CN110871185A - 一种化学药剂清洗方法及化学药剂清洗装置 - Google Patents

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Abstract

一种具有化学试剂循环的清洁装置，其中可以防止由清洁过程产生的气泡引起的空气侵入到循环路径中的设备气闸。当化学试剂从溢流罐排出时，螺旋涡流可以根据液位在出口附近产生。提供液位检测传感器，以检测液位已到达没有产生螺旋涡流的位置，该位置略高于液面高度。当化学试剂被存储在溢流罐中时，进行化学药剂清洗，从而在从溢流罐排出的化学试剂中产生气泡或混合到螺旋涡流中或发送到化学试剂储存罐的一侧。

Description

一种化学药剂清洗方法及化学药剂清洗装置
技术领域
本发明涉及一种化学药剂清洗方法，其中化学试剂在清洗过程中在清洗槽和化学试剂储存罐之间循环，并且到化学试剂清洗装置。
背景技术
对于硬盘的基板，在研磨、抛光、溅射和电镀的过程之后进行化学剂清洗。当用化学试剂清洗盘(如硬盘和晶片)时，该方法基本上包括多个清洗过程和清洗后的干燥过程。众所周知，在清洗过程中，通常使用一种装置，其中一个带有多个盘的托架(或托盘)被垂直地浸入清洗罐中，其中清洗液(化学试剂)被储存，并用超声波清洗盘。同时，在清洗后的盘片干燥过程中，将托架(或托盘)直接转移到干燥室中并在其中干燥。在超声波清洗槽中清洗产品时，使用冲洗溶剂作为化学试剂。在使用这种化学剂的清洗设备中，化学试剂通常按如下方式循环。例如，化学试剂罐(化学试剂储存罐)和超声波清洗槽彼此平行布置，化学试剂从化学试剂罐供应到超声冲洗槽，以及从超声波RIN的顶端溢出的化学试剂。硒罐由于化学剂的供应，回流到化学试剂罐中。在日本专利公开出版物No.22-167240中公开了这样的产品清洗方法和使用循环方式的清洁设备。目前，硬盘已广泛应用于汽车产品、家电产品、音像制品等领域。硬盘驱动器(HDD)的2.5 英寸至1.8英寸，小于或等于1英寸，例如，0.85英寸，HDD本身越来越小。随着HDD的小型化，清洗设备本身也有小型化的趋势。该领域的技术人员已经开发了一种方法，通过在超声波清洗槽下，特别是在底面下放置化学试剂罐来尽量减少碱面积。如果将化学试剂罐置于超声波清洗槽下方，且化学药剂罐液面低于超声波清洗槽，由于TH高度不同，化学试剂从超声波清洗槽迅速溢出至化学试剂槽。E两个液位。因此，很可能在化学试剂罐中产生化学剂气泡。结果，通常使用密封的回流路径，通过密封化学试剂罐的侧面形成密封回流路径。然而，包括化学试剂罐的回流路径被设计成密封，以便在化学试剂罐的侧面上进行化学剂过滤或纯化。因此，导致更高的成本，从而不能满足当前的需求。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的上述不足而提供一种化学药剂清洗方法和化学药剂清洗装置，在具有循环化学药剂的化学药剂清洗装置中，可以充分防止由于循环路径中的化学剂中气泡的侵入而引起的设备气闸。
本发明的技术方案是：将产品浸入化学试剂清洗槽中的化学试剂中，该方法包括以下步骤：将化学试剂从化学试剂储存罐提供到化学试剂清洗槽，其中化学试剂储存罐设置在低于化学试剂冲洗槽的位置；将化学试剂溢出的化学试剂储存在过滤池中。临时储罐；当溢流罐中储存的化学剂的量达到第一设定值时，将化学试剂从溢流罐回流到化学试剂储存罐，该第一设定值处于低于壁的上端部分的位置。溢流罐，使化学试剂停止从溢流罐回流到化学试剂储存罐，并在储存在溢流罐中的化学剂的量到达第二设定值时保持化学试剂被储存在溢流罐中。E由于化学剂的回流，其处于低于第一设定值的位置。
存储在溢流罐中的化学剂的量的位置低于溢流罐壁的上端部分，并且化学试剂清洗方法包括以下步骤：停止上述各步骤的操作，以防止化学试剂在储存的化学试剂的量达到高于设定值的第三设定值时的时间点溢出溢流罐。
第一设定值的位置高于第二设定值的位置，并且低于溢流罐壁的上端部分和第三设定值的位置。
包括以下步骤：当储存在化学试剂储存罐中的化学剂的量达到第四设定值时，停止上述步骤的操作，并将纯水补充到化学试剂储存罐中，该设定值在CHE中没有气泡漂浮的位置。将化学试剂贮存罐与化学试剂储存罐提供给化学试剂清洗槽的化学试剂混合。
5、一种化学试剂清洗装置，其中将产品浸入待清洗的化学试剂中，包括一种化学试剂冲洗槽，用于存储用于清洗产品的化学试剂；溢流罐，用于临时储存从化学试剂冲洗槽溢出的化学试剂；化学试剂储存罐，设置在低于化学试剂冲洗槽的位置；溢流罐，用于储存提供给化学试剂冲洗槽的化学试剂，并储存从溢流罐回流的化学试剂；第一检测装置，用于检测溢流罐中储存的化学剂的量已达到第一设定值W；HICH位于溢流罐壁的上端部以下的位置；第二检测装置，用于检测溢流罐中储存的化学剂的量已达到第二设定值，该第二设定值低于第一设定值的位置；控制装置，用于允许化学试剂根据来自第一检测装置的检测信号从溢流罐回流到化学试剂储存罐，并允许化学试剂停止从溢流罐回流到化学试剂储存罐。从第二检测装置检测信号，并将化学试剂保持在溢流罐中。本发明的有益效果在于：在具有循环化学试剂的化学试剂清洗装置中，基本上防止了由于化学剂气泡侵入循环流动路径而在清洁过程中产生的清洁装置气闸。因此，减少了化学试剂罐和回流路径上的除气操作的频率，并且可以高效率地进行产品清洗。
附图说明
图1是本发明的实施例的用于产品的化学试剂清洗设备的主要部分的说明图。
具体实施方式
图1中，产品的化学试剂清洗装置10包括超声波清洗槽1、化学试剂槽2、循环泵3、出口回流路径4、开关阀5、化学剂供给路径6和7、阀驱动机构8 和控制器20。超声波清洗槽1位于化学试剂槽2上方，底表面21位于两者之间。超声波清洗槽1包括：具有矩形框架(长方体或立方体)形状的化学试剂冲洗槽11；沿化学试剂冲洗槽11的内壁面布置的L形化学剂分散供给喷嘴 12；溢流槽13，用于容纳化学试剂冲洗槽11的上周缘凸出作为凸缘，以保留从化学试剂冲洗槽11溢出的化学试剂；以及超声波发生装置14，其布置成与化学试剂冲洗槽11的底壁的外侧连接。化学试剂分散供应喷嘴12具有从化学试剂冲洗槽11的上边缘延伸到化学试剂冲洗槽11上方的入口管12a。除了矩形框架之外，超声波清洗槽1的形状也可以是圆柱形等。用化学试剂清洗装置10清洗的盘片及其基材(基材本体)通过托架(或托盘)由搬运机器人(未示出)转移到化学试剂清洗槽11的上部，并浸入化学试剂中。冲洗槽11。溢流罐13具有比化学试剂冲洗槽11的外壁11a的上部高的壁面 13a。在该图中，溢流罐13的壁13a的高度可以与化学试剂冲洗槽11的外表面11a的高度相同，或者可以低于化学试剂冲洗槽11的高度。一般来说，溢流罐13中的化学剂储存水平可以是任何储存水平，只要化学试剂可以暂时储存。然而，在本实施例中，即使储存在化学试剂罐2中的化学试剂9作为溢流罐13中储存的化学试剂的量被存储在溢流罐13中，化学试剂罐2中的化学剂的量也不会小于储存量最低的化学药剂。实质上，在化学试剂罐2中执行以下操作。当化学试剂罐2中的化学剂的量达到最小量时，当在化学试剂罐2中没有漂浮的气泡掺入到溢流罐13的化学试剂中时，整个装置的操作是 STO。在化学试剂罐2中补充和纯化的水。因此，当溢流罐13的储存水平足够大时，化学试剂被存储在溢流罐13中，因此，化学试剂罐2中的化学剂的量达到最小量，并且装置被频繁停止。这种情况应该避免。另外，溢流罐 13的壁13a的高度被设置为高于化学试剂冲洗槽11的外壁11a的上部的高度。由此，流入溢流罐13的化学剂防止溅出溢流罐13。如图1所示，出口13C 设置在溢流罐13的底面13b上，出口管15和出口回流通道4a连接到溢流罐。在出口回流通道4a上设置用于控制开/关操作的开关阀5，当开关阀5打开时，化学试剂9从化学试剂冲洗槽11流出，储存在溢流罐13中的化学试剂9 通过出口13C，出口P。IPE15、出口回流路径4a、切换阀5和出口回流路径 4b进入化学试剂罐2。出口回流路径4b的化学试剂出口侧的前端4c位于化学剂罐2的化学剂水平以下的位置。进入化学试剂槽2的储存的化学试剂9通过化学剂供给路径6被循环泵3吸入。化学试剂9还通过化学剂供给路径7被提供给化学剂分散供应喷嘴12的入口管12a，并且化学试剂9通过设置在底部的多个开口被引入到化学试剂冲洗罐11的底侧。分散剂供应喷嘴12。化学试剂冲洗槽11中的化学试剂9由于化学试剂9被循环泵3从化学试剂罐2中吸入而缓慢增加。化学剂9的增加量溢出到溢流罐13中。结果，化学试剂9在化学试剂冲洗槽11和化学试剂罐2之间循环。

Claims (5)

1.一种化学试剂清洗方法，其中将产品浸入化学试剂清洗槽中的化学试剂中，其特征在于：该方法包括以下步骤：将化学试剂从化学试剂储存罐提供到化学试剂清洗槽，其中化学试剂储存罐设置在低于化学试剂冲洗槽的位置；将化学试剂溢出的化学试剂储存在过滤池中。临时储罐；当溢流罐中储存的化学剂的量达到第一设定值时，将化学试剂从溢流罐回流到化学试剂储存罐，该第一设定值处于低于壁的上端部分的位置。溢流罐，使化学试剂停止从溢流罐回流到化学试剂储存罐，并在储存在溢流罐中的化学剂的量到达第二设定值时保持化学试剂被储存在溢流罐中。E由于化学剂的回流，其处于低于第一设定值的位置。
2.根据权利要求1所述的一种化学试剂清洗方法，其特征在于：存储在溢流罐中的化学剂的量的位置低于溢流罐壁的上端部分，并且化学试剂清洗方法包括以下步骤：停止上述各步骤的操作，以防止化学试剂在储存的化学试剂的量达到高于设定值的第三设定值时的时间点溢出溢流罐。
3.根据权利要求1所述的一种化学试剂清洗方法，其特征在于：第一设定值的位置高于第二设定值的位置，并且低于溢流罐壁的上端部分和第三设定值的位置。
4.根据权利要求1所述的一种化学试剂清洗方法，其特征在于：包括以下步骤：当储存在化学试剂储存罐中的化学剂的量达到第四设定值时，停止上述步骤的操作，并将纯水补充到化学试剂储存罐中，该设定值在CHE中没有气泡漂浮的位置。将化学试剂贮存罐与化学试剂储存罐提供给化学试剂清洗槽的化学试剂混合。
5.一种化学试剂清洗装置，其中将产品浸入待清洗的化学试剂中，其特征在于：包括一种化学试剂冲洗槽，用于存储用于清洗产品的化学试剂；溢流罐，用于临时储存从化学试剂冲洗槽溢出的化学试剂；化学试剂储存罐，设置在低于化学试剂冲洗槽的位置；溢流罐，用于储存提供给化学试剂冲洗槽的化学试剂，并储存从溢流罐回流的化学试剂；第一检测装置，用于检测溢流罐中储存的化学剂的量已达到第一设定值W；HICH位于溢流罐壁的上端部以下的位置；第二检测装置，用于检测溢流罐中储存的化学剂的量已达到第二设定值，该第二设定值低于第一设定值的位置；控制装置，用于允许化学试剂根据来自第一检测装置的检测信号从溢流罐回流到化学试剂储存罐，并允许化学试剂停止从溢流罐回流到化学试剂储存罐。从第二检测装置检测信号，并将化学试剂保持在溢流罐中。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113522867A (zh) * 2021-06-27 2021-10-22 陆文平 一种化学药剂清洗方法及化学药剂清洗装置
CN114347479A (zh) * 2022-01-20 2022-04-15 中国科学院空间应用工程与技术中心 一种用于多材料3d打印自流平超声清洗盒及清洗方法

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