JP2000031022A - 基板現像方法及び基板現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像液の撹拌を均一に行って現像を精度良く
行う。 【解決手段】 Ｚ方向振動付与機構８はスピンチャック
４全体をＺ方向に往復移動させて、スピンチャック４の
基板保持部３に保持された基板ＷにＺ方向の振動を与え
る。ＸＹ方向移動テーブル１３はスピンチャック４全体
をＸ方向、Ｙ方向に往復移動させて、基板保持部３に保
持された基板ＷにＸ方向、Ｙ方向の振動を与える。現像
液供給ノズル２９により基板保持部３に保持された基板
Ｗに現像液が供給されると、Ｚ方向振動付与機構８やＸ
Ｙ方向移動テーブル１３により基板保持部３に保持され
た基板ＷにＸＹＺ方向の少なくとも１方向の非回転振動
を与えて基板Ｗに供給された現像液を撹拌する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器用のガラス基板などの基板を保持し、保持した
基板に現像液を液盛りして現像処理する基板現像方法及
び基板現像装置に係り、特には保持した基板に供給され
た現像液を撹拌するための技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板現像装置は、基板を
回転可能に保持するスピンチャックや、スピンチャック
に保持された基板に現像液を供給する現像液供給ノズ
ル、純水などのリンス液を基板に供給するリンス液供給
ノズルなどを備えている。

【０００３】この装置による現像工程は、一般的に以下
のように行われる。まず、基板をスピンチャックに保持
し、現像液供給ノズルから保持した基板に現像液を供給
して基板上に現像液を液盛りし、その状態を所定の現像
時間の間維持して現像処理を行う。次に、現像時間が経
過すると基板を回転させて基板上の現像液を遠心力で振
り切り、その後、保持した基板を回転させながらリンス
液供給ノズルから基板にリンス液を供給して現像液を洗
い流すリンス処理を所定時間行い、リンス液の供給を停
止した後、基板を高速回転させて基板上のリンス液を振
り切って乾燥させる。

【０００４】上記現像処理は、基板上に塗布されたレジ
スト膜に、露光によって焼き付けたパターンを得る処理
であるが、基板上に塗布されるレジスト膜（レジスト
液）の種類は多種多様である。このレジスト液の種類に
よっては、上述した工程のみでは、精度良い現像結果が
得られないことがあり、基板に供給された現像液を撹拌
する工程がさらに必要になることがある。

【０００５】この撹拌は、従来、スピンチャックの回転
により行われている。すなわち、例えば、スピンチャッ
クに保持した基板上に現像液が液盛りされた状態で、基
板を低速で回転させたり、回転を正逆方向に反転させた
りすることにより、スピンチャックに保持した基板に回
転振動を与えて、基板上に液盛りされた現像液を撹拌す
るものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の撹拌方法には、次のような問題がある。すな
わち、基板を回転させることで現像液を撹拌すると、基
板の中央部（回転中心に近い部分）と基板の外周部（回
転中心から遠い部分）とでは、撹拌のスピードが異な
り、この撹拌スピードの違いによって、撹拌の効果が基
板全面において不均一となる。その結果、現像処理が基
板全面において不均一となるという問題が起きている。

【０００７】また、従来の撹拌方法では、基板の大型化
に伴って、撹拌スピードの差異は一層ひろがり、現像処
理の不均一がより顕著に現れる。この種の基板の製造業
界では、基板の大型化が進められつつあり、そのため、
上記不都合は今後より深刻になることが予測される。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、現像液の撹拌を均一に行って現像を精
度良く行う基板現像方法及び基板現像装置を提供するこ
とを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板上に現像液を液盛り
して現像処理する基板現像方法において、基板に非回転
振動を与えて、基板上に供給された現像液を撹拌する工
程を備えたことを特徴とするものである。

【００１０】請求項２に記載の発明は、上記請求項１に
記載の基板現像方法において、前記非回転振動は、直交
３次元方向であるＸＹＺ方向の少なくとも１方向の振動
であることを特徴とするものである。

【００１１】請求項３に記載の発明は、基板に現像液を
液盛りして現像処理する基板現像装置において、基板に
非回転振動を与える振動付与手段を備えたことを特徴と
するものである。

【００１２】請求項４に記載の発明は、上記請求項３に
記載の基板現像装置において、前記振動付与手段は、直
交３次元方向であるＸＹＺ方向の少なくとも１方向の振
動を基板に与えることを特徴とするものである。

【００１３】請求項５に記載の発明は、上記請求項３ま
たは４に記載の基板現像装置において、前記振動付与手
段は、アクチュエーターに圧電素子を含むことを特徴と
するものである。

【００１４】

【作用】請求項１に記載の発明に係る基板現像方法の作
用は次のとおりである。基板に現像液が供給されると、
基板に非回転振動を与えて、基板に供給された現像液を
撹拌する。なお、この基板への振動付与工程のタイミン
グは、基板に塗布されているレジスト液の種類に応じて
決めればよく、基板への振動の付与を、例えば、基板に
現像液が供給される前から開始してもよいし、基板に現
像液が供給されている途中から開始してもよいし、基板
に現像液が供給され終わって液盛りされた状態から開始
してもよい。

【００１５】請求項２に記載の発明によれば、基板に直
交３次元方向であるＸＹＺ方向の少なくとも１方向の振
動を与えて、基板に供給された現像液を撹拌する。な
お、この振動は、Ｘ方向またはＹ方向またはＺ方向のい
ずれか１方向だけの振動であってもよいし、また、ＸＹ
Ｚ方向の任意の２方向を組み合わせた振動であってもよ
いし、さらに、ＸＹＺ方向の３方向を組み合わせた振動
であってもよい。

【００１６】請求項３に記載の発明は、上記請求項１に
記載の基板現像方法を好適に実施する基板現像装置であ
って、振動付与手段が基板に非回転振動を与えて、基板
に供給された現像液を撹拌する。

【００１７】請求項４に記載の発明によれば、振動付与
手段は基板に直交３次元方向であるＸＹＺ方向の少なく
とも１方向の振動を与えて、基板に供給された現像液を
撹拌する。

【００１８】請求項５に記載の発明によれば、振動付与
手段のアクチュエーターに含まれる圧電素子に駆動用の
電圧を印加して、圧電素子を変形、例えば、膨張収縮さ
せて、その変形によって基板に非回転振動を与える。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の第１実施例に係る
基板現像装置の全体構成を示す平面図であり、図２は第
１実施例装置を側面から見た要部縦断面図、図３は第１
実施例装置を正面から見た要部縦断面図、図４はＸＹ方
向移動テーブルの構成を示す平断面図、図５は第１実施
例装置の制御系の構成を示すブロック図である。

【００２０】図２、図３に示すように、この第１実施例
装置は、電動モーター１に連動連結されて鉛直方向の軸
芯Ｊ周りで回転可能な回転軸２の上端部に基板Ｗを水平
姿勢で吸着保持する基板保持部３が一体回転可能に取り
付けられたスピンチャック４を備えている。図５に示す
ように、電動モーター１の回転制御や基板保持部３によ
る基板Ｗの保持とその解除の制御は制御部５により行わ
れる。

【００２１】図２、図３に示すように、回転軸２は、電
動モーター１を収容するケーシング６の上面から回転可
能でかつ上下移動可能に突出されている。電動モーター
１は、ケーシング６内に設けられたガイドレール７によ
って上下移動可能に支持されている。また、ケーシング
６内には、基板保持部３（スピンチャック４）に保持さ
れた基板Ｗに上下方向（Ｚ方向）への振動を与えるＺ方
向振動付与機構８が設けられている。

【００２２】このＺ方向振動付与機構８は、ピエゾ素子
などの圧電素子９を多数個、Ｚ方向に直列に連設したア
クチュエーター１０を備えている。アクチュエーター１
０の基端部は固定され、先端部は電動モーター１の底部
に連結されている。図５に示すように、制御部５に制御
されて、各圧電素子９には駆動電圧供給部１１から駆動
用の電圧が同期して印加され、各圧電素子９が同期して
膨張収縮され、アクチュエーター１０が伸縮されるよう
になっている。このアクチュエーター１０の伸縮によ
り、スピンチャック４全体がＺ方向に往復移動され、基
板保持部３に保持された基板ＷにＺ方向の振動が与えら
れる。

【００２３】なお、１個の圧電素子９の膨張収縮量は数
μｍ程度と僅かであるが、多数個の圧電素子９を直列に
連設して各圧電素子９を同期して膨張収縮させること
で、基板保持部３に保持された基板Ｗに供給された現像
液を撹拌するのに十分なＺ方向の振動を基板保持部３に
保持された基板Ｗに与え得るアクチュエーター１０の伸
縮ストロークを得ることができる。

【００２４】また、本第１実施例及び後述する第２実施
例では、鉛直方向をＺ方向とし、このＺ方向に直交する
水平方向の直交２軸方向をＸＹ方向としている。

【００２５】図２ないし図４に示すように、固定された
基台１２上に設けられたＸＹ方向移動テーブル１３上に
ケーシング６が設けられている。ＸＹ方向移動テーブル
１３はＸ方向移動テーブル１４とＹ方向移動テーブル１
５とを備えている。Ｘ方向移動テーブル１４は、Ｙ方向
移動テーブル１５上に設けられたガイドレール１６及び
アクチュエーター１７によってＹ方向移動テーブル１５
上をＸ方向に移動可能に構成されている。また、Ｙ方向
移動テーブル１５は、基台１２上に設けられたガイドレ
ール１８及びアクチュエーター１９によって基台１２上
をＹ方向に移動可能に構成されている。

【００２６】アクチュエーター１７及び１９は、上記Ｚ
方向振動付与機構８のアクチュエーター１０と同様に、
多数個の圧電素子９をＸ方向及びＹ方向に直列に連設し
て構成され、アクチュエーター１７及び１９の各基端部
は固定され、各先端部がそれぞれＸ方向移動テーブル１
４及びＹ方向移動テーブル１５の側辺部に連結されてい
る。図５に示すように、制御部５に制御されて、各圧電
素子９に駆動電圧供給部１１から駆動用の電圧が同期し
て印加され、各圧電素子９が同期して膨張収縮され、ア
クチュエーター１７、１９が個別に伸縮されるようにな
っている。アクチュエーター１７の伸縮により、Ｘ方向
移動テーブル１４がＸ方向に往復移動して、ケーシング
６を介してスピンチャック４全体がＸ方向に往復移動さ
れ、基板保持部３に保持された基板ＷにＸ方向の振動が
与えられる。また、アクチュエーター１９の伸縮によ
り、Ｙ方向移動テーブル１５がＹ方向に往復移動して、
Ｘ方向移動テーブル１４及びケーシング６を介してスピ
ンチャック４全体がＹ方向に往復移動され、基板保持部
３に保持された基板ＷにＹ方向の振動が与えられる。

【００２７】なお、本第１実施例及び後述する第２実施
例では、ＸＹ方向移動テーブル１３を、Ｙ方向移動テー
ブル１５の上にＸ方向移動テーブル１４を設けた構成を
示しているが、Ｘ方向移動テーブル１４の上にＹ方向移
動テーブル１５を設けた構成であってもよい。

【００２８】以上の構成により、基板保持部３に保持さ
れた基板ＷにＸＹＺ方向のうちの１方向だけの振動、ま
たは、任意の２方向の同時振動、または、３方向の同時
振動を与えることができる。なお、Ｚ方向振動付与機構
８とＸＹ方向移動テーブル１３は、本発明における振動
付与手段に相当する。

【００２９】図１ないし図３に示すように、基板保持部
３の周囲には、基板保持部３に保持された基板を取り囲
む内側カップ２０が上下動可能に設けられている。ま
た、内側カップ２０の周囲には、外側カップ２１が設け
られている。

【００３０】図１、図３に示すように、外側カップ２１
の両側にはそれぞれ待機ポット２２、２３が配置され、
外側カップ２１の一方の側部側にはガイドレール２４が
配設されている。

【００３１】図１ないし図３に示すように、ノズルアー
ム２５がアーム駆動部２６によりガイドレール２４に沿
って走査方向Ａに往復移動可能に設けられている。外側
カップ２１の他方の側部側には、純水などのリンス液を
供給するリンス液供給ノズル２７が矢印Ｒ方向に回動可
能に設けられている。

【００３２】ノズルアーム２５には、下端部に矩形のス
リット状供給口２８を有する現像液供給ノズル２９がそ
の長手方向をガイドレール２４に直交させて取り付けら
れている。これにより、現像液供給ノズル２９は、一方
の待機ポット２２（２３）の位置から基板保持部３に保
持された基板Ｗの上方を通過して他方の待機ポット２３
（２２）の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に平行移
動可能となっている。

【００３３】図３に示すように、現像液供給ノズル２９
は矢印Ｑ方向に回動可能に構成され、現像液供給ノズル
２９からの現像液の吐出方向が鉛直下向きから現像液吐
出ノズル２９の走査方向Ａと反対方向に傾けることがで
きるようになっている。

【００３４】なお、スリット状供給口２８のスリット幅
（短手方向の幅）は、例えば、０．０２〜０．５mm程度
に設定され、供給幅（長手方向の幅）は、処理対象の基
板Ｗの直径と同じかそれよりも大きく設定されている。
また、現像液供給ノズル２９は、スリット状供給口２８
が、基板保持部３に保持された基板Ｗの上面に対して
０．２〜１．０mm、より好ましくは０．２〜０．５mmの
間隔を保って走査される。

【００３５】現像液供給ノズル２９には現像液供給系３
０から現像液が供給され、リンス液供給ノズル２７には
リンス液供給系３１からリンス液が供給されるようにな
っている。図５に示すように、アーム駆動部２６による
現像液供給ノズル２９の走査、現像液供給ノズル２９か
らの現像液の供給、リンス液供給ノズル２７からのリン
ス液の供給なども制御部５により制御される。

【００３６】この第１実施例装置では、以下のようにし
て基板Ｗに現像液が供給される。これを図６を参照して
説明する。なお、図６では、現像液供給ノズル２９が待
機ポット２２から待機ポット２３へ移動しながら基板Ｗ
に現像液を供給する場合を示しているが、待機ポット２
３から待機ポット２２へ移動しながら基板Ｗに現像液を
供給する場合も、図６と同様の動作で現像液の供給が行
われる。

【００３７】図６において、待機時には、現像液供給ノ
ズル２９は待機ポット２２内の位置Ｐ０に待機してい
る。現像処理時には、現像液供給ノズル２９を上昇させ
た後、走査方向Ａに移動させ、外側カップ２１内の走査
開始位置Ｐ１で下降させる。

【００３８】その後、現像液供給ノズル２９を走査開始
位置Ｐ１から所定の走査速度（例えば、１０〜５００mm
/sec）で走査を開始する。現像液供給ノズル２９の走査
開始後、現像液供給ノズル２９のスリット状供給口２８
が、基板保持部３に保持された基板Ｗ上に到達する前
に、供給開始位置Ｐ２にて所定の流量（例えば、１．５
l/min)で現像液供給ノズル２９のスリット状供給口２８
からの現像液の供給を開始する。

【００３９】現像液供給ノズル２９から現像液を供給し
ながら供給開始位置Ｐ２から非回転状態の基板Ｗ上を走
査方向Ａに沿って現像液供給ノズル２９を直線状に移動
させる。これにより、基板保持部３に保持された基板Ｗ
を回転させることなく、基板Ｗの全面に現像液を連続的
に供給することができる。供給された現像液は、表面張
力により基板Ｗ上に保持され液盛りされる。

【００４０】現像液供給ノズル２９が基板Ｗ上を通過し
た後、基板Ｗ上から外れた供給停止位置Ｐ３で現像液供
給ノズル２９からの現像液の供給を停止させる。そし
て、現像液供給ノズル２９が外側カップ２１内の走査停
止位置Ｐ４に到達した時点で現像液供給ノズル２９の移
動を停止させる。

【００４１】その後、現像液供給ノズル２９を、走査停
止位置Ｐ４で上昇させた後、他方の待機ポット２３の位
置Ｐ５まで移動させ、待機ポット２３内に下降させて待
機させる。次の基板Ｗに対しては、待機ポット２３から
待機ポット２２へ移動しながら現像液の供給が行われ
る。

【００４２】基板Ｗ上に現像液が液盛りされると、その
状態を所定の現像時間の間維持して現像処理を行う。現
像時間が経過すると電動モーター１を駆動して基板保持
部３に保持された基板Ｗを回転させて基板Ｗ上の現像液
を遠心力で振り切り、その後、基板Ｗを回転させながら
リンス液供給ノズル２７から基板Ｗにリンス液を供給し
て現像液を洗い流すリンス処理を所定時間行い、リンス
液の供給を停止した後、基板Ｗを高速回転させて基板Ｗ
上のリンス液を振り切って乾燥させる。

【００４３】本実施例において、基板Ｗに供給された現
像液を撹拌する場合には、Ｚ方向振動付与機構８やＸＹ
方向移動テーブル１３によって、基板保持部３に保持さ
れた基板ＷにＸＹＺ方向の少なくとも１方向（直線方
向）の非回転振動を与える。このように回転振動ではな
い振動を基板Ｗに与えることにより、回転による遠心力
などが働かず、基板Ｗに与えられるＸＹＺ方向の振動
は、図７に示すように、基板Ｗ全面に均一に与えられ
る。従って、現像液の撹拌スピードを基板Ｗ全面におい
て均一にして、撹拌の効果を基板Ｗ全面において均一に
することができ、現像処理を基板Ｗ全面において均一に
行うことができる。

【００４４】なお、図７中の符号ＳＸは、基板保持部３
に保持された基板Ｗに与えられたＸ方向の振動を示し、
図７に示すように、基板Ｗの中央部でも外周部でも同じ
大きさのＸ方向の振動が与えられる。また、図７中の符
号ＳＹ、ＳＺは、基板保持部３に保持された基板Ｗに与
えられたＹ方向、Ｚ方向の振動を示している。

【００４５】さらに、基板Ｗに与えられるＸＹＺ方向の
振動は、基板Ｗのサイズにかかわらず基板Ｗ全面に均一
に与えることができる。

【００４６】なお、基板Ｗに与える振動としては、Ｘ方
向またはＹ方向またはＺ方向のいずれか１方向だけの振
動（３種類）、ＸＹＺ方向の任意の２方向を組み合わせ
た振動（ＸＹ、ＸＺ、ＹＺの３種類）、ＸＹＺ方向の３
方向を組み合わせた振動（１種類）の７種類の振動が考
えられるが、どの種類の振動を与えるかは、基板Ｗに塗
布されているレジスト液の種類などに応じて、より効果
的に現像液を撹拌し得る種類の振動を、例えば、実験的
に調べておいてその種類の振動を選択する。

【００４７】また、基板Ｗへの振動の付与は、通常、基
板Ｗに現像液が供給され終わって液盛りされた状態から
開始して、基板Ｗへの振動を所定時間（例えば、数秒）
行って、振動の付与を停止するが、基板Ｗに塗布されて
いるレジスト液の種類によっては、基板Ｗへの振動の付
与を、基板Ｗに現像液が供給される前、あるいは、基板
Ｗに現像液が供給されている途中から開始し、例えば、
基板Ｗに現像液が液盛りされてから所定時間経過して後
に振動の付与を停止するようにしてもよい。

【００４８】なお、Ｚ方向振動付与機構８やＸＹ方向移
動テーブル１３により与えられる基板Ｗへの振動の周波
数は低周波数であってもよいし、高周波数であってもよ
いが、振動の周波数をあまりに低くし過ぎると、現像液
の撹拌効果が十分に得られることが期待できず、一方、
あまりに高く（例えば、超音波帯域）し過ぎるとレジス
ト膜に形成されたパターンにダメージを与えることが考
えられる。従って、振動の周波数を、現像液の撹拌効果
が十分に得られ、かつ、レジスト膜に形成されたパター
ンにダメージを与えるない範囲内の適宜の周波数とする
ことが好ましい。この範囲は、例えば、実験的に決める
ことができる。

【００４９】振動の振幅（各アクチュエータ１０、１
７、１９の伸縮のストローク）も、より効果的に現像液
を撹拌し得る振幅を実験的に決めておけばよく、数mm程
度で撹拌効果が十分に得られる。

【００５０】次に、本発明の第２実施例装置の構成を図
８、図９を参照して説明する。図８は本発明の第２実施
例装置の全体構成を示す平面図であり、図９はその縦断
面図である。

【００５１】この第２実施例装置は、基板Ｗへの現像液
の供給を従来の一般的な構成で行う装置に、本発明の特
徴である基板Ｗに非回転振動を与える振動付与手段を設
けたものである。

【００５２】すなわち、基板Ｗに対して現像液をスポッ
ト状に供給する現像液供給ノズル４０が矢印Ｓ方向に回
動可能に設けられている。

【００５３】この第２実施例では、現像液供給ノズル４
０を基板保持部３に保持された基板Ｗ上に位置させ、基
板Ｗを軸芯Ｊ周りで回転させながら、現像液供給ノズル
４０から基板Ｗ上に現像液を供給し、供給された現像液
を基板Ｗの回転による遠心力で基板Ｗ上にひろげて液盛
りするものである。

【００５４】その他の構成及び動作は、上述した第１実
施例と同様であるので、第１実施例と共通する部分に
は、図１ないし図５と同一符号を付してその説明を省略
する。

【００５５】この第２実施例の構成においても、基板Ｗ
に供給された現像液を撹拌する場合、Ｚ方向振動付与機
構８やＸＹ方向移動テーブル１３によって、基板保持部
３に保持された基板ＷにＸＹＺ方向の少なくとも１方向
の非回転振動を与えることで、現像液の撹拌スピードを
基板Ｗ全面において均一にして、撹拌の効果を基板Ｗ全
面において均一にすることができ、現像処理を基板Ｗ全
面において均一に行うことができる。

【００５６】なお、上記各実施例では、スピンチャック
４全体にＸＹＺ方向の振動を与えて、基板保持部３に保
持された基板Ｗに非回転振動を与えるように構成した
が、例えば、基板保持部３に保持された基板Ｗに非回転
振動を与える機構を基板保持部３に設けるようにしても
よい。

【００５７】また、上記各実施例では、Ｚ方向振動付与
機構８のアクチュエーター９や、ＸＹ方向移動テーブル
１３のアクチュエーター１７、１９の先端部を電動モー
ター１、Ｘ方向移動テーブル１４、Ｙ方向移動テーブル
１５に連結したが、例えば、図１０に示すように構成し
てもよい。図１０（ａ）はＺ方向振動付与機構８の変形
例であり、この変形例では、アクチュエーター１０の先
端部を電動モーター１に連結せず、アクチュエーター１
０の伸長によってスピンチャック４全体をＺ方向上方へ
移動させ、アクチュエーター１０の収縮によってスピン
チャック４の自重でスピンチャック４全体をＺ方向下方
へ移動させるように構成している。また、図１０（ｂ）
はＸＹ方向移動テーブル１３の変形例であり、この変形
例では、アクチュエーター１７（１９）の先端部をＸ
（Ｙ）方向移動テーブル１４（１５）に連結せず、アク
チュエーター１７（１９）の伸長によってＸ（Ｙ）方向
移動テーブル１４（１５）をＸ（Ｙ）方向に往動させ、
アクチュエーター１７（１９）の収縮によってコイルバ
ネ５０の復元力でＸ（Ｙ）方向移動テーブル１４（１
５）をＸ（Ｙ）方向に復動させるように構成している。

【００５８】なお、図１０（ｂ）の変形例において、ア
クチュエーター１７（１９）の先端部をＸ（Ｙ）方向移
動テーブル１４（１５）に連結した上で、アクチュエー
ター１７（１９）の収縮によってコイルバネ５０の復元
力でＸ（Ｙ）方向移動テーブル１４（１５）をＸ（Ｙ）
方向に復動させるように構成してもよい。

【００５９】上記各実施例や図１０の変形例では、Ｚ方
向振動付与機構８、ＸＹ方向移動テーブル１３のアクチ
ュエーター１０、１７、１９を圧電素子９を含めて構成
したが、アクチュエーターをシリンダやモーターなどで
構成してもよい。シリンダを用いる場合には、上記各実
施例や図１０の構成において、アクチュエーター１０、
１７、１９の伸縮をシリンダのロッドの伸縮で行えばよ
い。また、モーターを用いる場合には、例えば、図１１
に示すように、モーター６０による偏芯カム６１の軸芯
ＨＪ周りの回転と、コイルバネ５０の復元力でＸ（Ｙ）
方向移動テーブル１４（１５）をＸ（Ｙ）方向に往復動
させるように構成することができる。なお、図１１は、
ＸＹ方向移動テーブル１３のアクチュエーターをモータ
ーで構成する場合を示しているが、Ｚ方向振動付与機構
８に対しても同様に変形することができる。

【００６０】ここで、上記各実施例や図１０の変形例の
ように、Ｚ方向振動付与機構８、ＸＹ方向移動テーブル
１３のアクチュエーター１０、１７、１９を圧電素子９
を含めて構成したことにより、シリンダやモーターでア
クチュエーターを構成する場合に比べて、アクチュエー
ター１０、１７、１９からの発塵などを軽減でき、基板
Ｗの汚染を低減することができる。また、上記各実施例
や図１０の変形例と、図１１の変形例とを比べても明ら
かなように、アクチュエーター１０、１７、１９を圧電
素子９を含めて構成したことにより、アクチュエーター
１０、１７、１９を小型にすることができ、装置のコン
パクト化を図ることができる。

【００６１】なお、本発明における基板Ｗへの非回転振
動とは、直交３次元方向であるＸＹＺ方向に限定されな
い。例えば、図１２（ａ）、（ｂ）の平面図に示すよう
に、水平方向の互いに直交しない軸方向の振動Ｓ１、Ｓ
２、Ｓ３などを含む場合であってもよいし、図１２
（ｃ）の斜視図に示すように、水平方向の振動Ｓ１、Ｓ
２と、Ｚ方向から傾いた方向の振動Ｓθとを含むような
場合であってもよい。なお、図１２の各方向の振動を付
与する機構を設けるのに比べて、ＸＹＺ方向の振動を付
与する機構を設ける方が構成上簡単になる。また、例え
ば、図１２（ｃ）の振動ＳθはＸＹＺ方向の振動を組み
合わせることでも実現することができるなど、基本的に
ＸＹＺ方向の振動を付与する機構があれば、各種の方向
の振動を基板Ｗに付与することができ、ＸＹＺ方向の振
動を付与することでより効果的な非回転振動を簡単な構
成で実現することができる。

【００６２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明に係る基板現像方法によれば、基板に非
回転振動を与えて、基板に供給された現像液を撹拌する
ので、基板のサイズにかかわらず、現像液の撹拌スピー
ドを基板全面において均一にして、撹拌の効果を基板全
面において均一にすることができ、現像処理を基板全面
において均一に行うことができる。

【００６３】請求項２に記載の発明に係る基板現像方法
によれば、基板に直交３次元方向であるＸＹＺ方向のう
ちの１方向またはいずれか２方向または３方向全ての振
動を与えて、基板に供給された現像液を撹拌するので、
簡単な構成でより効果的な方向の振動を基板に与えるこ
とができる。

【００６４】請求項３に記載の発明によれば、上記請求
項１に記載の基板現像方法を好適に実施する基板現像装
置を実現することができる。

【００６５】請求項４に記載の発明によれば、上記請求
項２に記載の基板現像方法を好適に実施する基板現像装
置を実現することができる。

【００６６】請求項５に記載の発明に係る基板現像装置
によれば、振動付与手段のアクチュエーターに圧電素子
を含めて構成したので、アクチュエーターからの発塵な
どを軽減でき、基板の汚染を低減することができる。ま
た、アクチュエーターを小型にすることができ、装置の
コンパクト化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る基板現像装置の全体
構成を示す平面図である。

【図２】第１実施例装置を側面から見た要部縦断面図で
ある。

【図３】第１実施例装置を正面から見た要部縦断面図で
ある。

【図４】ＸＹ方向移動テーブルの構成を示す平断面図で
ある。

【図５】第１実施例装置の制御系の構成を示すブロック
図である。

【図６】第１実施例装置による基板への現像液の供給方
法を説明するための図である。

【図７】第１実施例装置による基板への振動の付与状態
を示す図である。

【図８】本発明の第２実施例装置の全体構成を示す平面
図である。

【図９】第２実施例装置の縦断面図である。

【図１０】Ｚ方向振動付与機構とＸＹ方向移動テーブル
の各アクチュエーターの変形例を示す要部縦断面図と平
断面図である。

【図１１】ＸＹ方向移動テーブルのアクチュエーターを
モーターで構成した変形例を示す平断面図である。

【図１２】非回転振動の各種の振動方向の一例を示す図
である。

【符号の説明】

３：基板保持部 ４：スピンチャック ８：Ｚ方向振動付与機構 ９：圧電素子 １０、１７、１９：アクチュエーター １３：ＸＹ方向移動テーブル ２９、４０：現像液供給ノズル Ｗ：基板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に現像液を液盛りして現像処理す
   る基板現像方法において、 基板に非回転振動を与えて、基板上に供給された現像液
   を撹拌する工程を備えたことを特徴とする基板現像方
   法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板現像方法におい
   て、 前記非回転振動は、直交３次元方向であるＸＹＺ方向の
   少なくとも１方向の振動であることを特徴とする基板現
   像方法。
3. 【請求項３】 基板に現像液を液盛りして現像処理する
   基板現像装置において、 基板に非回転振動を与える振動付与手段を備えたことを
   特徴とする基板現像装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の基板現像装置におい
   て、 前記振動付与手段は、直交３次元方向であるＸＹＺ方向
   の少なくとも１方向の振動を基板に与えることを特徴と
   する基板現像装置。
5. 【請求項５】 請求項３または４に記載の基板現像装置
   において、 前記振動付与手段は、アクチュエーターに圧電素子を含
   むことを特徴とする基板現像装置。