JP2000010273A - 感光性樹脂組成物およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 解像力に優れ、ＰＤＰ等の大形ガラス基材上
に電極を形成する等のパターン形成用途に有用な感光性
樹脂組成物及びそのフォトレジストフィルムを提供する
こと。 【解決手段】 重量平均分子量４万〜２０万のベースポ
リマー（ａ）１００重量部に対して、エチレン性不飽和
化合物（ｂ）を９０〜１５０重量部、光重合開始剤
（ｃ）を０．１〜３０重量部、及びヒドロキシ脂肪酸又
はその誘導体（ｄ）を含有してなる感光性樹脂組成物及
びそのフォトレジストフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、解像力に非常に優
れた感光性樹脂組成物および該組成物を用いたフォトレ
ジストフィルムに関し、更に詳しくは、プラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）等の大形ガラス基材上にパター
ン形成を行うときに有用な感光性樹脂組成物および該組
成物を用いたフォトレジストフィルムに関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】ポリエステルフィルム等のベースフィル
ム上に感光性樹脂組成物を層状に塗布乾燥成層し、その
上からポリオレフィンフィルム、ポリエステルフィル
ム、ポリビニルアルコールフィルム等の保護フィルムを
積層した３層ラミネートフィルムは、一般にフォトレジ
ストフィルム或いはドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）
と称され、プリント配線板の製造用、金属の精密加工用
等に広く利用されている。

【０００３】その使用にあたっては、まずフォトレジス
トフィルム或いはドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）か
らベースフィルムまたは保護フィルムのうち接着力の小
さいほうのフィルムを剥離除去して感光性樹脂組成物層
の側を銅張基板の銅面等のパターンを形成させたい基材
表面に貼り付けた後、パターンマスクを他方のフィルム
上に当接させた状態で露光し（当該他方のフィルムを剥
離除去してから露光する場合もある）、ついでその他方
のフィルムを剥離除去して現像に供する。露光後の現像
方式としては、溶剤現像型のものと稀アルカリ現像型の
ものとがある。

【０００４】ＤＦＲのほか、該基材面に直接感光性樹脂
組成物を塗布成層し、その上に積層したポリエステルフ
ィルム等のフィルムを介してパターンマスクを密着さ
せ、露光を行う方法も良く知られている。上記ＤＦＲに
関しては、近年、プリント回路の配線パターン等の高密
度化に伴い形成パターンの高解像度が要求されるように
なってきており、例えば酸価が１００〜６００ｍｇＫＯ
Ｈ／ｇで重量平均分子量が１００００〜５０００００の
ベースポリマー、重合性不飽和基を１個有する化合物１
０〜５０重量％と重合性不飽和基を２個有する化合物１
０〜９０重量％を含有する重合性不飽和化合物及び光重
合開始剤としての２，４，５−トリアリールイミダゾリ
ル二量体、ｐ−アミノフェニルケトンを含有する光重合
性組成物（特開平３−６２０２号公報）や、光重合開始
剤としてｐ，ｐ′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフ
ェノン、ヘキサアリールビイミダゾール及びロイコ染料
を含有し、重合性不飽和基を２個有するエチレン性不飽
和化合物を特定量含有する感光性樹脂組成物（特開平７
−２４８６２１号公報）等がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平３−６２０２号公報記載の光重合性組成物では、該
組成物（感光層）の厚みが５０μｍでライン／スペース
＝６０（μｍ）／６０（μｍ）程度の解像度であり、こ
の時の感光層の厚み／ライン幅又はスペース幅の値で表
されるアスペクト比は０．８３程度となり１以下のもの
であり、まだまだ満足のいくものではなく改善の余地が
残るものであった。又、上記特開平７−２４８６２１号
公報記載の感光性樹脂組成物でも、同様に解像度につい
てはまだまだ充分とはいえず、かかる点でまだまだ改良
が望まれるものである。

【０００６】一方、最近では、各種平板ディスプレイの
開発が盛んに行われており、中でもＰＤＰが注目を浴び
ており、今後ラップトップ型パソコンの表示画面から、
各種電光掲示板、更には、いわゆる「壁掛けテレビ」へ
とその用途は拡大しつつあるが、かかるＰＤＰの表示パ
ネルは、ガラス基材に電極が形成されており、該電極形
成にも上記のＤＦＲが利用され始めている。

【０００７】そこで、本発明ではこのような背景下にお
いて、保存安定性はもとより解像力に非常に優れた感光
性樹脂組成物及び該組成物を用いたフォトレジストフィ
ルムを提供するものであり、特にＰＤＰの表示パネルの
電極形成用に優れた感光性樹脂組成物及び該組成物を用
いたフォトレジストフィルムを提供することを目的とす
るものである。

【０００８】

【問題を解決するための手段】しかるに、本発明者はか
かる課題について鋭意研究をした結果、重量平均分子量
４万〜２０万のベースポリマー（ａ）１００重量部に対
して、エチレン性不飽和化合物（ｂ）を９０〜１５０重
量部、光重合開始剤（ｃ）を０．１〜３０重量部、及び
ヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体（ｄ）を含有してなる
感光性樹脂組成物が、解像力に優れ、特に上記のＰＤＰ
の電極形成に有用であることを見いだし、本発明を完成
するに至った。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に述べる。
本発明のベースポリマー（ａ）としては、重量平均分子
量が４万〜２０万、好ましくは６万〜１５万のものであ
れば特に限定されず、アクリル系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ポリウレタン系樹脂等が用いられる。重量平均分
子量が４万未満ではカバーフィルムの剥離性が悪くな
り、凝集破壊の可能性が高くなり、逆に２０万を越える
と現像性の低下等により解像力が低下することとなる。
これらの中でも、カルボキシル基含有のアクリル系樹脂
が好ましく、（メタ）アクリレートを主成分とし、必要
に応じてエチレン性不飽和カルボン酸や他の共重合可能
なモノマーを共重合したアクリル系共重合体が重要であ
る。アセトアセチル基含有アクリル系共重合体を用いる
こともできる。

【００１０】ここで（メタ）アクリレートとしては、メ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジ
メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等
が例示される。

【００１１】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン
酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマール
酸、イタコン酸等のジカルボン酸、あるいはそれらの無
水物やハーフエステルも用いることができる。これらの
中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好ましい。

【００１２】稀アルカリ現像型とするときは、エチレン
性不飽和カルボン酸を１５〜３０重量％程度（酸価で１
００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度）共重合することが必
要である。他の共重合可能モノマーとしては、アクリル
アミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビ
ニル、アルキルビニルエーテル等が例示できる。又、本
発明では、上記ベースポリマー（ａ）において、軟化温
度が５０℃以下であることが好ましく、更には２０〜５
０℃であることが好ましい。かかる軟化温度が５０℃を
越えると現像性の低下に伴う解像力の低下を招くことと
なり好ましくない。

【００１３】エチレン性不飽和化合物（ｂ）としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型
ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビ
スフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエ
ーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール
ジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル
酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）
アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキ
シトリメチロールプロパン、２，２−ビス（４−（メ
タ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，
２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフ
ェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アク
リロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、グルセ
リントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエー
テルポリ（メタ）アクリレート等の多官能モノマーが挙
げられる。

【００１４】又、これらの多官能モノマーと共に、単官
能モノマーを適当量併用することもでき、かかる単官能
モノマーの例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、
２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アク
リレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒド
ロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエ
チルアシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ
（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリ
ルアミド等が挙げられる。

【００１５】エチレン性不飽和化合物（ｂ）の配合量
は、ベースポリマー（ａ）１００重量部に対して、９０
〜１５０重量部、好ましくは９５〜１４０重量部、更に
好ましくは１００〜１３５重量部である。かかるエチレ
ン性不飽和化合物（ｂ）の配合量が９０重量部未満では
追従性の低下を招き、１５０重量部を越えるとレジスト
全体の酸不足に伴う現像不良が発生しやすくなる。

【００１６】光重合開始剤（ｃ）としては、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ
−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベン
ジルジフェニルジスルフィド、ジベンジル、ジアセチ
ル、アントラキノン、ナフトキノン、３，３′−ジメチ
ル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、
ｐ，ｐ′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、
ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ピ
バロインエチルエーテル、１，１−ジクロロアセトフェ
ノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、２−ク
ロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，
４−ジエチルチオキサントン、２，２′−ジエトキシア
セトフェノン、２，２′−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセ
トフェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキ
シイソブチルフェノン、ジベンゾスパロン、１−（４−
イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−プロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリ
ブロモフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルス
ルホン、Ｎ−フェニルグリシン、９−フェニルアクリジ
ン、トリフェニルビイミダゾール類、特に、２−（ｏ−
クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−
メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フ
ルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）４，５−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、２，４−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−エ
トキシフェニル）４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体、２，４−ジ（ｐ−エトキシフェニル）−５−フェニ
ルイミダゾール二量体等が例示され、これらは単独又は
２種以上を組み合わせて用いられる。

【００１７】光重合開始剤（ｃ）の含有量は、ベースポ
リマー（ａ）１００重量部に対して、０．１〜３０重量
部、好ましくは０．５〜２５重量部、更に好ましくは１
〜２０重量部である。かかる含有量が０．１重量部未満
では充分な内部硬化が得られるまでの露光量が増大する
こととなり、３０重量部を越えるとレジスト中での再結
晶化等保存性の低下を招くこととなる。

【００１８】本発明においては、更にヒドロキシ脂肪酸
又はその誘導体（ｄ）を含有させることも特徴とするも
ので、特には炭素数６以上のヒドロキシ脂肪酸又はその
誘導体（ｄ）を用いることが好ましい。該ヒドロキシ脂
肪酸又はその誘導体（ｄ）としては、２−オキシ−２−
メチルペンタン酸、２−オキシ−５−メチルヘキサン
酸、３−オキシ−２−メチルペンタン酸、８−オキシテ
トラデカン酸、１１−オキシテトラデカン酸、１０−オ
キシヘキサデカン酸、１１−オキシヘキサデカン酸、１
４−オキシヘキサデカン酸、１２−オキシドデカン酸、
１６−オキシヘキサデカン酸、１２−オキシオクタデカ
ン酸、９−オキシオクタデカン酸、２２−オキシドコサ
ン酸及びこれらのアルカリ塩、エステル化物等が挙げら
れる。中でも８−オキシテトラデカン酸、１０−オキシ
ヘキサデカン酸、１２−オキシオクタデカン酸が好まし
く、特に１２−オキシオクタデカン酸が実用的である。
炭素数５以下のヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体では充
分な物理ゲルを形成できずドライフィルム化の際の流動
性が大きくなり本発明の効果を顕著に得ることはできな
い。

【００１９】かかるヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体
（ｄ）の含有量はベースポリマー（Ａ）１００重量部に
対して０．５〜２５重量部であることが好ましく、更に
は１〜２０重量部、特には２〜１５重量部であることこ
とが好ましい。該含有量が０．５重量部未満では充分な
物理ゲル状態を形成できないことがあり保存安定性が不
足することとなり、２５重量部を越えると溶解作業が煩
雑となり、又レジストのタック不足に伴い密着性が低下
することとなり好ましくない。

【００２０】本発明の感光性樹脂組成物は、上記ベース
ポリマー（ａ）、エチレン性不飽和化合物（ｂ）、光重
合開始剤（ｃ）、ヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体
（ｄ）を必須成分とするが、必要に応じて、熱重合禁止
剤、可塑剤、染料（色素、変色剤）、密着付与剤、酸化
防止剤、溶剤、表面張力改質剤、安定剤、連鎖移動剤、
消泡剤、難燃剤、等の添加剤を適宜添加することができ
る。

【００２１】例えば、熱重合禁止剤は感光性樹脂組成物
の熱的な重合又は経時的な重合を防止するために添加す
るもので、ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ｔ
−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナ
フチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール、ニトロベンゼン、ピクリン酸、ｐ
−トルイジン等が挙げられる。

【００２２】可塑剤は膜物性をコントロールするために
添加するもので、例えばジブチルフタレート、ジヘプチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレ
ート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコール
ジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート
等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェー
ト、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；
ｐ−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソ
ブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセ
バケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等
の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、ク
エン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、
ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン
−１，２−ジカルボン酸ジオクチル、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類等
が挙げられる。

【００２３】色素としては、例えば、トリス（４−ジメ
チルアミノフェニル）メタン［ロイコクリスタルバイオ
レット］、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフ
ェニル）メタン、ロイコマラカイトグリーン、ロイコア
ニリン、ロイコメチルバイオレット等のロイコ化合物の
他、ブリリアントグリーン、エオシン、エチルバイオレ
ット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバ
イオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイ
ン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッド
Ｓ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キ
ナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、
チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチ
ルオレンジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、
２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、
コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチル
レッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイ
オレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイル
ブルー＃６０３、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、スピ
ロンブルーＧＮ、ローダミン６Ｇ等が挙げられる。

【００２４】変色剤は、露光により可視像を与えること
ができるように感光性樹脂組成物中に添加され、具体例
として前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルア
ニリン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフ
ェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、
４、４′−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリン、
等が挙げられる。

【００２５】密着促進剤としては、例えばベンズイミダ
ゾール、ベンズチアゾール、ベンズオキソゾール、ベン
ズトリアゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、２
−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。

【００２６】本発明の感光性樹脂組成物を用いたＤＦＲ
の製造及びそれを用いたＰＤＰ用基板に電極形成（パタ
ーン形成）する方法について、具体的に説明する。 （成層方法）上記の感光性樹脂組成物は、これをポリエ
ステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレ
ンフィルム等のベースフィルム面に塗工した後、その塗
工面の上からポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコ
ール系フィルム等の保護フィルムを被覆してＤＦＲとす
る。

【００２７】又、本発明の感光性樹脂組成物は、ＤＦＲ
以外の用途にも利用することができ、かかる用途として
は、本発明の感光性樹脂組成物を、ディップコート法、
フローコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加
工すべき基板上に直接塗工し、厚さ１〜１５０μｍの感
光層を容易に形成することもできる。塗工時に、メチル
エチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチルセ
ロソルブアセテート、シクロヘキサン、メチルセルソル
ブ、塩化メチレン、１，１，１−トリクロルエタン等の
溶剤を添加することもできる。

【００２８】（露光）ＤＦＲによって画像を形成させる
にはベースフィルムと感光性樹脂組成物層との接着力及
び保護フィルムと感光性樹脂組成物層との接着力を比較
し、接着力の低い方のフィルムを剥離してから感光性樹
脂組成物層の側を銅板やガラス面、ＩＴＯ膜等の基板に
貼り付けた後、他方のフィルム上にパターンマスクを密
着させて露光する。感光性樹脂組成物が粘着性を有しな
いときは、前記他方のフィルムを剥離してからパターン
マスクを感光性樹脂組成物層に直接接触させて露光する
こともできる。

【００２９】ＩＴＯ膜等の導電物に直接塗工した場合
は、その塗工面に直接またはポリエステルフィルム等を
介してパターンマスクを接触させ、露光に供する。露光
は通常紫外線照射により行い、その際の光源としては、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノ
ン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプ等が用い
られる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行って、硬
化の完全を図ることもできる。

【００３０】（現像）露光後は、レジスト上のフィルム
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウム等のアルカリ０．５〜３重量
％程度の稀薄水溶液を用いて行う。該アルカリ水溶液中
には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少
量の有機溶剤等を混入させてもよい。

【００３１】（エッチング）エッチングは、通常塩化第
二銅−塩酸水溶液や塩化第二鉄−塩酸水溶液等の酸性エ
ッチング液を用いて常法に従ってエッチングを行う。希
にアンモニア系のアルカリエッチング液も用いられる。

【００３２】（硬化レジストの剥離除去）エッチング工
程の後、残っている硬化レジストの剥離を行う。硬化レ
ジストの剥離除去は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等の０．５〜５重量％程度の濃度のアルカリ水溶液か
らなるアルカリ剥離液を用いて行う。次いで、十分に水
洗浄を行った後、乾燥される。

【００３３】かくして、印刷配線板の製造、金属の精密
加工、リードフレーム製造のパターン形成ができ、又、
ＰＤＰ用ではＰＤＰ用前面基板上に電極が形成されて、
その後、背面基材との間にガス封入後、接合されてＰＤ
Ｐとして実用に供されるのである。

【００３４】本発明の感光性樹脂組成物及び該組成物を
用いたフォトレジストフィルムは、印刷配線板の製造、
金属の精密加工、リードフレーム製造等に用いられるエ
ッチングレジスト、又はＰＤＰの電極形成用のレジスト
として非常に有用であり、上記の如くベースポリマー
（ａ）、エチレン性不飽和化合物（ｂ）、光重合開始剤
（ｃ）、ヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体（ｄ）を含有
してなるため、保存安定性はもとより解像力に非常に優
れた効果を示すものである。

【００３５】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、例中「部」とあるのは、断りのない限り重
量基準を意味する。 実施例１ （ドープの調整）下記の如きベースポリマー（ａ）、エ
チレン性不飽和化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）、ヒ
ドロキシ脂肪酸（ｄ）、及びその他の添加剤を混合して
感光性樹脂組成物を調製した。

【００３６】ベースポリマー（ａ） ・メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／ ２−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共 重合割合が重量基準で４０／１０／２５／２５である 共重合体（重量平均分子量６００００、軟化温度４２ ℃、酸価１６２．８ｍｇＫＯＨ／ｇ） １００部

【００３７】エチレン性不飽和化合物（ｂ） ・エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジメタクリレート １００部 ・２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸 ２０部

【００３８】光重合開始剤（ｃ） ・ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ０．３部 ・２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル ７部 イミダゾール二量体ヒドロキシ脂肪酸（ｄ） ・１２−オキシオクタデカン酸 １４部その他の添加剤 ・ロイコクリスタルバイオレット ０．７部 ・マラカイトグリーン ０．１部 ・メチルエチルケトン ２４０部

【００３９】（フォトレジストフィルムの作製）上記の
ドープを、ギャップ４ミルのアプリケーターを用いて厚
さ２０μｍのポリエステルフィルム上に塗工し、室温で
１分３０秒放置した後、６０℃、９０℃、１１０℃のオ
ーブンでそれぞれ２分間ずつ乾燥し、更にその上に保護
フィルムとしてポリエチレンフィルムを積層して、レジ
スト厚２０μｍのフォトレジストフィルムとした。

【００４０】（ＰＤＰガラス基板へのラミネート）この
フォトレジストフィルムの保護フィルムを剥離した後、
オーブンで６０℃に予熱したＩＴＯ付きガラス基材（２
００ｍｍ×２００ｍｍ×２ｍｍ）上に、ラミネートロー
ル温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ²、ラミネー
ト速度１．５ｍ／ｓｅｃにてラミネートした。

【００４１】（露光，現像）ラミネート後、ＩＴＯ全面
にＬ／Ｓ（ライン／スペース）＝１００μｍ／１００μ
ｍが形成できるようにラインパターンマスクをポリエス
テルフィルム上に真空密着させて、オーク製作所製の露
光機ＨＭＷ−５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀灯で１２５
ｍｊ／ｃｍ²になるよう露光した。露光後１５分間のホ
ールドタイムを取った後、ポリエステルフィルムを剥離
し、１％Ｎａ₂ＣＯ₃水溶液、３０℃で、最少現像時間の
１．５倍の時間で現像し、その後、水洗・乾燥を行っ
て、Ｌ／Ｓ＝１００μｍ／１００μｍのレジスト層のパ
ターンを形成させた。

【００４２】（エッチング、硬化レジスト剥離）上記の
パターンを塩化第２鉄（４５℃、４２゜Ｂｅ）でエッチ
ングし、その後、レジストパターンに５０℃に加温した
３％ＮａＯＨ水溶液を２ｋｇ／ｃｍ²の圧力でスプレー
して、レジスト層の剥離を行ってＩＴＯパターン（Ｌ／
Ｓ＝１００μｍ／１００μｍ）を、ＰＤＰ用基板上に形
成した。

【００４３】上記のＩＴＯパターンの作製工程におい
て、以下の評価を行った。 ［保存安定性］３００ｍｍ幅で１００ｍのスリットロー
ル（支管の外径：８．２４ｃｍ）を、３２℃の乾燥機中
で３日間横置きにして保管したときの端部のしみだし具
合を目視により観察した。評価基準は下記の通りであ
る。 ○・・・しみだし無し ×・・・端部ににじみが認められたり、レジスト中に添
加剤の再結晶物が析出する。 ［感度］感度はストーファー２１段ステップタブレット
の段数が７となるときの露光量（ｍｊ／ｃｍ²）を測定
した。

【００４４】［解像力］ＩＴＯ付きガラス基材にラミネ
ート後、ライン／スペース＝１／１、５〜１００μｍで
５μｍ毎に設計したパターンマスクを真空密着させて、
ストーファー２１段ステップタブレットの７段相当量の
露光量で露光し、現像後にレジスト画像が解像されてい
る最小ライン幅（μｍ）を調べ、その時のアスペクト比
（レジスト厚／最小ライン幅）も算出した。現像条件
は、上記の通りである。

【００４５】実施例２ 下記の如きベースポリマー（ａ）、エチレン性不飽和化
合物（ｂ）、光重量開始剤（ｃ）、ヒドロキシ脂肪酸
（ｄ）、及びその他の添加剤を混合して感光性樹脂組成
物を調製した以外は実施例１と同様に行い、実施例１と
同様の評価を行った。ベースポリマー（ａ） ・ｎ−ブチルメタクリレート／メチルアクリレート／ メタクリル酸の共重合割合が重量基準で４９／３０ ／２１である共重合体（重量平均分子量８万、軟化 温度３９．６℃、酸価１３７ｍｇＫＯＨ／ｇ） １００部エチレン性不飽和化合物（ｂ） ・エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジメタクリレート ９０部 ・２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸 １０部

【００４６】光重合開始剤（ｃ） ・ｐ，ｐ′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ０．１５部 ・２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル ４部 イミダゾール二量体ヒドロキシ脂肪酸（ｄ） ・１２−オキシオクタデカン酸 １０部その他の添加剤 ・ロイコクリスタルバイオレット ０．４部 ・マラカイトグリーン ０．１部 ・メチルエチルケトン ２１５部

【００４７】実施例３ 実施例１において、１２−オキシオクタデカン酸を１８
部とした以外は同様に行って感光性樹脂組成物を得て、
実施例１と同様に評価を行った。

【００４８】比較例１ 実施例１において、１２−オキシオクタデカン酸を除い
た以外は同様に行い、実施例１と同様に評価を行った。

【００４９】比較例２ 実施例１において、下記の如き組成のベースポリマー
（ａ）を用いた以外は同様に行って感光性樹脂組成物を
得て、同様に評価を行った。ベースポリマー（ａ） ・メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／
２−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重
合割合が重量基準で４０／１０／２５／２５である共重
合体（重量平均分子量３３万、軟化温度４１．８℃、酸
価１６２．８ｍｇＫＯＨ／ｇ）

【００５０】比較例３ 実施例１において、エチレン性不飽和化合物（ｂ）をエ
チレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジメタクリレ
ートのみ２０部とした以外は同様に行って感光性樹脂組
成物を得て、同様に評価を行った。

【００５１】比較例４ 実施例１において、エチレン性不飽和化合物（ｂ）をエ
チレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジメタクリレ
ートのみ１７５部とした以外は同様に行って感光性樹脂
組成物を得て、同様に評価を行った。

【００５２】比較例５ 実施例１において、光重合開始剤（ｃ）を２−（ｏ−ク
ロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体のみ０．０５部とした以外は同様に行って感光性樹脂
組成物を得て、同様に評価を行った。

【００５３】比較例６ 実施例１において、光重合開始剤（ｃ）を２−（ｏ−ク
ロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体のみ３２部とした以外は同様に行って感光性樹脂組成
物を得て、同様に評価を行った。実施例及び比較例の評
価結果を表１に示す。

【００５４】

【表１】 保存安定性 感度 解像力 (mj/cm²) 最小ライン幅(μｍ) アスヘ゜クト比 実施例１ ○ １６０ １０ ２．０ 〃 ２ ○ ３２０ １０ ２．０ 〃 ３ ○ １６０ １０ ２．０ 比較例１ × １６０ １０ ２．０ 〃 ２ ○ １６０ ３０ ０．６７ 〃 ３ ○ ９００ ３５ ０．５７ 〃 ４ × ３２０ １５ １．３３ 〃 ５ ○ ＞１０００ 感度不良により評価できなかった。 〃 ６ × １６ ３０ ０．６７

【００５５】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及び該組成物
を用いたフォトレジストフィルムは、上記の如くベース
ポリマー（ａ）、エチレン性不飽和化合物（ｂ）、光重
合開始剤（ｃ）、ヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体
（ｄ）を含有してなるため、保存安定性はもとより、解
像力に非常に優れており、印刷配線板の製造、金属の精
密加工、リードフレーム製造等に用いられるエッチング
レジスト、又はＰＤＰ等の大型ガラス基材上に電極を形
成する等のパターン形成用途に非常に有用である。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 重量平均分子量４万〜２０万のベースポ
   リマー（ａ）１００重量部に対して、エチレン性不飽和
   化合物（ｂ）を９０〜１５０重量部、光重合開始剤
   （ｃ）を０．１〜３０重量部、及びヒドロキシ脂肪酸又
   はその誘導体（ｄ）を含有してなることを特徴とする感
   光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 ベースポリマー（ａ）の軟化温度が５０
   ℃以下であることを特徴とする請求項１記載の感光性樹
   脂組成物。
3. 【請求項３】 ヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体（ｄ）
   をベースポリマー（ａ）１００重量部に対して、０．５
   〜２５重量部含有してなることを特徴とする請求項１又
   は２記載の感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 ヒドロキシ脂肪酸又はその誘導体（ｄ）
   が、８−オキシテトラデカン酸、１０−オキシヘキサデ
   カン酸、１２−オキシオクタデカン酸のいずれか１種以
   上であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の感
   光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 請求項１〜４いずれかに記載の感光性樹
   脂組成物をベースフィルムに積層してなることを特徴と
   するフォトレジストフィルム。
6. 【請求項６】 プラズマディスプレイパネル形成用基材
   上の電極形成時のパターン形成に用いることを特徴とす
   る請求項１〜４いずれかに記載の感光性樹脂組成物又は
   請求項５記載のフォトレジストフィルム。