JP2000030246A

JP2000030246A - 磁気ディスクの製造方法

Info

Publication number: JP2000030246A
Application number: JP19326498A
Authority: JP
Inventors: Futoshi Sasaki; 太佐々木
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1998-07-08
Filing date: 1998-07-08
Publication date: 2000-01-28

Abstract

(57)【要約】【課題】硬化反応後の磁気シートの歪みを抑制するこ
とにより、高速回転時でも優れた走行安定性を示す薄層
重層塗布型の磁気ディスクを製造可能とする。【解決手段】非磁性支持体上の両側に塗膜を形成し、
両面構造とした磁気ディスクの製造方法において、上記
塗膜の硬化工程における硬化温度を、上記塗膜の結合剤
のガラス転移点以上、且つ非磁性支持体のガラス転移点
以下とする。前提として、磁気ディスクを構成する非磁
性支持体のガラス転移点をＡ，塗膜の結合剤のガラス転
移点をＢとしたとき、Ａ≧Ｂである。上記塗膜は、磁性
塗料を塗布した単層膜、複数の磁性塗料を重ねて塗布し
た多層膜、非磁性塗料と磁性塗料を重ねて塗布した多層
膜のいずれであってもよい。塗膜形成後に、上記硬化温
度±１０℃以内の温度でカレンダー処理を施す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク（特
にフロッピーディスク）の製造方法に関するものであ
り、磁気ディスクの形状（カール）を改善するための製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気テープ、磁気ディスク等の磁
気記録媒体として、強磁性粉末を結合剤中に分散させる
ことで調整された磁性塗料を、非磁性支持体上に塗布す
ることで磁性層が形成される、所謂塗布型の磁気記録媒
体が広く用いられている。

【０００３】近年、磁気記録の分野においては、高密度
記録、短波長化が進行しており、上記塗布型の磁気記録
媒体においても、そのような高密度記録、短波長化に対
応する特性を有することが求められるようになってい
る。フロッピーディスク（ＦＤ）においても、１００Ｍ
Ｂクラスの大容量ＦＤが市場に現れ、注目を集めてい
る。

【０００４】ここで、塗布型磁気記録媒体に於いて、高
密度記録領域での電磁変換特性を改善する手法として磁
性層の薄膜化が挙げられる。これにより記録時の自己減
磁損失や再生時の厚み損失が減少し、電磁変換特性が効
果的に改善されることになる。殊にＦＤにおいては、薄
膜化により、オーバーライト特性やピークシフト、ピー
ク半値幅においても優れた特性が得られることになる。

【０００５】しかし、磁性層の薄膜化に付随する問題の
一つとして、表面の凹凸に起因するスペーシングロスが
ある。これは、表面状態は磁性支持体上の表面性に依存
してしまうため、非磁性支持体上の表面が粗であればそ
の形状に従い磁性層の表面は粗の状態になり、結果とし
て電磁変換特性の悪化やドロップアウトを誘発させる結
果となる。

【０００６】また、薄膜上による耐久性の低下も避けら
れない。前述した大容量ＦＤに於いてはデータ転送レー
トを向上させるために、高速回転が余儀なくされる。従
って、ディスクはヘッドの摺動に対して過酷な状態にさ
らされる。

【０００７】このように、磁性層の薄膜化に伴い、表面
性の制御、及び高速摺動系に対しても優れた耐久性が要
求されている。

【０００８】そこで、塗布型の磁気記録媒体では、磁性
層と非磁性支持体上の間に比較的厚い下層非磁性層を介
在させ、これにより非磁性支持体の表面形状に追従する
ことのない磁性層表面を自由に設計でき、且つ下層に種
々の機能をもたせることにより、耐久性の向上を図るよ
うな重層塗布型構成が提案されている。従って、重層塗
布型の磁気記録媒体では耐久性を損なわず、短波長領域
でも、優れた電磁変換特性が得られることになる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気ディス
クを作製する場合、上強磁性粉末を結合在中に分散させ
ることで調整された磁性塗料を、非磁性支持体上に塗布
し、磁性層を形成することで単層塗布型の磁気ディスク
が得られる。また、上記のような重層塗布型磁気ディス
クを作製するには、まず、非磁性支持体上に、非磁性粉
末及び結合剤を溶剤とともに分散させることで調整され
た下層用非磁性塗料を塗布して下層塗膜を形成する。そ
の後、当該下層塗膜上に磁性粉及び結合剤を溶剤ととも
に分散させることで、調整された上層用の磁性塗料を塗
布することで上層塗膜を形成する。以上のようにして非
磁性支持体を挟み込むように両面に塗布する塗布工程を
経た後、表面平滑処理（カレンダー）工程を経て、円盤
状に打ち抜く。その後に、熱硬化反応工程を経るのが一
般的である。この工程は塗膜強度を向上させる目的で磁
性塗料あるいは非磁性塗料に硬化剤を添加し、硬化剤の
イソシアネート基と結合剤等のＯＨ基が反応させて架橋
するものである。架橋反応は温度により促進されるた
め、ある程度高い温度の環境で行うが、過剰な温度で行
った場合に磁気シートが歪んでしまう。また、低温での
硬化工程は時間を要するため製造工程の効率が落ち、実
現性に乏しい。

【００１０】この歪みによる影響としては種々の問題が
生じる。例えば、アッセンブルの際に、磁気シートはド
ライブの駆動により安定した回転を得るためのセンター
プレートが取り付けられるが、磁気シートが歪んでいる
と取り付けが難しくなる。

【００１１】また、歪んだシートをＦＤドライブにより
駆動させることにより面振れが生じる。ヘッドはある程
度追従できるが、振れが許容範囲を超えると部分的にヘ
ッドとの距離が変動し、その結果、当たり不良を引き起
こす。また、１００ＭＢ級のＦＤに於いては、高転送レ
ートの要求に答えるため高速回転が余儀なくされる。従
って、歪みにより、高速回転時に磁気ディスクが大きく
振れると、ヘッドが磁気シートに強く接触することで損
傷を受け易くなる。

【００１２】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、硬化反応後の磁気シート
の歪みを抑制することにより、高速回転時でも優れた走
行安定性を示す薄層重層塗布型の磁気ディスクを製造し
得る製造方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、非磁性支持体上の両側に塗膜を形成
し、両面構造とした磁気ディスクの製造方法において、
上記塗膜の硬化工程における硬化温度を、上記塗膜の結
合剤のガラス転移点以上且つ、非磁性支持体のガラス転
移点以下とすることを特徴とするものである。

【００１４】本発明者が鋭意検討を重ねた結果、磁気デ
ィスクを構成する非磁性支持体のガラス転移点が結合剤
のそれより高く、また、磁気ディスクを形成する工程の
うち、硬化工程において、その硬化温度を結合剤のガラ
ス転移点以上且つ、非磁性支持体のガラス転移点以下と
することにより、歪みのない磁気ディスクを得られ、耐
久性を損なわず、良好な走行安定性が得られることを見
い出した。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。

【００１６】重層塗布型の磁気ディスクを作成するに
は、非磁性支持体上に、非磁性粉末及び結合剤を溶剤と
ともに分散させることで調整された下層用非磁性塗料を
塗布して下層塗膜を形成した後、当該下層塗膜上に磁性
粉及び結合剤を溶剤とともに分散させることで調整され
た上層用の磁性塗料を塗布することで上層塗膜を形成す
る。これら２つの層を形成する手段としては、下層塗膜
が湿潤状態である間に、下層塗膜状に上層塗膜を形成す
る、いわゆるウェット・オン・ウェット塗布方式や、下
層塗膜を塗布乾燥した後に下層塗膜上に上層塗膜を形成
するウェット・オン・ウェット塗布方式が挙げられるが
何れの方式でもよい。

【００１７】本発明における上層磁性層の具体的な材料
は以下に示すものが挙げられる。

【００１８】先ず、上層磁性層は、主に強磁性粉末及び
結合剤により構成されるが、強磁性粉末としては従来よ
り公知のものがいずれも使用可能であって、酸化物磁性
粉末でもよく、金属磁性粉末でもよい。酸化物磁性粉末
としては、例えば、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂
Ｏ₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ被着−Ｆ
ｅ₃Ｏ₄、ＣｒＯ₂、等が挙げられる。金属磁性粉末とし
ては、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−
Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｂ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ａｌ、
Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ等が挙げられ、更に、これらの種々の特
性を改善する目的で、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、
Ｃｕ、Ｚｎ等の金属成分が添加されたものであっても良
い。このうちＦｅ系の磁性粉末は電気的特性に優れてい
る。また、耐食性及び分散性の時点では、Ｆｅ−Ａｌ
系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−
Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ
−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍｎ系等のＦｅ−Ａｌ系の合金粉
末が好ましい。これらの強磁性粉末の形状は、平均長軸
長が０．５μｍ以下、好ましくは０．０１から０．４μ
ｍ、更に好ましくは０．０１〜０．３μｍであり、且つ
軸比（平均長軸長／平均短軸長）が１２以下、好ましく
は１０以下のものがよい。

【００１９】何れにおいても飽和磁化量（σｓ）が７０
ｅｍｕ／ｇ以上であることが好ましい。飽和磁化量が７
０ｅｍｕ／ｇ未満であると、十分な電磁変換特性が得ら
れないことがある。

【００２０】また、高密度記録領域での記録再生を可能
にする点から、ＢＥＴ方による比表面積が４５ｍ²／ｇ
以上であることが好ましい。また、バリウムフェライト
等の六方晶系フェライトや窒化鉄等も使用可能である。

【００２１】バリウムフェライトに於いては、Ｆｅの一
部が少なくともＣｏ及びＺｎで置換されたバリウムフェ
ライトであって平均粒径（六方晶系フェライトの板面の
対角線の長さ）が３００〜９００オングストローム、板
状比（六方晶系フェライトの板面の対角線の長さを板厚
で除いた値）が２．０〜１０．０、保磁力が４５０〜１
５００Ｏｅのものが好ましい。

【００２２】結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、塩化ビニル系共重体等の塩化ビニル系樹
脂等が代表的である。

【００２３】これら樹脂は、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、
−ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＭ’）₂（但し、Ｍは水素原子
またはアルカリ金属を表し、Ｍ’は水素原子またはアル
カリ原子、アルカリ基を示す）及びスルホペタイン基か
ら選ばれる少なくとも一種の極性基を有する繰り返し単
位を含有していることが好ましい。これら極性基は、強
磁性粉末の分散性を向上させる作用があり、含有率は．
１〜８．０モル％、更には０．２〜６．０モル％である
のが好ましい。極性基の含有率が０．１モル％未満であ
ると、磁性粉末の分散性が低下する。逆に含有率が８．
０モル％を越えていると、磁性塗料がゲル化し易くな
る。また、樹脂の重量平均分子量は、１５０００〜５０
０００の範囲であるのが好ましい。

【００２４】なお、樹性基を含有する塩化ビニル系共重
合体は、例えば塩化ビニルービニルアルコール共重合体
等の水酸基を有する共重合体と、極性基及び塩素原子を
有する化合物との付加反応より合成できる。

【００２５】また、ポリエステルは、ポリオールと多塩
基酸との反応により合成される。他の極性基を導入した
ポリエステルも公知の方法で合成することが可能であ
る。

【００２６】ポリウレタンはポリオールとポリイソシア
ネートとの反応により合成される。このポリオールとし
ては、ポリオールと多塩基酸との反応によって得られる
ポリエステルポリオールが一般に使用される。なお、極
性基を有するポリエステルポリオールを原料として用い
れば、極性基を有するポリウレタンを合成することがで
きる。

【００２７】これらの樹脂は、一種類単独であってもよ
く、二種類以上を組み合わせて用いても良い。例えば、
ポリウレタン及び／またはポリエステルと、塩化ビニル
系樹脂とを混合して用いる場合、その重量比は９０：１
０〜１０：９０、好ましくは７０：３０〜３０：７０の
範囲であるのが良い。

【００２８】更に、下記の樹脂を全結合剤の５０重量％
以下の使用量で併用するようにしてもよい。

【００２９】即ち、併用する樹脂としては、重量平均分
子が１００００〜２０００００である塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビ
ニルブチラール、セルロース誘導体、スチレン−ブタジ
エン共重合体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、
アクリル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂、各種の合成ゴ
ム系樹脂等が挙げられる。

【００３０】結合剤としては、以上のような樹脂が用い
られているが、これら結合剤の上層磁性層への混合量
が、強磁性金属粉末１００重量部に対して８〜２５重量
部が適当であり、１０〜２０重量部であるが好ましい。

【００３１】また、上層磁性層には、媒体の走行耐久性
等を改善する目的で、通常、この種の磁気記録媒体で用
いられる研磨剤、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤等の添加
剤を添加しても良い。

【００３２】研磨剤としては、平均粒径が０．０５〜
０．６μｍ、好ましくは０．０５〜０．３μｍであるの
がよい。

【００３３】また、この添加量は、磁性粉末１００重量
部に対して、３〜２０重量部、好ましくは５〜１０重量
部とするのが適当である。

【００３４】潤滑剤としては、脂肪酸や脂肪酸エステル
等が単独あるいは混合して使用される。脂肪酸は、一塩
基酸であっても二塩基酸であっても良く、炭素数は６〜
３０が好ましく、１２〜２２であるのがより好ましい。

【００３５】これら脂肪酸や脂肪酸エステルの添加量
は、磁性粉末に対して０．２〜１０重量％であるのが好
ましく、更には、０．５〜５重量％であるのが好まし
い。

【００３６】脂肪酸の添加量が０．２重量％未満である
場合には、媒体の走行性が十分に改善されず、また、１
０重量％を越えると、脂肪酸が磁性層の表面にしみ出し
たり出力低下が生じ易くなる。

【００３７】一方、脂肪酸エステルの添加量が０．２重
量％未満であると、特にスチル耐久性が不足する。

【００３８】また、１００重量％を越えると、脂肪酸エ
ステルが磁性層の表面にしみ出したり出力低下が生じ易
くなる。なお、脂肪酸と脂肪酸エステルの比率は重量比
で１０：９０〜９０：１０が好ましい。

【００３９】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステルととも
に、公知の潤滑剤を併用しても良い。併用する潤滑剤と
しては、シリコーンオイル、弗化カーボン、脂肪酸アミ
ド、オレフィンオキサイド等が挙げられる。

【００４０】硬化剤には、ポリイソシアネート等が使用
される。ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）と活性水素化合物との付
加体等の芳香族ポリイソシアネートや、ヘキサメチレン
ジイソシアネート（ＨＭＤＩ）と活性水素化合物との付
加体等の脂肪酸ポリイソシアネートが挙げられる。これ
らポリイソシアネートの重量平均分子量は、１００〜３
０００の範囲であることが望ましい。

【００４１】分散剤としては、例えば特開平４−２１４
２１８号公報に記載されるような化合物が使用できる。
これらの分散剤は、磁性粉末に対して０．５〜５重量％
の範囲で用いられるのが適当である。

【００４２】帯電防止剤としても、例えば特開平４−２
１４２１８号公報に記載されるような界面活性剤が使用
できる。これらの帯電防止剤の添加量は、結合剤に対し
て０．０１〜４０重量％の範囲とするのが良い。これら
添加剤としては、従来公知の材料がいずれも使用可能で
あり、何ら限定するものではない。

【００４３】一方、下層非磁性層は、主に非磁性粉末、
結合剤により構成される。

【００４４】まず、非磁性粉末としては、カーボンブラ
ック、グラファイト、ＴｉＯ₂、硫酸バリウム、Ｚｎ
Ｓ、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＺｎＯ、ＣａＯ、二硫化タ
ングステン、二硫化モリブデン、ＭｇＯ、ＳｎＯ₂、Ｓ
ｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α−Ａｌ₂Ｏ₃、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｓｉ
Ｃ、硫化セリウム、窒化珪素、炭化珪素、炭化モリブデ
ン、チタンカーバイド等が挙げられる。このうち特に、
カーボンブラック、ＴｉＯ₂、硫酸バリウム、α−Ａｌ₂
Ｏ₃、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃等の無機粉末が好まし
い。

【００４５】なお、これらの非磁性粉末は、Ｓｉ化合物
やＡｌ化合物によって、表面処理されていてもよい。表
面処理は、Ｓｉ、Ａｌの含有量が非磁性粉末に対して
０．１〜１０重量％となるように行うのが好ましい。

【００４６】上記の非磁性粉末の形状は、針状であって
も球状であっても良く、好ましくは針状であった方がよ
い。針状の非磁性粉末を用いることにより、非磁性層表
面の平滑性が向上し、その結果、この上に積層される上
層磁性層の表面も平滑なものになる。また、非磁性粉末
の長軸径、短軸径及び軸比（長軸径／短軸径）は、以下
の範囲であるのがよい。

【００４７】即ち、非磁性粉末の長軸は、０．５μｍ以
下、好ましくは０．３０μｍ以下であるのが良い。

【００４８】また、短軸径は、０．１μｍ以下、好まし
くは０．０６μｍ以下であるのが良い。また、軸比（長
軸径／短軸径）は２〜２０、好ましくは５〜１０が適当
である。比表面積は１０〜２５０ｍ²／ｇ、好ましくは
３０〜１００ｍ²／ｇであるのが良い。以上のような長
軸径、短軸径、軸比及び比表面積を有する非磁性粉末を
使用するとその上に積層される上層磁性層の表面も良好
な状態になる。

【００４９】非磁性粉末の下層非磁性層への混合量は、
当該非磁性層を構成する全盛分の合計量に対して、５０
〜９９重量％とするのが適当である。磁性粉末の混合量
のこの範囲とすることで、下層非磁性層そして上層非磁
性層の表面性が良好なものになる。

【００５０】結合剤としては、上層磁性層で例示した樹
脂がいずれも使用可能である。結合剤の混合量は、非磁
性粉末１００重量部に対して５〜１５０重量部、好まし
くは１０〜１２０重量部とするのが良い。

【００５１】以上のような材料を用いて下層非磁性層、
上層非磁性層を形成するには、まず下層用非磁性塗料、
上層用磁性塗料をそれぞれ調整する。

【００５２】上層用塗料は、先に例示した強磁性粉末、
結合剤及び分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等の各
種添加剤を溶媒とともに混練して高濃度磁性塗料を調製
した後、この高濃度磁性塗料を希釈、分散させることで
調製される。また、本発明の下層用非磁性塗料は先に記
した示した結合剤及び分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防
止剤等の各種添加剤を溶媒とともに混練して高濃度磁性
塗料を調製した後、この高濃度磁性塗料を希釈、分散さ
せることで調製される。

【００５３】この塗料化の有機媒体としては、この種の
磁気記録媒体で通常用いられているもの、例えばアセト
ン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロルベンゼン党の芳香族炭化水素類、ヘキサン等
のものが何れも使用可能である。これら有機溶媒は、単
独で用いても２種類以上混合して使用しても構わない。

【００５４】また、混練分散機としては、例えば、特開
平４−２１４２１８号公報に記載されるものが何れも使
用可能である。特に０．０５〜０．５ｋＷ（磁性粉末１
ｋｇ当たり）の消費電力負荷が提供できることから、加
圧ニーダー、オープンニーダー、連続ニーダー、ロール
ミル、３本ロールミルが適当である。

【００５５】上層磁性層及び本発明の下層非磁性層は、
このようにして調製された上層用磁性塗料と下層非磁性
塗料を、非磁性支持体に塗布、乾燥することで形成され
る。

【００５６】ここで、非磁性支持体としては、例えば、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２、６−
ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロ
ースダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミ
ド、アラミド樹脂、ポリカーボネート等のプラスチック
等が挙げられる。これらの非磁性支持体は単層構造であ
っても多層構造であっても良い。また、例えば、コロナ
放電処理等の表面処理が施されても良い。

【００５７】非磁性支持体の厚みは、磁気ディスクの場
合は、３０μｍ〜１０ｍｍ程度が良い。

【００５８】上層用磁性塗料と下層用非磁性塗料を、非
磁性支持体に塗布する方式として、グラビア塗布方式、
ブレード塗布方式、塗料押し出し方式等が挙げられるが
従来公知いずれの塗布方式で用いても良い。また、重層
塗布方式として以下の何れの重層塗布方式を用いても良
い。

【００５９】イ．非磁性支持体上に非磁性塗料を塗布乾
燥させた後、必要に応じてカレンダー処理を施し、この
乾燥が施された下層非磁性層状に磁性塗料を塗布する、
いわゆるドライ・オン・ウェット塗布方式。

【００６０】ロ．例えば特開昭６３−１９１３１５号公
報に記載されるように、下層塗膜が湿潤状態である間
に、下層塗膜状に上層塗膜を形成する、いわゆるウェッ
ト・オン・ウェット塗布方式。

【００６１】重層塗布膜を形成する方法として、例えば
図１，図２に示すような塗膜形成システムが挙げられ
る。

【００６２】即ち、この塗膜形成システムは、塗膜が形
成される非磁性支持体３が供給ロール１から巻取ロール
２に向かって搬送されるようになっており、この搬送方
向にそって塗布装置４、配向用磁石５、乾燥機６、カレ
ンダー装置７がこの順に配列されている。

【００６３】このような塗膜形成システムでは、先ず塗
膜装置４により上層用磁性塗料１０及び下層用非磁性塗
料１１が非磁性支持体上に重層塗布される。塗布装置に
は下層用塗料を塗布するための下層塗料用押し出しコー
ター８と上層塗料を塗布するための上層塗料用押し出し
コーター９が配置される。

【００６４】これら押し出しコーターはその先端部に塗
料が押し出されるスリット部１２が形成され、この背面
側に塗料が供給される塗料溜まり１３が設けられてい
る。塗料溜まり１３に供給された塗料はスリット部１２
を介してコーター先端部に押し出される。

【００６５】一方、塗料が塗布される支持体３は、この
押し出しコーターの先端部に沿って、下層用押し出しコ
ーター８から上層用押し出しコーター９に向かって図中
矢印の方向に搬送される。

【００６６】このようにして搬送される非磁性支持体に
は、下層用押し出しコーター８のスリット部から押し出
された下層塗料が表面に塗布され下層塗膜を形成し、上
層用押し出しコーター９のスリット部から押し出された
下層塗料が湿潤状態の下層塗膜状に塗布され、２層の塗
膜が逐形成される。

【００６７】以上のようにして形成された下層塗膜と上
層塗膜は、配向用磁石５、乾燥機６、カレンダー装置７
に順次搬送される。

【００６８】なお、この塗布システムでは、下層用塗
料、上層用塗料が分離された別々のコーターで塗布され
るが、図３のように下層用押し出しコーターと上層用押
し出しコーターが一体化した形の押し出しコーター１４
を用いる用にしてもよい。更に、押し出しコーターの
他、グラビアロール、ブレードコーター、エアドクター
コーター、含浸コーター等を用いるようにしてもよい。

【００６９】また、以上の構成では、下層用非磁性塗料
と上層用磁性塗料が逐次的に塗布されるが、２つのスリ
ットが近接して形成された押し出しコーターを用い、こ
の押し出しコーターによって下層用塗料、上層用塗料を
同時に塗布するようにしてもよい。

【００７０】即ち、図４に示すように、同時重層塗布方
式で用いる押し出しコーター１５は先端部に塗料が押し
出される２つのスリット部１２（下層用スリット部、上
層用スリット部）が近接して形成され、この２つのスリ
ット部の背面に各々の塗料が供給される下層用塗料溜ま
り１６、上層用塗料溜まり１７が設けられている。この
押し出しコーターでは、この塗料溜まりに供給された下
層用塗料、上層用塗料がスリットを介して当該コーター
先端部に押し出される。一方、塗料が塗布される支持体
３は、上記押し出しコーターの先端部に沿って下層用ス
リット部から上層用スリット部に向かって図中矢印方向
に搬送される。

【００７１】このようにして搬送される非磁性支持体に
は下層用スリット部及び上層用スリット部を通過する際
に、この下層用スリット部から押し出された下層用塗料
が塗布され、この下層用塗料の上に、上層用スリットか
ら押し出された上層用塗料が塗布され、２層の塗膜が同
時に形成される。

【００７２】このようにして下層非磁性層、上層磁性層
が形成され、カレンダー処理されて原反ロールとして巻
き取られた後、最後に硬化処理し、所定のサイズに打ち
抜かれる。

【００７３】このとき、硬化工程における硬化温度を、
塗膜である下層非磁性層、上層磁性層の結合剤のガラス
転移点以上、且つ非磁性支持体のガラス転移点以下とす
る。

【００７４】なお、そのための前提として、上記磁気デ
ィスクを構成する非磁性支持体のガラス転移点をＡ，塗
膜の結合剤のガラス転移点をＢとしたとき、Ａ≧Ｂとす
ることが必要である。

【００７５】また、このときの上記カレンダー処理の温
度は、上記硬化温度±１０℃以内とすることが好まし
い。

【００７６】以上、重層塗布型の磁気ディスクを例に説
明してきたが、磁気ディスクの構成としては、非磁性支
持体の両面に形成される塗膜が磁性塗料を塗布した単層
膜であるもの、複数の磁性塗料を重ねて塗布した多層膜
であるもの、上記の例のように非磁性塗料と磁性塗料を
重ねて塗布した多層膜であるもの等、任意の構成を採用
することが可能である。

【００７７】

【実施例】以下、本発明を適用した実施例について、具
体的な実験結果を基に説明する。

【００７８】実施例先ず、下記の組成に準じて、上層用磁性塗料、下層用磁
性塗料の各成分を計量し、それぞれニーダー及びサンド
ミルを用いて混練分散することで上層用磁性塗料、下層
用磁性塗料を調製した。

【００７９】上層用磁性塗料の組成（Ｔｇ＝５０℃）Ｐ／Ｂ比＝６強磁性粉末（ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ、保磁力：１６００Ｏｅ）１００重量部スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂（ガラス転移温度２３℃：商品名ＭＧ０１４４）４重量部スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル樹脂（ガラス転移温度７０℃：商品名ＭＲ１１０）１６重量部カーボンブラック（商品名旭５０）４重量部 α−アルミナ８重量部ブチルステアレート２重量部メチルエチルケトン２００重量部トルエン１５０重量部シクロヘキサノン２００重量部下層用非磁性塗料の組成 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ （ＢＥＴ法による比表面積５２ｍ²／ｇ）１００重量部スルホン酸ナトリウム基含有ポリウタレン樹脂（ガラス転移温度２３℃：商品名ＭＧ０１４４）４重量部スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル樹脂（ガラス転移温度７０℃：商品名ＭＲ１１０）１６重量部ブチルステアレート２重量部メチルエチルケトン１００重量部トルエン５０重量部シクロヘキサノン１００重量部更に、上層磁性塗料及び下層非磁性塗料の分散液にはポ
リイソシアネート化合物（日本ポリウタレン社製、商品
名コロネートＬ）を５重量部添加した。

【００８０】このようにして調製された上層用磁性塗
料、下層用非磁性塗料を用い、以下に示す実験方法に基
づきサンプルを作製し、評価を行った。

【００８１】ここで、複数の結合剤からなる塗膜におけ
る下層ガラス転移温度Ｔｇは、以下の式で表される。

【００８２】１／Ｔｇ＝ｗ１／Ｔｇ１＋ｗ２／Ｔｇ２＋
・・・＋ｗ（ｎ）／Ｔｇ（ｎ）Ｔｇ（ｎ）は各結合剤のガラス転移温度を、ｗ（ｎ）は
各結合剤の重量分率である。

【００８３】よって、この式より算出される各塗膜のガ
ラス転移点は、それぞれ以下の通りである。

【００８４】上層磁性塗膜：４９．７℃ 下層非磁性塗膜：４９．７℃ 上記のように調製した上層用磁性塗料と下層非磁性塗料
を図４に示す塗布装置を用いて厚さ６０μｍのポリエチ
レンテレフタレート（ガラス転移温度６９℃）上に乾燥
膜厚０．５μｍの上層磁性層、１．５μｍの下層非磁性
層を同時重層塗膜した。この際、上層磁性塗膜には塗膜
が未乾燥状態である間にランダム的に磁場配向処理を施
した。その後乾燥して重層塗膜を形成した。そしてこの
重層塗膜を得た側とは反対側の面にも同様にして重層塗
膜を形成した。その後、カレンダーによる表面平滑処理
を６０℃で行うことで広幅の原反磁気シートを得た。こ
こで、カレンダー処理条件として、圧力を１００ｋｇ／
ｃｍ、処理速度を２０ｍ／分とした。また、カレンダー
のロール段数は、スチールロールとゴム弾性ロールの組
み合わせで７段とした。

【００８５】このようにして得られた磁気シートは、直
径３．５インチの円盤状に打ち抜いた後、６０℃のオー
ブンに２０時間放置（硬化処理）して、サンプルディス
クを得た。このサンプルディスクついて、カール量、面
振れ量、及び硬化度測定を行った。

【００８６】カール量は、図５に示した測定機を使用し
た。すなわち、サンプルディスクＤをカール測定器３０
の支軸３１に取り付け、磁気ディスクを一周回転させた
時の最大の振れ量Ｅを顕微鏡により観察し、カール量と
した。

【００８７】面振れ量は３６００ｒｐｍまでの高速回転
可能なスピンドルモーターを使用し、内周部と外周部の
面振れ量を測定した。

【００８８】硬化度については、ＩＲにおける浸透ＫＢ
ｒ法より、結合剤のＯＨ収縮の赤外吸収ピーク（３００
０〜２８００ｃｍ^-1）とイソシアナートＮ＝Ｃ＝Ｏの赤
外吸収ピーク（２４００〜２２００ｃｍ^-1）の比を算出
した。従って、この比が小さい程、硬化反応が進行して
いることになる。

【００８９】比較例１カレンダー処理温度を６０℃とし、上記の原反磁気シー
トをオーブンに投入しない以外は実施例と同様にしてサ
ンプルを得た。

【００９０】比較例２カレンダー処理温度を６０℃とし、上記の原反磁気シー
トを９０℃のオーブンに５時間放置する以外は実施例と
同様にしてサンプルを得た。

【００９１】比較例３カレンダー処理温度を１００℃とし、上記の原反磁気シ
ートを６０℃のオーブンに２０時間放置する以外は実施
例と同様にしてサンプルを得た。

【００９２】比較例４カレンダー処理温度を６０℃とし、上記原反磁気シート
を３０℃のオーブンに２０時間放置する以外は実施例と
同様にしてサンプルを得た。

【００９３】上記のようにして得られた各々シートにつ
ても、上記実施例と同様に評価を行った。

【００９４】表１に各測定結果を示す。

【００９５】

【表１】

【００９６】実施例においては、カール量、面振れ量と
もに小さく良好であった。比較例１においては、硬化処
理しなかったため、両者ともに大きな値を示し、且つ硬
化度も悪かった。比較例２においては、硬化温度が高い
ため硬化度は良好であったが、カール量及び面振れ量が
大きい。これは硬化温度が非磁性支持体のガラス転移点
より高すぎたため、熱変形を生じたためと考えられる。
比較例３においては、カレンダー温度が高すぎたため、
原反ロールに強い巻き癖が残留したことにより、カール
量が大きくなった。比較例４については、硬化温度がロ
ールの巻き癖を矯正するために充分な温度ではなかった
ために、カール量がやはり大きかった。また、結合剤の
ガラス転移温度に達していないため、充分な硬化反応が
得られなかった。

【００９７】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、磁気ディスクを形成する工程のうち、硬
化工程において、その硬化温度を結合剤のガラス転移点
以上、且つ非磁性支持体のガラス転移点以下としている
ので、ディスク形状が良好で、面振れ量の少ない磁気デ
ィスクを製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ウェット・オン・ウェット塗布方式で下層非磁
性層、上層磁性層を形成するための塗膜形成システムを
示す模式図である。

【図２】重層塗布方式で用いられる押し出しコーターの
一例を示す模式図である。

【図３】重層塗布方式で用いられる押し出しコーターの
他の例を示す模式図である。

【図４】重層塗布方式で用いられる押し出しコーターの
さらに他の例を示す模式図である。

【図５】カール測定装置の概略構成を示す模式図であ
る。

【符号の説明】

１供給ロール、２巻取ロール、３非磁性支持体、
塗布装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上の両側に塗膜を形成し、両
面構造とした磁気ディスクの製造方法において、上記塗膜の硬化工程における硬化温度を、上記塗膜の結
合剤のガラス転移点以上、且つ非磁性支持体のガラス転
移点以下とすることを特徴とする磁気ディスクの製造方
法。
【請求項２】上記磁気ディスクを構成する非磁性支持体
のガラス転移点をＡ，塗膜の結合剤のガラス転移点をＢ
としたとき、Ａ≧Ｂとすることを特徴とする請求項１記
載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項３】上記非磁性支持体の両面に形成される塗
膜が、磁性塗料を塗布した単層膜、複数の磁性塗料を重
ねて塗布した多層膜、非磁性塗料と磁性塗料を重ねて塗
布した多層膜のいずれかであることを特徴とする請求項
１記載の磁気ディスクの製造方法。
【請求項４】上記塗膜形成後に、上記硬化温度±１０
℃以内の温度でカレンダー処理を施すことを特徴とする
請求項１記載の磁気ディスクの製造方法。