JP2000020919A - 磁気ヘッド及びそれを用いた磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ヘッド及びそれを用いた磁気ディスク装置Info
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】磁気特性に優れ、浮上面のトラック幅の寸法精
度を向上させた磁気ヘッドを提供すること。 【解決手段】再生用の磁気抵抗効果型ヘッドと記録用の
誘導型ヘッドからなり、上部磁気コアと下部磁気コアを
ライトギャップの厚さ以上に上下に隔離している層間絶
縁膜が二層以上の絶縁膜からなり、上部磁気コアのトラ
ック部分からの広がり位置ａを、上記絶縁膜の内のスロ
ートハイト０を決めている第１の絶縁膜７の上に、段差
を持って配置された絶縁膜９の先端位置の内の最も浮上
面に近い位置よりも浮上面側にした磁気ヘッド。
度を向上させた磁気ヘッドを提供すること。 【解決手段】再生用の磁気抵抗効果型ヘッドと記録用の
誘導型ヘッドからなり、上部磁気コアと下部磁気コアを
ライトギャップの厚さ以上に上下に隔離している層間絶
縁膜が二層以上の絶縁膜からなり、上部磁気コアのトラ
ック部分からの広がり位置ａを、上記絶縁膜の内のスロ
ートハイト０を決めている第１の絶縁膜７の上に、段差
を持って配置された絶縁膜９の先端位置の内の最も浮上
面に近い位置よりも浮上面側にした磁気ヘッド。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録再生装置
に用いる記録再生分離型の磁気ヘッド及びそれを用いた
磁気デイスク装置に関する。
に用いる記録再生分離型の磁気ヘッド及びそれを用いた
磁気デイスク装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】記録再生分離型ヘッドの一つとして、磁
気抵抗効果素子（ＭＲ素子）を用いた磁気ヘッド（ＭＲ
ヘッド）がある。ＭＲ素子は、抵抗値が磁界の強さに依
存して変化する特性を利用したもので、再生出力が磁気
記録媒体走行速度に依存せず、磁気信号の磁束量のみに
よって決るため、低速でも十分な再生出力が得られ、磁
気記録装置の高密度化、小型化に対して有利である。
気抵抗効果素子（ＭＲ素子）を用いた磁気ヘッド（ＭＲ
ヘッド）がある。ＭＲ素子は、抵抗値が磁界の強さに依
存して変化する特性を利用したもので、再生出力が磁気
記録媒体走行速度に依存せず、磁気信号の磁束量のみに
よって決るため、低速でも十分な再生出力が得られ、磁
気記録装置の高密度化、小型化に対して有利である。
【０００３】この種のヘッドとしては、例えば、ＩＥＥ
Ｅ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇｎ．，２６，１６８９（１９９
０）（アイイーイーイー トランザクション オン マ
グネチックス ２６巻 １６８９頁 １９９０年）に記
載されている。
Ｅ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇｎ．，２６，１６８９（１９９
０）（アイイーイーイー トランザクション オン マ
グネチックス ２６巻 １６８９頁 １９９０年）に記
載されている。
【０００４】磁気ヘッドは、強い磁界で書き込み、高い
再生出力を得るために、コイルの巻数を増加させる傾向
にあり、コイルを絶縁する絶縁膜は多層化している。特
開平３ー１５６７１４号公報には、この多層の絶縁膜に
より生じる段差をなくすために、多層の絶縁膜全体を他
の絶縁膜で覆う技術が示されている。
再生出力を得るために、コイルの巻数を増加させる傾向
にあり、コイルを絶縁する絶縁膜は多層化している。特
開平３ー１５６７１４号公報には、この多層の絶縁膜に
より生じる段差をなくすために、多層の絶縁膜全体を他
の絶縁膜で覆う技術が示されている。
【０００５】一方、磁気記録の面記録密度向上のため
に、今後、線記録密度に加えてトラック密度も大幅に向
上させていくことが必要であり、このためにＭＲヘッド
のトラック幅寸法はますます狭くなっていくことにな
り、かつ精度も厳しくなる。
に、今後、線記録密度に加えてトラック密度も大幅に向
上させていくことが必要であり、このためにＭＲヘッド
のトラック幅寸法はますます狭くなっていくことにな
り、かつ精度も厳しくなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、多層
の絶縁膜全体を覆っている他の絶縁膜を有するために、
スロートハイト０の位置の精度が十分考慮されていなか
った。ここで、スロートハイト部とは、磁気コアの浮上
面（エアーベアリング面）から、上部磁気コア、下部磁
気コアをライトギャップの厚さ以上に上下に隔離してい
る層間絶縁膜の先端位置までをいい、スロートハイト０
とは、この層間絶縁膜の先端位置をいう。
の絶縁膜全体を覆っている他の絶縁膜を有するために、
スロートハイト０の位置の精度が十分考慮されていなか
った。ここで、スロートハイト部とは、磁気コアの浮上
面（エアーベアリング面）から、上部磁気コア、下部磁
気コアをライトギャップの厚さ以上に上下に隔離してい
る層間絶縁膜の先端位置までをいい、スロートハイト０
とは、この層間絶縁膜の先端位置をいう。
【０００７】一方、上記の他の絶縁膜がない構造では、
次のような問題があった。上部磁気コアの形成は、めっ
き下地膜上にホトレジストでフレームを形成し、これの
スペース部に導電膜を電気めっきする方法で作成され
る。しかしながら、フレームパターンを形成するとき
に、露光装置からの光が、前記した絶縁膜の段差の部分
のめっき下地膜に反射してハレーションを起こし、必要
な部分以外の部分のホトレジストが露光現像される。そ
のため、例えば、トラックを形成する磁気コアの一部が
所定の形状にならず、トラック幅の寸法精度が十分でな
いという問題があった。
次のような問題があった。上部磁気コアの形成は、めっ
き下地膜上にホトレジストでフレームを形成し、これの
スペース部に導電膜を電気めっきする方法で作成され
る。しかしながら、フレームパターンを形成するとき
に、露光装置からの光が、前記した絶縁膜の段差の部分
のめっき下地膜に反射してハレーションを起こし、必要
な部分以外の部分のホトレジストが露光現像される。そ
のため、例えば、トラックを形成する磁気コアの一部が
所定の形状にならず、トラック幅の寸法精度が十分でな
いという問題があった。
【０００８】本発明の第１の目的は、磁気特性に優れ、
浮上面のトラック幅の寸法精度を向上させた磁気ヘッド
を提供することにある。
浮上面のトラック幅の寸法精度を向上させた磁気ヘッド
を提供することにある。
【０００９】本発明の第２の目的は、このような磁気ヘ
ッドを用いた磁気ディスク装置を提供することにある。
ッドを用いた磁気ディスク装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために、本発明の磁気ヘッドは、再生用の磁気抵抗効
果型ヘッドと記録用の誘導型ヘッドからなり、上部磁気
コアと下部磁気コアをライトギャップの厚さ以上に上下
に隔離している層間絶縁膜が二層以上の絶縁膜からなる
もので、上部磁気コアのトラック部分からの広がり位置
が、上記絶縁膜の内のスロートハイト０を決めている第
１の絶縁膜の上に、段差を持って配置された絶縁膜の先
端位置の内の最も浮上面に近い位置よりも浮上面側にな
るようにしたものである。
るために、本発明の磁気ヘッドは、再生用の磁気抵抗効
果型ヘッドと記録用の誘導型ヘッドからなり、上部磁気
コアと下部磁気コアをライトギャップの厚さ以上に上下
に隔離している層間絶縁膜が二層以上の絶縁膜からなる
もので、上部磁気コアのトラック部分からの広がり位置
が、上記絶縁膜の内のスロートハイト０を決めている第
１の絶縁膜の上に、段差を持って配置された絶縁膜の先
端位置の内の最も浮上面に近い位置よりも浮上面側にな
るようにしたものである。
【００１１】第１の絶縁膜の上に、段差を持って配置さ
れた絶縁膜が１層であるならば、その先端位置、つまり
段差の先端位置よりも上部磁気コアのトラック部分から
の広がり位置が前（浮上面側）にあればよい。段差を持
って配置された絶縁膜が２層以上であるならば、その内
の先端位置が最も前にある、つまり浮上面に近い位置に
あるものを基準とし、その先端位置よりも上部磁気コア
のトラック部分からの広がり位置を前にすればよい。
れた絶縁膜が１層であるならば、その先端位置、つまり
段差の先端位置よりも上部磁気コアのトラック部分から
の広がり位置が前（浮上面側）にあればよい。段差を持
って配置された絶縁膜が２層以上であるならば、その内
の先端位置が最も前にある、つまり浮上面に近い位置に
あるものを基準とし、その先端位置よりも上部磁気コア
のトラック部分からの広がり位置を前にすればよい。
【００１２】この広がり位置は、第１の絶縁膜の上にあ
っても、その前、つまりライトギャップ上に直接設けら
れていてもよい。ただし、浮上面からは０．５μｍ程度
以上後方にあることが好ましい。
っても、その前、つまりライトギャップ上に直接設けら
れていてもよい。ただし、浮上面からは０．５μｍ程度
以上後方にあることが好ましい。
【００１３】また、上記第２の目的を達成するために、
本発明の磁気ディスク装置は、情報の記録層を有する回
転可能な磁気記録媒体と、磁気記録媒体を高速回転させ
る駆動モータと、駆動モータの回転駆動を制御する制御
手段と、記録層に情報を書込み又は記録層から情報を読
み出す電磁変換器が取付けられて磁気記録媒体の記録層
上を移動する磁気ヘッドと、磁気ヘッドが情報の読取り
又は書込みをするための情報を制御する回路手段と、磁
気ヘッドを磁気記録媒体上の所定の位置に高速位置決め
させる位置決め手段と、位置決め手段を制御する制御回
路とを有し、この磁気ヘッドとして上記の磁気ヘッドを
用いるようにしたものである。
本発明の磁気ディスク装置は、情報の記録層を有する回
転可能な磁気記録媒体と、磁気記録媒体を高速回転させ
る駆動モータと、駆動モータの回転駆動を制御する制御
手段と、記録層に情報を書込み又は記録層から情報を読
み出す電磁変換器が取付けられて磁気記録媒体の記録層
上を移動する磁気ヘッドと、磁気ヘッドが情報の読取り
又は書込みをするための情報を制御する回路手段と、磁
気ヘッドを磁気記録媒体上の所定の位置に高速位置決め
させる位置決め手段と、位置決め手段を制御する制御回
路とを有し、この磁気ヘッドとして上記の磁気ヘッドを
用いるようにしたものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳述する。まず、従来の磁気ヘッドについて、
その部分断面図を図２（ｂ）に、上部磁気コアの部分平
面図を図２（ａ）に示してその問題を詳述する。ライト
ギャップ膜２０の上に第１の絶縁膜７が形成され、その
上にコイル８を保護する２層目以降の絶縁膜が形成され
ている。図２（ｂ）は、２層目と３層目の絶縁膜９、
９’が形成されている例である。
を用いて詳述する。まず、従来の磁気ヘッドについて、
その部分断面図を図２（ｂ）に、上部磁気コアの部分平
面図を図２（ａ）に示してその問題を詳述する。ライト
ギャップ膜２０の上に第１の絶縁膜７が形成され、その
上にコイル８を保護する２層目以降の絶縁膜が形成され
ている。図２（ｂ）は、２層目と３層目の絶縁膜９、
９’が形成されている例である。
【００１５】上部磁気コア１０は、第１の絶縁膜７、２
層目以降の絶縁膜９、９’の上に設けられためっき下地
膜（図示せず）の上のポジ型ホトレジスト（図示せず）
を用いて形成したパターンを用いて形成する。図２
（ａ）に示すように、上部磁気コア１０の広がり位置ａ
が２層目の絶縁膜９の段差部上にあると、ホトレジスト
を露光するとき、めっき下地膜からの反射光によって、
トラック部のレジストパターンのサイドに凹部が生じ、
上部磁気コア１０のトラック部に広がりができる。この
ような構造では、上部トラックの磁束が絞られるべきと
ころが膨らむために磁気特性が劣化する。また、浮上面
加工のとき、浮上面に当たる付近のトラック部が膨らん
でいると、浮上面のトラック幅寸法のばらつきが発生す
る。
層目以降の絶縁膜９、９’の上に設けられためっき下地
膜（図示せず）の上のポジ型ホトレジスト（図示せず）
を用いて形成したパターンを用いて形成する。図２
（ａ）に示すように、上部磁気コア１０の広がり位置ａ
が２層目の絶縁膜９の段差部上にあると、ホトレジスト
を露光するとき、めっき下地膜からの反射光によって、
トラック部のレジストパターンのサイドに凹部が生じ、
上部磁気コア１０のトラック部に広がりができる。この
ような構造では、上部トラックの磁束が絞られるべきと
ころが膨らむために磁気特性が劣化する。また、浮上面
加工のとき、浮上面に当たる付近のトラック部が膨らん
でいると、浮上面のトラック幅寸法のばらつきが発生す
る。
【００１６】次に、本発明の一実施例の記録再生分離型
磁気ヘッドの部分断面図を図１（ｂ）に、上部磁気コア
の部分平面図を図１（ａ）に示してこれについて説明す
る。図１（ａ）に示す上部磁気コア１０の広がり位置ａ
は、スロートハイト０を決めている絶縁膜上で、かつ、
そのすぐ上の２層目の絶縁膜９の先端よりも前に存在す
る。このため、前述したホトレジストを露光するときの
めっき下地膜からの反射光がトラック部周辺を露光する
ことなく、トラック部は直線に近い構造にできる。
磁気ヘッドの部分断面図を図１（ｂ）に、上部磁気コア
の部分平面図を図１（ａ）に示してこれについて説明す
る。図１（ａ）に示す上部磁気コア１０の広がり位置ａ
は、スロートハイト０を決めている絶縁膜上で、かつ、
そのすぐ上の２層目の絶縁膜９の先端よりも前に存在す
る。このため、前述したホトレジストを露光するときの
めっき下地膜からの反射光がトラック部周辺を露光する
ことなく、トラック部は直線に近い構造にできる。
【００１７】次に、図３に本発明の一実施例の磁気ヘッ
ドの模式的な斜視図を示し、磁気ヘッドの作成プロセス
を説明する。セラミック基板１上にＮｉＦｅ等の磁性膜
により形成された下部シールド膜２及びアルミナ等の絶
縁膜により形成された下部ギャップ膜（図示せず）があ
り、その上に磁気抵抗効果センサ膜３が、ストライプ状
に形成されている。磁気抵抗効果センサ膜３は、ＮｉＦ
ｅ等の磁性材料を使用した磁気抵抗効果膜や磁気抵抗効
果膜にバイアスを加えるバイアス膜等複数の膜で構成さ
れている。さらに、これらの横には、磁気抵抗効果膜の
磁区を安定させるための磁区制御膜４及び磁気抵抗効果
センサ膜をセンサーとして働かせるための電流を供給す
る役割を果たす電極導体膜５が形成される。電極導体膜
５は、リフトオフ法によって形成する。電極導体膜５の
上にはアルミナ等の絶縁膜により形成された上部ギャッ
プ膜（図示せず）がある。電極導体膜５と引出線１２と
のコンタクトのために、電極導体膜５の所望の部分の上
の上部ギャップ膜を除いて窓を開けておく。電極導体膜
５の引出線１２は、下部シールド膜２を乗り越える形で
形成されている。また、引出線１２は上部シールド膜６
と同じ膜で同時に形成され、それぞれ所定の形状のパタ
ーンに加工される。この膜にはＮｉＦｅ等の磁性膜が用
いられる。さらにこの上にライトギャップ膜（図示せ
ず）が形成される。
ドの模式的な斜視図を示し、磁気ヘッドの作成プロセス
を説明する。セラミック基板１上にＮｉＦｅ等の磁性膜
により形成された下部シールド膜２及びアルミナ等の絶
縁膜により形成された下部ギャップ膜（図示せず）があ
り、その上に磁気抵抗効果センサ膜３が、ストライプ状
に形成されている。磁気抵抗効果センサ膜３は、ＮｉＦ
ｅ等の磁性材料を使用した磁気抵抗効果膜や磁気抵抗効
果膜にバイアスを加えるバイアス膜等複数の膜で構成さ
れている。さらに、これらの横には、磁気抵抗効果膜の
磁区を安定させるための磁区制御膜４及び磁気抵抗効果
センサ膜をセンサーとして働かせるための電流を供給す
る役割を果たす電極導体膜５が形成される。電極導体膜
５は、リフトオフ法によって形成する。電極導体膜５の
上にはアルミナ等の絶縁膜により形成された上部ギャッ
プ膜（図示せず）がある。電極導体膜５と引出線１２と
のコンタクトのために、電極導体膜５の所望の部分の上
の上部ギャップ膜を除いて窓を開けておく。電極導体膜
５の引出線１２は、下部シールド膜２を乗り越える形で
形成されている。また、引出線１２は上部シールド膜６
と同じ膜で同時に形成され、それぞれ所定の形状のパタ
ーンに加工される。この膜にはＮｉＦｅ等の磁性膜が用
いられる。さらにこの上にライトギャップ膜（図示せ
ず）が形成される。
【００１８】次ぎに、図１に示したように、この上にレ
ジストからなる第１の絶縁膜７を形成する。第１の絶縁
膜７の上に誘導型ヘッドに電流を流すためのコイル８が
めっき法にて形成され、２層目の絶縁膜９が第１の絶縁
膜７と同じプロセスで形成される。さらにこの上にコイ
ルと絶縁膜が形成され、図１に示したように多層構造と
なるがこれらは図示していない。この後に上部磁気コア
１０を形成する。
ジストからなる第１の絶縁膜７を形成する。第１の絶縁
膜７の上に誘導型ヘッドに電流を流すためのコイル８が
めっき法にて形成され、２層目の絶縁膜９が第１の絶縁
膜７と同じプロセスで形成される。さらにこの上にコイ
ルと絶縁膜が形成され、図１に示したように多層構造と
なるがこれらは図示していない。この後に上部磁気コア
１０を形成する。
【００１９】上部磁気コア１０はめっき膜を用いる。そ
のために、まず磁性めっき膜用のレジストフレームを設
ける。このときに、絶縁膜と磁性めっき膜用のレジスト
フレームを形成するマスクの形状を適正化することによ
り、図１に示すように、上部トラックの広がり位置がス
ロートハイト０を決めている絶縁膜７のすぐ上の２層目
の絶縁膜９の先端よりも前に存在するようにする。
のために、まず磁性めっき膜用のレジストフレームを設
ける。このときに、絶縁膜と磁性めっき膜用のレジスト
フレームを形成するマスクの形状を適正化することによ
り、図１に示すように、上部トラックの広がり位置がス
ロートハイト０を決めている絶縁膜７のすぐ上の２層目
の絶縁膜９の先端よりも前に存在するようにする。
【００２０】なお、前述の上部シールド膜６はこれらの
絶縁膜よりも大きいので、絶縁膜７、２層目以降の絶縁
膜９の形成は平坦面で行うことが可能となり、コイルの
断線等による不良数を低減できる。
絶縁膜よりも大きいので、絶縁膜７、２層目以降の絶縁
膜９の形成は平坦面で行うことが可能となり、コイルの
断線等による不良数を低減できる。
【００２１】最後にリード線を接続させるための端子１
１及び素子を保護する保護膜を形成して作成プロセスは
完成する。なお、素子はウエハ上で一定の間隔をもって
同じものが並んでいる。
１及び素子を保護する保護膜を形成して作成プロセスは
完成する。なお、素子はウエハ上で一定の間隔をもって
同じものが並んでいる。
【００２２】上記の実施例で示す通りにウエハを１０枚
作成し、それぞれのウエハの上部トラックの寸法を浮上
面から全素子測定したところ、そのバラツキの３σは
０．１３μｍ〜０．１９μｍであった。
作成し、それぞれのウエハの上部トラックの寸法を浮上
面から全素子測定したところ、そのバラツキの３σは
０．１３μｍ〜０．１９μｍであった。
【００２３】比較として、上部磁気コアの広がり位置が
前記図２で示した位置にくる構造の磁気ヘッドを、それ
以外は上記実施例と同様にして形成し、上部トラックの
寸法を浮上面から全素子測定したところ、そのバラツキ
の３σは０．３５μｍ〜０．４５μｍであった。この構
造の場合、トラック幅寸法のばらつきが大きく、高記録
密度用ヘッドを実現できない。
前記図２で示した位置にくる構造の磁気ヘッドを、それ
以外は上記実施例と同様にして形成し、上部トラックの
寸法を浮上面から全素子測定したところ、そのバラツキ
の３σは０．３５μｍ〜０．４５μｍであった。この構
造の場合、トラック幅寸法のばらつきが大きく、高記録
密度用ヘッドを実現できない。
【００２４】図４は、本発明の一実施例の磁気ディスク
装置の構成を示す概略図である。図に示すように、磁気
ディスク装置は、等間隔で一軸スピンドル上に積層され
た複数の磁気ディスク１３、移動可能なキャリッジアッ
シィ１４に保持された磁気ヘッド１５、このキャリッジ
アッシイ１４を駆動するボイスコイルモーター１６及び
これらを支持するベース１７等から構成される。また、
磁気ディスク制御装置等の上位装置から送り出される信
号に従って、ボイスコイルモーター１６を制御するボイ
スコイルモーター制御回路、磁気ディスク１３を回転さ
せる駆動モータを制御する制御手段を備えており、上位
装置との信号のやり取りを行うインターフェイス部、磁
気ヘッドに流れる電流を制御するリード／ライト回路等
を介して上位装置と接続される。ここで、磁気ヘッド１
５に、上記実施例の薄膜磁気ヘッドを用いることによ
り、装置の信頼性が向上し、完成歩留まりが高くなる。
装置の構成を示す概略図である。図に示すように、磁気
ディスク装置は、等間隔で一軸スピンドル上に積層され
た複数の磁気ディスク１３、移動可能なキャリッジアッ
シィ１４に保持された磁気ヘッド１５、このキャリッジ
アッシイ１４を駆動するボイスコイルモーター１６及び
これらを支持するベース１７等から構成される。また、
磁気ディスク制御装置等の上位装置から送り出される信
号に従って、ボイスコイルモーター１６を制御するボイ
スコイルモーター制御回路、磁気ディスク１３を回転さ
せる駆動モータを制御する制御手段を備えており、上位
装置との信号のやり取りを行うインターフェイス部、磁
気ヘッドに流れる電流を制御するリード／ライト回路等
を介して上位装置と接続される。ここで、磁気ヘッド１
５に、上記実施例の薄膜磁気ヘッドを用いることによ
り、装置の信頼性が向上し、完成歩留まりが高くなる。
【００２５】次に、本発明の他の実施例の磁気ヘッドの
部分断面図を図５（ｂ）に、上部磁気コアの部分平面図
を図５（ａ）に示してこれについて説明する。この磁気
ヘッドは、２層目の絶縁膜９でスローハイト０の位置を
決めることにより、第１の絶縁膜で決めるタイプに比べ
てスローハイト０付近の絶縁膜の厚みを厚くすることが
可能となり、磁束の漏れ等磁気特性の劣化の可能性を回
避でき、さらにライト素子の絶縁性の向上も期待でき
る。
部分断面図を図５（ｂ）に、上部磁気コアの部分平面図
を図５（ａ）に示してこれについて説明する。この磁気
ヘッドは、２層目の絶縁膜９でスローハイト０の位置を
決めることにより、第１の絶縁膜で決めるタイプに比べ
てスローハイト０付近の絶縁膜の厚みを厚くすることが
可能となり、磁束の漏れ等磁気特性の劣化の可能性を回
避でき、さらにライト素子の絶縁性の向上も期待でき
る。
【００２６】図５（ｂ）に示すように、２層目の絶縁膜
９が図１の第１の絶縁膜７に相当するスロートハイト０
を決めている絶縁膜になる。図５（ａ）に示す上部磁気
コア１０の広がり位置ａは、この２層目の絶縁膜９の上
で、かつ、そのすぐ上の段差を持つ絶縁膜（３層目の絶
縁膜９’）の先端よりも前に存在する。
９が図１の第１の絶縁膜７に相当するスロートハイト０
を決めている絶縁膜になる。図５（ａ）に示す上部磁気
コア１０の広がり位置ａは、この２層目の絶縁膜９の上
で、かつ、そのすぐ上の段差を持つ絶縁膜（３層目の絶
縁膜９’）の先端よりも前に存在する。
【００２７】図６（ｂ）に本発明のさらに他の実施例の
磁気ヘッドの部分断面図を、図６（ａ）にその上部磁気
コアの部分平面図を示してこれについて説明する。この
磁気ヘッドは、上部磁気コアの広がり位置ａが、スロー
トハイト０を決めている絶縁膜、この場合は２層目の絶
縁膜９の先端よりも前にある。これにより、浮上面より
すぐ後ろの位置から上部コアの体積が広がっていくこと
になり、磁気特性、特にオーバーライト特性が向上す
る。
磁気ヘッドの部分断面図を、図６（ａ）にその上部磁気
コアの部分平面図を示してこれについて説明する。この
磁気ヘッドは、上部磁気コアの広がり位置ａが、スロー
トハイト０を決めている絶縁膜、この場合は２層目の絶
縁膜９の先端よりも前にある。これにより、浮上面より
すぐ後ろの位置から上部コアの体積が広がっていくこと
になり、磁気特性、特にオーバーライト特性が向上す
る。
【００２８】この実施例の磁気ヘッドと、図５に示した
上部磁気コアの広がり位置が、スロートハイト０を決め
ている絶縁膜の先端よりも後ろにある構造の磁気ヘッド
をそれぞれ５０個試作して磁気特性を測定したところ、
本実施例の磁気ヘッドの方がオーバーライト特性で平均
して３０〜４０％向上していることが分かった。
上部磁気コアの広がり位置が、スロートハイト０を決め
ている絶縁膜の先端よりも後ろにある構造の磁気ヘッド
をそれぞれ５０個試作して磁気特性を測定したところ、
本実施例の磁気ヘッドの方がオーバーライト特性で平均
して３０〜４０％向上していることが分かった。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、磁気ヘッドの上部
磁気コアの広がり位置を定めたことで、磁気特性に優
れ、浮上面のトラック幅寸法の精度を向上させることが
できた。
磁気コアの広がり位置を定めたことで、磁気特性に優
れ、浮上面のトラック幅寸法の精度を向上させることが
できた。
【００３０】また、この磁気ヘッドはトラック幅精度が
良いため、高記録密度の磁気デイスク装置を実現でき
た。
良いため、高記録密度の磁気デイスク装置を実現でき
た。
【図１】本発明の一実施例の磁気ヘッドの部分断面図及
びその上部磁気コアの部分平面図。
びその上部磁気コアの部分平面図。
【図２】従来の磁気ヘッドの部分断面図及びその上部磁
気コアの部分平面図。
気コアの部分平面図。
【図３】本発明の一実施例の磁気ヘッドの模式的な斜視
図。
図。
【図４】本発明の一実施例の磁気ディスク装置の構成を
示す概略図。
示す概略図。
【図５】本発明の他の実施例の磁気ヘッドの部分断面図
及びその上部磁気コアの部分平面図。
及びその上部磁気コアの部分平面図。
【図６】本発明のさらに他の実施例の磁気ヘッドの部分
断面図及びその上部磁気コアの部分平面図。
断面図及びその上部磁気コアの部分平面図。
１…セラミック基板 ２…下部シールド膜 ３…磁気抵抗効果センサ膜 ４…磁区制御膜 ５…電極導体膜 ６…上部シールド膜 ７…第１の絶縁膜 ８…コイル ９、９’…絶縁膜 １０…上部磁気コア １１…端子 １２…引出線 １３…磁気ディスク １４…キャリッジアッシイ １５…磁気ヘッド １６…ボイスコイルモーター １７…ベース ２０…ライトギヤップ膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白木 清典 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 Ｆターム(参考） 5D033 BA07 BA41 BB43 5D034 BA02 BA15 BA18 BB12
Claims (3)
- 【請求項１】再生用の磁気抵抗効果型ヘッドと記録用の
誘導型ヘッドからなり、上部磁気コアと下部磁気コアを
ライトギャップの厚さ以上に上下に隔離している層間絶
縁膜が二層以上の絶縁膜からなる磁気ヘッドにおいて、
上部磁気コアのトラック部分からの広がり位置は、上記
絶縁膜の内のスロートハイト０を決めている第１の絶縁
膜の上に、段差を持って配置された絶縁膜の先端位置の
内の最も浮上面に近い位置よりも浮上面側にあることを
特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】上記段差を持って配置された絶縁膜は１層
であり、上記絶縁膜の先端位置の内の最も浮上面に近い
位置は、該絶縁膜の先端位置であることを特徴とする請
求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】情報の記録層を有する回転可能な磁気記録
媒体と、該磁気記録媒体を高速回転させる駆動モータ
と、該駆動モータの回転駆動を制御する制御手段と、上
記記録層に情報を書込み又は上記記録層から情報を読み
出す電磁変換器が取付けられて上記磁気記録媒体の記録
層上を移動する磁気ヘッドと、該磁気ヘッドが情報の読
取り又は書込みをするための情報を制御する回路手段
と、上記磁気ヘッドを上記磁気記録媒体上の所定の位置
に高速位置決めさせる位置決め手段と、該位置決め手段
を制御する制御回路とを有する磁気デイスク装置におい
て、上記磁気ヘッドは、請求項１又は２記載の磁気ヘッ
ドであることを特徴とする磁気ディスク装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10188538A JP2000020919A (ja) | 1998-07-03 | 1998-07-03 | 磁気ヘッド及びそれを用いた磁気ディスク装置 |
| US09/343,724 US6436560B1 (en) | 1998-07-03 | 1999-06-30 | Magnetic head and magnetic disk device using the same |
| US10/075,988 US6760190B2 (en) | 1998-07-03 | 2002-02-15 | Magnetic head wherein one of multiple insulating layers determines a zero throat level position |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10188538A JP2000020919A (ja) | 1998-07-03 | 1998-07-03 | 磁気ヘッド及びそれを用いた磁気ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000020919A true JP2000020919A (ja) | 2000-01-21 |
Family
ID=16225468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10188538A Pending JP2000020919A (ja) | 1998-07-03 | 1998-07-03 | 磁気ヘッド及びそれを用いた磁気ディスク装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6436560B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000020919A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| USRE38585E1 (en) | 1999-01-08 | 2004-09-14 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and magnetic disk apparatus using the same |
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| JP3978311B2 (ja) * | 2001-02-13 | 2007-09-19 | 新科實業有限公司 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
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| JPS6045918A (ja) | 1983-08-24 | 1985-03-12 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| US4839197A (en) | 1988-04-13 | 1989-06-13 | Storage Technology Corporation | Process for fabricating thin film magnetic recording heads having precision control of the width tolerance of the upper pole tip |
| JP2539536B2 (ja) | 1989-08-23 | 1996-10-02 | 株式会社日立製作所 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH0620226A (ja) | 1992-06-30 | 1994-01-28 | Mitsumi Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
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| JP3156714B1 (ja) | 1995-06-14 | 2001-04-16 | 松下電器産業株式会社 | データ送信装置 |
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1998
- 1998-07-03 JP JP10188538A patent/JP2000020919A/ja active Pending
-
1999
- 1999-06-30 US US09/343,724 patent/US6436560B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-02-15 US US10/075,988 patent/US6760190B2/en not_active Expired - Fee Related
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| USRE38585E1 (en) | 1999-01-08 | 2004-09-14 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and magnetic disk apparatus using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6760190B2 (en) | 2004-07-06 |
| US6436560B1 (en) | 2002-08-20 |
| US20020071965A1 (en) | 2002-06-13 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040615 |