HUE034585T2 - Eljárás és rendszer kémiai reakciók indukálására röntgensugár besugárzás révén - Google Patents

Eljárás és rendszer kémiai reakciók indukálására röntgensugár besugárzás révén Download PDF

Info

Publication number
HUE034585T2
HUE034585T2 HUE11801517A HUE11801517A HUE034585T2 HU E034585 T2 HUE034585 T2 HU E034585T2 HU E11801517 A HUE11801517 A HU E11801517A HU E11801517 A HUE11801517 A HU E11801517A HU E034585 T2 HUE034585 T2 HU E034585T2
Authority
HU
Hungary
Prior art keywords
ray
volume
reaction
ray irradiation
irradiation
Prior art date
Application number
HUE11801517A
Other languages
English (en)
Inventor
Curtis A Birnbach
William H Joyce
Mark L Manewitz
Original Assignee
Advanced Fusion Systems Llc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advanced Fusion Systems Llc filed Critical Advanced Fusion Systems Llc
Publication of HUE034585T2 publication Critical patent/HUE034585T2/hu

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
    • B01J4/001—Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
    • B01J4/004—Sparger-type elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/081—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing particle radiation or gamma-radiation
    • B01J19/085—Electron beams only
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122—Incoherent waves
    • B01J19/125—X-rays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
    • C01B17/69—Sulfur trioxide; Sulfuric acid
    • C01B17/74—Preparation
    • C01B17/745—Preparation from sulfates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01D—COMPOUNDS OF ALKALI METALS, i.e. LITHIUM, SODIUM, POTASSIUM, RUBIDIUM, CAESIUM, OR FRANCIUM
    • C01D3/00—Halides of sodium, potassium or alkali metals in general
    • C01D3/04—Chlorides
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/045—Electrodes for controlling the current of the cathode ray, e.g. control grids
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/06—Cathodes
    • H01J35/065—Field emission, photo emission or secondary emission cathodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00164—Controlling or regulating processes controlling the flow
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00191—Control algorithm
    • B01J2219/00193—Sensing a parameter
    • B01J2219/00195—Sensing a parameter of the reaction system
    • B01J2219/00198—Sensing a parameter of the reaction system at the reactor inlet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00191—Control algorithm
    • B01J2219/00211—Control algorithm comparing a sensed parameter with a pre-set value
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00191—Control algorithm
    • B01J2219/00222—Control algorithm taking actions
    • B01J2219/00227—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions
    • B01J2219/00229—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions of the reaction system
    • B01J2219/00231—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions of the reaction system at the reactor inlet
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00—X-ray tubes
    • H01J2235/16—Vessels
    • H01J2235/163—Vessels shaped for a particular application
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00—X-ray tubes
    • H01J2235/16—Vessels
    • H01J2235/165—Shielding arrangements
    • H01J2235/166—Shielding arrangements against electromagnetic radiation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/06—Cathodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
    • H01J35/112—Non-rotating anodes
    • H01J35/116—Transmissive anodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
    • H01J35/18—Windows
    • H01J35/186—Windows used as targets or X-ray converters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Claims (10)

  1. ELJÁRÁS ÉS RENDSZER KÉMIAI REAKCIÓK INDUKÁLÁSÁRA RÖNTGENSUGÁR BESUGÁRZÁS REVÉN SZABADALMI IGÉNYPONTOK
    1.Eljárás kémiai reakciók indykátására röntgensugár besugárzást (X-rey radiation) alkalmazva: ahol az eljárás & következő lépéseket tartalmazza: (a) röntgensugár besugárzásnak egy volumenét (volume) (18) generáljuk egy reakcióedény (vessel) (11) belsején b©lö{: röntgensugár Deáugárg^^i b© a (ö) 1 bevezetünk legalább' ogy : (20) a röntgensugá! bel|lfzá|:í ! volumenbe (18): ifi) j bevezetőnk legalább egy, az alapanyag reaKdöpartnerlói eltérő reakcióparteeri (reactant) a röntgensugár besugárzási volumenbe (18) egy vagy több, fó|t|é|SugárzéS|||ipdett (X-ray shielded) befecskendező cső (Injector pipe) (24) OljáfK amely kiterjed (extend) a röntgebp||||dsugáf|||i: vöÍúrhéfj§| (18); az egy vagy több röntgensugárzástól védett injektáló cső (24) mindegyikének vaf l||i|;rÖntgensugärtöi vedelt útvonala (shielded path), amely kitésfélte ron)g§isu||(iesy gsrzás volumen hess?ósátlb|||Öbbsége; (majority): m|?|if|isj)Mä$lÄ {•rtjecíor apertures) (28) sokaságával; (i) minden befecskendező nyilas (26) átlósán (transversely) kiterjed (extend) kifelé a fő röntgensugártól védett útvonalból és nyikk be (opening) a röntgensugár besugárzási volumenbe (18), hegy tehetővé váljék az említett legalább egy reakciópatínar (22a) szamára, hogy elérje a röntgensugár besugárzási volument, fii} a befecskendező nyílások említeti sokasága olyan befecskendező nyílásokat (26) foglal magában, amelyek félten el vannak választva (spaced) az említett fő röntgensugártól védett útvonal menten a röntgensugár besugárzási volumen (18) bosszúságának többségéhez; és (d) szelektív reakciókat indukálunk, bogy végbemenjenek az. említeti röntgensugár besugárzási -volumenben (18), a folyékonyságnak (fluence) és az említeti röntgensugár besugárzás energiájának szabályozása révén úgy, hogy teljesen vagy részlegesen ionizálják, az említett röntgen besugárzási volumenen beiül, a legalább egy alapanyag reakciópartner (20) egészét vagy részét, a legalább egy reskdőparíneri (22a), reakció partnertől, és bifpiyen fíö^iiiílösíiés reskóiótetmékeí V3||(|éá!teíöiifteé^ :|| I, |ï:Aà:i1|)glii||ent sf)|níi;eijáÍSÍÍ|Ííá röntgensugár besugárzási volumen (18) a reakcióadényen (11) :î3ëtyï;::Üg!^pY:i(i:paKÏ (accomplish), bogy röntgensugárzás van béyáléfve a reakcióedény (1;1);betséjébc hideg-katódos mező emissziós röntgensugár forrás focid caihocte Haló emission) (48,48. 50 és 58) útján,
  2. 3. Az 1. vagy 2. Igénypont szerinti eljárás, ahol a szelektív reakciók: említett indukálása azért, hogy ezek végbemenjenek az említett röntgefteullli tartalmazza a folyékonyságnak és az említett röntgensugár besugárzás energiájának szabályozását úgy. hogy teljesen ionizálják a legalább egy egy alapanyag reakciópartegr (20) egészét vagy részét, a legalább egy reakdopartnert (22a), és bármilyen ezt kővetően kialakítóit köztes reakcrctermékst vagy reakdötennékeket.
  3. 4. Az 1, vagy 2, igénypont szerinti eljárás, ahol a szelektív reakciók említett indukálása azért, hogy ezek végbemenjenek az említeti röntgensugár besugárzást volumenben, tartalmazza a folyékonyságnak és az említett röntgensugár besugárzás energiájának szabályozását ügy, bogy részlegesen ionizálják a legalább egy egy alapanyag reakcióparlner (20) egészét vagy részét, a legalább egy reakciópartnert (22a), és bármilyen ezt követően kialakított köztes reakdöterméket vagy |t rejÉ|ôte|^kek||!:(|!Jiï ::: 5:::-1(4, Igénypont szerinti eljárás, ahoi realizálódik egy ötyén kiiilulő)^ :kis$||:i$Ä^ a legalább egy alapanyag reakdoparíner (20) 6, A 4, igénypont szerinti eljárás, ahoi realizálódik egy olyan kialakuló végtermék, amely mind nagyobb motekuíaftosszúsággal, mind nagyobb molekulatömeggel bit; mini az alapanyag reakciópartner (20). ?. Az 1, vagy 2. igénypont szerinti eljárás, amely tartalmazza továbbá a legalább egy alapanyag reakciópartner (2ö) és a legalább egy rsskciépartner (22a) bevezetésének szabályozását olyan módon, hogy indukálja a szelekíiv reakciók kialakításának véghezvitelét, ahol az említett szabályozás tartalmazza 32 említs» legalább egy alapanyag reakciópartnernek (20) és a legalább egy reakciópartnernek (22a) röntgensugár besugárzási volumenbe (18} való bevezetése megfelelő valós Idejű (real time) arányainak (rate) mérését. || a bevezetés említs» valós Idejű arányainak beállítását, amely ahhoz szükséges, hogy 1|| elérjük a kívánt végtermék-kémiát egy létrejövő ν||β|||όΖ. 8, A ?. Igénypont szerinti eljárás, ahol f|eri$|bÍ|Í3Í$p^ output) áramiáskl|||:. amely elhagyja (exit) a röntgensugár besugárzás volument (18), mérését, és az emiitett végtermék kéîht|sbsszeit§ihëk azonosítását, és. válaszként, az enitolipäblegy alaprty||:i!fáfcóiöp^ri^ egy reakciópartner :: vbj|mé||||48|yalé bevezétésiiif g§f|l;§ í|||:||éhyainak ^Iblípsását, hogy elének §k|2 1:f vagy 2, jg|if|s§ szerinti e||rás|||ö! :1 (a) r a reakcióedóny (vesse!) (11) úgy van kialakítva, mint egy cső (pipe), amely kiterjed agy tengely mentén: és..... (b) a röntgensugár besugárzási volumen (18) emiitett generálása olyan röntgensugár forrás révért van végrehajtva, amely körülöleli (encircle) a csőnek a: besugárzási szakaszét (section), és amely a röntgensugár besugárzási s csö besugárzási szakaszába irányítja.
  4. 10. Az 1, vagy 2. igénypont szerinti eljárás, ahol (á) minden röntgensugárzástól védett befecskendező cső (24) tartalmaz egy kettős falú csövet, amelynek van egy belső csöve (Söa) körülvéve egy külső csövei (SOfc), és közöttük egy köztes védő anyag (shield material) (61) találaté; és ........... (b) röntgensugár védelem (shielding) áll fenn a legalább egy reakcfopartnerhez (22a) rajta keresztül injektálva a \ 1k|ztesf |||:|||||ból|||| és bármilyen védelem (shielding) a k$ÉiP: je|§|sövek:|^ revén vart szolgáltatva.
  5. 11. Az 1. vagy 2. Igénypont szerinti eljárás, ahol minden röntgensugárzástól védett cső (24) egyetlen fallal ellátóit (single walled): befecskendező cső (24a)
  6. 12. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás, ahol. i (a|; a reakcióedény (11) úgy van kialakítva, hogy folyamatos feldolgozást módban (modo) működjék; : Ja) (1|öiitgíy tengÍj^w©ntéR : (c) a legalább egy reakciópartner (22a). amely be van vezetve a röntgensugár besugárzási volumenbe (18) egy vagy több röntgensugárzástól védett cső útján, a legalább egy alapanyag reakctópariner (20) áramlatába (stream) van bevezetve, amely áramlik (fiow) az emiitett tengely mentén a röntgensugár besugárzási volumenben 13 Az 1 vagy 2. igénypont szerinti eljárás, ahol; (a) a reakcióedény (11 ) úgy var. kialakítva, hogy folyamatos feldolgozási módban működjék; (b) a legalább egy alapanyag reakciópartner (20) említett bevezetése tartalmazza a legalább egy alapanyag: reakciópartner (20) bevezetését a röntgensugár besugárzási volumenbe (18) egy olyan helyről (location), amely felfelé (upstream) van a röntgensugár besugárzási volumentől (18) úgy, hogy a legalább egy alapanyag reakciópartner (20) áramlása (stream) keletkezzék, amely ksresziiiSáramfik (flow through) a reakdôedènyen(li); és lIlF^ (¢):1¾ reakciópartner (22a) említett bevezetése egy vagy több röntgensugárzástól......védett befecskendező cső (24) útján a legalább egy £Éli:(pülssd) 32 említett áramíásöa a legalább egy- alapanyag reskciópartoertól (20) felfele (upstream) és a röntgensugár besugárzási volumentől (18) felfelé (upstream) olyan módon, bogy idézze elő ez összekeveredés (intermixture) bizonyos szintjét az említett legalább egy alapanyag reakciópartnerre! (20) a röntgensugár besugárzási volumentől (18) lefelé (upstream); (d) az említett röntgensugár besugárzás pulzusokban (lökésekben) (74) van szolgáltatva, összekeverve (interspace) az említeti puizált injektálás (72) pulzusaival. 14. A 13. igénypont szerinti eljárás, aho; a röntgensugár besugárzás (74) említett pulzusai (puise) nem fedik át (overlap) az említett legalább egy réakciop&lner (22a) említett puizáli injektálásának (72) említett pulzusait. 15. A 13. igénypont szerinti eljárás, ahol az említett egy vagy több röntgensugárzástól védett befecskendező cső (24) spirális ínódon (71) van elrendezve egy irány mentén a röntgensugár besugárzási volumenen (18) keresztül úgy, hogy fokozza a legalább egy reakciöpsrtner (22a) összekeveredését e legalább egy alapanyag reakeióparjnerfel (20) 16. A 13. igénypont szerinti eljárás, ahol legalább sgy alapanyag reakclópartner (20) emiitett bevezetése tartalmazza legalább egy alapanyag reakciópartner (20) reakcióparfnerei sokaságénak folyamatos összekeverését lényegében mielőtt be fennének ve2éfe||||hi||||0gáf besugárzási volumenbe (18).
  7. 17. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás, aboi a fegsíábl egy alapanyag reakclópartner (2ö) emiitett bevezetése tartalmazza a legalább egy alapanyag reakciópartneí (20) reakciöparinerei sokaságának folyamatos összekeverését lényegében mielőtt be besugárzás- .yötemen&amp;e.ft ty- 18. äx 1. vSlÿ 2 ^ j 0 é ny po nt s^erl (a) 8 reaketbédény (11) úgy van kialakítva. hogy hogy iipíbátS^ működjék; (bj röntgensugár besugárzási volumenből......... való kSii^iij»feíi:;ii|(if|^ji^jíi^jSn^^ Tésa®' <p^îô^r) ;;:. inléi^iíjiíl^iijvtars 3 mii||9||rbs«gár voÍuifyí#ji)fi^:ij(i1!8) :S":'
  8. 19. Az t. vagy 2. igénypont szerinti eljárás, ahol az említet? röntgensugár besugárzás az 1,8 elektronvolt és az 1,2 millió elektronvolt közötti teriemányban van.
  9. 20. Az 1 vagy 2, igénypont szerinti eljárás, ahol: a) a röntgensugár besugárzás (18) emiitett generálása egy röntgensugár forrás (X-ray source) révén van végrehajtva; és b) az említett röntgensugár forrás pelzáíva van,
  10. 21. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás, ahol a legalább egy alapanyag reakclópartner (20) és a legalább egy reakciópartner (22a) mindegyike gázból, folyadékból, szilárd anyagból mint például porból, vagy mindezek kombinációiból áll. 22. A 8. igénypont szerinti eljárás, ahol a voíumetrikus kimeneti áramlás mérése magában foglalja annak meghatározását, vajon alakulták·^ ki nem kívánatos melléktermékek; 23. A 22. igénypont szermii eljárás, ahol a meghatározás :^íkáüifíi^iii;;i^gy(ché^íigiiili^jhí^iúrí (42). :::/||;!llÍIÍst; amely tartalmazza egy reakdeedénynek (11). amelynéi(tfi;t|§!$tt^ volumene U8) legalább egy alapanyag reakclópartner (20) befogadására, és egy röntgöffikíSläfÄäiiöi tièölfétt îoefêçsk;ëit¢)^gíS ; Ímeiÿ j j kiterjed a röntgensugár volumenbe (18) í||||bb)|gy|z alapanyag reakciépartnertöt éliáflfáúkpjó^ If f t fffff||i||||||||bésugár||sí v|lbmenbi(lll||m||áe||jáí, ahol a rontgensugárzáslól védett befecskendező csőnek (24) van egy i f fő röntgensugártól védett útvonala (shielded path), amely kiterjed a röntgensugár besugárzás volumen (18) hosszúságának többsége (majority) mentén, és rendelkezik befecskendező nyílások (injector apertures) (28) sokaságával; minden befecskendező nyílás (26) átlóssá (transversely) kiterjed (extend) kifelé a fő röntgensugártól vödéit útvonalból és nyílik be (opening) a röntgensugár besugárzási volumenbe (18), hogy lehetővé váljék az emiitett legalább egy réakoiópartner (22a) számára, hogy.....elérje a röntgensugár besugárzás; volumen? <18); és a befecskendező nyílások említett többségé olyan befecskendező nyilasokat foglal magában, amelyek térben el vannak választva (spaced) az említett fő röntgensugártól védett véjiUniii^n Îji(Ms^ïi^â^i|^iÎiii>bséQèlièÉ ...... 25, A 32. igénypont szerinti rendszer, ahoi s vonatozó befecskendező nyitás beiktatások (injector aperture insert) mindegyike (26) ie van zárva (seal) olyan módon, hogy magukban fogíainak egy külső csavarmenetet (male thread) (62b) összeillesztéshez (mating) egy másik befogadd külső csavarmenettel (female thread) (63b) egy külső cső csavarmenetes üregben (pipe threaded hole) (25b). és magukban foglalnak egy belső csavarmenetet (maié thread) (62a) összeillesztéshez egy másik befogadó belső csavarmenettel (female thread) (63a) egy belső cső csavarmenetes üregben (25a). ::||||25. igénypont szerinti rendszer, ahol (a) a belső csavarmenet (male thread) (62a) egyenesfalúra alakított (siralghbvvaiSéd) kölcsönös összeillesztéshez a befogadó belső csavarmenettel (female thread) (83a), amely kóposítva van (tapered): ős (b) a külső csavarmenet (maié thread) (62b) kúpositva van kölcsönös összeillesztéshez a külső befogadó c^dviméhittei (lenillifead) (83b), amely egyenesfalúra alakítóit, súll: ll! V. A 32. Igénypont szerinti rendszer, ahol a röntgen sugártó! való besugárzási védelem (shielding) a legalább egy reakciópartnerhez (22a) a köztes védő anyagból (intermediate shield material) (81) alakúi ki (arise), és bármilyen vedelem a ifo^Ssö es|iii^!i;iti)ármef:yike:ré^ 28. A 32. igénypont szenmi rendszer, ahol a belső (60a) és kúfső (60b) csövek mindegyike magában foglal egy lezárt (seated) végű kupakot (cap) (88a. 86b), a köztes védő anyag (81) elszigetelésére a legalább egy reakciópertnertől (22a).. amely be van vezetve a röntgensugárzástól védett befecskendező csőbe (24). 29. A 24. igénypont szennti rendszer, éhei a röntgensugárzástól védett befecskendező cső (24), miután keresztülhatolt a reakcióedénynek (11) egy oldalfalán, be van áilltva (instail) a reakcióedénybe (11), folyamatos- hegesztést -eljárást alkalmazva, majd ezt követően be van állítva (Install) a reakcióedény (11) oldalfalába ponthegesztést alkalmazva. 30. A 24. igénypont szerinti rendszer, ahol a röntgensugárzástól védett befecskendező cső (24) egyenes kialakításé (síralgid configuration). f 31. A 24. igénypont szerint! rendszer, ahol a rcnfgsnsugârzâsîôi védett befecskendező cső (24) spirális kialakítású (spiral configuration;. 32. A 24. igénypont szerinti rendszeg ahoi a fő'röntgensugártól védett útvonal a következőket foglalja magában: a) belső cső toGa); b) külső cső (6öb). amely körülveszi a belső csővel (80a): és c) koztes védő anyag (61), ahol ez abban a volumenben tartózkodik, amely a belső cső (60a) és a külső cső (80b) között .....található; és d; a befecskendező nyitások (injector apertures) (26) mindegyike tartalmaz egy vonatkozó befecskendezd nyílás beiktatást (insert) (28), smeíy légmentesen lezárva (sealing*) kapcsolódik (connect) a belső (60a) és külső (60b) csövek között. ; 33: Az 1, vagy 2.: igény pontszerig! eljárás, ahol a) a reakcióedény (11) úgy van-kialakítva, hegy szakaszos átjárási módban (batch processing mode) működjék; é$!f b) a reakciőedénynek (11) van egy reakcióedény bemenete (intet) (121): az említett legalább-egy alapanyag reakcióparlner (20) befogadására, és van egy reakcióedény kimenete (126) úgy elrendezve, hogy kisebb magasságnál legyen, mint a reakcióedény bemenete (121) a reakcióedény (11) tártaiménak eltávolítása érdekében. 34. A 33. igénypont szerinti eljárás, ahol a) az egy vagy több röntgensugárzást« védeti befecskendező cső (24).mindegyikének van egy befecskendező cső bemenet vége (injector pipe inlet end) (130) a reakcióedény (11) fenekénél; b) 82 sgy vagy több mntgensygàfzâsîoi védett befecskendező eső C24).fnlodociyike 'kiterjed az smiiteü befecskendezd cső bemenet 'végiéi (130) és a rontgensagbr besugárzási vofemenen (I S) keresztül a reakcioedény bemenet (121) felé. 35. Az 1 vagy 2. igénypont szerinti e|árás; áttol az egy vágy több rönigenssjgárzéstöl védett befecskendezd eső (£4),sokaságának mindegyike azímffieífikusars van elrendezve a feakeibedénynak (11) egy ftösszanii tengelye körűi.
HUE11801517A 2010-07-01 2011-07-01 Eljárás és rendszer kémiai reakciók indukálására röntgensugár besugárzás révén HUE034585T2 (hu)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US36078910P 2010-07-01 2010-07-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
HUE034585T2 true HUE034585T2 (hu) 2018-02-28

Family

ID=45402469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
HUE11801517A HUE034585T2 (hu) 2010-07-01 2011-07-01 Eljárás és rendszer kémiai reakciók indukálására röntgensugár besugárzás révén

Country Status (15)

Country Link
US (1) US9406478B2 (hu)
EP (1) EP2588430B1 (hu)
JP (1) JP6066905B2 (hu)
KR (1) KR101731668B1 (hu)
AU (1) AU2011274383B2 (hu)
BR (1) BR112012033684A2 (hu)
CA (1) CA2799645C (hu)
DK (1) DK2588430T3 (hu)
ES (1) ES2625692T3 (hu)
HU (1) HUE034585T2 (hu)
IL (1) IL223049A (hu)
MX (1) MX2012014524A (hu)
NZ (1) NZ603618A (hu)
PL (1) PL2588430T3 (hu)
WO (1) WO2012003490A1 (hu)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9676918B2 (en) 2007-08-06 2017-06-13 Immunolight, Llc. On demand radiation induced constructive and deconstructive chemical reactions
US8537958B2 (en) * 2009-02-04 2013-09-17 General Fusion, Inc. Systems and methods for compressing plasma
BR112012002147B1 (pt) 2009-07-29 2020-12-22 General Fusion, Inc sistemas e métodos para compressão de plasma com reciclagem de projéteis
US20140284204A1 (en) * 2013-03-22 2014-09-25 Airmodus Oy Method and device for ionizing particles of a sample gas glow
ES2908622T3 (es) 2015-06-15 2022-05-03 Immunolight Llc Reacciones químicas constructivas y deconstructivas inducidas por radiación bajo demanda
CN107195942B (zh) * 2016-03-14 2019-12-31 大连融科储能技术发展有限公司 电解液储罐、液流电池、箱式液流电池系统及液流电池充放电控制方法
US10894236B2 (en) * 2016-11-30 2021-01-19 Dresser-Rand Company Radial annular component and helical axial components coupled to and extending from the radial component
JP2018194285A (ja) * 2017-05-15 2018-12-06 正仁 櫨田 Ｘ線の照射に依る爆発物の解体方法
RU2021134375A (ru) * 2017-08-04 2021-12-29 Шайр Хьюман Дженетик Терапиз, Инк. Устройство связывания антитело-смола и способы
US11471848B1 (en) * 2021-10-22 2022-10-18 Advanced Fusion Systems Llc Universal chemical processor
US11623196B1 (en) 2021-10-22 2023-04-11 Advanced Fusion Systems Llc Universal chemical processor with radioisotope source
US20230129947A1 (en) 2021-10-22 2023-04-27 Advanced Fusion Systems Llc Advanced Beneficiation Process for Beneficiation, Mobilization, Extraction, Separation, and Concentration of Mineralogical Resources

Family Cites Families (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2064260A (en) * 1930-03-08 1936-12-15 Kurt Adamczick And Willy List Method and apparatus for synthesizing nitrogen compounds
US2980202A (en) * 1954-01-12 1961-04-18 Fred J Meyer Irradiating apparatus
US3287088A (en) * 1956-09-24 1966-11-22 Chevron Res Analyzing drilling fluid for aromatic hydrocarbons
US3067115A (en) 1959-01-09 1962-12-04 Standard Oil Co Chemical conversions and reactions
GB888082A (en) 1959-04-09 1962-01-24 Exxon Research Engineering Co Hydrogenation process
US3231483A (en) 1962-07-10 1966-01-25 Sinclair Research Inc Polymerization of polyethylene in the presence of a metal oxide on an alumina catalytic support
US3342899A (en) * 1962-07-20 1967-09-19 Dow Chemical Co Process for polymerizing tetrafluoroethylene in continuous manner using high energy ionizing radiation
US3301774A (en) 1962-08-01 1967-01-31 Mobil Oil Corp Conducting chemical reactions by means of high energy ionizing radiation
US3378475A (en) * 1962-10-12 1968-04-16 Martin Marietta Corp Process for the fixation of nitrogen by means of high energy ionizing radiation
US3462354A (en) * 1964-06-16 1969-08-19 Mobil Oil Corp Ion-molecule reactions
US3827982A (en) * 1964-10-26 1974-08-06 W Hall Moldable lead composition
US3459232A (en) * 1966-05-11 1969-08-05 Vickers Ltd Vacuum-tight device with inclined interconnected annular bellows
DE2029597C3 (de) * 1970-06-16 1979-12-20 Horst Dr. 5810 Witten Huhn Vorrichtung zur Durchführung chemischer Reaktionen unter Bildung von Fotoreaktionsniederschlägen
US3714486A (en) * 1970-10-07 1973-01-30 Crary J Mc Field emission x-ray tube
US3895143A (en) * 1973-03-16 1975-07-15 Nicolet Ind Inc Metal-fiber-latex-containing sheet materials
JPS49134563A (hu) * 1973-04-26 1974-12-25
US4116784A (en) 1975-08-25 1978-09-26 Japan Atomic Energy Research Institute Method for cross-linking polyethylene with an ionizing radiation
EP0004851B1 (de) 1978-04-22 1983-07-13 Röhm Gmbh Verfahren zur teilweisen Polymerisation von Vinylmonomeren und Verwendung des erhaltenen Polymerisatsirups
CH635049A5 (de) * 1978-05-23 1983-03-15 Bbc Brown Boveri & Cie Verfahren und vorrichtung zur regenerierung von aktivkohle.
NL189499C (nl) 1978-12-18 1993-05-03 Asahi Chemical Ind Werkwijze voor het vervaardigen van een vel of film, alsmede verpakking.
US4247379A (en) 1979-08-09 1981-01-27 Leach Sam L Method for chemical reactions using high intensity radiant energy and system therefor
JPS62197452A (ja) 1986-02-25 1987-09-01 Asahi Glass Co Ltd ポリフエニレンスルフイド樹脂架橋組成物の製造方法
US4947415A (en) * 1986-05-09 1990-08-07 Board Of Regents, The University Of Texas System Flash x-ray apparatus
JPH01115440A (ja) * 1987-10-30 1989-05-08 Ebara Corp 電子線照射排ガス処理における副生物のダクト内付着防止方法
JPH01220355A (ja) * 1988-02-27 1989-09-04 Shimadzu Corp Ｘ線パルスイオン化装置
US4827371A (en) * 1988-04-04 1989-05-02 Ion Systems, Inc. Method and apparatus for ionizing gas with point of use ion flow delivery
CH685877A5 (de) 1993-11-03 1995-10-31 Brugg Ag Kabelwerke Verfahren zur Herstellung von Formteilen aus vernetzten Polymeren
JPH0847618A (ja) * 1994-06-03 1996-02-20 Ebara Corp 排ガス処理用電子線照射方法
JP3479345B2 (ja) * 1994-08-02 2003-12-15 高砂熱学工業株式会社 空気中に存在するガス状不純物の除去方法と装置
JPH08155264A (ja) * 1994-12-02 1996-06-18 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 排ガスの脱硫脱硝方法及び装置
JPH08162284A (ja) * 1994-12-09 1996-06-21 Fuiisa Kk 静電気除去装置
JP3498759B2 (ja) 1994-12-19 2004-02-16 大倉工業株式会社 熱収縮性多層フィルムの製造方法
FR2739626B1 (fr) 1995-10-05 1997-11-21 Solvay Composition reticulable de polymere du fluorure de vinylidene, procede pour reticuler la composition et articles faconnes
BR9710504A (pt) * 1996-07-25 1999-08-17 Ebara Corp M-todo e aparelho para tratamento de g s por irradia-Æo de feixe eletr-nico
JP3411294B2 (ja) * 1996-07-25 2003-05-26 株式会社 荏原製作所 電子ビームの照射によるガス処理における副生物の付着防止方法及び装置
JPH1172599A (ja) * 1997-08-28 1999-03-16 Sumitomo Heavy Ind Ltd 電子線の照射方法及び装置
JP2000015054A (ja) * 1998-07-07 2000-01-18 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 脱硝装置のアンモニア注入ノズル
US6569602B1 (en) * 1998-10-05 2003-05-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ionization radiation imageable photopolymer compositions
US6471392B1 (en) 2001-03-07 2002-10-29 Holl Technologies Company Methods and apparatus for materials processing
JP3777080B2 (ja) * 2000-05-08 2006-05-24 株式会社Ｎｈｖコーポレーション 電子線照射装置
US7085351B2 (en) * 2000-10-06 2006-08-01 University Of North Carolina At Chapel Hill Method and apparatus for controlling electron beam current
GB0126281D0 (en) * 2001-11-01 2002-01-02 Astrazeneca Ab A chemical reactor
AU2002329037A1 (en) * 2002-03-13 2003-09-22 Gopalakrishnan Srinivasan Process and synthesizer for molecular engineering and synthesis of materials
JP2003265589A (ja) * 2002-03-19 2003-09-24 Kawasaki Heavy Ind Ltd 脱臭方法および脱臭装置
JP3910501B2 (ja) * 2002-07-17 2007-04-25 浜松ホトニクス株式会社 エアロゾル粒子荷電装置
JP2004098035A (ja) * 2002-09-13 2004-04-02 Japan Atom Energy Res Inst 電子線照射による排煙・排ガス中のダイオキシン類の分解法
JP2006500883A (ja) 2002-09-20 2006-01-05 トライクウィント セミコンダクター，インコーポレーテッド 複数の出力電力レベルを有する線形電力増幅器
JP2004161552A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Nec Corp グラファイト状物質の浄化方法
US20080267354A1 (en) * 2003-05-22 2008-10-30 Comet Holding Ag. High-Dose X-Ray Tube
US7279077B2 (en) * 2003-10-13 2007-10-09 Bettelle Energy Alliance, Llc Method of forming a chemical composition
US7274772B2 (en) * 2004-05-27 2007-09-25 Cabot Microelectronics Corporation X-ray source with nonparallel geometry
JP5175022B2 (ja) 2004-06-14 2013-04-03 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多層熱伝導性シート
US20070237296A1 (en) * 2004-09-13 2007-10-11 Wyatt Jeffrey D Decontamination using planar X-ray sources
US8414822B2 (en) 2004-09-24 2013-04-09 Ion Beam Applications, S.A. Processes for chemically affecting reactive materials with X-rays
US20070224401A1 (en) * 2005-07-07 2007-09-27 U.S. Wind Farming Inc. Basalt particle-containing articles for ballistic shield mats/tiles/protective building components
JP2007029819A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Kawasaki Heavy Ind Ltd 排ガス浄化電子線照射装置
DE102007049350B4 (de) * 2007-10-15 2011-04-07 Bruker Daltonik Gmbh APCI Ionenquelle
WO2009140697A1 (en) * 2008-05-16 2009-11-19 Birnbach Curtis A Flash x-ray irradiator
SI2300148T1 (sl) * 2008-06-18 2019-02-28 Xyleco, Inc. Obdelava materialov z ionskimi žarki
US20110180385A1 (en) * 2010-01-28 2011-07-28 Raytheon Company Control of Catalytic Chemical Processes

Also Published As

Publication number Publication date
US20120152722A1 (en) 2012-06-21
EP2588430A1 (en) 2013-05-08
KR101731668B1 (ko) 2017-04-28
AU2011274383B2 (en) 2014-12-04
BR112012033684A2 (pt) 2016-12-06
AU2011274383A1 (en) 2012-12-06
US9406478B2 (en) 2016-08-02
JP2013538333A (ja) 2013-10-10
EP2588430A4 (en) 2015-08-12
CA2799645C (en) 2017-04-18
CA2799645A1 (en) 2012-01-05
JP6066905B2 (ja) 2017-01-25
KR20130112730A (ko) 2013-10-14
DK2588430T3 (en) 2017-06-19
WO2012003490A1 (en) 2012-01-05
WO2012003490A4 (en) 2012-06-07
ES2625692T3 (es) 2017-07-20
IL223049A (en) 2016-07-31
WO2012003490A9 (en) 2012-04-19
PL2588430T3 (pl) 2017-08-31
EP2588430B1 (en) 2017-03-08
IL223049A0 (en) 2013-02-03
NZ603618A (en) 2014-05-30
MX2012014524A (es) 2013-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
HUE034585T2 (hu) Eljárás és rendszer kémiai reakciók indukálására röntgensugár besugárzás révén
Greco et al. Parton coalescence at RHIC
Cognata et al. Bare-nucleus astrophysical factor of the He 3 (d, p) He 4 reaction via the “Trojan horse” method
EP2293820A1 (de) Vorrichtung zum sterilisieren von behältnissen mittels ladungsträgern
US20110011728A1 (en) System and method for conversion of molecular weights of fluids
DE69114271T2 (de) Apparat zum erzeugen von wärme.
EP0429814B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Auslösen und/oder Fördern chemischer Prozesse
Wiens et al. Electron attachment to the interhalogen compounds ClF, ICl, and IBr
Greiner Submicrosecond pulses from a hydrogen-fluorine laser with high energy density and quantum efficiency
Eisenbarth et al. Numerical simulations of the projectile ion charge difference in solid and gaseous stopping matter
EP1400493B1 (de) Verfahren zur Reinigung einer schadstoffbelasteten Flüssigkeit
Wolf et al. Charged particles from the giant dipole resonance of 26Mg
DE2214557A1 (de) Verfahren und Vorrichtung für die kontinuierliche Analyse der Zusammensetzung von strömenden Aufschlämmungen oder anderen Flüssigkeiten
Rao et al. Measurement of L X-ray fluorescence cross-sections in heavy elements excited by 17.78, 25.88, 26.88 and 32.89 keV photons
US3505192A (en) Processes for the chlorination of methane
Wolfrum Chemical reactions and lasers: Elementary steps and complex systems
Bikit et al. Depopulation of 180 Ta m by bremsstrahlung
AT341049B (de) Reaktor zur kontinuierlichen umsetzung von in einer rohrleitung fliessendem medium unter einwirkung ionisierender strahlung
WO2023069325A1 (en) Advanced beneficiation process for beneficiation, mobilization, extraction, separation, and concentration of mineralogical resources
Youker et al. Uranyl sulfate irradiations at the Van de Graaff: A means to combat uranyl peroxide precipitation
CA3234719A1 (en) Chemical processor using x-rays
Youker et al. Micro-SHINE Uranyl Sulfate Irradiations at the Linac
AU2022370226A1 (en) Universal chemical processor with radioisotope source
Holtrop Investigating the onset of color transparency with CLAS
Tenenbaum Beam-gas and thermal photon scattering in the NLC main linac as a source of beam halo