JP2000011464A - 電子ビーム照射方法及び装置 - Google Patents
電子ビーム照射方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光ディスク原盤を作製する場合に使用する電子
ビーム照射装置に関し、光ディスク原盤作製用パターン
に形状的に同精度かつ位置的に高精度のピットを形成で
きるようにし、高品質の光ディスク原盤を得ることがで
きるようにする。 【解決手段】各ピットパターン描画部分の単位面積当た
りのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスク１０の半
径方向の位置によらず、かつ、近接するピットパターン
描画部分の疎密によらず、かつ、各ピットパターン描画
部分の長さによらず、一定となるような電子ビーム照射
を行うと共に、光ディスク原盤作製用ディスク１０の回
転中心の偏芯を補正することができるようにする。
ビーム照射装置に関し、光ディスク原盤作製用パターン
に形状的に同精度かつ位置的に高精度のピットを形成で
きるようにし、高品質の光ディスク原盤を得ることがで
きるようにする。 【解決手段】各ピットパターン描画部分の単位面積当た
りのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスク１０の半
径方向の位置によらず、かつ、近接するピットパターン
描画部分の疎密によらず、かつ、各ピットパターン描画
部分の長さによらず、一定となるような電子ビーム照射
を行うと共に、光ディスク原盤作製用ディスク１０の回
転中心の偏芯を補正することができるようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤を
作製する場合に使用する電子ビーム照射方法及び装置に
関する。
作製する場合に使用する電子ビーム照射方法及び装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】パーソナル・コンピュータ等の電子情報
処理装置において情報記録媒体として使用されるＣＤ−
ＲＯＭ等の光ディスクは、可搬性の大容量記録媒体であ
ることを特徴としており、広く使用されている。
処理装置において情報記録媒体として使用されるＣＤ−
ＲＯＭ等の光ディスクは、可搬性の大容量記録媒体であ
ることを特徴としており、広く使用されている。
【０００３】光ディスクを製造するためには、たとえ
ば、ガラス基板にレジスト層を形成してなる光ディスク
原盤作製用ディスクを用意し、この光ディスク原盤作製
用ディスクを使用して光ディスク原盤を作製し、更に、
この光ディスク原盤を使用して光ディスク原盤作製用金
型を作製する必要がある。
ば、ガラス基板にレジスト層を形成してなる光ディスク
原盤作製用ディスクを用意し、この光ディスク原盤作製
用ディスクを使用して光ディスク原盤を作製し、更に、
この光ディスク原盤を使用して光ディスク原盤作製用金
型を作製する必要がある。
【０００４】従来、光ディスク原盤は、光ディスクに記
憶させるべきデジタル情報に応じたレーザビームを光デ
ィスク原盤作製用ディスクのレジスタ層に照射し、レジ
スト層にデジタル情報に対応したピットを形成すること
により作製されていた。
憶させるべきデジタル情報に応じたレーザビームを光デ
ィスク原盤作製用ディスクのレジスタ層に照射し、レジ
スト層にデジタル情報に対応したピットを形成すること
により作製されていた。
【０００５】しかし、レーザビームを使用する光ディス
ク原盤の作製では、更なる高記録密度化が困難であると
考えられることから、電子ビームを使用する光ディスク
原盤の作製が検討されており、種々の電子ビーム照射装
置が提案されている（たとえば、OPTRONICS (1998). No
4. P137〜P141) 。
ク原盤の作製では、更なる高記録密度化が困難であると
考えられることから、電子ビームを使用する光ディスク
原盤の作製が検討されており、種々の電子ビーム照射装
置が提案されている（たとえば、OPTRONICS (1998). No
4. P137〜P141) 。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】電子ビーム照射技術
は、半導体製造分野では、微細加工技術として、レチク
ルやマスクの製造及びウエハへの直接描画などに用いら
れているが、光ディスクにおいては、ピット長は最小
０.１μｍ強、ピット幅は０.１μｍ以下の微細加工が求
められており、現状の電子ビーム照射装置を越える性能
が必要とされ、走査電子顕微鏡並の高分解能を持ち、電
子ビームの照射位置制御を高精度に行うことができる電
子ビーム照射装置が必要とされている。
は、半導体製造分野では、微細加工技術として、レチク
ルやマスクの製造及びウエハへの直接描画などに用いら
れているが、光ディスクにおいては、ピット長は最小
０.１μｍ強、ピット幅は０.１μｍ以下の微細加工が求
められており、現状の電子ビーム照射装置を越える性能
が必要とされ、走査電子顕微鏡並の高分解能を持ち、電
子ビームの照射位置制御を高精度に行うことができる電
子ビーム照射装置が必要とされている。
【０００７】また、電子ビーム照射技術においては、ビ
ーム径と並んで露光解像度を決めるもう一つの要因であ
る電子ビームレジストには、高解像度の電子ビームレジ
スト（たとえば、ＰＭＭＡ）を用いることが必要である
が、一般に、高解像度の電子ビームレジストは低感度で
あり、長時間の露光（例えば、５インチの光ディスク原
盤を作製する場合には、１０時間）が必要となり、電子
ビーム照射装置としては、これまでにない安定性が求め
られる。
ーム径と並んで露光解像度を決めるもう一つの要因であ
る電子ビームレジストには、高解像度の電子ビームレジ
スト（たとえば、ＰＭＭＡ）を用いることが必要である
が、一般に、高解像度の電子ビームレジストは低感度で
あり、長時間の露光（例えば、５インチの光ディスク原
盤を作製する場合には、１０時間）が必要となり、電子
ビーム照射装置としては、これまでにない安定性が求め
られる。
【０００８】また、従来の電子ビーム照射装置において
は、光ディスク原盤作製用ディスクを回転させるための
モータの機械的振動により光ディスク原盤作製用ディス
クの回転中心が偏芯してしまうことがあるが、これに対
して何らの対策を講じていないので、光ディスク原盤作
製用ディスクに、位置的に高精度のピットを形成するこ
とができないという問題点があった。
は、光ディスク原盤作製用ディスクを回転させるための
モータの機械的振動により光ディスク原盤作製用ディス
クの回転中心が偏芯してしまうことがあるが、これに対
して何らの対策を講じていないので、光ディスク原盤作
製用ディスクに、位置的に高精度のピットを形成するこ
とができないという問題点があった。
【０００９】本発明は、かかる点に鑑み、光ディスク原
盤を作製する場合に使用する電子ビーム照射方法及び装
置であって、光ディスク原盤作製用パターンに、形状的
に同精度又は位置的に高精度のピットを形成することが
できるようにし、高品質の光ディスク原盤を得ることが
できるようにした電子ビーム照射方法及び装置を提供す
ることを目的とする。
盤を作製する場合に使用する電子ビーム照射方法及び装
置であって、光ディスク原盤作製用パターンに、形状的
に同精度又は位置的に高精度のピットを形成することが
できるようにし、高品質の光ディスク原盤を得ることが
できるようにした電子ビーム照射方法及び装置を提供す
ることを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明中、第１の発明
は、光ディスク原盤作製用ディスクを全ピット形成領域
で角速度一定となるように又は同心円状に区分されたピ
ット形成領域ごとに角速度一定となるように回転させな
がら前記光ディスク原盤作製用ディスクにピット形成の
ための電子ビームを照射する電子ビーム照射方法であっ
て、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように電子ビームを照射するというものであ
る。
は、光ディスク原盤作製用ディスクを全ピット形成領域
で角速度一定となるように又は同心円状に区分されたピ
ット形成領域ごとに角速度一定となるように回転させな
がら前記光ディスク原盤作製用ディスクにピット形成の
ための電子ビームを照射する電子ビーム照射方法であっ
て、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように電子ビームを照射するというものであ
る。
【００１１】第１の発明によれば、各ピット形成部分の
単位面積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディ
スクの半径方向の位置によらず一定となるように電子ビ
ームを照射するとしているので、光ディスク原盤作製用
ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状的に同
精度のピットを形成することができる。
単位面積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディ
スクの半径方向の位置によらず一定となるように電子ビ
ームを照射するとしているので、光ディスク原盤作製用
ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状的に同
精度のピットを形成することができる。
【００１２】本発明中、第２の発明は、第１の発明にお
いて、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるような電子ビームの照射は、各ピット形成
部分を１個の電子ビームパルスで描画し、かつ、同一の
角速度の下でピット形成部分を描画すべき領域内では、
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上、外側にな
るほど電子ビーム電流値が大きくなるように制御するこ
とにより行うというものである。
いて、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるような電子ビームの照射は、各ピット形成
部分を１個の電子ビームパルスで描画し、かつ、同一の
角速度の下でピット形成部分を描画すべき領域内では、
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上、外側にな
るほど電子ビーム電流値が大きくなるように制御するこ
とにより行うというものである。
【００１３】光ディスク原盤作製用ディスクを全ピット
形成領域で角速度一定となるように又は同心円状に区分
されたピット形成領域ごとに角速度一定となるように回
転させながら光ディスク原盤作製用ディスクに対して電
子ビームの照射を行うと、同一の角速度の下でピット形
成部分を描画すべき領域では、外側のピット形成部分ほ
ど線速度が速くなってしまい、各ピット形成部分を１個
の電子ビームパルスで描画しようとすると、外側のピッ
ト形成部分ほど単位面積あたりの電子ビーム照射時間が
短くなってしまい、仮に、電流値一定で電子ビームを照
射すると、光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向
上、外側のピット形成部分ほどドーズ量が少なくなって
しまう。
形成領域で角速度一定となるように又は同心円状に区分
されたピット形成領域ごとに角速度一定となるように回
転させながら光ディスク原盤作製用ディスクに対して電
子ビームの照射を行うと、同一の角速度の下でピット形
成部分を描画すべき領域では、外側のピット形成部分ほ
ど線速度が速くなってしまい、各ピット形成部分を１個
の電子ビームパルスで描画しようとすると、外側のピッ
ト形成部分ほど単位面積あたりの電子ビーム照射時間が
短くなってしまい、仮に、電流値一定で電子ビームを照
射すると、光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向
上、外側のピット形成部分ほどドーズ量が少なくなって
しまう。
【００１４】これに対して、第２の発明によれば、各ピ
ット形成部分を１個の電子ビームパルスで描画し、か
つ、同一の角速度の下でピット形成部分を描画すべき領
域内では、光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向
上、外側になるほど電子ビーム電流値が大きくなるよう
に制御するとしているので、外側のピット形成部分ほど
単位面積あたりの電子ビーム照射時間が短くても、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定とな
るようにすることができる。したがって、光ディスク原
盤作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形
状的に同精度のピットを形成することができる。
ット形成部分を１個の電子ビームパルスで描画し、か
つ、同一の角速度の下でピット形成部分を描画すべき領
域内では、光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向
上、外側になるほど電子ビーム電流値が大きくなるよう
に制御するとしているので、外側のピット形成部分ほど
単位面積あたりの電子ビーム照射時間が短くても、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定とな
るようにすることができる。したがって、光ディスク原
盤作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形
状的に同精度のピットを形成することができる。
【００１５】本発明中、第３の発明は、第１の発明にお
いて、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるような電子ビームの照射は、各ピット形成
部分を連続する複数の電子ビームパルスで描画し、か
つ、光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上の位置
に従って電子ビームパルスの間隔、又は、電子ビームパ
ルスの幅、又は、電子ビームパルスの間隔及び幅を制御
することにより行うというものである。
いて、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるような電子ビームの照射は、各ピット形成
部分を連続する複数の電子ビームパルスで描画し、か
つ、光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上の位置
に従って電子ビームパルスの間隔、又は、電子ビームパ
ルスの幅、又は、電子ビームパルスの間隔及び幅を制御
することにより行うというものである。
【００１６】第３の発明によれば、ピット形成部分を連
続する複数の電子ビームパルスで描画し、かつ、光ディ
スク原盤作製用ディスクの半径方向上の位置に従って電
子ビームパルスの間隔、又は、電子ビームパルスの幅、
又は、電子ビームパルスの間隔及び幅を制御するとして
いるので、外側のピット形成部分ほど線速度が速くと
も、各ピット形成部分の単位面積当たりの電子ビーム照
射量を同一にし、各ピット形成部分の単位面積当たりの
ドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の
位置によらず一定となるようにすることができる。した
がって、光ディスク原盤作製用ディスクに、その半径方
向の位置によらず、形状的に同精度のピットを形成する
ことができる。
続する複数の電子ビームパルスで描画し、かつ、光ディ
スク原盤作製用ディスクの半径方向上の位置に従って電
子ビームパルスの間隔、又は、電子ビームパルスの幅、
又は、電子ビームパルスの間隔及び幅を制御するとして
いるので、外側のピット形成部分ほど線速度が速くと
も、各ピット形成部分の単位面積当たりの電子ビーム照
射量を同一にし、各ピット形成部分の単位面積当たりの
ドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の
位置によらず一定となるようにすることができる。した
がって、光ディスク原盤作製用ディスクに、その半径方
向の位置によらず、形状的に同精度のピットを形成する
ことができる。
【００１７】本発明中、第４の発明は、第１の発明にお
いて、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるような電子ビームの照射は、各ピット形成
部分を電流値一定として電子ビームで照射した場合に、
各ピット形成部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように、ピット形成に最適とされるドーズ量
に届かない範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形
成部分を描画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用
ディスクの半径方向上、外側になるほどドーズ量が多く
なるように、電子ビームレジスト層のピット形成領域全
面を予め電子ビームで照射する第１の工程と、電流値一
定としてピット形成部分に電子ビームを照射する第２の
工程とを実行することにより行うというものである。
いて、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるような電子ビームの照射は、各ピット形成
部分を電流値一定として電子ビームで照射した場合に、
各ピット形成部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように、ピット形成に最適とされるドーズ量
に届かない範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形
成部分を描画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用
ディスクの半径方向上、外側になるほどドーズ量が多く
なるように、電子ビームレジスト層のピット形成領域全
面を予め電子ビームで照射する第１の工程と、電流値一
定としてピット形成部分に電子ビームを照射する第２の
工程とを実行することにより行うというものである。
【００１８】第４の発明によれば、第１の工程で、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定とな
るような電子ビームの照射は、各ピット形成部分を電流
値一定として電子ビームで照射した場合に、各ピット形
成部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光ディスク原
盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定となる
ように、ピット形成に最適とされるドーズ量に届かない
範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形成部分を描
画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用ディスクの
半径方向上、外側になるほどドーズ量が多くなるよう
に、電子ビームレジスト層のピット形成領域全面を予め
電子ビームで照射するするとしているので、第２の工程
で、電流値一定としてピット形成に必要な電子ビームを
照射する場合には、各ピット形成部分の単位面積当たり
のドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向
の位置によらず一定となるようにすることができる。し
たがって、光ディスク原盤作製用ディスクに、その半径
方向の位置によらず、形状的に同精度のピットを形成す
ることができる。
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定とな
るような電子ビームの照射は、各ピット形成部分を電流
値一定として電子ビームで照射した場合に、各ピット形
成部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光ディスク原
盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定となる
ように、ピット形成に最適とされるドーズ量に届かない
範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形成部分を描
画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用ディスクの
半径方向上、外側になるほどドーズ量が多くなるよう
に、電子ビームレジスト層のピット形成領域全面を予め
電子ビームで照射するするとしているので、第２の工程
で、電流値一定としてピット形成に必要な電子ビームを
照射する場合には、各ピット形成部分の単位面積当たり
のドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向
の位置によらず一定となるようにすることができる。し
たがって、光ディスク原盤作製用ディスクに、その半径
方向の位置によらず、形状的に同精度のピットを形成す
ることができる。
【００１９】本発明中、第５の発明は、光ディスク原盤
作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照射
する電子ビーム照射方法であって、各ピット形成部分の
単位面積当たりのドーズ量が近接するピット形成部分の
疎密によらず一定となるように電子ビーム照射量を補正
して電子ビームの照射を行うというものである。
作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照射
する電子ビーム照射方法であって、各ピット形成部分の
単位面積当たりのドーズ量が近接するピット形成部分の
疎密によらず一定となるように電子ビーム照射量を補正
して電子ビームの照射を行うというものである。
【００２０】各ピット形成部分は、近接するピット形成
部分に対する電子ビームの照射による近接効果の影響を
受け、その大きさは、近接するピット形成部分が疎であ
るほど小さく、密であるほど大きくなるが、第５の発明
によれば、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ
量が近接するピット形成部分の疎密によらず一定となる
ように電子ビーム照射量を補正して電子ビームの照射を
行うとしているので、光ディスク原盤作製用ディスク
に、近接するピットの疎密によらず、形状的に同精度の
ピットを形成することができる。
部分に対する電子ビームの照射による近接効果の影響を
受け、その大きさは、近接するピット形成部分が疎であ
るほど小さく、密であるほど大きくなるが、第５の発明
によれば、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ
量が近接するピット形成部分の疎密によらず一定となる
ように電子ビーム照射量を補正して電子ビームの照射を
行うとしているので、光ディスク原盤作製用ディスク
に、近接するピットの疎密によらず、形状的に同精度の
ピットを形成することができる。
【００２１】本発明中、第６の発明は、光ディスク原盤
作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照射
する電子ビーム照射方法であって、各ピット形成部分の
単位面積当たりのドーズ量が各ピット形成部分の長さに
よらず一定となるように電子ビーム照射量を補正して電
子ビームの照射を行うというものである。
作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照射
する電子ビーム照射方法であって、各ピット形成部分の
単位面積当たりのドーズ量が各ピット形成部分の長さに
よらず一定となるように電子ビーム照射量を補正して電
子ビームの照射を行うというものである。
【００２２】各ピット形成部分は、電子ビームの照射に
より、その内部で近接効果の影響を受け、その大きさ
は、ピット形成部分が短いほど小さく、長いほど大きく
なるが、第６の発明によれば、各ピット形成部分の単位
面積当たりのドーズ量が各ピット形成部分の長さによら
ず一定となるように電子ビーム照射量を補正して電子ビ
ームの照射を行うとしているので、光ディスク原盤作製
用ディスクに、ピットの長さによらず、形状的に同精度
のピットを形成することができる。
より、その内部で近接効果の影響を受け、その大きさ
は、ピット形成部分が短いほど小さく、長いほど大きく
なるが、第６の発明によれば、各ピット形成部分の単位
面積当たりのドーズ量が各ピット形成部分の長さによら
ず一定となるように電子ビーム照射量を補正して電子ビ
ームの照射を行うとしているので、光ディスク原盤作製
用ディスクに、ピットの長さによらず、形状的に同精度
のピットを形成することができる。
【００２３】本発明中、第７の発明は、光ディスク原盤
作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照射
する電子ビーム照射方法であって、光ディスク原盤作製
用ディスクの回転中心の偏芯量を検出し、光ディスク原
盤作製用ディスクの回転中心の偏芯による電子ビーム照
射位置を補正して電子ビームの照射を行うというもので
ある。
作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照射
する電子ビーム照射方法であって、光ディスク原盤作製
用ディスクの回転中心の偏芯量を検出し、光ディスク原
盤作製用ディスクの回転中心の偏芯による電子ビーム照
射位置を補正して電子ビームの照射を行うというもので
ある。
【００２４】第７の発明によれば、光ディスク原盤作製
用ディスクの回転中心の偏芯量を検出し、光ディスク原
盤作製用ディスクの回転中心の偏芯による電子ビーム照
射位置を補正して電子ビームの照射を行うとしているの
で、光ディスク原盤作製用ディスクに、位置的に高精度
のピットを形成することができる。
用ディスクの回転中心の偏芯量を検出し、光ディスク原
盤作製用ディスクの回転中心の偏芯による電子ビーム照
射位置を補正して電子ビームの照射を行うとしているの
で、光ディスク原盤作製用ディスクに、位置的に高精度
のピットを形成することができる。
【００２５】本発明中、第８の発明は、第７の発明にお
いて、光ディスク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯
量の検出は、光ディスク原盤作製用ディスクを回転させ
ている回転軸の軸振れ量を容量センサで検出することに
より行うというものである。
いて、光ディスク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯
量の検出は、光ディスク原盤作製用ディスクを回転させ
ている回転軸の軸振れ量を容量センサで検出することに
より行うというものである。
【００２６】本発明中、第８の発明によれば、第７の発
明と同様に、形状的に同精度かつ位置的に高精度のピッ
トを形成することができると共に、光ディスク原盤作製
用ディスクの回転中心の偏芯量を容易に検出することが
できる。
明と同様に、形状的に同精度かつ位置的に高精度のピッ
トを形成することができると共に、光ディスク原盤作製
用ディスクの回転中心の偏芯量を容易に検出することが
できる。
【００２７】本発明中、第９の発明は、第７又は第８の
発明において、光ディスク原盤作製用ディスクの回転中
心の偏芯の補正は、電子ビームを偏向する電子ビーム偏
向手段をフィードバック制御することにより行うという
ものである。
発明において、光ディスク原盤作製用ディスクの回転中
心の偏芯の補正は、電子ビームを偏向する電子ビーム偏
向手段をフィードバック制御することにより行うという
ものである。
【００２８】本発明中、第１０の発明は、光ディスク原
盤作製用ディスクの回転中心の偏芯の補正は、光ディス
ク原盤作製用ディスクの水平位置をフィードバック制御
することにより行うというものである。
盤作製用ディスクの回転中心の偏芯の補正は、光ディス
ク原盤作製用ディスクの水平位置をフィードバック制御
することにより行うというものである。
【００２９】本発明中、第１１の発明は、光ディスク原
盤作製用ディスクを全ピット形成領域で角速度一定とな
るように又は同心円状に区分されたピット形成領域ごと
に角速度一定となるように回転させながら前記光ディス
ク原盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビーム
を照射する電子ビーム照射装置であって、電子ビーム照
射装置の発明であり、光ディスク原盤作製用ディスクを
保持して回転させる光ディスク原盤作製用ディスク保持
回転手段と、光ディスク原盤作製用ディスクの電子ビー
ムレジスト層に電子ビームを照射する電子ビーム照射手
段と、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるように電子ビーム照射手段を制御する電子
ビーム照射制御手段とを備えているというものである。
盤作製用ディスクを全ピット形成領域で角速度一定とな
るように又は同心円状に区分されたピット形成領域ごと
に角速度一定となるように回転させながら前記光ディス
ク原盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビーム
を照射する電子ビーム照射装置であって、電子ビーム照
射装置の発明であり、光ディスク原盤作製用ディスクを
保持して回転させる光ディスク原盤作製用ディスク保持
回転手段と、光ディスク原盤作製用ディスクの電子ビー
ムレジスト層に電子ビームを照射する電子ビーム照射手
段と、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によら
ず一定となるように電子ビーム照射手段を制御する電子
ビーム照射制御手段とを備えているというものである。
【００３０】第１１の発明によれば、光ディスク原盤作
製用ディスクの電子ビームレジスト層の各ピット形成部
分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用
ディスクの半径方向の位置によらず一定となるように電
子ビーム照射手段を制御する電子ビーム照射制御手段を
備えているので、第１の発明の電子ビーム照射方法を実
行することができ、光ディスク原盤作製用ディスクに、
その半径方向の位置によらず、形状的に同精度のピット
を形成することができる。
製用ディスクの電子ビームレジスト層の各ピット形成部
分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用
ディスクの半径方向の位置によらず一定となるように電
子ビーム照射手段を制御する電子ビーム照射制御手段を
備えているので、第１の発明の電子ビーム照射方法を実
行することができ、光ディスク原盤作製用ディスクに、
その半径方向の位置によらず、形状的に同精度のピット
を形成することができる。
【００３１】本発明中、第１２の発明は、第１１の発明
において、電子ビーム照射制御手段は、各ピット形成部
分を１個の電子ビームパルスで描画し、かつ、同一の角
速度の下でピット形成部分を描画すべき領域内では、光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上、外側になる
ほど電子ビーム電流値が大きくなるようにすることによ
り、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように電子ビーム照射手段を制御するという
ものである。
において、電子ビーム照射制御手段は、各ピット形成部
分を１個の電子ビームパルスで描画し、かつ、同一の角
速度の下でピット形成部分を描画すべき領域内では、光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上、外側になる
ほど電子ビーム電流値が大きくなるようにすることによ
り、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように電子ビーム照射手段を制御するという
ものである。
【００３２】第１２の発明によれば、第２の発明の電子
ビーム照射方法を実行することができ、光ディスク原盤
作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状
的に同精度のピットを形成することができる。
ビーム照射方法を実行することができ、光ディスク原盤
作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状
的に同精度のピットを形成することができる。
【００３３】本発明中、第１３の発明は、第１１の発明
において、電子ビーム照射制御手段は、各ピット形成部
分を連続する複数の電子ビームパルスで描画し、かつ、
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上の位置に従
って電子ビームパルスの間隔、又は、電子ビームパルス
の幅、又は、電子ビームパルスの間隔及び幅を制御する
ことにより、各ピット形成部分の単位面積当たりのドー
ズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置
によらず一定となるように電子ビーム照射手段を制御す
るというものである。
において、電子ビーム照射制御手段は、各ピット形成部
分を連続する複数の電子ビームパルスで描画し、かつ、
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上の位置に従
って電子ビームパルスの間隔、又は、電子ビームパルス
の幅、又は、電子ビームパルスの間隔及び幅を制御する
ことにより、各ピット形成部分の単位面積当たりのドー
ズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置
によらず一定となるように電子ビーム照射手段を制御す
るというものである。
【００３４】第１３の発明によれば、第３の発明の電子
ビーム照射方法を実行することができ、光ディスク原盤
作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状
的に同精度のピットを形成することができる。
ビーム照射方法を実行することができ、光ディスク原盤
作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状
的に同精度のピットを形成することができる。
【００３５】本発明中、第１４の発明は、第１１の発明
において、電子ビーム照射制御手段は、各ピット形成部
分を電流値一定として電子ビームで照射した場合に、各
ピット形成部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光デ
ィスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一
定となるように、ピット形成に最適とされるドーズ量に
届かない範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形成
部分を描画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用デ
ィスクの半径方向上、外側になるほどドーズ量が多くな
るように、電子ビームレジスト層のピット形成領域全面
を予め電子ビームで照射する第１の工程と、電流値一定
としてピット形成部分に電子ビームを照射する第２の工
程とを実行することにより、各ピット形成部分の単位面
積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの
半径方向の位置によらず一定となるように電子ビーム照
射手段を制御するというものである。
において、電子ビーム照射制御手段は、各ピット形成部
分を電流値一定として電子ビームで照射した場合に、各
ピット形成部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光デ
ィスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一
定となるように、ピット形成に最適とされるドーズ量に
届かない範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形成
部分を描画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用デ
ィスクの半径方向上、外側になるほどドーズ量が多くな
るように、電子ビームレジスト層のピット形成領域全面
を予め電子ビームで照射する第１の工程と、電流値一定
としてピット形成部分に電子ビームを照射する第２の工
程とを実行することにより、各ピット形成部分の単位面
積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの
半径方向の位置によらず一定となるように電子ビーム照
射手段を制御するというものである。
【００３６】第１４の発明によれば、第４の発明の電子
ビーム照射方法を実行することができ、光ディスク原盤
作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状
的に同精度のピットを形成することができる。
ビーム照射方法を実行することができ、光ディスク原盤
作製用ディスクに、その半径方向の位置によらず、形状
的に同精度のピットを形成することができる。
【００３７】本発明中、第１５の発明は、光ディスク原
盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照
射する電子ビーム照射装置であって、光ディスク原盤作
製用ディスクを保持して回転させる光ディスク原盤作製
用ディスク保持回転手段と、光ディスク原盤作製用ディ
スクの電子ビームレジスト層に電子ビームを照射する電
子ビーム照射手段と、各ピット形成部分の単位面積当た
りのドーズ量が近接するピット形成部分の疎密によらず
一定となるように電子ビーム照射量を補正して電子ビー
ム照射手段を制御する電子ビーム照射制御手段とを備え
ているというものである。
盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照
射する電子ビーム照射装置であって、光ディスク原盤作
製用ディスクを保持して回転させる光ディスク原盤作製
用ディスク保持回転手段と、光ディスク原盤作製用ディ
スクの電子ビームレジスト層に電子ビームを照射する電
子ビーム照射手段と、各ピット形成部分の単位面積当た
りのドーズ量が近接するピット形成部分の疎密によらず
一定となるように電子ビーム照射量を補正して電子ビー
ム照射手段を制御する電子ビーム照射制御手段とを備え
ているというものである。
【００３８】第１５の発明によれば、各ピット形成部分
の単位面積当たりのドーズ量が近接するピット形成部分
の疎密によらず一定となるように電子ビーム照射量を補
正して電子ビーム照射手段を備えているので、第５の発
明の電子ビーム照射方法を実行することができ、光ディ
スク原盤作製用ディスクに、近接するピットの疎密によ
らず、形状的に同精度のピットを形成することができ
る。
の単位面積当たりのドーズ量が近接するピット形成部分
の疎密によらず一定となるように電子ビーム照射量を補
正して電子ビーム照射手段を備えているので、第５の発
明の電子ビーム照射方法を実行することができ、光ディ
スク原盤作製用ディスクに、近接するピットの疎密によ
らず、形状的に同精度のピットを形成することができ
る。
【００３９】本発明中、第１６の発明は、光ディスク原
盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照
射する電子ビーム照射装置であって、光ディスク原盤作
製用ディスクを保持して回転させる光ディスク原盤作製
用ディスク保持回転手段と、光ディスク原盤作製用ディ
スクの電子ビームレジスト層に電子ビームを照射する電
子ビーム照射手段と、各ピット形成部分の単位面積当た
りのドーズ量が各ピット形成部分の長さによらず一定と
なるように電子ビーム照射量を補正して電子ビーム照射
手段を制御する電子ビーム照射制御手段とを備えている
というものである。
盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照
射する電子ビーム照射装置であって、光ディスク原盤作
製用ディスクを保持して回転させる光ディスク原盤作製
用ディスク保持回転手段と、光ディスク原盤作製用ディ
スクの電子ビームレジスト層に電子ビームを照射する電
子ビーム照射手段と、各ピット形成部分の単位面積当た
りのドーズ量が各ピット形成部分の長さによらず一定と
なるように電子ビーム照射量を補正して電子ビーム照射
手段を制御する電子ビーム照射制御手段とを備えている
というものである。
【００４０】第１６の発明によれば、各ピット形成部分
の単位面積当たりのドーズ量が各ピット形成部分の長さ
によらず一定となるように電子ビーム照射量を補正して
電子ビーム照射手段を制御する電子ビーム照射制御手段
とを備えているので、第６の発明の電子ビーム照射方法
を実行することができ、光ディスク原盤作製用ディスク
に、ピットの長さによらず、形状的に同精度のピットを
形成することができる。
の単位面積当たりのドーズ量が各ピット形成部分の長さ
によらず一定となるように電子ビーム照射量を補正して
電子ビーム照射手段を制御する電子ビーム照射制御手段
とを備えているので、第６の発明の電子ビーム照射方法
を実行することができ、光ディスク原盤作製用ディスク
に、ピットの長さによらず、形状的に同精度のピットを
形成することができる。
【００４１】本発明中、第１７の発明は、光ディスク原
盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照
射する電子ビーム照射装置であって、光ディスク原盤作
製用ディスクを保持して回転させる光ディスク原盤作製
用ディスク保持回転手段と、光ディスク原盤作製用ディ
スクの電子ビームレジスト層に電子ビームを照射する電
子ビーム照射手段と、光ディスク原盤作製用ディスクの
回転中心の偏芯量を検出する光ディスク原盤作製用ディ
スク回転中心偏芯量検出手段と、光ディスク原盤作製用
ディスク回転中心偏芯量検出手段により検出した光ディ
スク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯量に基づいて
光ディスク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯による
電子ビーム照射位置を補正する光ディスク原盤作製用デ
ィスク回転中心偏芯補正手段とを備えているというもの
である。
盤作製用ディスクにピット形成のための電子ビームを照
射する電子ビーム照射装置であって、光ディスク原盤作
製用ディスクを保持して回転させる光ディスク原盤作製
用ディスク保持回転手段と、光ディスク原盤作製用ディ
スクの電子ビームレジスト層に電子ビームを照射する電
子ビーム照射手段と、光ディスク原盤作製用ディスクの
回転中心の偏芯量を検出する光ディスク原盤作製用ディ
スク回転中心偏芯量検出手段と、光ディスク原盤作製用
ディスク回転中心偏芯量検出手段により検出した光ディ
スク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯量に基づいて
光ディスク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯による
電子ビーム照射位置を補正する光ディスク原盤作製用デ
ィスク回転中心偏芯補正手段とを備えているというもの
である。
【００４２】第１７の発明によれば、光ディスク原盤作
製用ディスク回転中心偏芯量検出手段と、光ディスク原
盤作製用ディスク回転中心偏芯補正手段とを備えている
ので、第７の発明の電子ビーム照射方法を実行すること
ができ、光ディスク原盤作製用ディスクに、位置的に高
精度のピットを形成することができる。
製用ディスク回転中心偏芯量検出手段と、光ディスク原
盤作製用ディスク回転中心偏芯補正手段とを備えている
ので、第７の発明の電子ビーム照射方法を実行すること
ができ、光ディスク原盤作製用ディスクに、位置的に高
精度のピットを形成することができる。
【００４３】本発明中、第１８の発明は、第１７の発明
において、光ディスク原盤作製用ディスク回転中心偏芯
量検出手段は、光ディスク原盤作製用ディスク保持回転
手段が備える回転軸の軸振れ量を検出する容量センサを
備えて構成されているというものである。
において、光ディスク原盤作製用ディスク回転中心偏芯
量検出手段は、光ディスク原盤作製用ディスク保持回転
手段が備える回転軸の軸振れ量を検出する容量センサを
備えて構成されているというものである。
【００４４】第１８の発明によれば、第１７の発明と同
様に、形状的に同精度かつ位置的に高精度のピットを形
成することができると共に、光ディスク原盤作製用ディ
スク回転中心偏芯量検出手段を簡単な構成とすることが
できる。
様に、形状的に同精度かつ位置的に高精度のピットを形
成することができると共に、光ディスク原盤作製用ディ
スク回転中心偏芯量検出手段を簡単な構成とすることが
できる。
【００４５】本発明中、第１９の発明は、第１７又は第
１８の発明において、光ディスク原盤作製用ディスク回
転中心偏芯補正手段は、電子ビームを偏向する電子ビー
ム偏向手段をフィードバック制御するフィードバック制
御手段を備えて構成されているというものである。
１８の発明において、光ディスク原盤作製用ディスク回
転中心偏芯補正手段は、電子ビームを偏向する電子ビー
ム偏向手段をフィードバック制御するフィードバック制
御手段を備えて構成されているというものである。
【００４６】本発明中、第２０の発明は、第１７又は第
１８の発明において、光ディスク原盤作製用ディスク回
転中心偏芯補正手段は、光ディスク原盤作製用ディスク
保持回転手段の位置をフィードバック制御するフィード
バック制御手段を備えて構成されているというものであ
る。
１８の発明において、光ディスク原盤作製用ディスク回
転中心偏芯補正手段は、光ディスク原盤作製用ディスク
保持回転手段の位置をフィードバック制御するフィード
バック制御手段を備えて構成されているというものであ
る。
【００４７】
【発明の実施の形態】以下、図１〜図８を参照して、本
発明の電子ビーム照射方法及び装置の実施形態について
説明する。
発明の電子ビーム照射方法及び装置の実施形態について
説明する。
【００４８】図１は本発明の電子ビーム照射装置の一実
施形態の概念図である。図１中、１は電子ビーム鏡筒、
２は電子ビーム３を射出する電子銃、４は電子ビーム３
を集束する集束レンズ、５は電子ビーム３の下流への進
行を制御するブランキング電極、６は電子ビーム３の径
を絞るための絞り孔７が形成された絞り板である。
施形態の概念図である。図１中、１は電子ビーム鏡筒、
２は電子ビーム３を射出する電子銃、４は電子ビーム３
を集束する集束レンズ、５は電子ビーム３の下流への進
行を制御するブランキング電極、６は電子ビーム３の径
を絞るための絞り孔７が形成された絞り板である。
【００４９】また、８は対物レンズ、９は絞り孔７を通
過した電子ビーム３を偏向する偏向器、１０は電子ビー
ム３の照射を受ける光ディスク原盤作製用ディスク、１
１は光ディスク原盤作製用ディスク１０を保持して回転
させるためのスピンドルモータ、１２はスピンドルモー
タ１１を搭載して水平の一方向に移動可能とされた１軸
可動ステージである。
過した電子ビーム３を偏向する偏向器、１０は電子ビー
ム３の照射を受ける光ディスク原盤作製用ディスク、１
１は光ディスク原盤作製用ディスク１０を保持して回転
させるためのスピンドルモータ、１２はスピンドルモー
タ１１を搭載して水平の一方向に移動可能とされた１軸
可動ステージである。
【００５０】また、１３は電子銃２を駆動する電子銃駆
動回路、１４は集束レンズ４を駆動する集束レンズ駆動
回路、１５はブランキング電極５を駆動するブランキン
グ電極駆動回路、１６は対物レンズ８を駆動する対物レ
ンズ駆動回路、１７は偏向器９を駆動する偏向器駆動回
路、１８はスピンドルモータ１１を駆動するモータ駆動
回路、１９は１軸可動ステージ１２を駆動するステージ
駆動手段である。
動回路、１４は集束レンズ４を駆動する集束レンズ駆動
回路、１５はブランキング電極５を駆動するブランキン
グ電極駆動回路、１６は対物レンズ８を駆動する対物レ
ンズ駆動回路、１７は偏向器９を駆動する偏向器駆動回
路、１８はスピンドルモータ１１を駆動するモータ駆動
回路、１９は１軸可動ステージ１２を駆動するステージ
駆動手段である。
【００５１】また、二点鎖線２０で囲む部分は、スピン
ドルモータ１１内の一部分を概念的に示しており、２１
はスピンドルモータ１１の回転軸、２２は光ディスク原
盤作製用ディスク保持部、２３、２４は回転軸２１の軸
振れ量を検出する容量センサ、２５は容量センサ２３、
２４の出力から光ディスク原盤作製用ディスク１０の回
転中心の偏芯量を検出する光ディスク原盤作製用ディス
ク回転中心偏芯量検出手段である。
ドルモータ１１内の一部分を概念的に示しており、２１
はスピンドルモータ１１の回転軸、２２は光ディスク原
盤作製用ディスク保持部、２３、２４は回転軸２１の軸
振れ量を検出する容量センサ、２５は容量センサ２３、
２４の出力から光ディスク原盤作製用ディスク１０の回
転中心の偏芯量を検出する光ディスク原盤作製用ディス
ク回転中心偏芯量検出手段である。
【００５２】また、２６は電子銃駆動回路１３、集束用
レンズ駆動回路１４、ブランキング電極駆動回路１５、
対物レンズ駆動回路１６、偏向器駆動回路１７、モータ
駆動回路１８及びステージ駆動手段１９を制御する制御
計算機である。
レンズ駆動回路１４、ブランキング電極駆動回路１５、
対物レンズ駆動回路１６、偏向器駆動回路１７、モータ
駆動回路１８及びステージ駆動手段１９を制御する制御
計算機である。
【００５３】また、２７は電子銃２を含めた電子光学条
件を変化させた場合に焦点位置の変動や電子ビーム３の
照射位置の変動等の補正に必要な電子光学素子の設定値
を記憶する設定値テーブルである。
件を変化させた場合に焦点位置の変動や電子ビーム３の
照射位置の変動等の補正に必要な電子光学素子の設定値
を記憶する設定値テーブルである。
【００５４】このように構成された本発明の電子ビーム
照射装置の一実施形態においては、制御計算機２６によ
るモータ駆動回路１８の制御により、光ディスク原盤作
製用ディスク１０を角速度一定で回転させ、ピット形成
領域内の全ピット形成部分に対する電子ビームの照射を
行うことができるし、あるいは、同心円状に区分された
複数のピット形成領域を各ピット形成領域ごとに異なる
角速度で回転させ、各ピット形成部分の電子ビーム照射
を行うことができる。
照射装置の一実施形態においては、制御計算機２６によ
るモータ駆動回路１８の制御により、光ディスク原盤作
製用ディスク１０を角速度一定で回転させ、ピット形成
領域内の全ピット形成部分に対する電子ビームの照射を
行うことができるし、あるいは、同心円状に区分された
複数のピット形成領域を各ピット形成領域ごとに異なる
角速度で回転させ、各ピット形成部分の電子ビーム照射
を行うことができる。
【００５５】また、本発明の電子ビーム照射装置の一実
施形態においては、各ピット形成部分の単位面積当たり
のドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスク１０の半径
方向の位置によらず一定となるような電子ビームの照射
を行うことができる。
施形態においては、各ピット形成部分の単位面積当たり
のドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスク１０の半径
方向の位置によらず一定となるような電子ビームの照射
を行うことができる。
【００５６】ここに、光ディスク原盤作製用ディスク１
０の各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によ
らず一定となるような電子ビーム３の照射は、たとえ
ば、次に述べる第１、第２又は第３の電子ビーム照射方
法を実行することにより行うことができる。
０の各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によ
らず一定となるような電子ビーム３の照射は、たとえ
ば、次に述べる第１、第２又は第３の電子ビーム照射方
法を実行することにより行うことができる。
【００５７】図２及び図３は第１の電子ビーム照射方法
を説明するための図であり、第１の電子ビーム照射方法
は、各ピット形成部分を１個の電子ビームパルスで照射
することを前提とするものである。
を説明するための図であり、第１の電子ビーム照射方法
は、各ピット形成部分を１個の電子ビームパルスで照射
することを前提とするものである。
【００５８】即ち、第１の電子ビーム照射方法において
は、図２に示すように、電子銃２から連続的に射出され
る電子ビーム３は、ブランキング電極５によって絞り孔
７より下流への進行制御が行われ、各ピット形成部分を
照射するための電子ビームパルス２９−１、２９−２、
２９−３・・・に加工され、これら電子ビームパルス２
９−１、２９−２、２９−３・・・が光ディスク原盤作
製用ディスク１０の電子ビームレジスト層３０に照射さ
れることになる。したがって、第１の電子ビーム照射方
法においては、図３に矢印で示すように、各ピット形成
部分は、電子ビーム３により連続的に照射されることに
なる。
は、図２に示すように、電子銃２から連続的に射出され
る電子ビーム３は、ブランキング電極５によって絞り孔
７より下流への進行制御が行われ、各ピット形成部分を
照射するための電子ビームパルス２９−１、２９−２、
２９−３・・・に加工され、これら電子ビームパルス２
９−１、２９−２、２９−３・・・が光ディスク原盤作
製用ディスク１０の電子ビームレジスト層３０に照射さ
れることになる。したがって、第１の電子ビーム照射方
法においては、図３に矢印で示すように、各ピット形成
部分は、電子ビーム３により連続的に照射されることに
なる。
【００５９】このように、第１の電子ビーム照射方法
は、各ピット形成部分を１個の電子ビームパルスで照射
することを前提とした上で、光ディスク原盤作製用ディ
スク１０の半径方向上、同一の角速度の下でピット形成
部分を描画すべき領域内では、外側になるほど電子ビー
ム電流値が大きくなるように電子ビーム電流値を制御す
るというものである。
は、各ピット形成部分を１個の電子ビームパルスで照射
することを前提とした上で、光ディスク原盤作製用ディ
スク１０の半径方向上、同一の角速度の下でピット形成
部分を描画すべき領域内では、外側になるほど電子ビー
ム電流値が大きくなるように電子ビーム電流値を制御す
るというものである。
【００６０】このようにする場合には、光ディスク原盤
作製用ディスク１０の半径方向上、同一の角速度の下で
ピット形成部分を描画すべき領域内では、外側のピット
形成部分ほど、単位時間当たりに注入される電子量が多
くなるので、光ディスク原盤作製用ディスク１０の各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によらず一定
となるようにすることができる。
作製用ディスク１０の半径方向上、同一の角速度の下で
ピット形成部分を描画すべき領域内では、外側のピット
形成部分ほど、単位時間当たりに注入される電子量が多
くなるので、光ディスク原盤作製用ディスク１０の各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によらず一定
となるようにすることができる。
【００６１】なお、各ピット形成部分を１個の電子ビー
ムパルスで照射するように制御することは、制御計算機
２６がブランキング電極駆動回路１５を制御してブラン
キング電極５の動作を制御するように設定することで行
うことができる。
ムパルスで照射するように制御することは、制御計算機
２６がブランキング電極駆動回路１５を制御してブラン
キング電極５の動作を制御するように設定することで行
うことができる。
【００６２】また、電子ビーム電流値の制御は、制御計
算機２６が電子銃駆動回路１３を制御して電子銃２の動
作条件を変えるか、又は、集束レンズ駆動回路１４を制
御して集束レンズ４の動作条件を変えるように設定する
ことで行うことができる。
算機２６が電子銃駆動回路１３を制御して電子銃２の動
作条件を変えるか、又は、集束レンズ駆動回路１４を制
御して集束レンズ４の動作条件を変えるように設定する
ことで行うことができる。
【００６３】図４及び図５は第２の電子ビーム照射方法
を説明するための図であり、第２の電子ビーム照射方法
は、電子ビーム電流値は一定とし、各ピット形成部分を
連続する複数の電子ビームパルスで照射することを前提
とするものである。
を説明するための図であり、第２の電子ビーム照射方法
は、電子ビーム電流値は一定とし、各ピット形成部分を
連続する複数の電子ビームパルスで照射することを前提
とするものである。
【００６４】即ち、第２の電子ビーム照射方法において
は、図４に示すように、電子銃２から連続的に射出され
る電子ビーム３は、ブランキング電極５によって絞り孔
７より下流への進行制御が行われ、各ピット形成部分を
照射するための複数の連続する電子ビームパルスからな
る電子ビームパルス群３２−１、３２−２、３２−３・
・・に加工され、これら電子ビームパルス群３２−１、
３２−２、３２−３・・・が光ディスク原盤作製用ディ
スク１０の電子ビームレジスト層３０に照射されること
になる。したがって、第２の電子ビーム照射方法におい
ては、図５に矢印で示すように、各ピット形成部分は、
電子ビーム３により間欠的に照射されることになる。
は、図４に示すように、電子銃２から連続的に射出され
る電子ビーム３は、ブランキング電極５によって絞り孔
７より下流への進行制御が行われ、各ピット形成部分を
照射するための複数の連続する電子ビームパルスからな
る電子ビームパルス群３２−１、３２−２、３２−３・
・・に加工され、これら電子ビームパルス群３２−１、
３２−２、３２−３・・・が光ディスク原盤作製用ディ
スク１０の電子ビームレジスト層３０に照射されること
になる。したがって、第２の電子ビーム照射方法におい
ては、図５に矢印で示すように、各ピット形成部分は、
電子ビーム３により間欠的に照射されることになる。
【００６５】このように、第２の電子ビーム照射方法
は、電子ビーム電流値は一定とし、各ピット形成部分を
連続する複数の電子ビームパルスで照射することを前提
とした上で、光ディスク原盤作製用ディスク１０の半径
方向上の位置に従って電子ビームパルスの間隔、又は、
電子ビームパルスの幅、又は、電子ビームパルスの間隔
及び幅を制御するというものである。
は、電子ビーム電流値は一定とし、各ピット形成部分を
連続する複数の電子ビームパルスで照射することを前提
とした上で、光ディスク原盤作製用ディスク１０の半径
方向上の位置に従って電子ビームパルスの間隔、又は、
電子ビームパルスの幅、又は、電子ビームパルスの間隔
及び幅を制御するというものである。
【００６６】このようにする場合には、同一の角速度の
下でピット形成部分を描画すべき領域内では、外側のピ
ット形成部分ほど線速度が速くとも、各ピット形成部分
の単位面積当たりの電子ビーム照射量を同一にし、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によらず一定
となるようにすることができる。
下でピット形成部分を描画すべき領域内では、外側のピ
ット形成部分ほど線速度が速くとも、各ピット形成部分
の単位面積当たりの電子ビーム照射量を同一にし、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク
原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によらず一定
となるようにすることができる。
【００６７】なお、各ピット形成部分を連続する複数の
電子ビームパルスで照射するように制御すること及び電
子ビームパルスの間隔の制御は、制御計算機２６がブラ
ンキング電極駆動回路１５を制御してブランキング電極
５の動作を制御するように設定することで行うことがで
きる。
電子ビームパルスで照射するように制御すること及び電
子ビームパルスの間隔の制御は、制御計算機２６がブラ
ンキング電極駆動回路１５を制御してブランキング電極
５の動作を制御するように設定することで行うことがで
きる。
【００６８】また、図６は第３の電子ビーム照射方法を
説明するための図であり、第３の電子ビーム照射方法
は、まず、図６（Ａ）に示すように、予備照射工程を実
行した後、図６（Ｂ）に示すように、本照射工程を行う
ことにより、光ディスク原盤作製用ディスク１０の各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が各ピット形
成部分の線速度によらず一定となるように電子ビームの
照射を行うというものである。
説明するための図であり、第３の電子ビーム照射方法
は、まず、図６（Ａ）に示すように、予備照射工程を実
行した後、図６（Ｂ）に示すように、本照射工程を行う
ことにより、光ディスク原盤作製用ディスク１０の各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が各ピット形
成部分の線速度によらず一定となるように電子ビームの
照射を行うというものである。
【００６９】予備照射とは、各ピット形成部分を電流値
一定として電子ビームで照射した場合に、各ピット形成
部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光ディスク原盤
作製用ディスク１０の半径方向の位置によらず一定とな
るように、ピット形成に最適とされるドーズ量に届かな
い範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形成部分を
描画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用ディスク
１０の半径方向上、外側になるほどドーズ量が多くなる
ように、電子ビームレジスト層３０のピット形成領域全
面を予め電子ビームで照射するというものである。
一定として電子ビームで照射した場合に、各ピット形成
部分の単位面積当たりの合計ドーズ量が光ディスク原盤
作製用ディスク１０の半径方向の位置によらず一定とな
るように、ピット形成に最適とされるドーズ量に届かな
い範囲で、かつ、同一の角速度の下でピット形成部分を
描画すべき領域内では、光ディスク原盤作製用ディスク
１０の半径方向上、外側になるほどドーズ量が多くなる
ように、電子ビームレジスト層３０のピット形成領域全
面を予め電子ビームで照射するというものである。
【００７０】本照射工程とは、予備工程後に、各ピット
形成部分に対して、電流値一定とし、各ピット形成部分
の単位面積当たりの予備照射工程との合計ドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によ
らず一定、かつ、ピット形成に最適なドーズ量となるよ
うに、電子ビームを照射するというものである。
形成部分に対して、電流値一定とし、各ピット形成部分
の単位面積当たりの予備照射工程との合計ドーズ量が光
ディスク原盤作製用ディスク１０の半径方向の位置によ
らず一定、かつ、ピット形成に最適なドーズ量となるよ
うに、電子ビームを照射するというものである。
【００７１】なお、本照射工程は、第１の電子ビーム照
射方法のように、各ピット形成部分を１個の電子ビーム
パルスで照射するようにしても良いし、あるいは、第２
の電子ビーム照射方法のように、各ピット形成部分を連
続する複数の電子ビームパルスで照射するようにしても
良い。
射方法のように、各ピット形成部分を１個の電子ビーム
パルスで照射するようにしても良いし、あるいは、第２
の電子ビーム照射方法のように、各ピット形成部分を連
続する複数の電子ビームパルスで照射するようにしても
良い。
【００７２】また、図７は本発明の電子ビーム照射装置
の一実施形態を使用して電子ビームの照射を行う場合に
実行する電子ビーム照射量補正方法を説明するための前
提として、後方散乱電子による露光を説明するための図
であり、図７（Ａ）は光ディスク原盤作製用ディスク１
０の概略的断面図、図７（Ｂ）は光ディスク原盤作製用
ディスク１０の概略的平面図を示している。
の一実施形態を使用して電子ビームの照射を行う場合に
実行する電子ビーム照射量補正方法を説明するための前
提として、後方散乱電子による露光を説明するための図
であり、図７（Ａ）は光ディスク原盤作製用ディスク１
０の概略的断面図、図７（Ｂ）は光ディスク原盤作製用
ディスク１０の概略的平面図を示している。
【００７３】即ち、電子ビームレジスト層３０に電子ビ
ーム３を照射すると、電子ビーム３を構成していた電子
は、電子ビームレジスト層３０の内部で散乱し、その過
程で、電子ビームレジスト分子間の結合に化学的に作用
しながらエネルギーを吸収され、電子ビームレジスト層
３０が感光されることになる。
ーム３を照射すると、電子ビーム３を構成していた電子
は、電子ビームレジスト層３０の内部で散乱し、その過
程で、電子ビームレジスト分子間の結合に化学的に作用
しながらエネルギーを吸収され、電子ビームレジスト層
３０が感光されることになる。
【００７４】他方で、電子ビーム３が数１０ＫＶ以上の
高エネルギーの場合には、電子ビームレジスト層３０に
吸収されず、電子ビームレジスト層３０が塗布された基
板３３に到達し、その表面で散乱を受け、あたかも入射
電子のように電子ビームレジスト層３０を露光すること
になる。
高エネルギーの場合には、電子ビームレジスト層３０に
吸収されず、電子ビームレジスト層３０が塗布された基
板３３に到達し、その表面で散乱を受け、あたかも入射
電子のように電子ビームレジスト層３０を露光すること
になる。
【００７５】これを後方散乱電子による露光と呼び、電
子ビーム露光では、この後方散乱電子による露光を含め
て電子ビームレジスト層３０に対する露光条件を算出す
る必要がある。なお、図７において、３４は入射電子に
よる露光、３５は後方散乱電子による露光を示してい
る。
子ビーム露光では、この後方散乱電子による露光を含め
て電子ビームレジスト層３０に対する露光条件を算出す
る必要がある。なお、図７において、３４は入射電子に
よる露光、３５は後方散乱電子による露光を示してい
る。
【００７６】特に、光ディスク原盤作製用ディスク１０
のように、回転させながら長さの異なるピットパターン
を描画する場合には、近接するピット形成部分に対す
る電子ビーム３の後方散乱電子による露光が各ピット形
成部分のドーズ量に与え、かつ、ピット形成部分に対
する電子ビーム３の照射による後方散乱電子による露光
がそのピット形成部分の長手方向の箇所に影響を与える
ことになるので、これらの近接効果の影響を考慮して、
電子ビーム照射量の補正を行うことが好適である。
のように、回転させながら長さの異なるピットパターン
を描画する場合には、近接するピット形成部分に対す
る電子ビーム３の後方散乱電子による露光が各ピット形
成部分のドーズ量に与え、かつ、ピット形成部分に対
する電子ビーム３の照射による後方散乱電子による露光
がそのピット形成部分の長手方向の箇所に影響を与える
ことになるので、これらの近接効果の影響を考慮して、
電子ビーム照射量の補正を行うことが好適である。
【００７７】図８は本発明の電子ビーム照射装置の一実
施形態を使用して電子ビームの照射を行う場合に行うこ
とができる第１の電子ビーム照射量補正方法を説明する
ための図であり、第１の電子ビーム照射量補正方法は、
近接するピット形成部分による近接効果を考慮し、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が近接するピ
ット形成部分の疎密によらず一定となるように電子ビー
ム照射量を補正するというものである。
施形態を使用して電子ビームの照射を行う場合に行うこ
とができる第１の電子ビーム照射量補正方法を説明する
ための図であり、第１の電子ビーム照射量補正方法は、
近接するピット形成部分による近接効果を考慮し、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が近接するピ
ット形成部分の疎密によらず一定となるように電子ビー
ム照射量を補正するというものである。
【００７８】この第１の電子ビーム照射量補正方法は、
図８（Ａ）に示すように、横軸に周回方向の位置、縦軸
に半径方向の位置とするピットパターンマップを描き、
電子ビームエネルギー、レジスト材料及び基板３３の材
料等から近接効果の及ぶ範囲をトラックの各位置につい
て算出し、この範囲内にあるピットパターンを抜き出
し、図８（Ｂ）に示すように、横軸が周回方向の位置、
縦軸がピットパターン密度となるようなマップを得るよ
うにし、このマップによって電子ビーム照射量の補正を
制御計算機２６で行うようにすることで実行することが
できる。なお、例えば、３６はトラックの位置３７に近
接効果の及ぶ範囲を示している。
図８（Ａ）に示すように、横軸に周回方向の位置、縦軸
に半径方向の位置とするピットパターンマップを描き、
電子ビームエネルギー、レジスト材料及び基板３３の材
料等から近接効果の及ぶ範囲をトラックの各位置につい
て算出し、この範囲内にあるピットパターンを抜き出
し、図８（Ｂ）に示すように、横軸が周回方向の位置、
縦軸がピットパターン密度となるようなマップを得るよ
うにし、このマップによって電子ビーム照射量の補正を
制御計算機２６で行うようにすることで実行することが
できる。なお、例えば、３６はトラックの位置３７に近
接効果の及ぶ範囲を示している。
【００７９】また、本発明の電子ビーム照射装置の一実
施形態を使用する場合には、第２の電子ビーム照射量補
正方法として、各ピット形成部分内における近接効果を
考慮し、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量
が各ピット形成部分の長さによらず一定となるように電
子ビーム照射量を補正することができる。この補正も制
御計算機２６により行うことができる。
施形態を使用する場合には、第２の電子ビーム照射量補
正方法として、各ピット形成部分内における近接効果を
考慮し、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量
が各ピット形成部分の長さによらず一定となるように電
子ビーム照射量を補正することができる。この補正も制
御計算機２６により行うことができる。
【００８０】したがって、本発明の電子ビーム照射装置
の一実施形態によれば、光ディスク原盤作製用ディスク
１０を角速度一定で回転させ、ピット形成領域内の全ピ
ット形成部分に対する電子ビームの照射を行う場合であ
っても、あるいは、同心円状に区分された複数のピット
形成領域を各ピット形成領域ごとに異なる角速度で回転
させ、各ピット形成部分の電子ビーム照射を行う場合で
あっても、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ
量が光ディスク原盤作製用ディスク１０の半径方向の位
置によらず、かつ、近接するピット形成部分の疎密によ
らず、かつ、各ピット形成部分の長さによらず一定とな
るような電子ビーム３の照射を行うことができ、しか
も、光ディスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏
芯を補正することができるようにしたことにより、光デ
ィスク原盤作製用ディスク１０に、その半径方向の位置
によらず、かつ、近接するピットの疎密によらず、か
つ、ピットの長さによらず、形状的に同精度の、かつ、
位置的に高精度のピットを形成することができるので、
高品質の光ディスク原盤を得ることができる。
の一実施形態によれば、光ディスク原盤作製用ディスク
１０を角速度一定で回転させ、ピット形成領域内の全ピ
ット形成部分に対する電子ビームの照射を行う場合であ
っても、あるいは、同心円状に区分された複数のピット
形成領域を各ピット形成領域ごとに異なる角速度で回転
させ、各ピット形成部分の電子ビーム照射を行う場合で
あっても、各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ
量が光ディスク原盤作製用ディスク１０の半径方向の位
置によらず、かつ、近接するピット形成部分の疎密によ
らず、かつ、各ピット形成部分の長さによらず一定とな
るような電子ビーム３の照射を行うことができ、しか
も、光ディスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏
芯を補正することができるようにしたことにより、光デ
ィスク原盤作製用ディスク１０に、その半径方向の位置
によらず、かつ、近接するピットの疎密によらず、か
つ、ピットの長さによらず、形状的に同精度の、かつ、
位置的に高精度のピットを形成することができるので、
高品質の光ディスク原盤を得ることができる。
【００８１】なお、本発明の電子ビーム照射装置の一実
施形態においては、偏向器駆動回路１７を制御して光デ
ィスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏芯による
電子ビーム照射位置の補正を行うことができるようにし
た場合について説明したが、この代わりに、スピンドル
モータ１１の水平方向の位置を制御するように構成し、
光ディスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏芯に
よる電子ビーム照射位置を補正するようにしても良い。
施形態においては、偏向器駆動回路１７を制御して光デ
ィスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏芯による
電子ビーム照射位置の補正を行うことができるようにし
た場合について説明したが、この代わりに、スピンドル
モータ１１の水平方向の位置を制御するように構成し、
光ディスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏芯に
よる電子ビーム照射位置を補正するようにしても良い。
【００８２】また、本発明の電子ビーム照射装置の一実
施形態においては、制御計算機２６によるモータ駆動回
路１８の制御を通して、ピット形成部分を線速度一定の
下に電子ビーム照射するように制御することができ、こ
のようにする場合においても、前述した第１、第２の電
子ビーム照射量補正方法を実行することができ、このよ
うにする場合には、近接するピットの粗密及びピットの
長さによらず、光ディスク原盤作製用ディスク１０に、
形状的に同精度のピットを形成することができると共
に、光ディスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏
芯による電子ビーム照射位置の補正を行うことができ、
このようにする場合には、光ディスク原盤作製用ディス
ク１０に、位置的に高精度のピットを形成することがで
きる。
施形態においては、制御計算機２６によるモータ駆動回
路１８の制御を通して、ピット形成部分を線速度一定の
下に電子ビーム照射するように制御することができ、こ
のようにする場合においても、前述した第１、第２の電
子ビーム照射量補正方法を実行することができ、このよ
うにする場合には、近接するピットの粗密及びピットの
長さによらず、光ディスク原盤作製用ディスク１０に、
形状的に同精度のピットを形成することができると共
に、光ディスク原盤作製用ディスク１０の回転中心の偏
芯による電子ビーム照射位置の補正を行うことができ、
このようにする場合には、光ディスク原盤作製用ディス
ク１０に、位置的に高精度のピットを形成することがで
きる。
【００８３】
【発明の効果】以上のように、本発明中、第１、第２、
第３又は第４の発明の電子ビーム照射方法によれば、光
ディスク原盤作製用ディスクに、その半径方向の位置に
よらず、形状的に同精度のピットを形成することができ
るので、高品質の光ディスク原盤を得ることができる。
第３又は第４の発明の電子ビーム照射方法によれば、光
ディスク原盤作製用ディスクに、その半径方向の位置に
よらず、形状的に同精度のピットを形成することができ
るので、高品質の光ディスク原盤を得ることができる。
【００８４】本発明中、第５の発明の電子ビーム照射方
法によれば、光ディスク原盤作製用ディスクに、近接す
るピットの疎密によらず、形状的に同精度のピットを形
成することができるので、高品質の光ディスク原盤を得
ることができる。
法によれば、光ディスク原盤作製用ディスクに、近接す
るピットの疎密によらず、形状的に同精度のピットを形
成することができるので、高品質の光ディスク原盤を得
ることができる。
【００８５】本発明中、第６の発明の電子ビーム照射方
法によれば、光ディスク原盤作製用ディスクに、ピット
の長さによらず、形状的に同精度のピットを形成するこ
とができるので、高品質の光ディスク原盤を得ることが
できる。
法によれば、光ディスク原盤作製用ディスクに、ピット
の長さによらず、形状的に同精度のピットを形成するこ
とができるので、高品質の光ディスク原盤を得ることが
できる。
【００８６】本発明中、第７、第８、第９又は第１０の
電子ビーム照射方法によれば、光ディスク原盤作製用デ
ィスクに、位置的に高精度のピットを形成することがで
きるので、高品質の光ディスクを得ることができる。
電子ビーム照射方法によれば、光ディスク原盤作製用デ
ィスクに、位置的に高精度のピットを形成することがで
きるので、高品質の光ディスクを得ることができる。
【００８７】また、本発明中、第１１、第１２、第１３
又は第１４の発明の電子ビーム照射装置によれば、第
１、第２、第３又は第４の発明の電子ビーム照射方法を
実行して、光ディスク原盤作製用ディスクに、その半径
方向の位置によらず、形状的に同精度のピットを形成す
ることができるので、高品質の光ディスク原盤を得るこ
とができる。
又は第１４の発明の電子ビーム照射装置によれば、第
１、第２、第３又は第４の発明の電子ビーム照射方法を
実行して、光ディスク原盤作製用ディスクに、その半径
方向の位置によらず、形状的に同精度のピットを形成す
ることができるので、高品質の光ディスク原盤を得るこ
とができる。
【００８８】本発明中、第１５の発明の電子ビーム照射
装置よれば、第５の発明の電子ビーム照射方法を実行し
て、光ディスク原盤作製用ディスクに、近接するピット
の疎密によらず、形状的に同精度のピットを形成するこ
とができるので、高品質の光ディスク原盤を得ることが
できる。
装置よれば、第５の発明の電子ビーム照射方法を実行し
て、光ディスク原盤作製用ディスクに、近接するピット
の疎密によらず、形状的に同精度のピットを形成するこ
とができるので、高品質の光ディスク原盤を得ることが
できる。
【００８９】本発明中、第１６の発明の電子ビーム照射
装置によれば、第６の発明の電子ビーム照射方法を実行
して、光ディスク原盤作製用ディスクに、ピットの長さ
によらず、形状的に同精度のピットを形成することがで
きるので、高品質の光ディスク原盤を得ることができ
る。
装置によれば、第６の発明の電子ビーム照射方法を実行
して、光ディスク原盤作製用ディスクに、ピットの長さ
によらず、形状的に同精度のピットを形成することがで
きるので、高品質の光ディスク原盤を得ることができ
る。
【００９０】本発明中、第１７、第１８、第１９又は第
２０の電子ビーム照射装置によれば、第７、第８、第９
又は第１０の電子ビーム照射方法を実行して、光ディス
ク原盤作製用ディスクに、位置的に高精度のピットを形
成することができるので、高品質の光ディスクを得るこ
とができる。
２０の電子ビーム照射装置によれば、第７、第８、第９
又は第１０の電子ビーム照射方法を実行して、光ディス
ク原盤作製用ディスクに、位置的に高精度のピットを形
成することができるので、高品質の光ディスクを得るこ
とができる。
【図１】本発明の電子ビーム照射装置の一実施形態の概
念図である。
念図である。
【図２】本発明の電子ビーム照射装置の一実施形態を使
用して行うことができる第１の電子ビーム照射例を説明
するための図である。
用して行うことができる第１の電子ビーム照射例を説明
するための図である。
【図３】本発明の電子ビーム照射装置の一実施形態を使
用して行うことができる第１の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
用して行うことができる第１の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
【図４】本発明の電子ビーム照射装置の一実施形態を使
用して行うことができる第２の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
用して行うことができる第２の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
【図５】本発明の電子ビーム照射装置の一実施形態を使
用して行うことができる第２の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
用して行うことができる第２の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
【図６】本発明の電子ビーム照射装置の一実施形態を使
用して行うことができる第３の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
用して行うことができる第３の電子ビーム照射方法を説
明するための図である。
【図７】後方散乱電子による露光を説明するための図で
ある。
ある。
【図８】本発明の電子ビーム照射装置の一実施形態を使
用して行うことができる第１の電子ビーム照射量補正方
法を説明するための図である。
用して行うことができる第１の電子ビーム照射量補正方
法を説明するための図である。
２ 電子銃 ３ 電子ビーム ４ 集束レンズ ５ ブランキング電極 ６ 絞り板 ７ 絞り孔 ８ 対物レンズ ９ 偏向器 １０ 光ディスク原盤作製用ディスク １１ スピンドルモータ １２ １軸可動ステージ ２１ 回転軸 ２３ 容量センサ ２４ 容量センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5D090 AA01 BB01 CC01 DD03 DD05 EE02 FF17 GG01 KK03 5D117 AA02 BB04 CC04 FF28 5D121 BB01 BB26 BB38
Claims (20)
- 【請求項１】光ディスク原盤作製用ディスクを全ピット
形成領域で角速度一定となるように又は同心円状に区分
されたピット形成領域ごとに角速度一定となるように回
転させながら前記光ディスク原盤作製用ディスクにピッ
ト形成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射方
法であって、 各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が前記光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように電子ビームを照射することを特徴とす
る電子ビーム照射方法。 - 【請求項２】各ピット形成部分の単位面積当たりのドー
ズ量が前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の
位置によらず一定となるような電子ビームの照射は、 各ピット形成部分を１個の電子ビームパルスで描画し、
かつ、同一の角速度の下でピット形成部分を描画すべき
領域内では、前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径
方向上、外側になるほど電子ビーム電流値が大きくなる
ように制御することにより行うことを特徴とする請求項
１記載の電子ビーム照射方法。 - 【請求項３】各ピット形成部分の単位面積当たりのドー
ズ量が前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の
位置によらず一定となるような電子ビームの照射は、 各ピット形成部分を連続する複数の電子ビームパルスで
描画し、かつ、前記光ディスク原盤作製用ディスクの半
径方向上の位置に従って電子ビームパルスの間隔、又
は、電子ビームパルスの幅、又は、電子ビームパルスの
間隔及び幅を制御することにより行うことを特徴とする
請求項１記載の電子ビーム照射方法。 - 【請求項４】各ピット形成部分の単位面積当たりのドー
ズ量が前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の
位置によらず一定となるような電子ビームの照射は、 各ピット形成部分を電流値一定として電子ビームで照射
した場合に、各ピット形成部分の単位面積当たりの合計
ドーズ量が前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方
向の位置によらず一定となるように、ピット形成に最適
とされるドーズ量に届かない範囲で、かつ、同一の角速
度の下でピット形成部分を描画すべき領域内では、前記
光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向上、外側にな
るほどドーズ量が多くなるように、前記電子ビームレジ
スト層のピット形成領域全面を予め電子ビームで照射す
る第１の工程と、 電流値一定としてピット形成部分に電子ビームを照射す
る第２の工程とを実行することにより行うことを特徴と
する請求項１記載の電子ビーム照射方法。 - 【請求項５】光ディスク原盤作製用ディスクにピット形
成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射方法で
あって、 各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が近接す
るピット形成部分の疎密によらず一定となるように電子
ビーム照射量を補正して電子ビームの照射を行うことを
特徴とする電子ビーム照射方法。 - 【請求項６】光ディスク原盤作製用ディスクにピット形
成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射方法で
あって、 各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が各ピッ
ト形成部分の長さによらず一定となるように電子ビーム
照射量を補正して電子ビームの照射を行うことを特徴と
する電子ビーム照射方法。 - 【請求項７】光ディスク原盤作製用ディスクにピット形
成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射方法で
あって、 前記光ディスク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯量
を検出し、前記光ディスク原盤作製用ディスクの回転中
心の偏芯による電子ビーム照射位置を補正して電子ビー
ムの照射を行うことを特徴とする電子ビームの照射方
法。 - 【請求項８】前記光ディスク原盤作製用ディスクの回転
中心の偏芯量の検出は、前記光ディスク原盤作製用ディ
スクを回転させている回転軸の軸振れ量を容量センサで
検出することにより行うことを特徴とする請求項７記載
の電子ビーム照射方法。 - 【請求項９】前記光ディスク原盤作製用ディスクの回転
中心の偏芯の補正は、電子ビームを偏向させる電子ビー
ム偏向手段をフィードバック制御することにより行うこ
とを特徴とする請求項７又は８記載の電子ビーム照射方
法。 - 【請求項１０】前記光ディスク原盤作製用ディスクの回
転中心の偏芯の補正は、前記光ディスク原盤作製用ディ
スクの水平位置をフィードバック制御することにより行
うことを特徴とする請求項７又は８記載の電子ビーム照
射方法。 - 【請求項１１】光ディスク原盤作製用ディスクを全ピッ
ト形成領域で角速度一定となるように又は同心円状に区
分されたピット形成領域ごとに角速度一定となるように
回転させながら前記光ディスク原盤作製用ディスクにピ
ット形成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射
装置であって、 前記光ディスク原盤作製用ディスクを保持して回転させ
る光ディスク原盤作製用ディスク保持回転手段と、 前記光ディスク原盤作製用ディスクの電子ビームレジス
ト層に電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、 各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が前記光
ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず
一定となるように電子ビーム照射手段を制御する電子ビ
ーム照射制御手段とを備えていることを特徴とする電子
ビーム照射装置。 - 【請求項１２】前記電子ビーム照射制御手段は、各ピッ
ト形成部分を１個の電子ビームパルスで描画し、かつ、
同一の角速度の下でピット形成部分を描画すべき領域内
では、前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向
上、外側になるほど電子ビーム電流値が大きくなるよう
にすることにより、各ピット形成部分の単位面積当たり
のドーズ量が前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径
方向の位置によらず一定となるように電子ビーム照射手
段を制御することを特徴とする請求項１１記載の電子ビ
ーム照射装置。 - 【請求項１３】前記電子ビーム照射制御手段は、各ピッ
ト形成部分を連続する複数の電子ビームパルスで描画
し、かつ、前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方
向上の位置に従って電子ビームパルスの間隔、又は、電
子ビームパルスの幅、又は、電子ビームパルスの間隔及
び幅を制御することにより、各ピット形成部分の単位面
積当たりのドーズ量が前記光ディスク原盤作製用ディス
クの半径方向の位置によらず一定となるように電子ビー
ム照射手段を制御することを特徴とする請求項１１記載
の電子ビーム照射装置。 - 【請求項１４】前記電子ビーム照射制御手段は、各ピッ
ト形成部分を電流値一定として電子ビームで照射した場
合に、各ピット形成部分の単位面積当たりの合計ドーズ
量が前記光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位
置によらず一定となるように、ピット形成に最適とされ
るドーズ量に届かない範囲で、かつ、同一の角速度の下
でピット形成部分を描画すべき領域内では、前記光ディ
スク原盤作製用ディスクの半径方向上、外側になるほど
ドーズ量が多くなるように、前記電子ビームレジスト層
のピット形成領域全面を予め電子ビームで照射する第１
の工程と、電流値一定としてピット形成部分に電子ビー
ムを照射する第２の工程とを実行することにより、各ピ
ット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が前記光ディ
スク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定
となるように電子ビーム照射手段を制御することを特徴
とする請求項１１記載の電子ビーム照射装置。 - 【請求項１５】光ディスク原盤作製用ディスクにピット
形成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射装置
であって、 前記光ディスク原盤作製用ディスクを保持して回転させ
る光ディスク原盤作製用ディスク保持回転手段と、 前記光ディスク原盤作製用ディスクの電子ビームレジス
ト層に電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、 各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が近接す
るピット形成部分の疎密によらず一定となるように電子
ビーム照射量を補正して前記電子ビーム照射手段を制御
する電子ビーム照射制御手段とを備えていることを特徴
とする電子ビーム照射装置。 - 【請求項１６】光ディスク原盤作製用ディスクにピット
形成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射装置
であって、 前記光ディスク原盤作製用ディスクを保持して回転させ
る光ディスク原盤作製用ディスク保持回転手段と、 前記光ディスク原盤作製用ディスクの電子ビームレジス
ト層に電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、 各ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が各ピッ
ト形成部分の長さによらず一定となるように電子ビーム
照射量を補正して前記電子ビーム照射手段を制御する電
子ビーム照射制御手段とを備えていることを特徴とする
電子ビーム照射装置。 - 【請求項１７】光ディスク原盤作製用ディスクにピット
形成のための電子ビームを照射する電子ビーム照射装置
であって、 前記光ディスク原盤作製用ディスクを保持して回転させ
る光ディスク原盤作製用ディスク保持回転手段と、 前記光ディスク原盤作製用ディスクの電子ビームレジス
ト層に電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、 前記光ディスク原盤作製用ディスクの回転中心の偏芯量
を検出する光ディスク原盤作製用ディスク回転中心偏芯
量検出手段と、 前記光ディスク原盤作製用ディスク回転中心偏芯量検出
手段により検出した前記光ディスク原盤作製用ディスク
の回転中心の偏芯量に基づいて前記光ディスク原盤作製
用ディスクの回転中心の偏芯による電子ビーム照射位置
を補正する光ディスク原盤作製用ディスク回転中心偏芯
補正手段とを備えていることを特徴とする電子ビーム照
射装置。 - 【請求項１８】前記光ディスク原盤作製用ディスク回転
中心偏芯量検出手段は、前記光ディスク原盤作製用ディ
スク保持回転手段が備える回転軸の軸振れ量を検出する
容量センサを備えて構成されていることを特徴とする請
求項１７記載の電子ビーム照射装置。 - 【請求項１９】前記光ディスク原盤作製用ディスク回転
中心偏芯補正手段は、電子ビームを偏向する電子ビーム
偏向手段をフィードバック制御するフィードバック制御
手段を備えて構成されていることを特徴とする請求項１
７又は１８記載の電子ビーム照射装置。 - 【請求項２０】前記光ディスク原盤作製用ディスク回転
中心偏芯補正手段は、光ディスク原盤作製用ディスク保
持回転手段の位置をフィードバック制御するフィードバ
ック制御手段を備えて構成されていることを特徴とする
請求項１７又は１８記載の電子ビーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10182310A JP2000011464A (ja) | 1998-06-29 | 1998-06-29 | 電子ビーム照射方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10182310A JP2000011464A (ja) | 1998-06-29 | 1998-06-29 | 電子ビーム照射方法及び装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000011464A true JP2000011464A (ja) | 2000-01-14 |
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ID=16116072
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP10182310A Pending JP2000011464A (ja) | 1998-06-29 | 1998-06-29 | 電子ビーム照射方法及び装置 |
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|---|---|
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