わりに4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ酪酸エチ
ルを用いたことを除いて、前記実施例1と同様にして下
記構造式(3)の目的化合物:4,4,4−トリフルオ
ロ−3−ヒドロキシ酪酸エチル(3−トリフルオロメチ
ル−3−ヒドロキシプロピオン酸エチル)を得た(34
1mg、収率92%)。得られた目的化合物をα−メト
キシ−α−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸エステ
ル(MTPA ester)に変換し、ガスクロマトグ
ラフィーにより、光学純度を測定したところ、R体91
%eeであった。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.30(t,J=7.2Hz,3H),2.70(dd,J=
16.8,9.0Hz,1H),2.71(dd,J=13.3,9.0Hz,1H),3.45(d,J=
5.4Hz,1H),4.22(q,J=7.2Hz,2H),4.33-4.55(m,1H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-80.16(d,J=6.7Hz,3F). IR(neat)cm-1:3468,2990,1726,1278,1171,1131.
2−ジフルオロ−3−ヒドロキシプロピオン酸エチルの
合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、下記構造式(4)
に示す(S)−AMPP(Cp)(5.6mg、0.01
2mmol)と[Rh(COD)OCOCF3]2(3.2
mg、0.005mmol)を精秤し、脱気したトルエ
ン(0.5ml)を加え室温で15分攪拌した。
下、100ml容量のステンレス製オートクレーブに加
え、脱気した2,2−ジフルオロ−3−オキソ−3−シ
クロヘキシルプロピオン酸エチル(472mg、2.1
mmol)のトルエン(2.5ml)溶液を加えた(但
し、Rh−AMPP(Cp)は基質に対し0.5mol
%)。次いで、水素圧20kgf/cm2、反応温度7
0℃で20時間攪拌した。
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
7:1)で精製し、目的化合物:2,2−ジフルオロ−
3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロピオン酸エチ
ル(458mg、収率97%)を得た。Daicel Chiralc
el OD-Hカラムを用いた高速液体クロマトグラフィーに
より、光学純度を測定したところ、94%eeであっ
た。
す。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.01-2.08(m,12H),1.37(t,J=7.1
Hz,3H),3.71-3.91(m,1H),4.36(q,J=7.1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-111.98(dd,J=263.0,8.1Hz,1
F),-120.75(dd,J=263.0,17.7Hz,1F). IR(neat)cm-1:3480,2929,1760,1317,1096.
ロキシドデカン酸エチルの合成) 2,2−ジフルオロ−3−オキソドデカン酸エチル27
8mg(1mmol)、RuBr2[(R)−BINA
P]10mg(0.01mmol)および脱気エタノー
ル(3ml)を入れ、水素を導入し(100atm)、
100℃で24時間攪拌した。反応容器を冷やした後、
水素を開放し、反応液を取り出した。
ーで単離精製し(酢酸エチル:ヘキサン=1:7)、目
的化合物:2,2−ジフルオロ−3−ヒドロキシドデカ
ン酸エチルを得た(280mg、収率100%)。ダイ
セルOD−Hカラムにより、光学純度を測定したところ
(エタノール:ヘキサン=1:100)、78%eeで
あった。
7H),1.37(t,J=7.1Hz,3H),3.90-4.12(m,1H),4.36(q,J=7.
1Hz,2H).19 F NMR(CDCl3)δ(ppm):-115.45(dd,J=264.1,7.5Hz,1
F),-123.01(dd,J=264.1,15.0Hz,1F). IR(neat)cm-1:3466,2926,1760,1316,1094.
反応スキームと共に、下記表1にまとめて示す。
基づく方法により、目的とする光学活性な含フッ素β−
ヒドロキシエステルを良好な転化率及び非常に高い光学
純度で得ることができる。
3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパンア
ミドの合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、下記構造式(1)
に示す(R)−AMPP(Cy)(1.68mg、0.
0033mmol)と[Rh(COD)OCOCF3]2
(0.98mg、0.0015mmol)を精秤し、脱
気したトルエン(0.15ml)を加え室温で15分攪
拌した。
下、N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ−2,2
−ジヒドロキシプロパンアミド(705mg、3.0m
mol)と脱気したトルエン(3ml)の入った100
ml容量のステンレス製オートクレーブに加え、水素圧
10kgf/cm2、反応温度70℃で20時間攪拌し
た。
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)で精製し、目的化合物:(S)−N−フェニル
−3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパン
アミド(570mg、収率87%)を得た。Daicel Chi
ralcel ASカラムを用いた高速液体クロマトグラフィー
により、光学純度を測定したところ、75%eeであっ
た。
す。 白色結晶1 H NMR (THF-d8) δ(ppm):4.52 (q, J=7.4 Hz, 1H),6.9
8-7.70 (m, 5H), 9.20-9.45 (brs,1H).19 F NMR (THF-d8) δ(ppm):-76.22 (d, J=7.4 Hz, 3F).
3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパンア
ミドはトルエンもしくは酢酸エチル−ヘキサンを用いて
再結晶することにより光学純度が98%eeまで向上し
た。
に示す(R)−AMPP(iPr)を用いたことを除い
て、前記実施例11と同様にして反応を行い、目的化合
物:(S)−N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ
−2−ヒドロキシプロパンアミドを得た(570mg、
収率87%、光学純度72%ee)。
に示す(R)−AMPP(C7)を用いたことを除い
て、前記実施例11と同様にして反応を行い、目的化合
物:(S)−N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ
−2−ヒドロキシプロパンアミドを得た(565mg、
収率86%、光学純度69%ee)。
−トリフルオロ−2−ヒドロキシプロパンアミドの合
成) N−フェニル−3,3,3−トリフルオロ−2,2−ジ
ヒドロキシプロパンアミドの代わりにN−ベンジル−
3,3,3−トリフルオロ−2,2−ジヒドロキシプロ
パンアミド(249mg、1.0mmol)を用い、前
記触媒量を0.5mol%、水素圧20kgf/cm2
に変更したこと以外は、前記実施例11と同様にして目
的化合物:N−ベンジル−3,3,3−トリフルオロ−
2−ヒドロキシプロパンアミドを得た(227mg、収
率97%、光学純度67%ee)。
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):4.31-4.55 (m, 4H), 6.51-6.8
3 (brs, 1H),7.20-7.42 (m, 5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-76.60 (d, J=7.2 Hz, 3F).
ヒドロキシプロパンアミドの代わりにN−ベンジル−
3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパンアミド
(231mg、1.0mmol)を用い、反応温度を3
0℃に変更した以外は実施例2と同様にして目的化合
物:N−ベンジル−3,3,3−トリフルオロ−2−ヒ
ドロキシプロパンアミドを得た(168mg、収率72
%、光学純度77%ee)。
の合成) 実施例1で得られた光学純度75%eeの(S)−N−
フェニル−3,3,3−トリフルオロ−2−ヒドロキシ
プロパンアミド(150mg、0.685mmol)に
12N塩酸(1.0ml)を加え80℃で20時間攪拌
した後、反応液を室温にもどし、エーテルで抽出した。
その乾燥溶媒留去後、吸湿性の白色結晶(目的化合物:
(S)−トリフルオロ乳酸)を得た(83mg、収率8
4%)。この白色結晶の光学純度を測定したところ75
%eeであった。
す。1 H NMR (CD3OD) δ(ppm):4.65 (q, J = 7.6 Hz, 1H).19 F NMR (CD3OD) δ(ppm):-75.83 (d, J = 7.6 Hz, 3
F).
フルオロ−2−デカノールの合成) グローブボックス中、窒素雰囲気下、上記構造式(1)
に示す(S)−AMPP(Cy)(5.6mg、0.0
22mmol)と[Rh(COD)OCOCF 3]
2(3.2mg、0.01mmol)を精秤し、脱気し
たトルエン(0.5ml)を加え室温で15分攪拌し
た。
下、1,1,1−トリフルオロ−2−デカノン(420
mg、2.0mmol)と脱気したトルエン(3ml)
の入った100ml容量のステンレス製オートクレーブ
に加え、水素圧20kgf/cm2、反応温度30℃で
20時間攪拌した。
カゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
5:1)で精製し、目的化合物:(R)−1,1,1−
トリフルオロ−2−デカノール(420mg、収率99
%)を得た。上記得られた化合物を一度アセチル化した
後、光学分割ガスクロマトグラフ(WCOT FUSED SILICA5
0M X0.25MM COATED WITH CP-CYCLODEX B 236M DF=0.25U
M)を用いて光学収率を測定したところ、97%eeで
あった。
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm): 0.88(t,J=6.8,3H),1.12-1.80
(m,14H),2.11(d,J=6.2,1H),3.79-4.01(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.58(d,J=6.8,3F).
フルオロ−1−シクロヘキシルエタノールの合成) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりにト
リフルオロメチルシクロヘキシルケトンを用いたこと以
外は前記実施例17と同様にして目的化合物:(R)−
2,2,2−トリフルオロ−1−シクロヘキシルエタノ
ールを得た(327mg、収率90%、光学純度97%
ee)。
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm):1.10-2.20(m,12H),3.62-3.81
(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-76.14(d,J=7.8,3F).
フルオロ−2−オクタノールの合成) 1,1,1−トリフルオロー2−デカノンの代わりに
1,1,1−トリフルオロ−2−オクタノンを用いたこ
と以外は前記実施例17と同様にして目的化合物:
(R)−1,1,1−トリフルオロ−2−オクタノール
を得た(360mg、収率98%、光学純度97%e
e)。
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm):0.90(t,J=7.0,3H),1.20-2.10
(m,11H),3.82-4.00(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.61(d,J=6.2,3F).
3,3−トリフルオロ−2−プロパノールの合成) 1,1,1−トリフルオロー2−デカノンの代わりに1
−シクロヘキシル−3,3,3−トリフルオロ−2−プ
ロパノンを用いたこと以外は前記実施例17と同様にし
て目的化合物:1−シクロヘキシル−3,3,3−トリ
フルオロ−2−プロパノールを得た(380mg、収率
97%、光学純度98%ee)。
す。1 H NMR(CDCl3) δ(ppm):0.75-2.12(m,14H),3.90-4.12
(m,1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.78(d,J=6.6,3F).
−トリフルオロ−2−プロパノールの合成) 1,1,1−トリフルオロー2−デカノンの代わりに3
−フェニル−1,1,1−トリフルオロ−2−プロパノ
ンを用いたこと以外は前記実施例11と同様にして目的
化合物:3−フェニル−1,1,1−トリフルオロ−2
−プロパノールを得た(370mg、収率97%、光学
純度97%ee)。
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):2.05-2.30 (brs, 1H),2.85(d
d,J=10.1,14.3,1H),3.07(dd,J=3.1,14.3,1H),4.15(ddq,
J=3.1,6.5,10.1,1H),7.20-7.42(m,5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.12(d,J=6.5,3F).
−4−フェニル−2−ブタノールの合成) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに
1,1,1−トリフルオロ−4−フェニル−2−ブタノ
ンを用いたこと以外は前記実施例11と同様にして目的
化合物:1,1,1−トリフルオロ−4−フェニル−2
−ブタノールを得た(402mg、収率99%、光学純
度96%ee)。
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm): 1.85-2.15(m,2H), 2.12-2.25
(brs,1H),2.68-3.02(m,2H),3.80-4.01(m,1H),7.19-7.39
(m,5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-80.44(d,J=6.3,3F).
フルオロ−1−フェニルエタノールの合成。) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに
1,1,1−トリフルオロアセトフェノンを用いたこと
以外は前記実施例17と同様にして目的化合物:(R)
−2,2,2−トリフルオロ−1−フェニルエタノール
を得た(325mg、収率93%、光学純度73%e
e)。
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):2.74 (d, J=4.6, 1H), 5.03
(dq, J=4.6, 6.6, 1H),7.35-7.52 (m, 5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-78.83 (d, J=6.6, 3F).
3,3,3−トリフルオロ−2−プロパノールの合
成。) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに1
−(ベンジルオキシ)−3,3,3−トリフルオロ−2
−プロパノンを用いたこと以外は前記実施例17と同様
ににして目的化合物:1−(ベンジルオキシ)−3,
3,3−トリフルオロ−2−プロパノールを得た(44
0mg、収率100%、光学純度86%ee)。
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):2.90-3.02 (brs, 1H), 3.62-
3.79 (m, 2H),4.01-4.27 (m, 1H), 4.61 (s, 2H), 7.29
-7.42 (m, 5H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-77.76 (d, J=7.0, 3F).
2−ペンタフルオロ−3−ドデカノールの合成。) 1,1,1−トリフルオロ−2−デカノンの代わりに
1,1,1,2,2−ペンタフルオロ−3−ドデカノン
を用いたこと以外は前記実施例17と同様にして目的化
合物:(R)−1,1,1,2,2−ペンタフルオロ−
3−ドデカノールを得た(550mg、収率100%、
光学純度97%ee)。
す。1 H NMR (CDCl3) δ(ppm):0.89 (t, J=7.1, 3H), 1.11-
1.98 (m, 17H),3.91-4.02 (m, 1H).19 F NMR (CDCl3) δ(ppm):-82.00 (s, 3F), -124.57 (d
d, J=6.6, 276.2, 1F),-131.01 (dd, J=15.5, 276.2, 1
F).
れば、前記一般式[1]で表される2,2−ジフルオロ−
3−ケトエステル又は前記一般式[5]で表される3−パ
ーフルオロアルキル−3−ケトエステルを、前記一般式
[2]で表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を
有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させるの
で、例えば医薬や農薬等の生理活性物質として有用な光
学活性な含フッ素竅|ヒドロキシエステルを、高い光学
純度及び収率で製造することができる。
で表わされるカルボニルのα位に少なくともフッ素原子
を2個有する化合物又は上記一般式[8]で表されるカ
ルボニル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個有
する化合物を上記一般式[9]で表される光学活性な配
位子(AMPP配位子)を有する遷移金属触媒を用いて
不斉水素化反応させるので、上記一般式[10]で表わ
される光学活性な含フッ素アルコール類を高光学純度、
高収率で製造することができる。
1]で表される2,2−ジヒドロキシパーフルオロアル
カンアミドと、上記一般式[12]で表される2−ケト
パーフルオロアルカンアミドと、上記一般式[13]で
表される含フッ素ケトンとの少なくとも一種を、上記一
般式[9]で表される光学活性な配位子(AMPP配位
子)を有する遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させ
るので、上記一般式[14]で表される光学活性な含フ
ッ素2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び上記一般
式[15]で表される光学活性な含フッ素アルコール
を、短い工程、高光学純度、高収率及び低コストで大量
に製造することができる。
られた上記一般式[14]で表される光学活性な含フッ
素2−ヒドロキシアルカンアミドを加水分解する工程を
経て、上記一般式[16]で表される光学活性な含フッ
素乳酸又はその誘導体を、高い光学純度及び収率で製造
することができる。
Claims (29)
- 【請求項1】 下記一般式[1]で表される2,2−ジ
フルオロ−3−ケトエステルを、下記一般式[2]で表
される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有する遷
移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることにより、
下記一般式[3]で表される光学活性な2,2−ジフル
オロ−3−ヒドロキシエステルを得ることを特徴とす
る、光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
方法。 【化1】 【化2】 【化3】 (但し、前記一般式[1]、[2]及び[3]におい
て、R1及びR2は互いに同一の若しくは異なる基であっ
て、互いに共同して環状の基を形成してもよい脂肪族又
は脂環式炭化水素基、アリール基又はアラルキル基を示
し、また、R3、R4、R5及びR6は互いに同一の若しく
は異なる基であって、互いに共同して環状の基を形成し
てもよい脂肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル
基を示す。) - 【請求項2】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
[4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項1に記
載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製
造方法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VI
II族金属を表し、Lは前記一般式[2]で表される光学
活性な配位子を表わし、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
(Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
O4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表わ
し、nは1又は2である。] - 【請求項3】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯体
を用いる、請求項2に記載した光学活性な含フッ素β−
ヒドロキシエステルの製造方法。 - 【請求項4】 前記ロジウム錯体として下記一般式
[4’]で表されるロジウム錯体を用いる、請求項3に
記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの
製造方法。 一般式[4’]: (RhLX)n (但し、前記一般式[4’]において、Rhはロジウム
原子、Lは光学活性なAMPP配位子を表わし、X及び
nは前記したものと同じである。) - 【請求項5】 前記遷移金属触媒を前記2,2−ジフル
オロ−3−ケトエステルに対して、0.00001〜1
0モル%使用する、請求項1に記載した光学活性な含フ
ッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。 - 【請求項6】 前記不斉水素化反応の反応温度を−10
0℃〜200℃とする、請求項1に記載した光学活性な
含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。 - 【請求項7】 前記不斉水素化反応における水素の圧力
を約1〜150kgf/cm2とする、請求項1に記載
した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
方法。 - 【請求項8】 下記一般式[5]で表される3−パーフ
ルオロアルキル−3−ケトエステルを下記一般式[2]
で表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有す
る遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることによ
り、下記一般式[6]で表される光学活性な3−パーフ
ルオロアルキル−3−ヒドロキシプロピオン酸エステル
を得ることを特徴とする、光学活性な含フッ素β−ヒド
ロキシエステルの製造方法。 【化4】 【化5】 【化6】 (但し、前記一般式[5]、[2]及び[6]において、Rf
はパーフルオロアルキル基、R2は脂肪族炭化水素基、
アリール基又はアラルキル基を示し、またR3、R 4、R
5及びR6は互いに同一の若しくは異なる基であって、互
いに共同して環状の基を形成してもよい脂肪族炭化水素
基、アリール基又はアラルキル基を示す。) - 【請求項9】 前記Rfの炭素数を1〜10とする、請
求項8に記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエ
ステルの製造方法。 - 【請求項10】 前記Rfを−CF3とする、請求項9
に記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステル
の製造方法。 - 【請求項11】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
[4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項8に記載
した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造
方法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VIII
族金属を表わし、Lは前記一般式[2]で表わされる光学
活性な配位子を表わし、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
(Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
O4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表わ
し、nは1又は2である。] - 【請求項12】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯
体を用いる、請求項11に記載した光学活性な含フッ素
β−ヒドロキシエステルの製造方法。 - 【請求項13】 前記ロジウム錯体として下記一般式
[4']で表されるロジウム錯体を用いる、請求項12に
記載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの
製造方法。 一般式[4']: (RhLX)n (但し、前記一般式[4']において、Rhはロジウム原
子、Lは光学活性なAMPP配位子を表わし、X及びn
は前記したものと同じである。) - 【請求項14】 前記遷移金属触媒を前記3−パーフル
オロアルキル−3−ケトエステルに対して、0.000
01〜10モル%使用する、請求項8に記載した光学活
性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。 - 【請求項15】 前記不斉水素化反応の反応温度を−1
00℃〜200℃とする、請求項8に記載した光学活性
な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法。 - 【請求項16】 前記不斉水素化反応における水素の圧
力を約1〜150kgf/cm2とする、請求項8に記
載した光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製
造方法。 - 【請求項17】 下記一般式[7]で表わされるカルボ
ニルのα位に少なくともフッ素原子を2個有する化合物
と、下記一般式[8]で表されるカルボニル水和物のα
位に少なくともフッ素原子を2個有する化合物とのうち
の少なくとも1種を、下記一般式[9]で表される光学
活性な配位子(AMPP配位子)を有する遷移金属触媒
を用いて不斉水素化反応させることにより、下記一般式
[10]で表わされる光学活性な含フッ素アルコール類
を得る、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法。 【化7】 【化8】 【化9】 【化10】 (但し、前記一般式[7]、[8]及び[10]におい
て、R7がフッ素原子若しくはパーフルオロアルキル基
である場合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ
カルボニル基、オキシカルボニル基又はカルボキシル基
を示す。前記置換基としては、ハロゲン原子、エステル
基、カルボキシル基、アミド基、ヒドロキシ基、アルキ
ルオキシ基、アリールオキシ基、シアノ基又はリン酸エ
ステル基などを示す。また、前記一般式[7]、[8]
及び[10]において、R7がオキシカルボニル基の場
合、R8は置換基を有してもよいアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。また、
前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12とR
13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子又は
置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R12及
びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水素基
から選択される。また、R9とR10又はR9とR11は互い
に共同して環状の基を形成してもよい。また、R14、R
15、R16及びR17は互いに同一の若しくは異なる基であ
って、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基又
はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR17は互
いに共同して環状の基を形成してもよい。) - 【請求項18】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
[4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項17に
記載した光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VI
II族金属を表わし、Lは前記一般式[9]で表される光
学活性な配位子を表し、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
(Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
O4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表
し、nは1又は2である。] - 【請求項19】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯
体を用いる、請求項18に記載した光学活性な含フッ素
アルコール類の製造方法。 - 【請求項20】 前記ロジウム錯体として下記一般式
[4’]で表されるロジウム錯体を用いる、請求項19
に記載した光学活性な含フッ素アルコール類の製造方
法。 一般式[4’]: (RhLX)n (但し、前記一般式[4’]において、Rhはロジウム
原子、Lは光学活性なAMPP配位子を表し、X及びn
は前記したものと同じである。) - 【請求項21】 前記遷移金属触媒を前記一般式[7]
で表わされるカルボニル基のα位に少なくともフッ素原
子を2個有する化合物又は前記一般式[8]で表される
カルボニル水和物のα位に少なくともフッ素原子を2個
有する化合物に対して、0.00001〜10モル%使
用する、請求項17に記載した光学活性な含フッ素アル
コール類の製造方法。 - 【請求項22】 下記一般式[11]で表される2,2
−ジヒドロキシパーフルオロアルカンアミドと、下記一
般式[12]で表わされる2−ケトパーフルオロアルカ
ンアミドと、下記一般式[13]で表される含フッ素ケ
トンとのうちの少なくとも一種を、下記一般式[9]で
表される光学活性な配位子(AMPP配位子)を有する
遷移金属触媒を用いて不斉水素化反応させることによ
り、下記一般式[14]で表わされる光学活性な含フッ
素2−ヒドロキシアルカンアミドと、下記一般式[1
5]で表される光学活性な含フッ素アルコールとの少な
くとも一種を得る、光学活性な含フッ素2−ヒドロキシ
アルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコー
ルの製造方法。 【化11】 【化12】 【化13】 【化14】 【化15】 【化16】 (但し、前記一般式[11]、[12]及び[14]に
おいて、R18及びR19は互いに同一の若しくは異なる基
であって、互いに共同して環状の基を形成してもよく、
水素、アルキル基、シクロパラフィン基、アリール基、
アラルキル基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を示す。
また前記一般式[13]及び[15]において、R20は
アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。ま
た、前記一般式[9]において、R10及びR11は、R12
とR13が異なるとき以外は必ず異なっており、水素原子
又は置換基を有してもよい炭化水素基から選択され、R
12及びR13は水素原子又は置換基を有してもよい炭化水
素基から選択される。また、R 9とR10又はR9とR11は
互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
R14、R15、R16、R17は互いに同一の若しくは異なる
基であって、アルキル基、シクロパラフィン基、アリー
ル基又はアラルキル基であり、R14とR15及びR16とR
17は互いに共同して環状の基を形成してもよい。また、
Rfはパーフルオロアルキル基を示す。) - 【請求項23】 前記遷移金属触媒として、下記一般式
[4]で表される遷移金属錯体を用いる、請求項22に
記載した光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンア
ミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方
法。 一般式[4]: (MLX)n [但し、前記一般式[4]において、Mは周期表の第VI
II族金属を表わし、Lは前記一般式[9]で表される光
学活性な配位子を表し、Xはハロゲン原子、RfCO2 -
(Rfはパーフルオロアルキル基である。)、Cl
O4 -、BF4 -、BPh 4 -、PF6 -などの陰イオンを表
し、nは1又は2である。] - 【請求項24】 前記遷移金属触媒として、ロジウム錯
体を用いる、請求項23に記載した光学活性な含フッ素
2−ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含
フッ素アルコールの製造方法。 - 【請求項25】 前記ロジウム錯体として下記一般式
[4’]で表されるロジウム錯体を用いる、請求項24
に記載した光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカン
アミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造
方法。 一般式[4’]: (RhLX)n (但し、前記一般式[4’]において、Rhはロジウム
原子、Lは光学活性なAMPP配位子を表し、X及びn
は前記したものと同じである。) - 【請求項26】 前記遷移金属触媒を前記2,2−ジヒ
ドロキシパーフルオロアルカンアミド、2−ケトパーフ
ルオロアルカンアミド及び/又は含フッ素ケトンに対し
て、0.00001〜10モル%使用する、請求項22
に記載した光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカン
アミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造
方法。 - 【請求項27】 請求項17〜26のいずれか1項に記
載した製造方法によって得られた下記一般式[14]で
表される光学活性な含フッ素2−ヒドロキシアルカンア
ミドを加水分解する工程を経て、下記一般式[16]で
表される光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体を得
る、光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方
法。 【化17】 【化18】 (但し、前記一般式[14]及び[16]において、R
18、R19及びRfは請求項22に記載したものと同じで
ある。) - 【請求項28】 前記Rfをトリフルオロメチル基とし
て、光学活性な3,3,3−トリフルオロ乳酸を得る、
請求項27に記載した光学活性な含フッ素乳酸又はその
誘導体の製造方法。 - 【請求項29】 前記光学活性な含フッ素乳酸を更にエ
ステル化する、請求項27に記載した光学活性な含フッ
素乳酸又はその誘導体の製造方法。
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