JP2000019318A - カラーフィルタパネルの製造装置 - Google Patents

カラーフィルタパネルの製造装置

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JP2000019318A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラーフィルタパネル製造装置の占有面積を
減らす。 【解決手段】 各色カラーレジスト塗布手段を、その前
後の工程たとえば基板洗浄手段あるいはプリベーク手段
に対して並列的に配置した製造装置を用い、各色工程で
基板をこの装置内で循環させて段階的に複数色のレジス
トを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置等に用いられるカラーフィルタの製造装置に係り、特
にカラーレジストを用いてカラーフィルタパネルを製造
する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーレジストを用いたカラーフィルタ
パネルの主要な製造工程は、ガラス基板を洗浄する洗浄
工程、洗浄した基板を加熱して乾燥させる工程、乾燥処
理された基板上にカラーレジストを塗布するレジスト塗
布工程、基板上に塗布されたレジストを仮焼成するプリ
ベーク工程、レジストを所定パターンに露光する露光工
程、露光されたレジストを現像する現像工程からなる。
【０００３】これらの製造工程は、カラーフィルタを構
成する赤、緑、青の各色フィルタ毎に繰り返して行われ
るが、従来のカラーフィルタパネルの製造装置は上記そ
れぞれの工程に対応したユニットを三色分用意し、ユニ
ット間を直列的に接続することにより構成されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の製造
装置においては、カラーフィルタパネルの洗浄、乾燥、
レジスト塗布、プリベーク、露光のユニットを各色分直
列的に配置していたため、装置の占有面積が大きいとい
う問題があった。上記の技術的背景に鑑み、本発明はカ
ラーフィルタパネルの製造装置の占有面積を少なくし、
工場スペースを有効活用することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
パネルの製造装置は、各色レジストに対応した複数のレ
ジスト塗布機構を、露光機構に対して並列的に配置した
ことを特徴とする。尚並列配置とは、露光機構の前段に
複数のレジスト塗布機構が並べて配置され、各色のカラ
ーレジストを切り換えて基板に供給可能な機構を具備す
るものであり、より具体的には各色レジスト供給用の複
数のスリットダイを基板に対し相対的に可動に保持し、
一度に一色のカラーレジストを供給して後工程に搬送す
る機構を用いることができる。
【０００６】上記の構成を用いることにより、露光機構
を複数色のレジストで共有化することができるため、装
置の占有面積を減らすことができる。本発明の製造装置
の搬送系としては、公知のハンドリングロボットやベル
トコンベアを用いることができる。またレジスト塗布機
構と露光機構との間に他の処理工程に対応したユニット
として例えば各色レジスト共通のプリベーク機構を配置
し、このプリベーク機構とその前段のレジスト塗布機構
及び後段の露光機構との間をそれぞれ搬送系を介して連
結してもよい。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施例のカラー
フィルタパネルの製造装置を図面を参照して説明する。
図１は、本実施例のカラーフィルタパネル製造装置の各
ユニットの配置図を示す。本実施例の製造装置の基本構
成は、基板投入収納機能部１、洗浄機能部２、基板乾燥
機能部３、レジスト塗布機能部４、プリベーク機能部
５、露光機能部６、現像機能部７、ポストベーク機能部
８、基板搬送機能部９より構成され、各機能部間は周知
の搬送系、例えば搬送ローラやベルトコンベア、あるい
はハンドリングロボットで連結される。
【０００８】基板投入収納機能部１は、製造装置内に基
板をロードするあるいは製造装置から基板をアンロード
する機能を有し、ハンドリングロボットから構成され
る。外部からこの基板投入収納機能部１を介して導入さ
れたガラス基板は、洗浄機能部２に搬送され、洗浄処理
され、次の基板乾燥機能部３に移送される。乾燥機能部
３内部には、エアナイフなどの基板乾燥手段が配置さ
れ、基板に付着した洗浄液を乾燥させる。
【０００９】次いで基板はレジスト塗布機能部４に移さ
れ、黒色、赤色、緑色、青色のいずれかのカラーレジス
トをコーティングされ、次のプリベーク機能部５で仮焼
成処理される。
【００１０】仮焼成の完了した基板は、露光機能部６内
部で所定パターンに露光処理された後、次の現像機能部
７で現像処理され、カラーレジストがストライプ形状に
パターニングされる。そしてポストベーク機能部８でレ
ジストの本焼成処理を受けて、一色目の着色層の形成工
程が完了する。
【００１１】一色目の形成工程の完了した基板は、ハン
ドリングロボットで構成される基板搬送機能部９によ
り、再び洗浄機能部２に送られ、二色目以降の着色層形
成のために製造装置の各ユニット内を上記の手順で循環
することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂ、ＢＬＫの各色レジストが
形成される。
【００１２】図２は、図１のレジスト塗布機能部４の内
部構造を示す。スリットダイ１２及びこれに接続されス
リットダイ１２にカラーレジスト液を供給するタンク１
３が４系統並べられ、基板１１を保持するステージ１４
上に上下可動な状態で配置されている。ステージ１４
は、その下部に設けられたスクリュー駆動系により、一
方向に平行移動できる。各色のカラーレジストの形成工
程においては、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、
黒色（ＢＬＫ）のうちのいずれかの色系統のスリットダ
イ１２よりカラーレジスト１１が基板に供給される。
【００１３】図３は、本実施例の製造装置における洗浄
機能部及び基板乾燥機能部の構成を示す。洗浄機能部に
は、ガラス基板にむけて洗浄液を吐出するノズルが、基
板の搬送路を構成する搬送ローラー２３を挟んで上下に
配置され、この洗浄機能部に搬送ローラー２３を介して
連結される基板乾燥機能部には、同じく搬送ローラー２
３を挟んで上下にエアナイフ２２が配置され、このエア
ナイフ２２から乾燥空気をガラス基板に吹き付けること
により、基板上の洗浄液が水切りされる。
【００１４】図４は、本実施例の製造装置におけるプリ
ベーク機能部の構成を示す。プリベーク機能部はレジス
トの塗布された基板を保持し所定温度に加熱するホット
プレート３１と、加熱処理された基板を室温にまで冷却
するクーリングプレート３２により構成される。
【００１５】図５は、本実施例の製造装置における露光
機能部の構成を示す。露光機能部は、基板１１を保持す
るステージ４１と、このステージ上に可動に保持される
フォトマスク４２と、基板に紫外光を照射する紫外光源
４３から構成される。
【００１６】尚上記の各ユニットの構成は本発明の主旨
を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、例えば露
光機能部としては、公知のステッパ方式あるいは一括露
光方式のいずれを用いてもよい。
【００１７】本実施例の製造装置によれば、カラーフィ
ルターパネルに用いられる複数のカラーレジストの形成
工程のうち、レジスト塗布工程の前後工程に用いられる
装置ユニットを各色工程で共用できるため、従来の製造
装置に比べてユニット数を削減することができ、装置の
占有面積を減らすことができる。その結果工場スペース
を有効活用することが可能となる。
【００１８】
【発明の効果】本発明のカラーフィルタパネルの製造装
置によれば、カラーレジストの塗布工程の前後工程に使
用される装置ユニットを、各色工程で共用化できるた
め、ユニット数を削減し、占有面積を減らすことができ
る。その結果工場スペースの有効活用が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例におけるカラーフィルタパネ
ル製造装置のユニット配置図を示す。
【図２】本発明の一実施例におけるレジスト塗布機能部
の構成を示す。
【図３】本発明の一実施例における洗浄機能部及び基板
乾燥機能部の構成を示す。
【図４】本発明の一実施例におけるプリベーク機能部の
構成を示す。
【図５】本発明の一実施例における露光機能部の構成を
示す。
【符号の説明】
１・・・ 基板投入収納機能部 ２・・・ 洗浄機能部 ３・・・ 基板乾燥機能部 ４・・・ レジスト塗布機能部 ５・・・ プリベーク機能部 ６・・・ 露光機能部 ７・・・ 現像機能部 ８・・・ ポストベーク機能部 ９・・・ 基板搬送機能部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AB13 EA04 FA01 2H048 BA45 BA48 BB42 2H091 FA02Y FC10 FC22 FC24 FC29 FD01 LA11 LA12

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上にカラーレジストを塗布するレジ
    スト塗布機構と、前記レジスト塗布機構の後段に少なく
    とも搬送系を介して接続され、前記基板上に形成された
    レジストを所定パターンに露光する露光機構とを具備
    し、前記基板上に複数色のカラーレジストを塗布するカ
    ラーフィルタパネルの製造装置において、 各々の色のカラーレジストを塗布する複数のレジスト塗
    布機構が、露光手段に対して並列的に配置されているこ
    とを特徴とするカラーフィルタパネルの製造装置。
  2. 【請求項２】 前記レジスト塗布機構と前記露光機構の
    間には前記基板上に塗布されたカラーレジストを焼成す
    るプリベーク機構が接続され、前記複数のレジスト塗布
    機構が、前記プリベーク機構に対して並列的に配置され
    ていることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ
    パネルの製造装置。
  3. 【請求項３】 前記レジスト塗布機構の前段には前記基
    板を洗浄する洗浄機構及び洗浄された基板を乾燥させる
    乾燥機構が接続され、前記複数のレジスト塗布機構が、
    前記洗浄機構及び乾燥機構に対して並列的に配置されて
    いることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタパ
    ネルの製造装置。
  4. 【請求項４】 前記レジスト塗布機構はスリットダイで
    あることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタパ
    ネルの製造装置。
  5. 【請求項５】 前記複数のレジスト塗布機構は、黒色レ
    ジスト塗布機構、赤色レジスト塗布機構、緑色レジスト
    塗布機構、青色レジスト塗布機構からなることを特徴と
    する請求項１記載のカラーフィルタパネルの製造装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7177821B2 (en) 2000-07-21 2007-02-13 Hitachi, Ltd. Maintenance information management system and method of providing a maintenance plan
JP2009139568A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Tokyo Electron Ltd 塗布装置
JP2009282363A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ製造装置
WO2010082495A1 (ja) * 2009-01-16 2010-07-22 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ製造ライン、ライン制御システム、ライン制御方法
JP2010204412A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、液滴吐出方法、及びカラーフィルターの製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7177821B2 (en) 2000-07-21 2007-02-13 Hitachi, Ltd. Maintenance information management system and method of providing a maintenance plan
JP2009139568A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Tokyo Electron Ltd 塗布装置
JP2009282363A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ製造装置
WO2010082495A1 (ja) * 2009-01-16 2010-07-22 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ製造ライン、ライン制御システム、ライン制御方法
KR101215792B1 (ko) * 2009-01-16 2012-12-26 도판 인사츠 가부시키가이샤 컬러 필터 제조 라인, 라인 제어 시스템, 라인 제어 방법
JP5569809B2 (ja) * 2009-01-16 2014-08-13 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ製造ライン、ライン制御システム、ライン制御方法
TWI480601B (zh) * 2009-01-16 2015-04-11 Toppan Printing Co Ltd 彩色濾光片生產線、生產線控制系統、生產線控制方法
JP2010204412A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、液滴吐出方法、及びカラーフィルターの製造方法

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