JP2000004049A - 発光素子および発光装置並びに発光素子の製造方法 - Google Patents

発光素子および発光装置並びに発光素子の製造方法

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JP2000004049A
JP2000004049A JP16836698A JP16836698A JP2000004049A JP 2000004049 A JP2000004049 A JP 2000004049A JP 16836698 A JP16836698 A JP 16836698A JP 16836698 A JP16836698 A JP 16836698A JP 2000004049 A JP2000004049 A JP 2000004049A
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Japan
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light emitting
light
emitting device
concave portion
lens
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JP16836698A
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English (en)
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Masaharu Nobori
正治 登
Hiroyuki Fujiwara
博之 藤原
Shigeki Ogura
茂樹 小椋
Masumi Koizumi
真澄 小泉
Yukio Nakamura
幸夫 中村
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高価な分布屈折レンズを不要とし、かつLE
Dとレンズとの位置調整を不要にする。 【解決手段】 発光面を有する発光素子100におい
て、発光素子に設けられた凹部70の内側面を発光面7
0aとし、発光面に密着して設けられた、光の透過、屈
折、反射および回折のいずれか1つの作用または2つ以
上の組み合わせによる作用を行わせる光学レンズ60を
具えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光学素子を具え
た発光素子、その製造方法およびこの発光素子を用いた
発光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、発光ダイオード(以下、LE
Dとも称する。)は、種々の光源として利用されてお
り、そのLEDをアレイ化したLEDアレイは、例えば
電子写真方式のプリンタ用光源などとして利用されてい
る。
【0003】一般に、LEDおよびLEDアレイは、L
EDで発した光をレンズを用いて集光させるなど、レン
ズと組み合わせて利用されている。
【0004】例えば、電子写真方式のプリンタ用光源
は、参考文献(「電子写真技術の基礎と応用」(電子写
真学会編 コロナ社)第638〜639頁)に開示され
ている。
【0005】この参考文献では、LED200と収束性
ロッドレンズアレイ(SLAと称する。)あるいは光フ
ァイバアレイ210などと組み合わせて、LEDアレイ
からの光を感光体ドラム110上に結像させている(図
13)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
LEDの場合、発光素子であるLEDと、LEDから出
た光を結像させるためのレンズとは別々である。その結
果、LEDとレンズとの位置調整を容易かつ精度良く行
うことは困難であった。
【0007】また、レンズとLEDとは別々であるた
め、LED以外にレンズ用の空間が必要となる。その結
果、LEDとレンズとを組み合わせて使用するこの種の
発光素子や、発光素子を用いた発光装置は、小型化する
のが困難であった。さらにまた、収束性ロッドレンズア
レイ(SLA)や光ファイバアレイなどの部品は高価で
ある。よって、LEDとレンズを組み合わせて使用する
発光素子や、これを用いた発光装置の低コスト化は困難
であった。
【0008】そこで、LEDとレンズとの位置調整が要
らず、かつ高価な収束性ロッドレンズアレイ(SLA)
等を不要とする発光素子、その製造方法およびこの発光
素子を用いた発光装置の出現が望まれていた。
【0009】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、この発明の発光素子によれば、発光面を有する発光
素子において、発光素子に設けられた凹部の内側面を発
光面とし、発光面に密着して設けられた、光を透過、屈
折、反射および回折する作用のうち、少なくとも1つの
作用または2つ以上の作用を組み合わせた作用を行わせ
る光学素子を具えることを特徴とする。
【0010】このように構成すれば、光学素子が発光面
に密着し、かつ凹部の中に光学素子を埋設することがで
きる。その結果、光学素子の占有空間を節約することが
できると共に、光学素子と発光面との焦点距離の調整も
不要になる。
【0011】また、この発明の実施に当たり、凹部の内
側面を、凹面とするのが好ましい。このように凹部の内
側面を凹面にすれば、この凹部の内側面に密着する光学
素子の一面も凹面になるので、凹部からの光をこの光学
素子に入射させて透過、屈折、反射、回折等の所要の作
用を行わせることができる。
【0012】また、この発明の実施に当たり、好ましく
は、凹部の内側面を、内球面の一部分とするのが良い。
【0013】このように凹部の内側面を内球面の一部分
で構成すれば、この凹部に密着する光学素子は、曲率半
径がほぼ一様な内球面部分を有するので、発光面からの
光を収束させる場合に極めて有効である。
【0014】また、この発明の実施に当たり、光学素子
は、凹部に対し非突出型のレンズであることを特徴とす
る。
【0015】このようにレンズを凹部から突出しないよ
うに構成してあるので、光学素子が占有する空間を節約
することができる。
【0016】また、この発明の実施に当たり、光学素子
は、凹部に、凹部からフレネル輪帯板が露出するように
設けられたフレネルレンズであるのが好適である。
【0017】このように構成すれば、フレネルレンズを
集光用光学素子として用いることができる。従って、フ
レネルレンズは、レンズ厚が薄くても集光特性が良いの
で、薄いLEDに適用した場合でも出射光を有効に集光
させることができる。
【0018】また、この発明の実施に当たり、発光面を
有する発光ダイオード(以下、LEDと称することもあ
る)と、LEDを駆動するLED駆動回路とを具えた発
光装置において、LEDに設けられた凹部の内側面を発
光面とし、発光面に密着して設けられた、光を透過、屈
折、反射および回折のいずれか1つの作用または2つ以
上の組み合わせによる作用を行わせる光学素子とを具え
ることが好ましい。
【0019】このように凹部の内側面が発光面であり、
光学素子を発光面に密着して設けたので、光学素子が凹
部に埋設されて光学素子の占める空間を節約することが
できる。その結果、従来の発光装置と比べて小さな容積
で発光装置を作成することができる。また、従来のよう
な高価な収束性ロッドレンズアレイ(SLA)や光ファ
イバアレイを用いることなく光学素子を安価に構成する
ことができる。また、光学素子とLEDとの光軸合わせ
等の調整が不要となるため、信頼性の高い発光装置を容
易にかつ安価に、作成することができる。
【0020】また、この発明の実施に当たり、凹部の内
側面が、凹面であるのが良い。
【0021】このように凹部の内側面を凹面にすれば、
凹部の内側面に密着する光学素子の一面も凹面になるの
で、発光面からの光を有効に集光することができる。
【0022】また、凹部の内側面を、内球面の一部分と
するのが好ましい。
【0023】このように凹部の内側面を内球面の一部分
で構成すれば、この凹部に密着する光学素子の一面はほ
ぼ均一な曲率半径の内球面部分を有するので、発光面か
らの光をより正確に集光することができる。
【0024】また、この発明の実施に当たり、光学素子
の上方に光を反射させるミラー面を形成するのが良い。
【0025】このように光学素子の上方にミラー面を形
成したので、発光面から出射される光を任意の方向に反
射させることができる。その結果、発光装置の設計の自
由度を高めることができる。
【0026】また、この発明の実施に当たり、ミラー面
は、ミラーブロックに形成されていて、ミラーブロック
は、LED駆動回路を含んでいて、およびミラーブロッ
クをLEDの所定の位置に配置すると、LED駆動回路
の駆動端子とLEDの接続端子とが駆動可能に接続され
るように構成されているのが好適である。
【0027】このようにミラー面を具えたミラーブロッ
クにLED駆動回路を含ませれば、ミラーブロックをL
EDに配置すると同時にLED駆動回路の電気的接続を
行うことができる。その結果、LED駆動回路をLED
に接続する工程と、ミラー面を持つミラーブロックをL
EDに接続する工程とが一回の工程で済み、従って、L
EDの作成がより簡単となり作業性が向上する。
【0028】また、この発明の実施に当たり、ミラー面
の面積が、凹部の開口面積よりも大きいのが良い。凹部
の開口面積とは、発光面を発光素子の上面に写影したと
きの面積が開口面積である。
【0029】このようにミラー面の面積を大きくしてお
くことにより、ミラー面を具えたミラーブロックとLE
Dを接続する際の合わせズレを吸収できる。その結果、
ミラーブロックとLEDとの接続作業を容易かつ迅速に
行うことができる。
【0030】また、この発明の実施に当たり、ミラー面
と、このミラー面および光学素子間の光軸とのなす角度
が、実質的に45度であるのが好ましい。この光軸は、
通常は、発光素子の発光面側の上面に垂直になっている
ので、ミラー面はこの上面に対する垂線と実質的に45
度の角度で傾向いている。
【0031】このように構成すれば、発光面からの光
は、ほぼ光軸に沿って発射されるが、この光の出射方向
を90度曲げることが可能な発光装置を作成することが
できる。
【0032】また、この発明の実施に当たり、N型化合
物半導体基板の上面にN型化合物半導体層を形成する第
1工程と、N型化合物半導体層の上面に拡散防止膜を形
成する第2工程と、拡散防止膜に開口窓を形成する第3
工程と、開口窓を通して下地のN型化合物半導体層に穴
部を等方性エッチングで形成する第4工程と、開口窓を
通して穴部の内壁にP型化合物半導体層を設けて凹部を
形成する第5工程と、凹部の周縁から内側に突出する拡
散防止膜を除去する第6工程と、凹部のP型化合物半導
体層とオーミック接合するP型電極を形成する第7工程
と、凹部に光学素子を形成する第8工程と、を含むこと
を特徴とする。
【0033】このような工程で製造すれば、この発明の
発光素子が確実に得られる。
【0034】また、この発明の実施に当たり、常温で液
体の光学材料であり、かつ、発光素子の性能に悪影響を
与えない程度の温度で熱硬化する当該光学材料を凹部に
充填し、次いでこの光学材料をこの温度で加熱して熱硬
化させて光学素子を形成するのが良い。
【0035】このような光学材料は、常温では液体なの
で凹部に充填し易く、また、この光学材料は、発光素子
に悪影響の出ない程度の加熱温度で熱硬化する。従っ
て、この光学材料を用いれば、発光素子の性能を損ねる
ことなく光学素子を形成することができる。このような
熱硬化性の光学材料として、好ましくは、ポリイミド樹
脂を用いるのが良い。
【0036】また、この発明の実施に当たり、常温で液
体の光学材料であって、かつ、紫外線によって露光硬化
する当該光学材料を凹部に充填し、次いでこの光学材料
にこの紫外線を照射して露光硬化させて光学素子を形成
するのが好適である。
【0037】このような光学材料は、常温では液体なの
で凹部に充填し易く、またこの光学材料はこれが硬化す
るために熱を加える必要がない。従って、この光学材料
を用いれば、発光素子の性能を安定に確保するように当
該光学素子を形成することができる。
【0038】また、この発明の実施に当たり、好ましく
は、紫外線硬化性の光学材料を、感光性ポリイミド樹脂
とするのが良い。
【0039】このような感光性ポリイミド樹脂は、常温
では液体なので、凹部に充填し易く、また、この樹脂
は、光学材料を硬化するために熱を加える必要がない。
従って、発光素子の性能を安定に確保できるように、容
易に光学素子を形成することができる。
【0040】また、この発明の実施に当たり、等方性エ
ッチングは、ドライエッチングを用いて実施するのが好
適である。
【0041】このようにドライエッチングを用いれば、
穴部の形状の設計自由度はウエットエッチングに比べて
高くなるので、等方性エッチングによる穴部とは異なる
所望の形状の穴部を得ることができる。
【0042】また、この発明の実施に当たり、等方性エ
ッチングは、ウエットエッチングを用いて実施するのが
良い。
【0043】このようにウエットエッチングによってN
型化合物半導体層に穴部を確実に等方性エッチングする
ことができる。
【0044】また、この発明の実施に当たり、ウエット
エッチングで用いるエッチング液は、臭素とメチルアル
コールとの混合液であるのが好ましい。
【0045】このようなエッチング液を用いれば、N型
化合物半導体層に穴部を形成することができる。
【0046】また、この発明の実施に当たり、N型化合
物半導体基板はN型GaAs基板であり、かつN型化合
物半導体層はN型GaAsP層であり、かつ拡散防止膜
はアルミナ膜あるいは窒化珪素膜あるいは酸化珪素膜で
あり、かつP型化合物半導体層はP型GaAsP層であ
り、かつP型電極の材料はアルミニウムであり、かつN
型化合物半導体層の裏面にN型電極を金(Au)系の合
金で形成するのが好適である。
【0047】このように材料を選定すれば、レンズ一体
型LEDを具えた発光素子を確実に作成することができ
る。
【0048】
【発明の実施の形態】以下、図を参照して、この発明の
実施の形態につき説明する。なお、図中、各構成成分の
大きさ、形状および配置関係は、この発明が理解できる
程度に概略的に示してあるにすぎず、また、以下に説明
する数値的条件は単なる例示にすぎないことを理解され
たい。
【0049】<第1の実施の形態>以下、図1〜図4、
および図13を参照して、この発明の発光素子の第1の
実施の形態の構成につき説明する。
【0050】図1(A)は、この発明の第1の実施の形
態の発光素子の上面を上方から見た図である。図1
(B)は、図1(A)のA−A線に沿って切った断面の
切り口を示す図である。図2(A)〜(E)は、この発
明の第1の実施の形態の発光素子の製造工程の前半部分
であって、製造開始から凹部形成までの主要工程段階で
得られた構造体をそれぞれ示す図である。図3(A)〜
(D)は、この発明の第1の実施の形態の発光素子の製
造工程の後半部分であって、凹部形成から完成までの主
要工程段階で作られた構造体をそれぞれ示す図である。
図4は、この発明の第1の実施の形態の発光素子を用い
て光書込ヘッドを構成した例を示す図である。図13
は、従来の発光素子を用いて光書込ヘッドを構成した例
を示す図である。
【0051】図1において、この発明の第1の実施の形
態の発光素子100は、発光素子100に設けた発光面
の形状に特徴がある。この場合、発光素子100に設け
られた凹部70の内側面70aを発光面としている。そ
して、この発明では、この発光素子100は、発光面7
0aに密着して設けられた光学素子60を具えている。
この光学素子60は、光を透過、屈折、反射および回折
する作用のうちいずれか1つの作用を行うかまたは2以
上の組み合わせによる作用を行わせることができる。
【0052】ここで発光素子とは、様々な種類の発光手
段を意味していて、光を発する素子であればどんな形態
のものでも良い。例えば、発光ダイオードやレーザーダ
イオード等が挙げられる。この実施の形態では、特に発
光ダイオードを例に挙げて説明する。
【0053】ここで、説明する構成例では、この光学素
子60を設計に応じた任意好適な屈折率を有するレンズ
とする。凹部70の内側面は、例えば凹面(図9)、内
球面の一部分(図8)、円柱(または円筒)面状(図1
0)等、その目的に応じて様々な形状で形成することが
できる。
【0054】ここで用いられるレンズ60は、光の出射
面を除いた残りの面を、これら凹部70の内側面70a
に密着する。よって、レンズ60の、凹部70の内側面
70aと密着する入射面60aはそれぞれ凹面(図
9)、内球面の一部分(図8)、円柱面状(図10)そ
の他等、凹部70の内側面70aに対応した形状に形成
される。
【0055】また、ここで用いるレンズ60は、凹部に
対し非突出型のレンズであることが好ましい。この構成
例では、このレンズ60の光の出射面60bは平坦面
(フラット)となっている。
【0056】このように、レンズ60を凹部70から突
出しないように構成してあるので、光学素子が占有する
空間を節約することができると共に、光学素子と発光面
との焦点距離の調整も不要になる。
【0057】このレンズ60を形成するために用いる光
学材料は、常温で液体であり、かつ、発光素子100の
性能に悪影響を与えない程度(すなわち性能に支障をき
たさない程度)の温度で熱硬化する。この熱硬化性の光
学材料として、ポリイミド樹脂を用いるのが好ましい。
その他の光学材料としては、例えば例えばSiO2 系被
膜形成用塗布液(例えば、商品名:OCD(東京応化工
業製))が好適である。
【0058】レンズを形成する場合、光学材料を凹部に
充填し、次いで発光素子100の性能に悪影響を与えな
い程度の温度に加熱することにより、この光学材料を熱
硬化させる。よって、形成されたレンズ60の入射面6
0aは発光面70aに密着しかつ出射面60bは平坦面
となる。この光学材料は、それ自体、常温では液体なの
で、この光学材料は凹部70に充填し易い。また、この
光学材料は発光素子100に悪影響の出ない程度の加熱
温度で熱硬化する。従って、この光学材料を用いると、
形成されるべき発光素子100の性能を損ねることなく
光学素子例えばレンズ60を形成することができる。
【0059】また、上述した以外の光学材料を用いるこ
とが可能である。例えば、常温で液体であって、しか
も、紫外線によって露光硬化する光学材料を用いること
もできる。この種の紫外線硬化性の光学材料としては、
例えば感光性ポリイミド樹脂が好ましい。この場合、こ
の光学材料を凹部70に充填し、次いで光学材料に紫外
線を照射してこれを露光硬化させてレンズ60を形成す
る。この光学材料も、同様に、常温では液体なので、こ
の光学材料は、凹部に充填し易い。また、この光学材料
は、これを硬化させるために熱を加える必要がない。こ
のため、この感光性ポリイミド樹脂を用いれば、形成さ
れるべき発光素子100の性能を安定に確保して光学素
子を形成することができる。この場合にも、形成された
光学素子60の入射面60aは発光面70aに密着し、
かつ、出射面60bは平坦面となる。
【0060】上述したレンズの形成は、一種類の材料の
みで形成した例であるが、複数種類の屈折率の異なる材
料部分が例えば層状に組み合わせたレンズとして形成し
て、レンズ60からの出射光を設計通りに屈折させて、
所望の集束や発散や平行光を得るようにすることも可能
である。また、レンズ60の出射面60bを平坦面とせ
ずに適当な凹面や凸面あるいはその他の凹凸面として形
成しても良い。
【0061】なお、ここで用いる発光素子100は、光
を発光する素子であればいずれの構成の素子であっても
良い。例えば発光ダイオードやレーザーダイオードでも
良い。
【0062】次に、図2および図3を参照して、発光素
子100、ここでは発光ダイオードを例に挙げて、その
製造方法につき説明する。
【0063】先ず、N型化合物半導体基板10の上面に
N型化合物半導体層20をエピタキシャル成長によって
形成する(第1工程)(図2(A))。この場合、N型
化合物半導体基板10として用いられる材料は、例えば
厚さが500μmのN型GaAs基板10である。この
N型GaAs基板10に添加されているN型ドーパント
は、例えば硫黄(S)、セレン(Se)、テルル(T
e)、ゲルマニウム(Ge)、珪素(Si)等のいずれ
かのドーパントが好ましい。この場合、不純物濃度は、
1.0×1017原子/cm3 程度が好適である。
【0064】また、N型化合物半導体層20に用いられ
る材料は、例えばN型GaAsP層20が好ましい。こ
のエピタキシャル層20の厚さは100μmが良い。こ
のGaAsP層20に添加されるN型ドーパントは、例
えば硫黄(S)、セレン(Se)、テルル(Te)、ゲ
ルマニウム(Ge)、珪素(Si)等のいずれかのドー
パントが好適である。この場合、不純物濃度は、例えば
1.0×1017原子/cm3 程度である。
【0065】次に、このN型GaAsP層20の上面に
拡散防止膜30を形成する(第2工程)(図2
(A))。この場合、拡散防止膜30に用いられる材料
は、例えばアルミナ膜、窒化珪素膜、酸化珪素膜などの
いずれかの膜が好適である。この場合、拡散防止膜30
は、例えば蒸着法、スパッタ法、あるいはCVD法によ
り形成する。膜厚は、0.3μm程度である。なお、拡
散防止膜30とは、第4工程で穴部20aを形成する際
のエッチングマスクとして機能し、しかも、第5工程で
P型不純物を拡散する際に、所望の領域以外への当該不
純物の拡散を防止するための膜である。
【0066】次に、拡散防止膜30に開口窓30aを形
成する(第3工程)(図2(B))。この開口窓30a
は、ホトリソグラフィ技術およびエッチング技術により
拡散防止膜30を加工して形成する。
【0067】次に、開口窓30aを通して下地のN型G
aAsP層20に穴部20aを形成する(第4工程)
(図2(C))。この穴部20aは、拡散防止膜30の
部分をエッチングマスクとして用いて下地のN型GaA
sP層20を等方エッチングして形成する。等方エッチ
ングは、ドライエッチングでもウエットエッチングでも
良い。ドライエッチングの場合は、プラズマエッチング
が好ましい。また、ウエットエッチングの場合は、エッ
チング液として例えば臭素とメチルアルコールとの混合
液を用いることが出来る。
【0068】次に、開口窓30aを通して穴部20aの
内壁にP型化合物半導体層40を設けて凹部70を形成
する(第5工程)(図2(D))。この場合、P型化合
物半導体層40としては、P型GaAsP層40が好適
である。P型ドーパントとしては、亜鉛(Zn)が好ま
しい。P型GaAsP層40は、穴部20a内に亜鉛を
気相拡散法によって拡散させて形成する。この場合、こ
の層の厚さは、3μm程度である。また、不純物濃度
は、例えば1.0×1017原子/cm3 程度である。
【0069】このP型GaAsP層40が形成されたこ
とにより、この層40とその下側に存在するN型GaA
sP層20との間にPN接合40aが形成されると共
に、凹部70が形成される。また、このP型GaAsP
層40の、PN接合40aとは反対側の面すなわちP型
GaAsP層の露出面が凹部70の内側面70aとな
る。従って、この内側面70aは発光面でもある。
【0070】次に、拡散防止膜30の一部分である、凹
部70の周縁から内側に突出する部分をホトリソグラフ
ィ技術およびエッチング技術によって除去する(第6工
程)(図2(E))。この場合、拡散防止膜30の凹部
70の周りの縁が凹部70に突出しないように形成され
る。そして、この凹部70以外の拡散防止膜30は、後
述するP型電極50(図3(A))とN型半導体基板1
0やN型化合物半導体層20との絶縁膜としての機能も
果たす。さらに、P型電極50とN型半導体基板10や
N型化合物半導体層20との絶縁信頼性を増すために、
別途絶縁膜(図示せず)を拡散防止膜30上に積層して
も良い。
【0071】次に、凹部70のP型GaAsP層40と
オーミック接合するP型電極50を、蒸着法やスパッタ
法などの設計に応じた適当な成膜方法と、ホトリソグラ
フィ技術およびエッチング技術とによって、形成する
(第7工程)(図3(A))。
【0072】この構成例では、このP型電極50は、拡
散防止膜30上の四角形状の電極部分とこの電極部分か
ら舌状に突出して、発光面70aと接触する電極部分で
ある舌部52とで形成されている。この舌部52は、オ
ーミックコンタクトが充分とれることおよび発光面から
発射される光の損失を出来るだけ少なくするという観点
から、細条すなわち細長い帯状体として形成するのが良
い。
【0073】次に、N型GaAs基板10の裏面にN型
電極80を形成するのが良い(図3(B))。特性向上
のためにN型GaAs基板10の裏面を研磨した後にN
型電極80を形成しても良い。ここで、N型電極80を
構成する材料は、N型GaAs基板10との間でオーミ
ックコンタクトが取れる材料であれば特に限定されるも
のではない。例えば、金(Au)系の合金をN型電極8
0の構成材料として用いることができる。なお、N型G
aAs基板10の裏面にN型電極80を形成するのは、
特に第7工程の後に限らず、どの工程の前後で行っても
良い。すなわち、N型電極80の形成は、特に他の工程
と工程順の制約関係はないからである。
【0074】最後に、この電極50の舌部52が形成さ
れている凹部70に光学素子60すなわちレンズ60を
形成する(第8工程)(図3(C))。このレンズ60
は発光面70aと舌部52の表面に接して形成される。
このレンズ60の製造方法については、既に説明したの
でここでは省略する。このように、凹部70にレンズ6
0を形成することで、P型GaAsP層40とN型Ga
AsP層20との界面に形成されるPN接合(界面)付
近で発生する光は、レンズ60に入射してこのレンズを
透過する際に屈折し、収束または発散、好ましくは、集
光という光学的効果を得ることができる。
【0075】なお、レンズ60は、発光面70aから出
射される光がほぼ平行光になるように設けても良い。
【0076】このように出射光を平行光にすれば、発光
面と光学素子が一体的に接合しているため光は拡散され
ず細い光束の平行光となるので、出射光は例えば感光体
ドラムのような被照射対象上にスポット状に照射され得
る。そのため、被照射対象と発光素子との間隔をレンズ
の焦点距離に合わせる等の面倒な焦点調整が不要とな
る。
【0077】次に、上述した発光素子の適用例につき説
明する。
【0078】図4は、この発明の第1の実施の形態の発
光素子100と感光体ドラム110とを用いて構成した
光書込ヘッド120を示している。この発明の発光素子
100を光書込ヘッド120に用いた場合、このヘッド
120を感光体ドラム110に接近させて設けられるの
で、このヘッド120と感光体ドラム110との間に
は、収束性ロッドレンズアレイ(SLA)210のよう
な従来挿入されていた光学系(図13)が不要となる。
従って、この発明の発光素子100は、光書込ヘッド1
20の小型化に大きく寄与している。また、この発明の
発光素子100は、従来使用されていた高価な収束性ロ
ッドレンズアレイ(SLA)210(図13)等を用い
なくても構成できるので、焦点距離の調整が不要とな
り、より簡単かつ安価に製造することができる。
【0079】<第1の実施の形態の変形例>以下、図5
および図6を参照して、この発明の発光素子の第1の実
施の形態の変形例につき説明する。
【0080】図5(A)は、この発明の第1の実施の形
態の発光素子の変形例であって、ミラーブロックと発光
素子とを機械的かつ電気的に接続した発光装置を上面か
ら見た図である。尚、図5(A)において、発光素子3
00の輪郭と、P型電極50eの輪郭およびP型GaA
sP層40の輪郭を破線で示し、これら素子300、電
極50eおよび層40とミラー面420との位置関係を
明確に示している。図5(B)は、図5(A)のLED
のみをI−I線に沿って切った断面の切り口を示す図で
ある。図6は、第1の実施の形態の変形例を適用した光
書込ヘッドを示す図である。
【0081】図5(A)および(B)において、発光素
子300の上面にミラーブロック400が設けられてい
る。このミラーブロック400は、発光素子300の上
面に形成されたレンズ60の上方にミラー面420が位
置するように配設されている。そして、このミラーブロ
ック400は発光素子300に機械的かつ電気的に接続
されている。
【0082】このように光学素子の上方にミラー面を形
成すれば、発光面から出射される光を任意の方向に反射
させることができる。例えばこの場合、ミラー面420
と発光素子300の上面とがなす角、すなわち、ミラー
面420とこの上面の垂線とがなす角度は実質的に45
度とすることができる。従って、発光面70aおよびレ
ンズ60とミラー面420との間の光軸とミラー面42
0とがなす角度を、実質的に45度とすることができ
る。その結果、図6に示す光書込ヘッド600における
発光装置500の固定面を、図4に示す光書込ヘッド1
20における発光装置100の固定面に対しほぼ直角を
成す固定面を選択することが可能となるので、光書込ヘ
ッドの設計仕様の選択度を拡大することができる。
【0083】また、このミラーブロック400は、LE
Dを駆動するLED駆動回路を含んでいる。そして、ミ
ラーブロック400を発光素子300の所定の位置に配
置すると、LED駆動回路の駆動端子(P型電極用接続
パッド)414と発光素子300の接続端子(P型電
極)50eとが接続されて発光素子300が駆動可能な
状態になる。
【0084】このようにミラー面420を具えたミラー
ブロック400にLED駆動回路を含ませれば、ミラー
ブロック400を発光素子300に配置すると同時にL
ED駆動回路の電気的接続を行うことができる。その結
果、LED駆動回路を発光素子300に接続する工程
と、ミラー面420を持つミラーブロック400を発光
素子300に接続する工程とが一回の工程で済み、従っ
て、発光素子300の作成がより簡単となり作業性が向
上する。
【0085】また、この場合、ミラー面420が反射に
有効的に寄与する面積(有効反射面積)が、凹部70の
開口面積よりも大きいことが好ましい。なお、この開口
面積は、凹部70がN型GaAsP層の表面で開口して
いる面積である。
【0086】このように構成すれば、凹部70の開口面
積と出射当初の光束の断面積は等しい。従って、この出
射光がかなり大きく発散しない限り、この出射光がミラ
ー面に到達する時の光束の断面積はミラー面420が有
効的に寄与する面積よりも十分小さい。従って、ミラー
ブロック400と発光素子300との接続の際の合わせ
ズレが多少あっても、この出射光がミラー面に到達する
時の光束の断面積は、ミラー面420の有効反射面積内
に十分収まるので、この合わせズレを吸収することがで
きる。その結果、ミラーブロック400と発光素子30
0との接続作業を容易かつ迅速に行うことができる。
【0087】また、図5(A)および(B)において、
ミラーブロック400のN型電極用の接続パッド412
(図5(B))と発光素子300のN型電極80とがボ
ンディングワイヤー410によって電気的に接続されて
いる。さらに、ミラーブロック400のP型電極用接続
パッド414と発光素子300のP型電極50eとが機
械的かつ電気的に接続されている。ここで、機械的かつ
電気的な接続とは、例えばミラーブロック400のP型
電極用接続パッド414と発光素子300のP型電極5
0eとを圧着させつつ機械的に固定することをいう。あ
るいはミラーブロック400のP型電極用接続パッド4
14と発光素子300のP型電極50eとを異方導電性
接着剤で接着させても良い。この場合、1つの発光素子
300のレンズ60と1つのミラーブロック400とを
接続させてある。
【0088】また、ミラーブロック400には、N型電
極用接続パッド412の横の位置に、図示しない制御端
子と陽極パッドと陰極パッドとが配列されている。これ
ら制御端子と陽極パッドと陰極パッドは、図示しない外
部電源とそれぞれ接続されている。この接続により、外
部電源から出力される制御信号を制御端子に入力させ
て、発光面の光量を任意に制御できる。
【0089】<第1の実施の形態の別の変形例>次に、
図7を参照して、この発明の第1の実施の形態の別の変
形例である発光装置につき説明する。
【0090】図7は、発光素子を一列に並べた発光素子
アレイを具える発光装置の構成例を説明するための斜視
図である。この発光装置500aは、発光素子アレイ3
00aとミラーブロックアレイ400aを具えている。
発光素子アレイ300aを構成している各発光素子は、
専用のレンズと専用のP型電極と各発光素子に共通のN
型電極(図示しない)を具えている。従って、専用のレ
ンズは、レンズアレイ320を形成しており、また専用
のP型電極はP型電極アレイ310を形成している。
【0091】一方、ミラーブロックアレイ400aは、
所要の構成要素、例えば個別のP型電極用パッド414
aと、1枚のN型電極用接続パッド412aと、1枚の
ミラー面420aと、1枚の陽極パッド416aと、1
枚の陰極パッド416bと、発光素子アレイ300aの
駆動パターンを決める複数個例えば3個の制御端子41
8a〜418cすなわち制御パッド418と、発光素子
アレイ300aを制御する駆動回路422を具えてい
る。制御パッド418は、3個の制御端子418a, 4
18b,418cから構成される。よって、これら3個
の制御端子418a,418b,418cの組み合わせ
により3ビットの制御信号を発光素子アレイ300aに
送ることができる。その結果、発光素子アレイ300a
の様々な駆動を制御することができる。
【0092】また、陽極パッド416aと陰極パッド4
16bとは、図示しない外部電源と電気的に接続されて
いる。すなわち、レンズアレイ320とミラー面420
aとが互いに対向するようにし、かつ、P型電極アレイ
310とP型電極用接続パッド414aとが互いに接続
するように、発光素子アレイ300aとミラーブロック
アレイ400aとを互いに固定する。ミラーブロックア
レイ400aの各P型電極用パッド414aと発光素子
アレイ300aの各P型電極アレイ310とは、それぞ
れ1対1の関係で機械的かつ電気的に接続される。さら
に、ミラーブロックアレイ400aのN型電極用接続パ
ッド412a(図7)と発光素子アレイ300aのN型
電極80とが1本のボンディングワイヤー410によっ
て電気的に接続されている。このN型電極用接続パッド
412a,N型電極80,ボンディングワイヤ410を
それぞれ複数設けて接続信頼性の向上や大電流印加を可
能とすることも可能である。
【0093】また、好ましくは、ミラーブロックアレイ
400aは、珪素(Si)で形成するのが良い。そのた
め、<110>方向に角度9度だけオフした(100)
面を上側表面に持つシリコン基板を用いていると良い。
このシリコン基板をこの上側表面に垂直な方向から異方
性エッチングすれば、(100)表面と45度の角度を
持つ(111)面が得られる。この(111)面は結晶
面なので鏡面状である。従って、ミラーブロック400
およびミラーブロックアレイ400aでは、この(11
1)面をミラーブロック400およびミラーブロックア
レイ400aのミラー面420および420aとして利
用できる。
【0094】なお、上述したミラー面420aの形成方
法は、図5のミラーブロック400のミラー面420に
ついても同様に適用することができる。
【0095】<第2の実施の形態>次に、図8を参照し
て、この発明の発光素子の第2の実施の形態につき説明
する。
【0096】なお、第2〜5の実施の形態では、第1の
実施の形態におけるP型電極50、P型GaAsP層4
0および凹部70の形状のみを変形した例である。よっ
て、以下、第2の実施の形態の発光素子の構成を、第1
の実施の形態の発光素子との構成上の相違点のみにつき
説明する。それ以外の構成については、第1の実施の形
態の発光素子の構成と同一であるので、ここでは説明を
省略する。
【0097】また、既に述べた第1の実施の形態の変形
例および第1の実施の形態の別の変形例は、第2〜5の
実施の形態でも同様に適用可能であるので、説明を省略
する。
【0098】図8(A)は、この発明の第2の実施の形
態の発光素子を上面から見た図である。図8(B)は、
図8(A)のB−B線に沿って切って取った切り口を示
す図である。図9(A)は、この発明の第2の実施の形
態の発光素子に用いるP型電極の変形例を示す平面図、
図9(B)は図9(A)のC−C線に沿って切って取っ
た切り口を示す図である。図9(C)は、この発明の第
2の実施の形態の発光素子に外付け用球面レンズを用い
る場合のレンズの斜視図である。
【0099】先ず、第2の実施の形態の発光素子100
a(図8)と第1の実施の形態の発光素子100(図
1)との構成上の相違点につき以下に説明する。
【0100】第2の実施の形態の発光素子と第1の実施
の形態の発光素子との相違点は、P型電極の形状とP型
GaAsP層の形状にある。この場合、第2の実施の形
態の凹部170aの内側面は、きれいな内球面に形成さ
れている。
【0101】このため、先ず、第1の実施の形態のP型
電極50の特徴は、このP型電極50から延出した舌部
52を具えている点にある。この舌部52は、P型電極
50から凹部70の内側面すなわちP型GaAsP層4
0の発光面70aに沿うように配置されていてP型Ga
AsP層40と電気的に接続される(図1(B))。一
方、第2の実施の形態の場合のP型電極の特徴は、P型
電極157aの形状にある。このP型電極157aは、
一体的に形成したP型電極パッド部150aとリング状
P型電極部156aから構成される。
【0102】また、リング状P型電極部156aは、P
型GaAsP層140aの端面142a(P型GaAs
P層140aの、N型GaAsP層20の表面に露出し
た縁の部分)の形状とほぼ同一の平面的形状を有してお
り、かつP型GaAsP層140aの端面142aとオ
ーミック接合するための電極である。また、このリング
状P型電極部156aを形成する際は、拡散防止膜30
等の絶縁膜のパターニングにより、N型GaAsP層2
0と、このリング状P型電極部156aが電気的に絶縁
されるように形成する。
【0103】第1の実施の形態のP型電極50とこの場
合の第2の実施の形態のリング状P型電極部156aと
を対比すると、第1の実施の形態の場合では、凹部70
の内側面にP型電極の一部分である舌部52が存在して
いる。それに対し、第2の実施の形態では、凹部170
aの内側面にP型電極部156aのリング部156aは
存在しない。
【0104】つまり、第2の実施の形態の凹部170a
は、きれいな内球面となるが、第1の実施の形態の凹部
170aの内側面は、この内側面に沿うように配設され
た舌部52の部分が凸状に隆起しているので、きれいな
内球面とはならない。
【0105】なお、この構成例でも、第1の実施の形態
で説明したと同様な材料および形成方法で形成したレン
ズ60を使用することが出来る。
【0106】また、図9(A)乃至(C)を参照して、
第2の実施の形態の別の構成例(変形例)につき説明す
る。
【0107】この別の構成例では、P型電極157aの
形状とP型GaAsP層140aの形状に特徴を有して
いる。このP型電極157aは、一体的に形成したP型
電極パッド部150aと、P型電極突部151aとから
なる。また、P型GaAsP層140aは、一体的に形
成したP型GaAsP層凹部152aと、P型GaAs
P層突部153aとからなる。このP型GaAsP層突
部153aとP型電極突部151aとでオーミック接合
を形成し、P型GaAsP層にP型電極から電流を供給
して発光させる。このように、第2の実施の形態のこの
別の構成例によれば、P型電極を形成する際に、凹部1
70aの内側面は奇麗な内球面を保つことが出来る。こ
れにより、凹部170a内に形成するレンズを精度良く
形成することができる。
【0108】この別の構成例では、第1の実施の形態と
同様に凹部内に樹脂を用いたレンズを形成する例で説明
した。しかし、この別の構成例では、凹部170a内に
P型電極の舌部52のような凸状に隆起した部分がない
ので、第1の実施の形態の構成例の場合のような樹脂状
のレンズではなく、図9(C)に示すような、予め個別
に形成された外付け用半球面レンズを凹部170a内に
配置することも可能である。
【0109】なお、このP型電極とP型GaAsP層と
の構成例、および予め個別に形成された外付け用レンズ
を凹部内に配置する構成例は、後述する第3乃至第5の
実施の形態の構成例に対しても同様に適用出来る。よっ
て、以下に説明する第3乃至第5の実施の形態では、第
2の実施の形態の変形例を適用した例については、その
説明を省略する。
【0110】また、この第2の実施の形態の構成例で
も、第1の実施の形態で説明したと同様な材料および形
成方法で形成したレンズ60を使用することが出来る。
【0111】<第3の実施の形態>次に、図10を参照
して、この発明の発光素子の第3の実施の形態につき説
明する。
【0112】図10(A)は、この発明の第3の実施の
形態の発光素子を上面から見た図である。図10(B)
は、図10(A)のD−D線に沿って切って取った切り
口を示す図である。図10(C)は、この発明の第3の
実施の形態の発光素子に外付け用レンズを用いる場合の
レンズの斜視図である。
【0113】この発明の第3の実施の形態の構成上の特
徴は、第2の実施の形態の凹部170aの形状をカマボ
コ形の底面側を上に向けたような形に形成してある点
と、リング状P型電極部156bは、P型GaAsP層
140bの端面142bの形状に合わせて、四角いリン
グ形状に形成されている点にある。第3の実施の形態の
P型電極157bは、第2の実施の形態のP型電極15
7aと同様に、一体的に形成したP型電極パッド部15
0bとリング状P型電極部156bとから構成されてい
る。それ以外の構成は、第2の実施の形態の構成と同一
であるのでここでは説明を省略する。
【0114】このようなシリンドリカルレンズ160b
を用いれば、均一なライン状の出射光が得られるので、
例えばファクシミリ機に原稿を挿入する場合、この原稿
を1本のラインセンサーで均一に読み取る際に必要な照
明として活用することができる。
【0115】また、この第3の実施の形態の構成例で
も、第1の実施の形態で説明したと同様な材料および形
成方法で形成したレンズ60を使用することが出来る。
【0116】<第4の実施の形態>次に、図11を参照
して、この発明の発光素子の第4の実施の形態につき説
明する。
【0117】図11(A)は、この発明の第4の実施の
形態の発光素子を上面から見た図である。図11(B)
は、図11(A)のE−E線に沿って切って取った切り
口を示す図である。図11(C)は、この発明の第4の
実施の形態の発光素子に用いるレンズの上面を示す図で
ある。図11(D)は、図11(C)のX−X線に沿っ
て切って取った切り口を示す図である。
【0118】この発明の第4の実施の形態の構成上の特
徴は、第2の実施の形態の凹部170aの内壁の形状
(図8(B))を縦方向に円柱面(図11(A)および
(B))に形成してある点のみである。それ以外の構成
は、第2の実施の形態の構成と同一であるのでここでは
説明を省略する。この場合、リング状P型電極部156
cは、P型GaAsP層140cの端面142cの形状
に合わせて、第2の実施の形態と同様に、リング部15
6cの外形が円形リング形状に形成されている。
【0119】よって、この凹部170cに装着される外
付けレンズ160cは、凹部170cに合致する寸法形
状の、凹部170cからフレネル輪帯板(ゾーンプレー
ト)が露出するように設けられたフレネルレンズ160
cが好適である(図11(C)および(D))。それ以
外の構成は、同一であるので説明は省略する。
【0120】よって、この凹部170cに装着される外
付けレンズ160cは、凹部170cに合致する寸法形
状のフレネルレンズ160cが好適である(図11
(C)および(D))。
【0121】このようにフレネルレンズを用いれば、フ
レネルレンズはレンズ厚が薄くても集光特性が良いの
で、薄いLEDに適用した場合でも出射光を有効に集光
させることができる。
【0122】また、この第4の実施の形態の構成例で
も、第1の実施の形態で説明したと同様な材料および形
成方法で形成したレンズ60を使用することが出来る。
【0123】<第5の実施の形態>次に、図12を参照
して、この発明の発光素子の第5の実施の形態につき説
明する。
【0124】図12(A)は、この発明の第5の実施の
形態の発光素子を上面から見た図である。図12(B)
は、図12(A)の発光素子をF−F線に沿って切った
切り口を示す図である。図12(C)は、この発明の第
5の実施の形態の発光装置に用いるレンズを上面から見
た図を示している。図12(D)は、図12(C)のレ
ンズをY−Y線に沿って切った取った切り口を示す図で
ある。
【0125】この発明の第5の実施の形態の発光素子1
00dの構成上の特徴は、第4の実施の形態のフレネル
レンズ160cの代わりに、レンズの上面を凹面に形成
した円柱状の凹面レンズ160dを装着した点にある
(図12(B))。すなわち外付けレンズ160dを除
く発光素子100dの構成は、第4の実施の形態の外付
けレンズ160cを除く発光素子100cの構成と同一
である。よって、ここでは、その他の構成については説
明を省略する。
【0126】この発明の実施に当たり、このような円柱
状凹面レンズ160dは、例えばプラスチック製樹脂に
より全体をモールドされた発光素子に適用するのが好適
である。
【0127】つまり、プラスチック製樹脂により全体を
モールドされた発光素子の場合、発光素子の有するレン
ズの外側に覆われたプラスチック製樹脂が集光レンズの
ように作用する。よって、このような場合に集光レンズ
を用いれば、この発光素子から出射された光は必要以上
に集光され過ぎる。したがって、この種の発光素子にこ
の発明を適用すると、発光素子からの出射光は、この凹
面レンズにより一旦拡散されるので、この拡散光をプラ
スチックにより集光させて平行光にすることができて好
適である。
【0128】また、この第5の実施の形態の構成例で
も、第1の実施の形態で説明したと同様な材料および形
成方法で形成したレンズ60を使用することが出来る。
【0129】
【発明の効果】上述した説明から明らかなように、この
発明によれば、凹部の内側面が発光面であり、光学素子
を発光面に密着して設けたので、光学素子が凹部に埋設
されて光学素子の占める空間を節約することができる。
その結果、従来の発光素子と比べて小さな容積で発光装
置を作成することができる。また、従来のような高価な
分布屈折レンズや光ファイバアレイを用いることなく光
学素子を安価に構成することができる。また、光学素子
と発光素子との光軸合わせ等の調整が不要となるため、
容易にかつ安価で信頼性の高い発光素子を作成すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は、この発明の第1の実施の形態の発光
素子を上面から見た図であり、(B)は、(A)の発光
素子をA−A線に沿って切った切り口を示す図である。
【図2】(A)〜(E)は、この発明の第1の実施の形
態の発光素子の製造工程の前半部分であって、製造開始
から凹部形成までの製造工程をそれぞれ示す図である。
【図3】(A)〜(D)は、この発明の第1の実施の形
態の発光素子の製造工程の残り後半部分であって、凹部
形成から完成までの工程をそれぞれ示す図である。
【図4】この発明の第1の実施の形態の発光素子を用い
て光書込ヘッドを構成した例を示す図である。
【図5】(A)は、この発明の第1の実施の形態の発光
装置の変形例であって、ミラーブロックと発光素子とを
機械的かつ電気的に接続した発光装置の上面図であり、
(B)は、(A)の発光装置のI−I線に沿って取った
断面図である。
【図6】第1の実施の形態の変形例を適用した光書込ヘ
ッドを示す図である。
【図7】LED駆動回路を内蔵したミラーブロックとL
EDアレイとの各々の接続端子等を示す図である。
【図8】(A)は、この発明の第2の実施の形態の発光
素子を上面から見た図であり、(B)は、(A)の発光
素子をB−B線に沿って切って取った切り口を示す図で
ある。
【図9】(A)は、この発明の第2の実施の形態の発光
素子に用いるP型電極の変形例を示す平面図、(B)は
(A)のC−C線に沿って切って取った切り口を示す
図、および(C)は、この発明の第2の実施の形態の発
光素子に外付け用球面レンズを用いる場合のレンズの斜
視図である。
【図10】(A)は、この発明の第3の実施の形態の発
光素子を上面から見た図であり、(B)は、(A)の発
光素子をD−D線に沿って切って取った切り口を示す図
であり、(C)は、この発明の第3の実施の形態の発光
素子に用いるレンズの斜視図である。
【図11】(A)は、この発明の第4の実施の形態の発
光素子を上面から見た図であり、(B)は、(A)の発
光素子をE−E線に沿って切って取った切り口を示す図
であり、(C)は、この発明の第4の実施の形態の発光
素子に用いるレンズの上面を示す図であり、(D)は、
(C)の発光素子のレンズをX−X線に沿って切って取
った切り口を示す図である。
【図12】(A)は、この発明の第5の実施の形態を示
す発光素子の平面図であり、(B)は、(A)のF−F
線に沿って切って取った切り口を示す図であり、(C)
は、この発明の第5の実施の形態の発光素子に用いるレ
ンズを上面から見た図であり、(D)は、(C)の発光
素子のレンズをY−Y線に沿って切って取った切り口を
示す図である。
【図13】従来の光書込ヘッドを示す図である。
【符号の説明】
10:N型GaAs基板 20:N型GaAsP層 20a:穴部 30:拡散防止膜 30a:開口窓 40,140a,140b,140c,140d:P型
GaAsP層 40a:PN接合 50,50e:P型電極 52:舌部 60:レンズ 60a:入射面 60b:出射面 70,170a,170b,170c,170d:凹部 70a:発光面 80:N型電極 100:発光素子 100a:発光素子 110:感光体ドラム 120:光書込ヘッド 142a,142b,142c,142d:端面 150a,150b,150c,150d:P型電極パ
ッド部 151a:P型電極突部 152a:P型GaAsP層凹部 153a:P型GaAsP層突部 156a,156b,156c,156d:リング状P
型電極部 157a,157b,157c,157d:P型電極 160a:半球面レンズ 160b:シリンドリカルレンズ 160c:フレネルレンズ 160d:円柱状凹面レンズ 170a,170b,170c,170d:凹部 200:LED(発光素子) 210:収束性ロッドレンズアレイ(SLA) 300:発光素子 300a:発光素子アレイ 310:P型電極アレイ 320:レンズアレイ 400:ミラーブロック 400a:ミラーブロックアレイ 410:ボンディングワイヤー 412:N型電極用接続パッド 412a:N型電極用接続パッド 414:P型電極用接続パッド 414a:P型電極用接続パッド 416a:陽極パッド 416b:陰極パッド 418:制御パッド 420:ミラー面 420a:ミラー面 422:駆動回路 500:発光装置 500a:発光装置 600:光書込ヘッド 700:光書込ヘッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小椋 茂樹 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 小泉 真澄 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 中村 幸夫 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内 Fターム(参考) 5F041 AA06 CA10 CA35 CA38 CA74 CA85 CA87 DA46 EE17 EE23

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 発光面を有する発光素子において、 該発光素子に設けられた凹部の内側面を前記発光面と
    し、 該発光面に密着して設けられた、光の透過、屈折、反射
    および回折のいずれか1つの作用または2つ以上の組み
    合わせによる作用を行わせる光学素子を具えることを特
    徴とする発光素子。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の発光素子において、 前記凹部の内側面は、凹面であることを特徴とする発光
    素子。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の発光素子において、 前記凹面は、内球面の一部分の形状を有していることを
    特徴とする発光素子。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の
    発光素子において、 前記光学素子は、前記凹部に対し非突出型のレンズであ
    ることを特徴とする発光素子。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の発光素子において、 前記光学素子は、前記凹部に、該凹部からフレネル輪帯
    板が露出するように、設けられたフレネルレンズである
    ことを特徴とする発光素子。
  6. 【請求項6】 発光面を有する発光ダイオード(以下、
    LEDと称する。)と、前記LEDを駆動するLED駆
    動回路とを具えた発光装置において、 該LEDに設けられた凹部の内側面を前記発光面とし、 該発光面に密着して設けられた、光の透過、屈折、反射
    および回折のいずれか1つの作用または2つ以上の組み
    合わせによる作用を行わせる光学素子とを具えることを
    特徴とする発光装置。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載の発光装置において、 前記凹部の内側面が、凹面であることを特徴とする発光
    装置。
  8. 【請求項8】 請求項6に記載の発光装置において、 前記凹部の内側面が、内球面の一部分であることを特徴
    とする発光装置。
  9. 【請求項9】 請求項6乃至8のいずれか一項に記載の
    発光装置において、 前記光学素子の上方に前記発光面からの光を反射させる
    ミラー面を具えることを特徴とする発光装置。
  10. 【請求項10】 請求項9に記載の発光装置において、 前記ミラー面は、ミラーブロックに形成されていて、 該ミラーブロックは、前記LED駆動回路を含んでい
    て、および前記ミラーブロックを前記LEDの所定の位
    置に配置すると、該LED駆動回路の駆動端子と前記L
    EDの接続端子とが駆動可能に接続されるように構成さ
    れていることを特徴とする発光装置。
  11. 【請求項11】 請求項9または10に記載の発光装置
    において、 前記ミラー面の面積が、前記凹部の開口面積よりも大き
    いことを特徴とする発光装置。
  12. 【請求項12】 請求項9乃至11のいずれか一項に記
    載の発光装置において、 前記ミラー面と前記発光面から出射する光が光軸に沿っ
    て前記ミラー面へ入射する角度が、実質的に45度であ
    ることを特徴とする発光装置。
  13. 【請求項13】 N型化合物半導体基板の上面にN型化
    合物半導体層を形成する第1工程と、 該N型化合物半導体層の上面に拡散防止膜を形成する第
    2工程と、 前記拡散防止膜に開口窓を形成する第3工程と、 該開口窓を通して下地の前記N型化合物半導体層に穴部
    を等方性エッチングで形成する第4工程と、 前記開口窓を通して前記穴部の内壁にP型化合物半導体
    層を設けて凹部を形成する第5工程と、 該凹部の周縁から内側に突出する前記拡散防止膜を除去
    する第6工程と、 前記凹部の前記P型化合物半導体層とオーミック接合す
    るP型電極を形成する第7工程と、 前記凹部に光学素子を形成する第8工程と、を含む発光
    素子の製造方法。
  14. 【請求項14】 請求項13に記載の発光素子の製造方
    法において、前記第8工程は、 光学材料として常温で液体であり、かつ、発光素子の性
    能を損なわない程度の温度で熱硬化する材料を用意する
    工程と、 該光学材料を前記凹部に充填する工程と、 次いで該光学材料を前記温度で加熱してこれを熱硬化さ
    せて前記光学素子を形成する工程とを含むことを特徴と
    する発光素子の製造方法。
  15. 【請求項15】 請求項14に記載の発光素子の製造方
    法において、 前記光学材料を、ポリイミド樹脂とすることを特徴とす
    る発光素子の製造方法。
  16. 【請求項16】 請求項13に記載の発光素子の製造方
    法において、前記第8工程は、 光学材料として常温で液体であり、かつ、紫外線露光に
    より硬化する材料を用意する工程と、 該光学材料を前記凹部に充填する工程と、次いで、該光
    学材料に前記紫外線を照射し露光硬化させて前記光学素
    子を形成することを特徴とする発光素子の製造方法。
  17. 【請求項17】 請求項16に記載の発光素子の製造方
    法において、 前記光学材料を、感光性ポリイミド樹脂とすることを特
    徴とする発光素子の製造方法。
  18. 【請求項18】 請求項13に記載の発光素子の製造方
    法において、 前記第4工程での等方性エッチングを、ドライエッチン
    グとすることを特徴とする発光素子の製造方法。
  19. 【請求項19】 請求項13に記載の発光素子の製造方
    法において、 前記第4工程での等方性エッチングを、ウエットエッチ
    ングとすることを特徴とする発光素子の製造方法。
  20. 【請求項20】 請求項19に記載の発光素子の製造方
    法において、 前記ウエットエッチングで用いるエッチング液を、臭素
    とメチルアルコールとの混合液とすることを特徴とする
    発光素子の製造方法。
  21. 【請求項21】 請求項13乃至20のいずれか一項に
    記載の発光素子の製造に当たり、 前記N型化合物半導体基板をN型GaAs基板とし、 前記N型化合物半導体層をN型GaAsP層とし、 前記拡散防止膜をアルミナ膜、窒化珪素膜および酸化珪
    素膜のうちのいずれか1つの膜とし、 前記P型化合物半導体層はP型GaAsP層とし、P型
    電極の材料をアルミニウムとし、および前記N型化合物
    半導体基板の裏面にN型電極を金(Au)系の合金で形
    成することを特徴とする発光素子の製造方法。
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