JP2000038511A - 高電圧電気絶縁体用シリコ―ンゴム組成物 - Google Patents
高電圧電気絶縁体用シリコ―ンゴム組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 （Ａ）下記平均組成式（１）
Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2 （１）
（但し、式中Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の１
価炭化水素基であり、ｎは１．９８〜２．０２の正数で
ある。）で示されるオルガノポリシロキサン
１００重量部 （Ｂ）シリカ微粉末
１〜１００重量部 （Ｃ）ケイ素含有化合物で表面処理された異なる平均粒
子径を有する少なくとも２種類のアルミニウム水酸化物
５０〜３００重量部 （Ｄ）有機過酸化物
０．０１〜１０重量部 を含有してなることを特徴とする高電圧電気絶縁体用シ
リコーンゴム組成物。 【効果】 本発明の高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム
組成物は、過酷な大気汚染あるいは気候に曝される条件
下、特に高湿条件下に長期間晒されていても耐候性、耐
汚損性、耐電圧、耐トラッキング性、耐アーク性、エロ
ージョン性等の高電圧電気絶縁性能に優れた硬化物を与
える。
価炭化水素基であり、ｎは１．９８〜２．０２の正数で
ある。）で示されるオルガノポリシロキサン
１００重量部 （Ｂ）シリカ微粉末
１〜１００重量部 （Ｃ）ケイ素含有化合物で表面処理された異なる平均粒
子径を有する少なくとも２種類のアルミニウム水酸化物
５０〜３００重量部 （Ｄ）有機過酸化物
０．０１〜１０重量部 を含有してなることを特徴とする高電圧電気絶縁体用シ
リコーンゴム組成物。 【効果】 本発明の高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム
組成物は、過酷な大気汚染あるいは気候に曝される条件
下、特に高湿条件下に長期間晒されていても耐候性、耐
汚損性、耐電圧、耐トラッキング性、耐アーク性、エロ
ージョン性等の高電圧電気絶縁性能に優れた硬化物を与
える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加熱硬化により優
れた高電圧電気絶縁体となるシリコーンゴムを与え、送
電線用碍子いわゆるポリマー碍子等として好適に使用し
得る高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物に関す
る。
れた高電圧電気絶縁体となるシリコーンゴムを与え、送
電線用碍子いわゆるポリマー碍子等として好適に使用し
得る高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】送電線
に用いる碍子に使用されている高電圧電気絶縁体は、一
般に磁器製又はガラス製である。しかし、海岸沿いの地
域や工業地帯のように汚染を受けやすい環境下では、高
電圧電気絶縁体の表面を微粒子や塩類、霧等が通ること
により洩れ電流が発生したり、フラッシュオーバーにつ
ながるドライバンド放電等がおこるという問題があっ
た。
に用いる碍子に使用されている高電圧電気絶縁体は、一
般に磁器製又はガラス製である。しかし、海岸沿いの地
域や工業地帯のように汚染を受けやすい環境下では、高
電圧電気絶縁体の表面を微粒子や塩類、霧等が通ること
により洩れ電流が発生したり、フラッシュオーバーにつ
ながるドライバンド放電等がおこるという問題があっ
た。
【０００３】そこで、これらの磁器製又はガラス製の絶
縁体の欠点を改良するために種々の解決法が提案されて
いる。例えば米国特許第３５１１６９８号公報には、硬
化性樹脂からなる部材と白金触媒含有オルガノポリシロ
キサンエラストマーとからなる耐候性の高電圧電気絶体
が提案されている。また、特開昭５９−１９８６０４号
公報には、一液性の室温硬化性オルガノポリシロキサン
組成物をガラス製品又は磁器製の高電圧電気絶縁体の外
側表面に塗布することにより、湿気、大気汚染、紫外線
等の野外におけるストレスの存在下においても前記電気
絶縁体の有する高性能を維持させる技術が提案されてい
る。
縁体の欠点を改良するために種々の解決法が提案されて
いる。例えば米国特許第３５１１６９８号公報には、硬
化性樹脂からなる部材と白金触媒含有オルガノポリシロ
キサンエラストマーとからなる耐候性の高電圧電気絶体
が提案されている。また、特開昭５９−１９８６０４号
公報には、一液性の室温硬化性オルガノポリシロキサン
組成物をガラス製品又は磁器製の高電圧電気絶縁体の外
側表面に塗布することにより、湿気、大気汚染、紫外線
等の野外におけるストレスの存在下においても前記電気
絶縁体の有する高性能を維持させる技術が提案されてい
る。
【０００４】更に、特公昭５３−３５９８２号公報、米
国特許第３９６５０６５号公報及び特開平４−２０９６
５５号公報には、加熱硬化によりシリコーンゴムとなる
オルガノポリシロキサンとアルミニウム水和物との混合
物を１００℃より高い温度で３０分以上加熱することに
よって、電気絶縁性が改良されたシリコーンゴム組成物
が得られることが提案されている。
国特許第３９６５０６５号公報及び特開平４−２０９６
５５号公報には、加熱硬化によりシリコーンゴムとなる
オルガノポリシロキサンとアルミニウム水和物との混合
物を１００℃より高い温度で３０分以上加熱することに
よって、電気絶縁性が改良されたシリコーンゴム組成物
が得られることが提案されている。
【０００５】しかしながら、上記シリコーンゴム組成物
は、いずれも過酷な条件下で高電圧電気絶縁性能が満足
できるものとは言い難いものであった。また、アルミニ
ウム水和物を配合したシリコーンゴム組成物は、多量に
添加したアルミニウム水和物自身の吸湿性によりシリコ
ーンゴムの吸水率が高くなり、湿潤状態での電気特性が
著しく低下してしまうという新たな問題が生じている。
更に、吸湿により高電圧電気絶縁体として必要な耐コロ
ナ特性が低下する問題も生じている。なお、この問題
は、単にアルミニウム水和物表面を処理剤によって処理
するだけでは解決することは困難である。従って、これ
ら問題の解決が望まれていた。
は、いずれも過酷な条件下で高電圧電気絶縁性能が満足
できるものとは言い難いものであった。また、アルミニ
ウム水和物を配合したシリコーンゴム組成物は、多量に
添加したアルミニウム水和物自身の吸湿性によりシリコ
ーンゴムの吸水率が高くなり、湿潤状態での電気特性が
著しく低下してしまうという新たな問題が生じている。
更に、吸湿により高電圧電気絶縁体として必要な耐コロ
ナ特性が低下する問題も生じている。なお、この問題
は、単にアルミニウム水和物表面を処理剤によって処理
するだけでは解決することは困難である。従って、これ
ら問題の解決が望まれていた。
【０００６】本発明は上記事情に鑑みされたもので、過
酷な大気汚染あるいは気候に曝される条件下、特に高湿
条件下でも耐候性、耐汚損性、耐電圧、耐トラッキング
性、耐アーク、エロージョン性等の高電圧電気絶縁性能
に優れたシリコーンゴムを与えることができる高電圧電
気絶縁体用シリコーンゴム組成物を提供することを目的
とする。
酷な大気汚染あるいは気候に曝される条件下、特に高湿
条件下でも耐候性、耐汚損性、耐電圧、耐トラッキング
性、耐アーク、エロージョン性等の高電圧電気絶縁性能
に優れたシリコーンゴムを与えることができる高電圧電
気絶縁体用シリコーンゴム組成物を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結
果、下記平均組成式（１）で示されるオルガノポリシロ
キサン、シリカ微粉末及び有機過酸化物を配合したシリ
コーンゴム組成物に、ケイ素含有化合物で表面処理され
た異なる平均粒子径を有する少なくとも２種類のアルミ
ニウム水酸化物、特にケイ素含有化合物で表面処理され
た平均粒子径が５〜２０μｍのアルミニウム水酸化物
と、ケイ素含有化合物で表面処理された平均粒子径が
０．１〜２．５μｍのアルミニウム水酸化物とを組み合
わせて配合した場合、アルミニウム水酸化物が吸湿する
ことがなく、かつ単にアルミニウム水酸化物表面を処理
剤によって処理するだけでは解決することが困難な耐コ
ロナ性の問題を満足に解決し得て、過酷な大気汚染ある
いは気候に曝される条件下、特に高湿条件下に長期間晒
されていても耐候性、耐汚損性、耐電圧、耐トラッキン
グ性、耐アーク性、エロージョン性等の高電圧電気絶縁
性能に優れた硬化物を与えるシリコーンゴム組成物を得
ることができることを知見し、本発明をなすに至った。
発明は上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結
果、下記平均組成式（１）で示されるオルガノポリシロ
キサン、シリカ微粉末及び有機過酸化物を配合したシリ
コーンゴム組成物に、ケイ素含有化合物で表面処理され
た異なる平均粒子径を有する少なくとも２種類のアルミ
ニウム水酸化物、特にケイ素含有化合物で表面処理され
た平均粒子径が５〜２０μｍのアルミニウム水酸化物
と、ケイ素含有化合物で表面処理された平均粒子径が
０．１〜２．５μｍのアルミニウム水酸化物とを組み合
わせて配合した場合、アルミニウム水酸化物が吸湿する
ことがなく、かつ単にアルミニウム水酸化物表面を処理
剤によって処理するだけでは解決することが困難な耐コ
ロナ性の問題を満足に解決し得て、過酷な大気汚染ある
いは気候に曝される条件下、特に高湿条件下に長期間晒
されていても耐候性、耐汚損性、耐電圧、耐トラッキン
グ性、耐アーク性、エロージョン性等の高電圧電気絶縁
性能に優れた硬化物を与えるシリコーンゴム組成物を得
ることができることを知見し、本発明をなすに至った。
【０００８】従って、本発明は、 （Ａ）下記平均組成式（１）で示されるオルガノポリシロキサン １００重量部 Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2 （１） （但し、式中Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、ｎ は１．９８〜２．０２の正数である。） （Ｂ）シリカ微粉末 １〜１００重量部 （Ｃ）ケイ素含有化合物で表面処理された異なる平均粒子径を有する少なくとも ２種類のアルミニウム水酸化物 ５０〜３００重量部 （Ｄ）有機過酸化物 ０．０１〜１０重量部 を含有してなることを特徴とする高電圧電気絶縁体用シ
リコーンゴム組成物を提供する。
リコーンゴム組成物を提供する。
【０００９】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明の高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物の第一必
須成分のオルガノポリシロキサンは、下記平均組成式
（１）で示されるものである。 Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2 （１） （但し、式中Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の１
価炭化水素基であり、ｎは１．９８〜２．０２の正数で
ある。）
明の高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物の第一必
須成分のオルガノポリシロキサンは、下記平均組成式
（１）で示されるものである。 Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2 （１） （但し、式中Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の１
価炭化水素基であり、ｎは１．９８〜２．０２の正数で
ある。）
【００１０】ここで、上記式中Ｒ1は、同一又は異種の
非置換又は置換のケイ素原子に結合した１価炭化水素
基、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数
１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキ
ル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル
基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテ
ニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、
トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル
基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などの非置換
の１価炭化水素基、更にはこれらの基の炭素原子に結合
した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基
などで置換したクロロメチル基、ブロモエチル基、トリ
フルオロプロピル基、シアノエチル基等のハロゲン置換
アルキル基、シアノ置換アルキル基などの置換１価炭化
水素基から選択することができる。また、ｎは１．９８
〜２．０２の正数である。
非置換又は置換のケイ素原子に結合した１価炭化水素
基、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数
１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキ
ル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル
基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテ
ニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、
トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル
基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などの非置換
の１価炭化水素基、更にはこれらの基の炭素原子に結合
した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基
などで置換したクロロメチル基、ブロモエチル基、トリ
フルオロプロピル基、シアノエチル基等のハロゲン置換
アルキル基、シアノ置換アルキル基などの置換１価炭化
水素基から選択することができる。また、ｎは１．９８
〜２．０２の正数である。
【００１１】分子中の全Ｒ1基のうち、０．００１〜５
モル％、特に０．０１〜１モル％がアルケニル基である
ことが好ましく、残りのＲ1はメチル基又はフェニル基
であることが好ましく、この場合全Ｒ1基のうち９５モ
ル％以上、特に９９モル％以上がメチル基であることが
好ましい。
モル％、特に０．０１〜１モル％がアルケニル基である
ことが好ましく、残りのＲ1はメチル基又はフェニル基
であることが好ましく、この場合全Ｒ1基のうち９５モ
ル％以上、特に９９モル％以上がメチル基であることが
好ましい。
【００１２】上記式（１）のオルガノポリシロキサンと
しては、その分子構造は別に限定されないが、特にその
分子鎖末端がトリメチルシリル基、ジメチルビニルシリ
ル基、ジビニルメチルシリル基、トリビニルシリル基等
のトリオルガノシリル基等で封鎖されたものが好まし
い。また、分子主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り
返しから基本的になる直鎖状のジオルガノポリシロキサ
ンであることが好ましいが、分子中にモノオルガノシロ
キサン単位やＳｉＯ2単位等の分岐状シロキサン単位を
少量含んだものであってもよく、また分子構造の異なる
１種又は２種以上の混合物であってもよい。
しては、その分子構造は別に限定されないが、特にその
分子鎖末端がトリメチルシリル基、ジメチルビニルシリ
ル基、ジビニルメチルシリル基、トリビニルシリル基等
のトリオルガノシリル基等で封鎖されたものが好まし
い。また、分子主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り
返しから基本的になる直鎖状のジオルガノポリシロキサ
ンであることが好ましいが、分子中にモノオルガノシロ
キサン単位やＳｉＯ2単位等の分岐状シロキサン単位を
少量含んだものであってもよく、また分子構造の異なる
１種又は２種以上の混合物であってもよい。
【００１３】上記オルガノポリシロキサンは、平均重合
度（又は分子中のケイ素原子の数）が１００〜１００，
０００、特に４，０００〜２０，０００であることが好
ましく、また、２５℃における粘度が１００ｃｓ（セン
チストークス）以上、特に１００，０００〜１０，００
０，０００ｃｓであることが好ましい。
度（又は分子中のケイ素原子の数）が１００〜１００，
０００、特に４，０００〜２０，０００であることが好
ましく、また、２５℃における粘度が１００ｃｓ（セン
チストークス）以上、特に１００，０００〜１０，００
０，０００ｃｓであることが好ましい。
【００１４】次に、シリコーンゴム組成物を構成する
（Ｂ）成分のシリカ微粉末は、機械的強度の優れたシリ
コーンゴムを得るために必須とされるものであるが、こ
の目的のためには比表面積（ＢＥＴ法）が５０ｍ2／ｇ
以上、通常５０〜５００ｍ2／ｇ、特に１００〜３００
ｍ2／ｇであることが好ましい。比表面積が５０ｍ2／ｇ
に満たないと硬化物の機械的強度が低下してしまう場合
がある。
（Ｂ）成分のシリカ微粉末は、機械的強度の優れたシリ
コーンゴムを得るために必須とされるものであるが、こ
の目的のためには比表面積（ＢＥＴ法）が５０ｍ2／ｇ
以上、通常５０〜５００ｍ2／ｇ、特に１００〜３００
ｍ2／ｇであることが好ましい。比表面積が５０ｍ2／ｇ
に満たないと硬化物の機械的強度が低下してしまう場合
がある。
【００１５】このような補強性シリカとしては、例えば
煙霧質シリカ、沈降性シリカ及びこれらの表面をオルガ
ノクロルシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノ
シラザン、ジオルガノシクロポリシロキサン、１，３−
ジシロキサンジオール等で処理された疎水性シリカ等が
挙げられる。
煙霧質シリカ、沈降性シリカ及びこれらの表面をオルガ
ノクロルシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノ
シラザン、ジオルガノシクロポリシロキサン、１，３−
ジシロキサンジオール等で処理された疎水性シリカ等が
挙げられる。
【００１６】また、シリカ微粉末の添加量は、（Ａ）成
分のオルガノポリシロキサン１００部（重量部、以下同
じ）に対し１〜１００部、特に３０〜５０部とすること
が好ましく、１部未満では添加量が少なすぎて補強効果
が得られない場合があり、１００部を超えると加工性が
悪く、得られたシリコーンゴムの機械的強度が低下する
場合がある。
分のオルガノポリシロキサン１００部（重量部、以下同
じ）に対し１〜１００部、特に３０〜５０部とすること
が好ましく、１部未満では添加量が少なすぎて補強効果
が得られない場合があり、１００部を超えると加工性が
悪く、得られたシリコーンゴムの機械的強度が低下する
場合がある。
【００１７】本発明においては、（Ｃ）成分としてケイ
素含有化合物で表面処理された異なる平均粒子径を有す
る少なくとも２種類のアルミニウム水酸化物を配合す
る。このアルミニウム水酸化物は、基本的に下記の組成
式で表わされるものである。 Ａｌ2Ｏ3・３Ｈ2Ｏ或いはＡｌ（ＯＨ）3
素含有化合物で表面処理された異なる平均粒子径を有す
る少なくとも２種類のアルミニウム水酸化物を配合す
る。このアルミニウム水酸化物は、基本的に下記の組成
式で表わされるものである。 Ａｌ2Ｏ3・３Ｈ2Ｏ或いはＡｌ（ＯＨ）3
【００１８】本発明では、このように（Ｃ）成分として
平均粒子径の異なる上記表面処理されたアルミニウム水
酸化物を少なくとも２種類ブレンドすることで、特に耐
コロナ特性を改善し、シリコーンゴムの耐アーク性、耐
トラッキング性を改善できるもので、この（Ｃ）成分は
本発明組成物において必須のものである。
平均粒子径の異なる上記表面処理されたアルミニウム水
酸化物を少なくとも２種類ブレンドすることで、特に耐
コロナ特性を改善し、シリコーンゴムの耐アーク性、耐
トラッキング性を改善できるもので、この（Ｃ）成分は
本発明組成物において必須のものである。
【００１９】ここで、アルミニウム水酸化物のケイ素含
有化合物による表面処理は、アルミニウム水酸化物に疎
水性を持たせるために必要な処理であり、その表面処理
方法に特に制限はなく、通常の方法で行うことができ
る。
有化合物による表面処理は、アルミニウム水酸化物に疎
水性を持たせるために必要な処理であり、その表面処理
方法に特に制限はなく、通常の方法で行うことができ
る。
【００２０】この場合、ケイ素含有表面処理剤として
は、例えばメチルトリアルコキシシラン、エチルトリア
ルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、ビニ
ルトリアルコキシシラン等のオルガノアルコキシシラン
によるシラン系カップリング剤、ヘキサメチルジシラザ
ン、テトラメチルジビニルジシラザン、テトラビニルジ
メチルジシラザン、ヘキサビニルジシラザン等のヘキサ
オルガノジシラザン、オクタメチルトリシラザン、ヘキ
サメチルジビニルトリシラザン等のオクタオルガノトリ
シラザンなどによるシラザン系カップリング剤、ジメチ
ルポリシロキサンオイル等が挙げられるが、特にアルミ
ニウム水酸化物表面にビニル基が存在する表面処理剤が
好適に使用される。アルミニウム水酸化物表面にビニル
基が存在することによって耐コロナ性が改善されるのみ
ならず、耐パワーアーク特性、耐水性、電気特性等のポ
リマー碍子として必要な特性を向上させることができ
る。なお、好ましいビニル基量は、アルミニウム水酸化
物１ｇあたり１．０×１０-6モル以上であり、通常は
１．０×１０-6〜１．０×１０-2モル、より好ましくは
１．０×１０-5〜１．０×１０-3モルである。
は、例えばメチルトリアルコキシシラン、エチルトリア
ルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、ビニ
ルトリアルコキシシラン等のオルガノアルコキシシラン
によるシラン系カップリング剤、ヘキサメチルジシラザ
ン、テトラメチルジビニルジシラザン、テトラビニルジ
メチルジシラザン、ヘキサビニルジシラザン等のヘキサ
オルガノジシラザン、オクタメチルトリシラザン、ヘキ
サメチルジビニルトリシラザン等のオクタオルガノトリ
シラザンなどによるシラザン系カップリング剤、ジメチ
ルポリシロキサンオイル等が挙げられるが、特にアルミ
ニウム水酸化物表面にビニル基が存在する表面処理剤が
好適に使用される。アルミニウム水酸化物表面にビニル
基が存在することによって耐コロナ性が改善されるのみ
ならず、耐パワーアーク特性、耐水性、電気特性等のポ
リマー碍子として必要な特性を向上させることができ
る。なお、好ましいビニル基量は、アルミニウム水酸化
物１ｇあたり１．０×１０-6モル以上であり、通常は
１．０×１０-6〜１．０×１０-2モル、より好ましくは
１．０×１０-5〜１．０×１０-3モルである。
【００２１】上記（Ｃ）成分としては、特にケイ素含有
化合物で表面処理された平均粒子径が５〜２０μｍ、特
に８〜１５μｍのアルミニウム水酸化物Ａと、ケイ素含
有化合物で表面処理された平均粒子径が０．１〜２．５
μｍ、特に０．５〜１．５μｍのアルミニウム水酸化物
Ｂとを組み合わせて配合することが好ましい。アルミニ
ウム水酸化物Ａの平均粒子径が２０μｍを超えるとシリ
コーンゴム硬化物の機械的強度が著しく低下する場合が
あり、５μｍ未満では粒子径の異なるアルミニウム水酸
化物を併用することによる硬化物の耐コロナ特性が十分
発現されない場合がある。また、アルミニウム水酸化物
Ｂの平均粒子径が２．５μｍを超えると、やはり粒子径
の違いによる耐コロナ特性が不十分となる場合があり、
０．１μｍ未満では加工性が悪く、硬化物において必要
な機械的強度が得られない場合がある。なお、この平均
粒子径は、例えばレーザー光回折法等の分析手段を使用
した粒度分布計により、重量平均値（メジアン径）等と
して求めることができる。
化合物で表面処理された平均粒子径が５〜２０μｍ、特
に８〜１５μｍのアルミニウム水酸化物Ａと、ケイ素含
有化合物で表面処理された平均粒子径が０．１〜２．５
μｍ、特に０．５〜１．５μｍのアルミニウム水酸化物
Ｂとを組み合わせて配合することが好ましい。アルミニ
ウム水酸化物Ａの平均粒子径が２０μｍを超えるとシリ
コーンゴム硬化物の機械的強度が著しく低下する場合が
あり、５μｍ未満では粒子径の異なるアルミニウム水酸
化物を併用することによる硬化物の耐コロナ特性が十分
発現されない場合がある。また、アルミニウム水酸化物
Ｂの平均粒子径が２．５μｍを超えると、やはり粒子径
の違いによる耐コロナ特性が不十分となる場合があり、
０．１μｍ未満では加工性が悪く、硬化物において必要
な機械的強度が得られない場合がある。なお、この平均
粒子径は、例えばレーザー光回折法等の分析手段を使用
した粒度分布計により、重量平均値（メジアン径）等と
して求めることができる。
【００２２】更に、アルミニウム水酸化物Ａとアルミニ
ウム水酸化物Ｂとのブレンド比率（配合比率）は、重量
比でＡ：Ｂ＝８０：２０〜２０：８０、特に６０：４０
〜４０：６０の範囲であることが望ましい。アルミニウ
ム水酸化物Ａのブレンド比率が８０重量％を超えると、
シリコーンゴムの機械的強度が低下してしまう場合があ
り、アルミニウム水酸化物Ｂのブレンド比率が８０重量
％を超えると、耐コロナ特性が低下してしまう場合があ
る。
ウム水酸化物Ｂとのブレンド比率（配合比率）は、重量
比でＡ：Ｂ＝８０：２０〜２０：８０、特に６０：４０
〜４０：６０の範囲であることが望ましい。アルミニウ
ム水酸化物Ａのブレンド比率が８０重量％を超えると、
シリコーンゴムの機械的強度が低下してしまう場合があ
り、アルミニウム水酸化物Ｂのブレンド比率が８０重量
％を超えると、耐コロナ特性が低下してしまう場合があ
る。
【００２３】（Ｃ）成分の総配合量は、（Ａ）成分のオ
ルガノポリシロキサン１００部に対して５０〜３００
部、特に１００〜２００部の範囲が好ましい。配合量が
５０部未満では、硬化後の組成物が必要な耐アーク性や
耐トラッキング性を得られない場合があり、３００部を
超えると組成物への添加が困難となり、加工性も悪くな
る場合がある。
ルガノポリシロキサン１００部に対して５０〜３００
部、特に１００〜２００部の範囲が好ましい。配合量が
５０部未満では、硬化後の組成物が必要な耐アーク性や
耐トラッキング性を得られない場合があり、３００部を
超えると組成物への添加が困難となり、加工性も悪くな
る場合がある。
【００２４】（Ｄ）成分の有機過酸化物としては、従来
公知のものを使用することができ、例えばベンゾイルパ
ーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサ
イド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、ｏ−メチ
ルベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクミルパーオ
キサイド、２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチ
ルパーオキシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイ
ド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、１，１−ビス（ｔ−
ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サン、１，６−ビス（ｔ−ブチルパーオキシカルボキ
シ）ヘキサン等が挙げられる。
公知のものを使用することができ、例えばベンゾイルパ
ーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサ
イド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、ｏ−メチ
ルベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクミルパーオ
キサイド、２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチ
ルパーオキシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイ
ド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、１，１−ビス（ｔ−
ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サン、１，６−ビス（ｔ−ブチルパーオキシカルボキ
シ）ヘキサン等が挙げられる。
【００２５】有機過酸化物の配合量は、（Ａ）成分のオ
ルガノポリシロキサン１００部に対して０．０１〜１０
部、あるいはシリコーンゴム組成物中において０．０１
〜３重量％とすることがよい。
ルガノポリシロキサン１００部に対して０．０１〜１０
部、あるいはシリコーンゴム組成物中において０．０１
〜３重量％とすることがよい。
【００２６】本発明に係るシリコーンゴム組成物には、
上記必須成分に加え、必要に応じ任意成分として増量剤
としての粉砕石英、珪藻土、炭酸カルシウムなどの充填
剤を本発明の効果を妨げない範囲で添加してもよい。
上記必須成分に加え、必要に応じ任意成分として増量剤
としての粉砕石英、珪藻土、炭酸カルシウムなどの充填
剤を本発明の効果を妨げない範囲で添加してもよい。
【００２７】また、本発明組成物には、必要に応じて難
燃化剤、耐火性向上剤、増感剤、着色剤、耐熱向上剤、
還元剤等の各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充
填剤用分散剤などを添加することができる。なお、この
充填剤用分散剤として使用される各種アルコキシシラ
ン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含
有低分子シロキサンなどは、本発明の効果を損なわない
ように最小限の添加量に止めることが好ましい。
燃化剤、耐火性向上剤、増感剤、着色剤、耐熱向上剤、
還元剤等の各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充
填剤用分散剤などを添加することができる。なお、この
充填剤用分散剤として使用される各種アルコキシシラ
ン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含
有低分子シロキサンなどは、本発明の効果を損なわない
ように最小限の添加量に止めることが好ましい。
【００２８】本発明に係るシリコーンゴム組成物は、上
記した成分を二本ロール、バンバリーミキサー、ドウミ
キサー（ニーダー）などのゴム混練り機を用いて均一に
混合して、必要に応じて加熱処理を施すことにより得る
ことができる。この場合、例えば（Ａ）成分のオルガノ
ポリシロキサン、（Ｂ）成分のシリカ微粉末等を予め混
合してベースコンパウンドを調製しておき、これに任意
成分を混合しても差し支えない。
記した成分を二本ロール、バンバリーミキサー、ドウミ
キサー（ニーダー）などのゴム混練り機を用いて均一に
混合して、必要に応じて加熱処理を施すことにより得る
ことができる。この場合、例えば（Ａ）成分のオルガノ
ポリシロキサン、（Ｂ）成分のシリカ微粉末等を予め混
合してベースコンパウンドを調製しておき、これに任意
成分を混合しても差し支えない。
【００２９】このようにして得られたシリコーンゴム組
成物は注型成形、金型加圧成形、押し出し成形などの種
々の成形法によって必要とされるシリコーンゴムに成形
することができる。なお、硬化条件は適宜調整すること
ができるが、例えば金型加圧成形の場合は１２０〜２２
０℃で５分〜１時間程度とすることが好適である。
成物は注型成形、金型加圧成形、押し出し成形などの種
々の成形法によって必要とされるシリコーンゴムに成形
することができる。なお、硬化条件は適宜調整すること
ができるが、例えば金型加圧成形の場合は１２０〜２２
０℃で５分〜１時間程度とすることが好適である。
【００３０】
【発明の効果】本発明の高電圧電気絶縁体用シリコーン
ゴム組成物は、過酷な大気汚染あるいは気候に曝される
条件下、特に高湿条件下に長期間晒されていても耐候
性、耐汚損性、耐電圧、耐トラッキング性、耐アーク
性、エロージョン性等の高電圧電気絶縁性能に優れた硬
化物を与える。
ゴム組成物は、過酷な大気汚染あるいは気候に曝される
条件下、特に高湿条件下に長期間晒されていても耐候
性、耐汚損性、耐電圧、耐トラッキング性、耐アーク
性、エロージョン性等の高電圧電気絶縁性能に優れた硬
化物を与える。
【００３１】
【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、各例中の部はいずれも重量部であ
る。
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、各例中の部はいずれも重量部であ
る。
【００３２】［実施例１］ジメチルシロキサン単位９
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ３２
ＳＴＶ）１１０部、平均粒子径が１μｍであり、表面が
ビニルシラン処理された水酸化アルミニウム（昭和電工
（株）製、ハイジライトＨ４２ＳＴＶ）７０部を添加
し、加圧ニーダーにて配合し、コンパウンド（１）を調
製した。
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ３２
ＳＴＶ）１１０部、平均粒子径が１μｍであり、表面が
ビニルシラン処理された水酸化アルミニウム（昭和電工
（株）製、ハイジライトＨ４２ＳＴＶ）７０部を添加
し、加圧ニーダーにて配合し、コンパウンド（１）を調
製した。
【００３３】このコンパウンド（１）に２，５−ジメチ
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、２ｍｍ及び１ｍｍのシリコーンゴムシ
ートを得た。
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、２ｍｍ及び１ｍｍのシリコーンゴムシ
ートを得た。
【００３４】［実施例２］ジメチルシロキサン単位９
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ３２
ＳＴＶ）９０部、平均粒子径が１μｍであり、表面がビ
ニルシラン処理された水酸化アルミニウム（昭和電工
（株）製、ハイジライトＨ４２ＳＴＶ）９０部を添加
し、加圧ニーダーにて配合し、コンパウンド（２）を調
製した。
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ３２
ＳＴＶ）９０部、平均粒子径が１μｍであり、表面がビ
ニルシラン処理された水酸化アルミニウム（昭和電工
（株）製、ハイジライトＨ４２ＳＴＶ）９０部を添加
し、加圧ニーダーにて配合し、コンパウンド（２）を調
製した。
【００３５】このコンパウンド（２）に２，５−ジメチ
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
【００３６】［実施例３］ジメチルシロキサン単位９
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ３２
ＳＴＶ）７０部、平均粒子径が１μｍであり、表面がビ
ニルシラン処理された水酸化アルミニウム（昭和電工
（株）製、ハイジライトＨ４２ＳＴＶ）１１０部を添加
し、加圧ニーダーにて配合し、コンパウンド（３）を調
製した。
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ３２
ＳＴＶ）７０部、平均粒子径が１μｍであり、表面がビ
ニルシラン処理された水酸化アルミニウム（昭和電工
（株）製、ハイジライトＨ４２ＳＴＶ）１１０部を添加
し、加圧ニーダーにて配合し、コンパウンド（３）を調
製した。
【００３７】このコンパウンド（３）に２，５−ジメチ
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
【００３８】［比較例１］ジメチルシロキサン単位９
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍである水酸化アルミニウム（昭和電工（株）
製、ハイジライトＨ３２Ｍ）１１０部、平均粒子径が１
μｍである水酸化アルミニウム（昭和電工（株）製、ハ
イジライトＨ４２Ｍ）７０部を添加し、加圧ニーダーに
て配合し、コンパウンド（４）を調製した。
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が８μｍである水酸化アルミニウム（昭和電工（株）
製、ハイジライトＨ３２Ｍ）１１０部、平均粒子径が１
μｍである水酸化アルミニウム（昭和電工（株）製、ハ
イジライトＨ４２Ｍ）７０部を添加し、加圧ニーダーに
て配合し、コンパウンド（４）を調製した。
【００３９】このコンパウンド（４）に２，５−ジメチ
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
【００４０】［比較例２］ジメチルシロキサン単位９
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に分散剤として末端シ
ラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１０）
５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームドシリ
カ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径が８
μｍである水酸化アルミニウム（昭和電工（株）製、ハ
イジライトＨ３２Ｍ）１８０部を添加し、１５０℃にて
３時間熱処理し、コンパウンド（５）を調製した。
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に分散剤として末端シ
ラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１０）
５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームドシリ
カ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径が８
μｍである水酸化アルミニウム（昭和電工（株）製、ハ
イジライトＨ３２Ｍ）１８０部を添加し、１５０℃にて
３時間熱処理し、コンパウンド（５）を調製した。
【００４１】このコンパウンド（５）に２，５−ジメチ
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
【００４２】［比較例３］ジメチルシロキサン単位９
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が１μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ４２
ＳＴＶ）１８０部、メチルトリメトキシシラン５部を添
加し、１５０℃にて３時間熱処理し、コンパウンド
（６）を調製した。
９．８２５モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１
５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル
％からなり、平均重合度が約８，０００であるゴム状オ
ルガノポリシロキサンＡ１００部に、分散剤として末端
シラノール基ジメチルポリシロキサン（平均重合度１
０）５部、比表面積が２００ｍ2／ｇであるフュームド
シリカ（日本エアロジル（株）製）１０部、平均粒子径
が１μｍであり、表面がビニルシラン処理された水酸化
アルミニウム（昭和電工（株）製、ハイジライトＨ４２
ＳＴＶ）１８０部、メチルトリメトキシシラン５部を添
加し、１５０℃にて３時間熱処理し、コンパウンド
（６）を調製した。
【００４３】このコンパウンド（６）に２，５−ジメチ
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
ル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン／
上記オルガノポリシロキサンＡ／比表面積が２００ｍ2
／ｇであるフュームドシリカ（日本エアロジル（株）
製）の４０重量％ペーストを１．０部添加し、二本ロー
ルにて均一に分散させた後、１６５℃にて１０分間プレ
スキュアーさせ、シリコーンゴムシートを得た。
【００４４】上記実施例及び比較例で得られたシリコー
ンゴムシートを下記方法で評価した。結果を表１に示
す。 ゴム物性：ＪＩＳ Ｋ６３０１に準じてゴム物性（硬
さ、引張強さ、伸び）を測定した。 重量変化：更に、厚さ２ｍｍのシートから８０ｍｍ×８
０ｍｍの試験片を切り取り、初期重量を測定後、脱イオ
ン水に２５℃で１００時間浸漬した後の重量を測定し、
重量変化を求めた。 体積抵抗率、誘電率、誘電損失、絶縁破壊電圧：厚さ１
ｍｍのシートについて、ＪＩＳ Ｋ６９１１に準じて初
期の体積抵抗率、誘電率、誘電損失、絶縁破壊電圧を測
定し、次いで、このシートを脱イオン水に２５℃で１０
０時間浸漬した後の体積抵抗率、誘電率、誘電損失、絶
縁破壊電圧を同様に測定した。
ンゴムシートを下記方法で評価した。結果を表１に示
す。 ゴム物性：ＪＩＳ Ｋ６３０１に準じてゴム物性（硬
さ、引張強さ、伸び）を測定した。 重量変化：更に、厚さ２ｍｍのシートから８０ｍｍ×８
０ｍｍの試験片を切り取り、初期重量を測定後、脱イオ
ン水に２５℃で１００時間浸漬した後の重量を測定し、
重量変化を求めた。 体積抵抗率、誘電率、誘電損失、絶縁破壊電圧：厚さ１
ｍｍのシートについて、ＪＩＳ Ｋ６９１１に準じて初
期の体積抵抗率、誘電率、誘電損失、絶縁破壊電圧を測
定し、次いで、このシートを脱イオン水に２５℃で１０
０時間浸漬した後の体積抵抗率、誘電率、誘電損失、絶
縁破壊電圧を同様に測定した。
【００４５】また、同様のシートを２５℃にて１Ｎ硝酸
水溶液に９６時間浸水し、続いて２４時間脱イオン水に
浸水したときの初期重量に対する重量変化と、ゴム物性
を上記と同様に測定した。
水溶液に９６時間浸水し、続いて２４時間脱イオン水に
浸水したときの初期重量に対する重量変化と、ゴム物性
を上記と同様に測定した。
【００４６】表１の結果より、本発明のシリコーンゴム
組成物（実施例１〜３）は、低吸湿性で高湿条件下に晒
されても高電圧電気絶縁体としての優れた特性を有する
シリコーンゴムを与えることが確認された。
組成物（実施例１〜３）は、低吸湿性で高湿条件下に晒
されても高電圧電気絶縁体としての優れた特性を有する
シリコーンゴムを与えることが確認された。
【００４７】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｂ 3/00 Ｈ０１Ｂ 3/00 Ａ 3/46 3/46 Ｄ (72)発明者 畔地 秀一 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 吉田 武男 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）下記平均組成式（１） Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2 （１） （但し、式中Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、ｎ は１．９８〜２．０２の正数である。） で示されるオルガノポリシロキサン １００重量部 （Ｂ）シリカ微粉末 １〜１００重量部 （Ｃ）ケイ素含有化合物で表面処理された異なる平均粒子径を有する少なくとも ２種類のアルミニウム水酸化物 ５０〜３００重量部 （Ｄ）有機過酸化物 ０．０１〜１０重量部 を含有してなることを特徴とする高電圧電気絶縁体用シ
リコーンゴム組成物。 - 【請求項２】 （Ｃ）成分が、ケイ素含有化合物で表面
処理された平均粒子径が５〜２０μｍのアルミニウム水
酸化物と、ケイ素含有化合物で表面処理された平均粒子
径が０．１〜２．５μｍのアルミニウム水酸化物とを組
み合わせたものである請求項１記載のシリコーンゴム組
成物。 - 【請求項３】 平均粒子径が５〜２０μｍのアルミニウ
ム水酸化物と平均粒子径が０．１〜２．５μｍのアルミ
ニウム水酸化物との配合割合が、重量比で８０：２０〜
２０：８０である請求項２記載のシリコーンゴム組成
物。 - 【請求項４】 白金触媒を含まない請求項１乃至３のい
ずれか１項記載の高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組
成物。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001326261A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ウエハレベルバーンイン装置用ウエハ支持台 |
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-
1999
- 1999-05-12 JP JP11131100A patent/JP3119261B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001326261A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ウエハレベルバーンイン装置用ウエハ支持台 |
| JP2010189594A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物 |
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