JP2000015194A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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JP2000015194A
JP2000015194A JP10187606A JP18760698A JP2000015194A JP 2000015194 A JP2000015194 A JP 2000015194A JP 10187606 A JP10187606 A JP 10187606A JP 18760698 A JP18760698 A JP 18760698A JP 2000015194 A JP2000015194 A JP 2000015194A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid
inner tank
overflow
supply pipe
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP10187606A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Yatougo
真之 八藤後
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Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用液量が少なくでき、かつ洗浄液の乱流が
発生しにくい構造の洗浄装置の提供にある。 【解決手段】 投入された被洗浄物の洗浄を行う内槽1
2と、該内槽12の周囲に設置され、内槽からのオーバ
ーフローした洗浄液を受けるオーバーフロー槽14と、
洗浄液を前記内槽へ供給する給液管6とを備える。給液
管6を、オーバーフロー槽14の下側から底面を貫通さ
せてオーバーフロー槽14の上方まで立上げ形成すると
ともに、給液管6の先端部を内槽12の側面下部に接続
し、かつ給液管6の内槽12のオーバーフロー面とほぼ
同一高さの位置にオーバーフロー孔6bを設けるととも
に、オーバーフロー孔より上側に空気孔6cを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板やガラ
ス基板等を洗浄する洗浄装置に関し、詳しくは洗浄槽が
被洗浄物を投入して洗浄を行う内槽と、内槽からのオー
バーフローした洗浄液を受けるオーバーフロー槽とで構
成された洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、上記のような洗浄装置10は、通
常、図4の側面図、図5の正面図、図6の平面図で示す
ような構造となっている。すなわち、この洗浄装置10
は、内槽12とオーバーフロー槽14からなる洗浄槽を
備えている。内槽12は内部に洗浄液を入れてウエハ等
の洗浄物を洗浄するための槽である。一方、オーバーフ
ロー槽14は内槽12からオーバーフローした洗浄液を
受けて外部に排出したり、あるいは洗浄液を再度内槽1
2へ循環させるために用いる槽である。
【0003】前記内槽12の底面には、排液管12aが
取り付けられており、洗浄が終了した際には排液管12
aに取り付けられた図示せぬバルブが開けられて内槽1
2内の洗浄液が排出されるように構成されている。ま
た、内槽12の側面上端部には全周にわたって所定の間
隔でV字溝12bが形成されていて、内槽12内からオ
ーバーフローする洗浄液は先ずこのV字溝12bから流
れ出してオーバーフロー槽14へと流れ込む。
【0004】また、この洗浄装置10は、内槽12へ洗
浄液の供給するための給液管16を有している。この給
液管16は、先端部16aが内槽12のほぼ底面近傍に
位置した状態で、内槽12の側面の内側に沿って垂直に
立ち上げられている。
【0005】一方、オーバーフロー槽14は、内槽12
の周囲を囲むように設置されており、内槽12の側面の
うち前面に対向する前面オーバーフロー受け部14a
と、内槽12の左右側面に対向する左右側面オーバーフ
ロー受け部14bと、内槽12の後面に対向する後面オ
ーバーフロー受け部14cとで構成されている。
【0006】これらオーバーフロー受け部14a、14
b、14cの上端部は内槽12の上端部よりやや上で、
かつオーバーフロー受け部14a、14b、14cの深
さは前面・左右側面オーバーフロー受け部14a、14
bでは浅く、後面オーバーフロー受け部14cでは深く
なっている。後面オーバーフロー受け部14cは内槽1
2からのオーバーフローした洗浄液を受けるほかオーバ
ーフロー液を一旦貯留する場所でもある。また、左右側
面オーバーフロー受け部14bの底面は後面オーバーフ
ロー受け部14cに向かって下り傾斜に構成されてお
り、オーバーフローした洗浄液が後面オーバーフロー受
け部14cへと流れ込み易いようになっている。
【0007】また、前記後面オーバーフロー受け部14
cの底面には排液管14dが取り付けられており、該排
液管14dは、洗浄が終了した際にオーバーフロー槽1
4内の洗浄液を排出したり、あるいは内槽12からオー
バーフローした洗浄液を再度給液管16を介して内槽1
2へ送り込むため、循環ポンプ等を有する循環系へ送り
出したりするためのものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した洗
浄装置の場合、内槽の中に給液管を差し込んだ状態にな
っているので、その周辺部に多くの無駄な空間が発生す
る。すなわち、この給液管のために図6のハッチング部
18で示した部分だけ内槽を大きくする必要があり、そ
の分だけ使用液量が増える原因となっている。また、給
液管自身が洗浄液の流れを妨げて乱流を発生させ洗浄
(エッチング)ムラを生じさせる原因ともなっていた。
さらに、内槽の中で薬液の調合を行うような場合、内槽
に差し込まれた給液管の内部に給液時の濃度の異なる液
が溜まったままになり、その液がウエハ等の洗浄物の洗
浄に悪影響を及ぼす場合がある。この場合、給液管を内
槽の中に差し込まず、内槽の上部から液を落下させるよ
うにすれば、給液管内に濃度の異なる液が溜まることも
なく、またその他上記の問題点も解決できるのではある
が、液の落下により液跳ねや泡立ちが発生して好ましく
ない結果が生じる。
【0009】本発明の目的は、使用液量が少なくでき、
かつ洗浄液の乱流が発生しにくい構造の洗浄装置の提供
にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述課題を解決するため
に、本発明は、次のような手段を採用した。請求項1に
係る発明は、投入された被洗浄物の洗浄を行う内槽と、
該内槽の周囲に設置され、内槽からのオーバーフローし
た洗浄液を受けるオーバーフロー槽と、洗浄液を前記内
槽へ供給する給液管とを備えた洗浄装置において、前記
給液管を、前記オーバーフロー槽の下側から底面を貫通
させてオーバーフロー槽の上方まで立上げ形成するとと
もに、該給液管の先端部を前記内槽の側面下部に接続
し、かつ該給液管の前記内槽のオーバーフロー面とほぼ
同一高さの位置にオーバーフロー孔を設けるとともに、
該オーバーフロー孔より上側に空気孔を設けたことを特
徴としている。
【0011】このように構成したので、給液管を介して
内槽に洗浄液を供給すると、洗浄液は供給管の先端部か
ら内槽中に供給されるとともに、一部は供給管に設けら
れたオーバーフロー孔と空気孔からオーバーフロー槽の
中にも流れ込む。内槽が一杯になりオーバーフローして
オーバーフロー槽の洗浄液が定量になった時点で洗浄液
の供給を停止する。供給を停止すると、給液管内の洗浄
液は給液管内を下方に下がろうとするため給液管内が負
圧になり、空気孔から空気が給液管内に入り込んで、給
液管内の液面と内槽の中の液面とが一致する。
【0012】洗浄中に、オーバーフロー槽の中に溜まっ
ている洗浄液を内槽へと循環させると、内槽の中の液量
が増加して、内槽からオーバーフロー槽へと溢れ出すと
ともに、内槽の液面が上昇することにより、内槽と連通
している給液管内の液面も上昇して、給液管内の液は給
液管のオーバーフロー孔からオーバーフロー槽へと流れ
出す。オーバーフロー槽へ流れ込んだ液は再度また内槽
へと循環され、給液管内の液も内槽の液と均一な濃度と
なる。
【0013】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、給液管の先端部近傍は、先端部に向か
って下り傾斜に構成されていることを特徴としている。
【0014】このように構成したので、給液管内を垂直
に下降してきた液は内槽に入る直前で斜めに傾斜してい
る面に当たるため、直接内槽に落とし込む形で給液する
場合よりも泡立ちや液跳ねが抑えられる。
【0015】請求項3に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、給液管の空気孔は、給液管の内側から
外側に向かって下り傾斜に構成されていることを特徴と
している。
【0016】このため、内槽の洗浄液を定量になった時
点で供給停止したときに、給液管内の液面が内槽の液面
と同位置まで下がろうとする際の給液管内へ空気が入り
込み易いことになる。すなわち、短時間で両者の液面を
一致させることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る洗浄室の実施の形態について説明する。なお、従来
の技術の項で説明した部材と同一あるいは相当するもの
には同一符号を付す。
【0018】図1〜図3に、本発明に係る洗浄装置の実
施の形態を示す。なお、図1(a)は洗浄装置の側面
図、(b)は(a)におけるA部分の拡大図、図2は正
面図、図3は平面図である。
【0019】この洗浄装置1は、内槽12とオーバーフ
ロー槽14からなる洗浄槽を備えている。内槽12は内
部に洗浄液を入れてウエハ等の洗浄物を洗浄するための
槽である。一方、オーバーフロー槽14は内槽12から
オーバーフローした洗浄液を受けて外部に排出したり、
あるいは洗浄液を再度内槽12へ循環させるために用い
る槽である。
【0020】前記内槽12の底面には、排液管12aが
取り付けられており、洗浄が終了した際には排液管12
aに取り付けられた図示せぬバルブが開けられて内槽1
2内の洗浄液が排出されるように構成されている。ま
た、内槽12の側壁面上端部には全周にわたって所定の
間隔でV字溝12bが形成されていて、内槽12内から
オーバーフローする洗浄液は先ずこのV字溝12bから
流れ出してオーバーフロー槽14へと流れ込む。
【0021】一方、オーバーフロー槽14は、内槽12
の周囲を囲むように設置されており、内槽12の側面の
一部である前面に対向する前面オーバーフロー受け部1
4aと、内槽12の左右側面に対向する左右側面オーバ
ーフロー受け部14bと、内槽12の後面に対向する後
面オーバーフロー受け部14cとで構成されている。
【0022】これらオーバーフロー受け部14a、14
b、14cの上端部は内槽12の上端部より上に位置
し、その深さは前面・左右側面オーバーフロー受け部1
4a、14bでは浅く、後面オーバーフロー受け部14
cでは深くなっている。後面オーバーフロー受け部14
cは内槽12からのオーバーフローした洗浄液を受ける
ほかオーバーフロー液を一旦貯留する場所でもある。ま
た、左右側面オーバーフロー受け部14bの底面は後面
オーバーフロー受け部14cに向かって下り傾斜に構成
されており、オーバーフローした洗浄液が後面オーバー
フロー受け部14cへと流れ込み易いようになってい
る。
【0023】また、前記後面オーバーフロー受け部14
cの底面には排液管14dが取り付けられており、該排
液管14dは、洗浄が終了した際にオーバーフロー槽1
4内の洗浄液を排出したり、あるいは内槽12からオー
バーフローした洗浄液を再度給液管6を介して内槽12
へ送り込むため、循環ポンプ等を有する循環系へ送り出
したりするためのものである。
【0024】また、この洗浄装置1は、内槽12へ洗浄
液の供給するための給液管6を有している。この給液管
6は、オーバーフロー槽14の後面オーバーフロー受け
部14cの下側から底面を貫通させてオーバーフロー槽
14の上方まで立上げ形成されている。また、後面オー
バーフロー受け部14cの底面から下方に延出した該給
液管6の先端部6a近傍は垂直部分に対して「く」の字
状に曲げられて、下り傾斜で内槽12の側面下部に接続
されている。
【0025】また、図1(b)に示すように、内槽12
のオーバーフロー面であるV字溝12bとほぼ同一高さ
に当たる給液管6の位置にオーバーフロー孔6bが設け
られているとともに、該オーバーフロー孔6bより上側
に給液管6の内側から外側に向かって下り傾斜に構成さ
れた空気孔6cが設けられている。
【0026】この洗浄装置1は、上述のように構成され
ているので、給液管6を介して内槽12に洗浄液を供給
すると、洗浄液は供給管6の先端部6aから内槽12中
に供給されるとともに、一部は供給管6のオーバーフロ
ー孔6bと空気孔6cからオーバーフロー槽14の中に
も流れ込む。そのときに、給液管6の先端部6a近傍
は、先端部6aに向かって下り傾斜に構成されているの
で、給液管6内を垂直に下降してきた液は内槽12に入
る直前で斜めに傾斜している面に当たるため、直接内槽
12に落とし込む形で給液する場合よりも泡立ちや液跳
ねが抑えられる。
【0027】給液が続行され、内槽12内の洗浄液の量
が多くなってくると、給液管6の先端部6aにかかる抵
抗が上昇して、オーバーフロー孔6bと空気孔6cから
流出する液量が増加する。内槽12が一杯になりオーバ
ーフローしてオーバーフロー槽14の洗浄液が定量にな
った時点で洗浄液の供給を停止すると、内槽12の液面
より高い位置にあった給液管6内の洗浄液の液面は、液
が給液管6内を下方に下がろうとするためによる給液管
6内の負圧によって空気孔6cから空気が給液管6内に
入り込む。これにより、給液管6内の液面が下がって内
槽12内の液面と一致する。
【0028】その際に、給液管6の空気孔6cは、給液
管6の内側から外側に向かって下り傾斜に構成されてい
るので、給液管6内へ空気が入り込み易く、短時間で両
者の液面を一致させることができる。
【0029】洗浄中において、オーバーフロー槽14内
に溜まっている洗浄液を内槽12へと送り込と、内槽1
2内の液量が増加するため、内槽12からオーバーフロ
ー槽14へと溢れ出すとともに、内槽12の液面が上昇
する。このため、内槽12と連通している給液管6内の
液面も上昇して、給液管6内の液は給液管6のオーバー
フロー孔6bからオーバーフロー槽14へと流れ出す。
オーバーフロー槽14へ流れ込んだ液は再度また内槽1
2へと循環される。従って、給液管6内の液は循環利用
されているので、濃度の異なる液が給液管6内に溜まっ
たままにならず、各種薬液を内槽12において調合使用
する場合でも、給液管6内の液がウエハ等の洗浄物の洗
浄に悪影響を及ぼすおそれがない。
【0030】また、内槽12の中に給液管6を差し込ま
ない分、内槽12を小型にすることが可能となり、洗浄
液の使用量を軽減することができとともに、給液管6を
差し込むことによって生じる液の乱流の発生もない。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
給液管をオーバーフロー槽の下側から底面を貫通させて
オーバーフロー槽の上方まで立上げ形成するとともに、
該給液管の先端部を前記内槽の側面下部に接続したの
で、給液管の分だけ内槽12を小型にすることでき、洗
浄液の使用量を軽減することができる。また、内槽内に
給液管が差し込まれていないので洗浄液の乱流が発生せ
ず、被洗浄物の洗浄ムラが発生しない。
【0032】また、給液管の内槽のオーバーフロー面と
ほぼ同一高さの位置にオーバーフロー孔を設けるととも
に、該オーバーフロー孔より上側に空気孔を設けたの
で、内槽とオーバーフロー槽との洗浄液の循環によって
給液管内の液もオーバーフロー槽に流れ出す。このた
め、各種薬液を内槽において調合使用する場合でも、給
液管内に濃度の異なる液が溜まったままになることがな
く、それが何かの拍子に流れ出して洗浄物の洗浄に悪影
響与えるというような事態は生じない。
【0033】さらに、給液管の先端部近傍は、先端部に
向かって下り傾斜に構成されているので、給液管内を垂
直に下降してきた液は内槽に入る直前で斜めに傾斜して
いる面に当たるため、直接内槽に落とし込む形で給液す
る場合よりも泡立ちや液跳ねが抑えられる。
【0034】また、給液管の空気孔は、給液管の内側か
ら外側に向かって下り傾斜に構成されているので、給液
管内の液面が内槽の液面と同位置まで下がろうとすると
きの給液管内へ空気が入り込み易く、短時間で両者の液
面を一致させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明に係る洗浄装置の実施形態の側
面図、(b)はそのA部分拡大図である。
【図2】本発明に係る洗浄装置の実施形態の正面図であ
る。
【図3】同じく平面図である。
【図4】従来の洗浄装置の側面図である。
【図5】同じく正面図である。
【図6】同じく平面図である。
【符号の説明】
1、10 洗浄装置 6、16 給液管 6a 先端部 6b オーバーフロー孔 6c 空気孔 12 内槽 12a 排液管 12b V字溝 14 オーバーフロー槽 14d 排液管

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 投入された被洗浄物の洗浄を行う内槽
    と、該内槽の周囲に設置され、内槽からのオーバーフロ
    ーした洗浄液を受けるオーバーフロー槽と、洗浄液を前
    記内槽へ供給する給液管とを備えた洗浄装置において、 前記給液管を、前記オーバーフロー槽の下側から底面を
    貫通させてオーバーフロー槽の上方まで立上げ形成する
    とともに、該給液管の先端部を前記内槽の側面下部に接
    続し、かつ該給液管の前記内槽のオーバーフロー面とほ
    ぼ同一高さの位置にオーバーフロー孔を設けるととも
    に、該オーバーフロー孔より上側に空気孔を設けたこと
    を特徴とする洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記給液管の先端部近傍は、先端部に向
    かって下り傾斜に構成されていることを特徴とする請求
    項1に記載の洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記給液管の空気孔は、給液管の内側か
    ら外側に向かって下り傾斜に構成されていることを特徴
    とする請求項1に記載の洗浄装置。
JP10187606A 1998-07-02 1998-07-02 洗浄装置 Pending JP2000015194A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100175723A1 (en) * 2009-01-15 2010-07-15 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Washing apparatus for washing a head portion of a depilation apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100175723A1 (en) * 2009-01-15 2010-07-15 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Washing apparatus for washing a head portion of a depilation apparatus
US8361241B2 (en) * 2009-01-15 2013-01-29 Panasonic Corporation Washing apparatus for washing a head portion of a depilation apparatus

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