JP2000047412A - 画像形成装置 - Google Patents

画像形成装置

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JP2000047412A
JP2000047412A JP10218311A JP21831198A JP2000047412A JP 2000047412 A JP2000047412 A JP 2000047412A JP 10218311 A JP10218311 A JP 10218311A JP 21831198 A JP21831198 A JP 21831198A JP 2000047412 A JP2000047412 A JP 2000047412A
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Hideaki Fukunaga
秀明 福永
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Kyocera Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】負帯電用の画像形成装置を提供する。 【解決手段】導電性基板2の上にa−Si:Hからなる
電荷注入阻止層3および光導電層4を順次積層して、光
導電層4の赤外線吸収スペクトルにおける波数2000
cm-1での強度Iaと、波数2100cm-1での強度I
bとを0.22≦Ib/(Ia+Ib)≦0.35の関
係式を満たすようにした感光体8、負電荷を付与するコ
ロナ帯電器9、光波長ピーク520〜820nmの露光
器10、現像機12、転写器14、クリーニング手段1
5、除電手段16とを配設した負帯電用画像形成装置
7。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は水素化アモルファス
シリコンからなる電荷注入阻止層および光導電層を備え
た電子写真感光体を負帯電にして、さらにLEDヘッド
やレーザー光でもって露光するようにした負帯電型の画
像形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】アモルファスシリコン(以下、アモルフ
ァスシリコンをa−Siと略記する)を光導電層とした
感光体が、すでに製品化されているが、このa−Si感
光体は正帯電用であって、導電性基板上にグロー放電分
解法により水素化アモルファスシリコン(以下、水素化
アモルファスシリコンをa−Si:Hと略記する)から
なる電荷注入阻止層とa−Si:H光導電層とを順次積
層した層構成である。そして、a−Si:H電荷注入阻
止層に周期律表第III a族元素をドーピングすることで
電子に対するポテンシャル障壁が形成され、これによ
り、導電性基板からの電子の注入を防ぎ、正帯電用の電
子写真感光体が得られる。
【0003】他方、上記電荷注入阻止層に対し周期律表
第III a族元素に代えて周期律表第Va族元素をドーピ
ングすることでホールに対するポテンシャル障壁が形成
され、これにより、導電性基板からのホールの注入を防
ぐようにして、従来のOPC感光体に代わる負帯電用の
電子写真感光体が期待されているが、いまだ実用化には
至っていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者はこのように
実用化されない課題について、種々検討をおこなったと
ころ、既存の正帯電用の電子写真感光体に対し、周期律
表第III a族元素(以下、III a族元素と略記する)の
電荷注入阻止層へのドーピングを、周期律表第Va族元
素(以下、Va族元素と略記する)に代えただけである
ならば、負極性に帯電するが、正極性にも帯電すること
がわかった。
【0005】そのため、このような電子写真感光体をプ
リンタ(画像形成装置)に搭載し、負帯電用トナーを使
用して画像形成しようとすると、トナーを紙に転写した
際に上記正帯電性に起因して、転写バイアス電圧を打ち
消し、画像特性上劣化した。
【0006】また、上記負帯電用の電子写真感光体では
短波長可視光に対する光感度に劣り、他方、近赤外光
(長波長光)に対しても光感度が劣化する傾向にあり、
そのため光源の露光波長が制限されるという課題もあ
る。
【0007】しかも、Va族元素をドーピングするため
に用いる代表的なガスであるホスフィン(PH3 )は毒
性が強く、低濃度であっても人体に悪影響があり、その
ため安全管理には細心の注意を払う必要があり、これに
伴ってコストが増大するという課題もある。さらにこの
ようなドーピングガスを所要どおりに高い精度でもって
使用し、これによって電子写真特性のバラツキを小さく
するには、生産管理を相当に高める必要があり、その点
でも生産コストが上昇していた。
【0008】本発明者は上記事情に鑑みて鋭意研究に努
めた結果、a−Si:H電荷注入阻止層にVa族元素を
ドーピングしないでも負極性に良好に帯電できるよう
に、その上に成膜するa−Si:H光導電層の赤外線吸
収スペクトルにおける波数2000cm-1での強度Ia
と、波数2100cm-1での強度Ibとの関係を規定す
ることで膜質を高め、これによって優れた負帯電性が得
られ、しかも、光感度を幅広い範囲の波長領域でもって
高めることで、さまざまな波長ピークの露光手段に適用
できることを見出した。
【0009】したがって本発明は上記知見により完成さ
れたものであり、その目的は優れた画像特性の負帯電用
の画像形成装置を提供することにある。本発明の他の目
的は、ホスフィンガスなどを使用しないことで、生産コ
ストを下げることができた画像形成装置を提供すること
にある。本発明のさらに他の目的は、短波長可視光およ
び近赤外光(長波長光)での光感度を高め、これによっ
て多様な機種に対応する画像形成装置を提供することに
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の画像形成装置
は、導電性基板上にa−Si:Hからなる電荷注入阻止
層および光導電層を順次積層した感光体と、この感光体
の表面に電荷を付与する帯電手段と、感光体の帯電領域
に対し光照射する露光手段とからなり、これら帯電手段
と露光手段とにより感光体の表面に静電潜像を形成する
とともに、静電潜像に対応したトナー像を感光体の表面
に形成する現像手段と、トナー像を被転写材に転写する
転写手段と、転写後に感光体表面の残留トナーを除去す
るクリーニング手段と、転写後に残余静電潜像を除去す
る除電手段とを配設し、さらに上記光導電層に対する赤
外線吸収スペクトルにおいて波数2000cm-1での強
度Iaと、波数2100cm-1での強度Ibとが0.2
2≦Ib/(Ia+Ib)≦0.35の関係式を満た
し、上記露光手段の照射光の波長ピークを520〜82
0nmにして、感光体表面を負帯電にしたことを特徴と
する。
【0011】
【発明の実施の形態】感光体の構成 図1は発明の実施形態に係る感光体1の層構成であり、
導電性基板2の上にグロー放電分解法によりa−Si:
Hからなる電荷注入阻止層3およびa−Si:Hからな
る光導電層4とを順次積層し、この光導電層4上に表面
保護層5を積層する。
【0012】導電性基板2には銅、黄銅、SUS、A
l、Niなどの金属導電体、あるいはガラス、セラミッ
クなどの絶縁体の表面に導電性薄膜を被覆したものなど
がある。この導電性基板2はシート状、ベルト状もしく
はウェブ状可とう性導電シートでもよく、このようなシ
ートにはSUS、Al、Niなどの金属シート、あるい
はポリエステル、ナイロン、ポリイミドなどの高分子樹
脂フィルムの上にAl、Niなどの金属もしくは酸化ス
ズ、インジウム・スズ・オキサイド(ITO)などの透
明導電性材料や有機導電性材料を蒸着などにより被覆し
て導電処理したものを用いる。
【0013】上記表面保護層5はa−Si、アモルファ
スシリコンカーバイド、アモルファスシリコンナイトラ
イド、アモルファスシリコンオキサイド、セレン等を、
グロー放電分解法、真空蒸着法、活性反応蒸着法、イオ
ンプレーテイング法、RFスパッタリング法、DCスパ
ッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法、D
Cマグネトロンスパッタリング法、熱CVD法などで成
膜形成する。また、有機材料を使用する場合には塗布な
どによって成膜形成する。
【0014】上記電荷注入阻止層3については、a−S
i:Hに対し価電子制御用不純物としてのIII a族元素
および/またはVa族元素をドーピングせず、そして、
このようなノンドープであっても、光導電層4の赤外線
吸収スペクトルにおける波数2000cm-1での強度I
aと、波数2100cm-1での強度Ibとを0.22≦
Ib/(Ia+Ib)≦0.35の関係式を満たすよう
に設定することで、優れた負帯電能が得られた。
【0015】すなわち、本発明においては、ノンドープ
のa−Si:Hは成膜中に形成される結合ネットワーク
の構造的欠陥に起因し、弱いn型を示すので、フォスフ
ィン(PH3 )ガスなどを用いてPをドーピングしなく
とも、光導電層4の膜質を規定することで優れた負帯電
能が得られることは予想外の効果であった。
【0016】具体的には光導電層4を成膜するに際し、
成膜速度をたとえば2.5〜7.0μm/時に、好適に
は4.0〜6.0μm/時に設定することで、Si原子
とH原子との結合状態である〔SiH結合〕と〔(Si
2 n 結合〕の量比を規定できるが、それを赤外線吸
収スペクトルであらわした場合に、波数2000cm-1
での強度Iaと、波数2100cm-1での強度Ibとの
関係を示すIR比をIb/(Ia+Ib)で表して、
0.22≦IR比≦0.35、好適には0.25≦IR
比≦0.34の関係式を満たすように定めると優れた負
帯電能が得られ、さらに短波長可視光から近赤外光(長
波長光)にわたって、すなわち波長ピーク520〜82
0nmの照射光に対し光感度が向上する。その結果、レ
ーザー光、LEDなどにおいて幅広い波長ピークをもつ
さまざまな光源をプリンタに使用することができる。
【0017】また、電荷注入阻止層3に酸素や窒素を含
有させて、禁制帯幅を大きくし、これによって電荷注入
阻止という機能上、障壁を高くすることができ、しか
も、酸素を含有させることで基板との密着性が高められ
る点でよい。ただし、酸素のみではシランガスとの反応
して爆発を引き起こし易いので不活性な窒素も併存させ
るとよく、実際には一酸化窒素(NO)ガスなどを使用
する。
【0018】画像形成装置の構成 図2は本発明の感光体を搭載したプリンター構成の画像
形成装置7であり、8は感光体であり、この感光体8の
周面にコロナ帯電器9と、その帯電後に光照射する露光
器10(LEDヘッドもしくはレーザー光)と、トナー
像を感光体8の表面に形成するためのトナー11を備え
た現像機12と、そのトナー像を被転写材13に転写す
る転写器14と、その転写後に感光体表面の残留トナー
を除去するクリーニング手段15と、その転写後に残余
静電潜像を除去する除電手段16とを配設した構成であ
る。また、17は被転写材13に転写されたトナー像を
熱もしくは圧力により固着するための定着器である。
【0019】このカールソン法は次の〜の各プロセ
スを繰り返し経る。 感光体8の周面をコロナ帯電器9により帯電する。 露光器10により画像を露光することにより、感光
体8の表面上に電位コントラストとしての静電潜像を形
成する。 この静電潜像を現像機12により現像する。この現
像により黒色のトナーが静電潜像との静電引力により感
光体表面に付着し、可視化する。 感光体表面のトナー像を紙などの被転写材13の裏
面よりトナーと逆極性の電界を加えて、静電転写し、こ
れにより、画像を被転写材13の上に得る。 感光体表面の残留トナーをクリーニング手段15に
より機械的に除去する。 感光体表面を強い光で全面露光し、除電手段16に
より残余の静電潜像を除去する。 また、この画像形成装置7には通常の乾式現像を用いて
いるが、その他、湿式現像に使用される液体現像剤にも
適用される。
【0020】
【実施例】純度99.9%のAlからなる円筒状の基板
(外径100mm、長手寸法364mm)の上に表1に
示すような成膜条件(この条件は一チェンバ内での値で
ある)でもってグロー放電分解法により電荷注入阻止層
3、光導電層4および表面保護層5を積層した。なお、
表面保護層5のガス量および成膜速度に示す→は経時的
に変化した際の最初の値と最後の値を示す。
【0021】
【表1】
【0022】そして、RF電力を変えることでIb/
(Ia+Ib)を幾とおりにも規定し、これによって表
2に示すようにさまざまな感光体(試料A〜J)を作製
した。ただし、試料A、Bは成膜上ムラが生じて実用に
供することができなかった。
【0023】
【表2】
【0024】つぎに各感光体を京セラ製エコシスプリン
タ(ECOSYS:FS−1700)に搭載し、露光光
量を変えないままで、露光波長を変えて画像評価をおこ
なったところ(乾式現像:トナー平均粒径8μm)、表
3に示すような結果が得られた。
【0025】
【表3】
【0026】上記プリンタにはLEDヘッドを用いて、
露光波長を幾とおりにも変えることで、○、△、
×の3とおりの基準でもって評価した。○印は黒ベ
タ、白ベタ、ハーフトーン、文字、メモリー、干渉に関
して、いずれも問題ない場合であり、△印は黒ベタが
出にくい、文字が見えにくい等の問題がある場合であ
り、×印は濃度がまったく出ない(表面電位がまった
くおちない)場合である。
【0027】この表から明らかなとおり、本発明の試料
C〜Gについては、露光の波長ピークが520〜820
nmという広い範囲で十分に実用に供することができ
た。しかしながら、試料H〜Jでは波長ピークが520
〜740nmの露光でしか使用することができなかっ
た。
【0028】
【発明の効果】以上のとおり、本発明の画像形成装置に
よれば、それに搭載する電子写真感光体において、価電
子制御用不純物がドーピングされていないa−Si:H
電荷注入阻止層をグロー放電分解法により形成しても、
その上に設けるa−Si:H光導電層に対し赤外線吸収
スペクトルにおける波数2000cm-1での強度Ia
と、波数2100cm-1での強度Ibとを0.22≦I
b/(Ia+Ib)≦0.35の関係式を満たすように
規定したことで、ホスフィンガスなどを使用しなくとも
負帯電による優れた画像特性が得られた。
【0029】また、本発明においては、毒性が強く、低
濃度であっても人体に悪影響があるホスフィンガスを使
用しないので、安全管理対策が不要となり、これに伴っ
て生産コストが低減できた。しかも、このようなドーピ
ングガスを使用しないことで、精度の高いドーピング管
理も不要となり、これによって電子写真特性のバラツキ
を小さくなり、その点でも生産コストが低減できた。
【0030】さらにまた、本発明によれば、短波長可視
光および近赤外光(長波長光)での光感度を高め、これ
によってさまざまな露光波長をもつ多様な機種に対応す
る画像形成装置が提供できた。
【図面の簡単な説明】
【図1】発明の実施形態に係る感光体の層構成を示す断
面図である。
【図2】本発明の画像形成装置の概略図である。
【符号の説明】
1、8 感光体 2 基板 3 感光層 5 光導電層 6 表面保護層 7 画像形成装置 9 コロナ帯電器 10 露光器 11 トナー 12 現像機 13 被転写材 14 転写器 15 クリーニング手段 16 除電手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】導電性基板上に水素化アモルファスシリコ
    ンからなる電荷注入阻止層および光導電層を順次積層し
    た感光体と、該感光体の表面に電荷を付与する帯電手段
    と、感光体の帯電領域に対し光照射する露光手段とから
    なり、これら帯電手段と露光手段とにより感光体の表面
    に静電潜像を形成するとともに、該静電潜像に対応した
    トナー像を感光体の表面に形成する現像手段と、該トナ
    ー像を被転写材に転写する転写手段と、該転写後に感光
    体表面の残留トナーを除去するクリーニング手段と、該
    転写後に残余静電潜像を除去する除電手段とを配設した
    画像形成装置であって、前記光導電層に対する赤外線吸
    収スペクトルにおいて波数2000cm-1での強度Ia
    と、波数2100cm-1での強度Ibとが0.22≦I
    b/(Ia+Ib)≦0.35の関係式を満たし、前記
    露光手段の照射光の波長ピークを520〜820nmに
    して、感光体表面を負帯電にしたことを特徴とする画像
    形成装置。
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