FR2955968A1 - Materiau electriquement conducteur - Google Patents

Abstract

L'invention a pour objet un matériau électriquement conducteur comportant des noyaux (1) en un métal ou un mélange de métaux choisi dans le groupe A formé par le platine, rhodium, or, palladium, argent , cuivre, iridium, ruthénium, osmium, rhénium et leurs mélanges, ces noyaux étant au moins partiellement entourés d'au moins un oxyde (2a, 2b, 2c) d'un métal ou d'un mélange de métaux choisi dans le groupe B formé par le silicium, germanium, étain, bore, aluminium, gallium, indium , béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, et leurs mélanges, et qui est caractérisé en ce que les noyaux (1) présentent une granulométrie moyenne ≤ 100 nm. L'invention concerne également un procédé de préparation d'un tel matériau électriquement conducteur.

Description

1 Domaine de l'invention La présente invention a pour objet un matériau électriquement conducteur, en particulier un matériau pour électrode et/ou piste conductive et un procédé d'obtention d'un tel matériau.

Etat de la technique Dans le domaine technique, on a besoin de matériaux pour électrodes et pistes conductives très stables thermiquement et vis-à-vis de la corrosion, qui sont principalement métalliques et électrique-ment conducteurs et présentent une structure à l'échelle nanométrique régulièrement définie. Le document US 2007/0251822 Al décrit des nanoparticules chimiochromiques qui peuvent être mises en oeuvre en tant que pigments, teintures, revêtement en encres. Exposé et avantages de l'invention La présente invention a pour objet un matériau électriquement conducteur, en particulier un matériau pour électrode et/ou piste conductive et/ou un matériau électriquement conducteur, chimiosensible, en particulier sensible aux gaz qui renferme des noyaux en un métal ou un mélange de métaux choisi dans le groupe A formé par le platine, le rhodium, l'or, le palladium, l'argent, le cuivre, l'iridium, le ruthénium, l'osmium, le rhénium et leurs mélanges, ces noyaux étant revêtus au moins partiellement d'au moins un oxyde d'un métal ou d'un mélange de métaux choisi dans le groupe B formé par le silicium, le germanium, l'étain, le bore, l'aluminium, le gallium, l'indium, le béryl- lium, le magnésium, le scandium, l'yttrium, le lanthane, les lanthanides, le titane, le zirconium, le hafnium, le niobium, le tantale, le chrome, le molybdène, le tungstène, le manganèse, le fer, le cobalt, le nickel, le zinc et leurs mélanges. Ce matériau est caractérisé en ce que les noyaux présen- tent une granulométrie moyenne inférieure ou égale à 100 nm, en particulier de ? 0,4 nm à 100 nm, notamment de ? 0,5 nm à 40 nm, par exemple de ? 1 nm à 7 nm. Dans le cadre de l'invention, on doit entendre par l'expression « matériau électriquement conducteur » en particulier un matériau qui présente une conductibilité spécifique d'au moins 10 Sm-1.

2 Au sens de l'invention, sous le terme « lanthanides », on doit en particulier entendre les éléments cérium, praséodyme, néodyme, prométhium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium et lutétium.

Dans le cadre de la présente invention, les semi métaux (bore, silicium, germanium) doivent être considérés comme des métaux. Les noyaux peuvent en particulier être essentiellement totalement revêtus d'au moins un oxyde d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. Par l'expression « essentiellement totalement revé- tus », on doit en particulier comprendre que sont inclus des écarts selon lesquels : - le ou les oxyde(s) présente(nt) des pores qui sont au moins perméables aux gaz et ont par exemple une dimension moyenne de 0,1 nm à 5 nm, et/ou - au moins deux noyaux sont en contact l'un avec l'autre, et/ou - au moins un noyau est en contact avec la surface d'un substrat. Le matériau électriquement conducteur peut en particulier être obtenu par la mise en oeuvre d'un procédé qui sera décrit ci-dessous.

En particulier, en raison de la présence d'un revêtement par des oxydes, le matériau électriquement conducteur peut avantageusement être résistant à la corrosion et/ou stable à la température. Par le terme « résistant à la corrosion », on doit comprendre que le matériau n'est pas modifié de façon contrôlable par microscopie à balayage élec- tronique après 10 heures à 400°C dans un mélange gazeux comprenant 10,00000 % en volume d'oxygène, 10,00000 % en volume de vapeur d'eau, 0,00100 % en volume de monoxyde d'azote, 0,00005 % en volume de dioxyde de soufre et 79,99895 % en volume d'azote. Par le terme « stable à la température », on doit en particulier entendre que le matériau n'est pas modifié de façon contrôlable par microscopie électronique à balayage après 10 heures à 400°C dans l'air. Le matériau peut en outre être poreux. De plus, les noyaux et les oxydes peuvent être essentiellement répartis de manière homogène dans le matériau. De surcroît, le matériau électriquement conducteur peut présenter une structure régulièrement définie à l'échelle nanométrique.

3 En outre, des électrodes, des pistes conductives ou des couches réalisées en un matériau électriquement conducteur conforme à l'invention peuvent avantageusement présenter une faible tendance aux tensions, une grande résistance à la corrosion et/ou une grande stabilité à la température ainsi que des avantages du point de vue de la mise en contact et des procédés. En particulier, en raison de leur grande résistance à la corrosion et de leur grande stabilité à la température, on peut fabriquer dans un matériau électriquement conducteur conforme à l'invention, des électrodes, pistes conductives ou couches destinées à être utilisées dans des atmosphères chimiquement agressives, en particulier oxydantes, à des températures supérieures à 500°C plus minces que par exemple des éléments en platine pur, qui, sous ces conditions, peuvent se dégrader, en particulier se contracter et se fissurer ou se déchirer. En outre, le matériau électriquement conducteur conforme à l'invention peut présenter des avantages du point de vue de la mise en contact et des procédés lorsqu'une électrode ou une couche réalisée dans ce matériau est mise en contact avec une piste conductive réalisée dans celui-ci. De préférence, le matériau conforme à l'invention n'est pas modifié de façon détectable par microscopie électronique à balayage après 10 heures à 500°C, en particulier à 600°C dans un mélange gazeux constitué de 10,00000 % en volume d'oxygène, 10,00000 % en volume de vapeur d'eau, 0,00100 % en volume de monoxyde d'azote, 0,00005 % en volume de dioxyde de soufre et 79,99895 % en volume d'azote. De préférence, la conductibilité électrique du matériau con-forme à l'invention n'est pas diminuée de plus de deux ordres de grandeur lors du traitement dans un mélange gazeux constitué de 10,00000 % en volume d'oxygène, de 10,00000 % en volume de vapeur d'eau, de 0,00100 % en volume de monoxyde d'azote, de 0,00005 % en volume de dioxyde de soufre et de 79,99895 % en volume d'azote, ou, dans l'air, de pas plus de deux ordres de grandeur, de préférence de pas plus d'un ordre de grandeur, en particulier de pas plus de 50 %o. Le matériau conforme à l'invention peut en particulier renfermer des particules qui comportent respectivement un noyau en un métal ou un mélange de métaux du groupe A, qui est entouré au

4 moins partiellement, en particulier essentiellement totalement, d'une couche d'oxyde d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. Concernant la couche d'oxyde, par l'expression « essentiellement entouré en totalité », on doit également comprendre que sont inclus les écarts ci-dessous selon lesquels : - la couche d'oxyde renferme des pores qui sont au moins perméables aux gaz et ont par exemple une dimension moyenne de 0,1 nm à 5 nm, et/ou - au moins deux noyaux sont en contact l'un avec l'autre, et/ou - au moins un noyau est en contact avec la surface d'un substrat. Selon un mode de réalisation de l'invention, le matériau est réalisé à partir de particules liées les unes aux autres, avec des pores présents entre celles-ci, étant précisé que ces particules renferment respectivement un noyau en un métal ou un mélange de métaux du groupe A qui est entouré au moins partiellement, en particulier essentiellement en totalité par une couche d'oxyde d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. Ceci présente l'avantage substantiel que les noyaux sont stabilisés par la couche d'oxyde. En particulier, les noyaux sont ainsi essentiellement protégés contre des pertes de finesse et des frittages induits par la chaleur. Les noyaux peuvent en outre être protégés d'influences environnantes, par exemple d'agents corrosifs. Malgré cette protection, en raison de sa porosité, le matériau peut être catalytiquement actif, ce qui est par exemple avantageux pour de nombreuses utilisations dans le domaine des capteurs. Selon ce mode de réalisation de l'invention, le matériau peut comporter d'une part des pores situés entre les particules et d'autre part des pores dans la couche d'oxyde, qui sont au moins perméables aux gaz, et présentent par exemple une dimension moyenne de 0,1 nm à 5 nm. Les particules peuvent présenter une granulométrie moyenne 110 nm, par exemple 50 nm, en particulier 25 nm, notamment 15 nm, mesurée par microscopie électronique à balayage. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, les particules présentent une granulométrie moyenne de 0,5 nm à 110 nm, par exemple 1 nm à 50 nm, en particulier 1 nm à 25 nm, notamment 2 nm à 15 nm, mesurée par microscopie électronique à balayage. Les pores situés entre les particules peuvent présenter une dimension moyenne 50 nm, par exemple 25 nm, en particulier 5 15 nm, notamment 10 nm, mesurée par microscopie électronique à balayage. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, les pores situés entre les particules présentent une dimension moyenne 0,1 nm à 50 nm, par exemple de 0,2 nm à 20 nm, en particulier de 0,3 nm à <_ 10 nm, notamment de 0,5 nm à 5 nm, mesurée par microscopie électronique à balayage. Le matériau peut présenter une conductibilité 103 Sm-1, en particulier 106 Sm-1. Ce matériau peut en outre présenter une sur-face BET 10 m2/g.

Selon un autre mode de réalisation de l'invention, le matériau renferme, par rapport au nombre total d'atomes de métaux dans celui-ci : - 65 % à 97 %, en particulier 80 % à 95 % d'atomes de mé- taux du groupe A, et - 3 % à 35 %, en particulier 5 % à <_20 % d'atomes de métaux du groupe B, étant précisé que la somme des atomes des métaux des groupes A et B s'élève globalement à 100 % d'atomes. En raison de la faible proportion de métaux du groupe B 25 formateurs d'oxydes, le matériau électriquement conducteur est avantageusement essentiellement métallique. Le groupe A est de préférence formé du platine, du rhodium, du palladium, de l'iridium, du ruthénium, du rhénium, de l'or et de leurs mélanges. Le mélange de métaux du groupe A peut par 30 exemple renfermer un mélange, en particulier un alliage métallique renfermant de l'or et du palladium. Le mélange or-platine peut en outre renfermer au moins un autre métal choisi parmi le rhodium, l'iridium, le ruthénium, et le rhénium. Le groupe A peut toutefois être unique-ment constitué du platine, du rhodium, du palladium, de l'iridium, du 35 ruthénium, du rhénium et de leurs mélanges. Le métal du groupe A

6 peut par exemple être du platine, du rhodium, du palladium, de l'iridium, du ruthénium ou du rhénium pur. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, le groupe A est formé du platine, du rhodium, du rhénium et de leurs mé- langes, par exemple du platine et du rhodium. Le métal ou le mélange de métaux du groupe A peut, par rapport à la composition globale en atomes de métaux du groupe A, renfermer de 30 % à 100 % d'atomes de platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium, or ou d'un mélange de ces métaux, et de 0 % à 70 % d'atomes d'argent, de cuivre, d'osmium ou d'un mélange de ces métaux, étant précisé que la somme des atomes de platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium et rhénium s'élève globalement à 100 %. En variante, le métal ou le mélange de métaux du groupe A peut, par rapport au pourcentage total d'atomes de métaux du groupe A, renfermer de 30 % à 100 % d'atomes de platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium, or, ou d'un mélange de ces métaux, et de 0 % à 70 % d'atomes d'argent, cuivre, osmium, ou d'un mélange de ces métaux, étant précisé que la somme des atomes de pla- tine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium, et rhénium, s'élève globalement à 100 % d'atomes. De façon avantageuse, le métal ou le mélange de métaux du groupe A, renferme, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, de 40 % à 100 %, par exemple de 65 % à 95 %, en particulier de 65 % à 90 % d'atomes de platine et de • 0 % à 60 %, par exemple de 5 % à 35 %, en particulier de 10 0/0 à 35 % d'atomes de rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium ou d'un mélange de ces métaux, étant précisé que la somme des atomes de platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium et rhénium, s'élève globalement à 100 % d'atomes. A titre d'exemple, le métal ou le mélange de métaux du groupe A peut renfermer, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, de 40 % à 100 %, par exemple de 65 % à • 95 %, en particulier de 65 % à 90 % d'atomes de platine et de 0 % à 60 %, par exemple de 5 % à 35 %, en particulier de 10 0/0

7 à 35 % d'atomes de rhodium, rhénium, ou d'un mélange de ces métaux, en particulier de rhodium, étant précisé que la somme des atomes de platine, rhodium et rhénium, en particulier de platine et de rhodium, s'élève globalement à 100 % d'atomes.

Le groupe B est de préférence constitué d'aluminium, gallium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, tungstène, manganèse, fer ou d'un mélange de ces métaux. Dans le cadre d'un autre mode de réalisation de l'invention, le groupe B est constitué d'aluminium, de cérium, de titane, de zirconium, de hafnium, de niobium, de tantale, de chrome, ou d'un mélange de ces métaux, en particulier d'yttrium, cérium, titane, zirconium, tantale ou d'un mélange de ces métaux. A titre d'exemple, le métal ou le mélange de métaux du groupe B et/ou le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B peut renfermer, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, de 70 % à 100 % d'atomes d'aluminium, cérium, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome ou d'un mélange de ces métaux, et de 0 % à 30 % d'atomes de silicium, germanium, étain, bore, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, praséodyme, néodyme, prométhium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium et lutétium, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, ou d'un mélange de ces métaux, étant précisé que la somme des atomes d'aluminium, cérium, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, silicium, germanium, étain, bore, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, praséodyme, néodyme, prométhium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium et lutétium, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, s'élève glo- balement à 100 % d'atomes. L'oxyde qui entoure au moins partiellement les noyaux peut être un oxyde d'un métal ou un mélange d'oxydes d'au moins deux métaux ou un oxyde mixte. A titre d'exemple, l'oxyde peut être un mé- lange d'un oxyde d'un premier métal du groupe B, par exemple choisi

8 dans le groupe formé par l'yttrium, le cérium, le titane, le zirconium et le tantale, et d'un oxyde d'un second métal du groupe B différent du premier, par exemple choisi dans le groupe formé par l'yttrium, le cérium, le titane, le zirconium et le tantale.

Par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, le mélange de l'oxyde du premier métal du groupe B et de l'oxyde du second métal du groupe B peut être de 1 % à 99 %, par exemple de 45 à 55 % d'atomes du premier métal, par exemple de zirconium ou de tantale, et de 1 % à 99 %, par exemple de 45 à <_ 55 % d'atomes du second métal, par exemple de cérium ou d'yttrium, étant précisé que la somme des atomes du premier et du second métal s'élève globalement à 100 % d'atomes. Le matériau conforme à l'invention peut par exemple être utilisé en tant que matériau pour électrode et/ou matériau pour piste conductive et/ou matériau électriquement conducteur, chimiosensible, en particulier sensible aux gaz, pour un capteur, un catalyseur ou une cellule de combustible. Le matériau conforme à l'invention peut en particulier être utilisé dans un capteur de gaz d'échappement, par exemple une chambre lambda, dans un chimiocapteur tel qu'un chimiocapteur à effet de champ, ou dans un transistor (capteur) à effet de champ, par exemple chimiosensible, par exemple en tant qu'électrode de grille ou matériau d'électrode de grille et/ou en tant que piste conductive ou matériau pour piste conductive. L'invention concerne également un procédé d'obtention d'un matériau électriquement conducteur, en particulier un matériau électriquement conducteur conforme à l'invention, par exemple un matériau pour électrode et/ou un matériau pour piste conductive et/ou un matériau électriquement conducteur, chimiosensible, en particulier sensible aux gaz, comportant les étapes de procédé suivantes : al) Préparation de nanoparticules renfermant : - un métal ou un mélange de métaux, par exemple un alliage métallique choisi dans le groupe A formé par le platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium, rhénium, et les mélanges de ces métaux, et

9 - un métal ou un mélange de métaux, par exemple un alliage métallique choisi dans le groupe B formé par le silicium, germanium, étain, bore, aluminium, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, et leurs mélanges, et/ou a2) Préparation d'un mélange homogène de : - nanoparticules renfermant un métal ou un mélange de métaux, par exemple un alliage métallique choisi dans le groupe A formé par le platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium, rhénium, et leurs mélanges, et - un métal ou un mélange de métaux, par exemple un alliage métallique choisi dans le groupe B formé par le silicium, germa- nium, étain, bore, aluminium, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, et leurs mélanges et/ou au moins un composé d'un métal ou d'un mélange de métaux choisi dans le groupe B formé par le silicium, germanium, étain, bore, aluminium, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, et leurs mé- langes, et b) Traitement du matériau de l'étape al) ou de l'étape a2) à au moins 200°C pendant 10 mn, par exemple à au moins 500°C pendant au moins 1 heure, notamment à au moins 600°C pendant au moins 2 heures avec un gaz ou un mélange de gaz oxydant.

Dans le cadre de l'invention, le terme « nanoparticules » désigne en particulier des composés d'atomes ou de molécules dont la granulométrie moyenne est 100 nm, en particulier de 0,4 nm à • 100 nm, par exemple de 0,5 nm à 40 nm, notamment de 1 nm à • 7 nm. 2955968 lo Par l'expression « gaz ou mélange de gaz oxydant », on peut entendre un gaz ou un mélange de gaz dans lequel, à des températures de 200°C ou plus, le métal ou le mélange de métaux du groupe B, ou le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B, est 5 oxydé. En particulier, par l'expression « gaz ou mélange de gaz oxydant », on peut entendre un gaz ou un mélange de gaz, dans lequel, à des températures de 500° ou plus, en particulier de 600°C ou plus, le métal ou le mélange de métaux du groupe B, ou le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B est oxydé. Le métal ou le mélange 10 de métaux du groupe B ou le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B peut en particulier être totalement oxydé. Le gaz ou le mélange de gaz oxydant peut par exemple être un mélange constitué de 10 % en volume d'oxygène et de 90 % en volume d'azote. Dans l'étape al), on met en oeuvre des nanoparticules qui 15 renferment un métal ou un mélange de métaux du groupe A, ainsi qu'un métal ou un mélange de métaux du groupe B. Les nanoparticules peuvent également être mises en oeuvre sous la forme d'une suspension de nanoparticules dans un solvant. Le métal ou le mélange de métaux du groupe B peut former, dans l'étape al), un mélange de métaux, en 20 particulier un alliage métallique avec le métal ou le mélange de métaux du groupe A. Dans l'étape al), les nanoparticules peuvent en particulier être constituées d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe A et d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. Dans l'étape a2), on met effectivement également en 25 oeuvre des nanoparticules qui renferment un métal ou un mélange de métaux du groupe A, mais toutefois, le métal ou le mélange de métaux du groupe B, n'est pas contenu dans les nanoparticules du groupe A, mais est présent sous la forme d'un composant séparé. Dans l'étape a2), le métal ou le mélange de métaux du groupe B peut être mis en 30 oeuvre sous la forme de particules, en particulier de nanoparticules, ou sous la forme d'une suspension de particules, en particulier de nanoparticules dans un solvant. Dans l'étape a2), le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B peut être mis en oeuvre sous la forme de particules, en particulier de nanoparticules, ou sous la forme d'une suspension de particules, en particulier de nanoparticules dans un sol-

11 vaut, ou être dissout dans un solvant. Dans l'étape a2), les nanoparticules peuvent également être constituées d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe A. L'étape b) peut avantageusement permettre d'obtenir une enveloppe d'oxydes de métaux du groupe B stable à la corrosion et au frittage autour de métaux du groupe A. On peut en particulier obtenir un matériau qui comporte une charpente métallique en des métaux du groupe A entourée d'oxydes de métaux du groupe B. On peut ainsi avantageusement protéger le métal ou le mélange de métaux du groupe A de possibles modifications de structure ou agressions chimiques. Un tel procédé peut avantageusement permettre de fabriquer le matériau électriquement conducteur susmentionné, en particulier un matériau pour électrode et/ou un matériau pour piste conductive et/ou un matériau électriquement conducteur, chimiosen- Bible, en particulier sensible aux gaz ayant les caractéristiques décrites ci-dessus. Un tel matériau peut, comme il a déjà été mentionné, être non seulement électriquement conducteur, mais également essentielle-ment métallique et/ou résistant à la corrosion et/ou stable à la température et/ou poreux. En outre, un matériau électriquement conducteur, en particulier un matériau pour électrode et/ou un matériau pour piste conductive et/ou un matériau électriquement conducteur, chimiosensible, en particulier sensible aux gaz, obtenu par un tel procédé peut comporter une structure régulièrement définie à l'échelle nanométrique. Le traitement par le gaz ou le mélange de gaz oxydant peut en particulier être effectué à une température de >_ 500°C à 1500°C, par exemple de 550°C à 1000°C, et/ou pendant une du-rée de traitement de plus d'une heure, par exemple de plus de 2 heures. Le gaz ou le mélange de gaz oxydant peut par exemple comporter de 1 % en volume à 100 % en volume, par exemple de 1 % en volume à 20 % en volume, en particulier de 1 % en volume à 15 % en volume d'oxygène, et de 0 % en volume à 99 % en volume, par exemple de 80 % en volume à 99 % en volume, en particulier de 85 % en volume à 99 % en volume d'azote ou d'au moins un gaz rare, en particulier d'argon ou d'un mélange d'azote et d'au moins un gaz rare, en particulier de l'argon, étant précisé que la somme des

12 pourcentages volumétriques d'oxygène, d'azote et de gaz rare s'élève globalement à 100 % en volume. Selon un mode de réalisation du procédé conforme à l'invention, lors de l'étape a2), on prépare le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B en solution dans un solvant, c'est-à-dire sous la forme d'une solution. De cette manière, on peut obtenir que les nanoparticules du groupe A soient essentiellement totalement entourées d'une couche d'oxyde. Lors de l'étape a2), le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B peut toutefois également être préparé sous forme de nanoparticules. Dans l'étape a2), le métal ou le mélange de métaux du groupe B peut également être préparé sous la forme de nanoparticules. Par exemple, les nanoparticules peuvent être préparées sous la forme de masse en vrac.

Selon un autre mode de réalisation du procédé conforme à l'invention, lors de l'étape a), on prépare le métal ou le mélange de métaux du groupe B sous la forme d'une suspension de nanoparticules dans un solvant, et/ou lors de l'étape a2), on prépare le métal ou le mélange de métaux du groupe B sous la forme d'une suspension de nano- particules dans un solvant, et/ou lors de l'étape a2), on prépare le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B sous la forme d'une suspension de nanoparticules dans un solvant. On peut ainsi obtenir un matériau électriquement conducteur très homogène. Les solvants préférentiels sont des solvants protiques po- laires tels que le diméthyl formamide, la N-méthyl pyrrolidone, le diméthyl sulfoxide, ou des solvants protiques tels que l'éthanol, l'éthylène glycol, l'acide hexanoïque, ou la tri-propyl amine. Après les étapes al) ou a2), le procédé peut comporter une étape b0l) consistant à appliquer le matériau provenant de l'étape al) ou de l'étape a2) sur la surface d'un substrat support, par exemple un élément support en oxyde de zirconium, ou un wafer en silicium. Lors de l'étape b0l), le matériau provenant de l'étape al) et/ ou de l'étape a2) peut en particulier être tout d'abord appliqué sur la surface dans un solvant. Le solvant peut ensuite être éliminé/séché dans une étape b02) suivant l'étape b0l).

13 Selon un autre mode de réalisation du procédé conforme à l'invention, ce procédé comporte, après les étapes al) et a2), b01) et/ou b02), et/ou avant l'étape b), une étape b03) consistant à traiter le matériau à au moins 350°C pendant au moins 20 mn, en particulier à au moins 500°C pendant au moins 1 heure, par exemple à au moins 550°C pendant au moins 1,5 heure, notamment à au moins 600°C pendant au moins 2 heures avec un gaz ou un mélange de gaz non oxydant, en particulier réducteur. On peut de cette manière entre autres favoriser la formation d'un alliage entre les métaux des groupes A et B.

Le traitement avec le gaz ou le mélange de gaz non oxydant, en particu- lier réducteur, peut par exemple être effectué à une température de • 500°C à 1500°C, par exemple de 550°C à 1000°C, et/ou pendant une durée de traitement de plus d'une heure, par exemple de plus de 2 heures.

Par l'expression « gaz ou mélange de gaz non oxydant », on doit entendre un mélange de gaz dans lequel, à des températures de 350°C ou plus, le métal ou le mélange de métaux du groupe A et le métal ou le mélange de métaux du groupe B et le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B ne sont pas oxydés. On peut en parti- culier entendre par l'expression « gaz ou mélange de gaz non oxydant », un mélange de gaz dans lequel, à des températures de 500°C ou plus, par exemple de 550°C ou plus, notamment de 600°C ou plus, le métal ou le mélange de métaux du groupe A et le métal ou le mélange de métaux du groupe B et le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B ne sont pas oxydés. On peut par exemple entendre par l'expression « gaz ou mélange de gaz non oxydant », un mélange de gaz constitué de 50 % en volume d'hydrogène et de 95 % en volume d'azote. Par l'expression « gaz ou mélange de gaz réducteur », on peut entendre un mélange de gaz dans lequel, à des températures de 350°C ou plus, des composés, par exemple des oxydes du métal ou du mélange de métaux du groupe B ayant un degré d'oxydation supérieur à 0 sont au moins partiellement réduits. On peut en particulier en-tendre par l'expression « gaz ou mélange de gaz réducteur », un mélange de gaz dans lequel, à des températures de 500°C ou plus, par exemple de 550°C ou plus, notamment de 600°C ou plus, des composés, par

14 exemple des oxydes du métal ou du mélange de métaux du groupe B ayant un degré d'oxydation supérieur à 0 sont au moins partiellement réduits. Le cas échéant, le gaz ou le mélange de gaz réducteur peut également partiellement ou totalement réduire des composés du métal ou du mélange de métaux du groupe A ayant un degré d'oxydation supérieur à 0 pouvant le cas échéant être présents en tant qu'impuretés dans les nanoparticules. Le gaz ou le mélange de gaz non oxydant, en particulier réducteur, peut par exemple renfermer de 0,001 % en volume à <_ 100 % en volume, par exemple de 0,01 % en volume à 20 % en volume, en particulier de 0,1 % en volume à 10 % en volume, notamment de 1 % en volume à 5 % en volume d'hydrogène ou de monoxyde de carbone, ou d'un mélange d'hydrogène et de monoxyde de carbone, et de 0 % en volume à 99,999 % en volume, par exemple de 80 % en volume à 99,99 % en volume, en particulier de 90 % en volume à 99,99 % en volume, notamment de 95 % en volume à • 99,99 % en volume d'azote, ou d'au moins un gaz rare, en particulier d'argon ou d'un mélange d'azote et d'au moins un gaz rare, en particulier d'argon, étant précisé que la somme des pourcentages volumé- triques d'hydrogène, de monoxyde de carbone, d'azote et de gaz rare s'élève globalement à 100 % en volume. Le composé d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B peut par exemple être un sel anorganique ou organique et/ou un complexe anorganique ou organique d'un métal ou d'un mélange de métaux, c'est-à-dire d'au moins deux métaux du groupe B. Selon un autre mode de réalisation du procédé conforme à l'invention, le composé d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B est un oxyde, un nitrate, et/ou un halogénure d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B.

Selon un autre mode de réalisation du procédé conforme à l'invention, le composé d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B est un alcoolate, par exemple un méthoxylate, éthoxylate, npropoxylate, isopropoxylate, n-butoxylate ou un isobutoxylate, en particulier un éthoxylate, isopropoxylate ou isobutylate, d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B, ou un sel d'un acide organique, par

15 exemple un acétate, d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. A titre d'exemple, un composé d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B peut être du pentaéthoxyde de tantale, du tétraisopropoxyde de zirconium, du tétra-isobutoxylate de titane, de l'acétate de cérium ou de l'acétate d'yttrium. Le groupe A est de préférence constitué par le platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium, or, et leurs mélanges. Le mélange de métaux du groupe A peut par exemple être un mélange de métaux, en particulier un alliage de métaux renfermant de l'or et du palladium. Le mélange de métaux or-platine peut le cas échéant en outre renfermer au moins un autre métal choisi parmi le rhodium, l'iridium, le ruthénium et le rhénium. Le groupe A peut toute-fois également n'être constitué que du platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium et de leurs mélanges. A titre d'exemple, le métal du groupe A peut être du platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, ou rhénium à l'état pur. Selon un autre mode de réalisation du procédé conforme à l'invention, le groupe A est constitué par le platine, rhodium, rhénium et leurs mélanges, par exemple de platine et de rhodium.

Le métal ou le mélange de métaux du groupe A peut par exemple renfermer, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, de 30 % à 100 % d'atomes de platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium, or, ou de leurs mélanges, et de 0 % à 70 % d'atomes d'argent, cuivre, osmium, ou de leurs mé- langes, étant précisé que la somme des atomes de platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium, et rhénium, s'élève globalement à 100 % d'atomes. A titre de variante, le métal ou le mélange de métaux du groupe A peut renfermer, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, de 30 % à 100 % d'atomes de platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium, or, ou de leurs mélanges, et de 0 % à 70 % d'atomes d'argent, cuivre, osmium ou de leurs mélanges, étant précisé que la somme des atomes de platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium et rhénium, s'élève globalement à 100 % d'atomes.

16 Le métal ou le mélange de métaux du groupe A renferme de préférence, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, de 40 % à 100 %, par exemple de 65 % à 95 %, en particulier de 65 % à 90 % d'atomes de platine, et de 0 % à 60 %, par exemple de 5 % à 35 %, en particulier de 10 % à 35 0/0 d'atomes de rhodium, palladium, iridium, ruthénium, rhénium ou de leurs mélanges, étant précisé que la somme des atomes de platine, rhodium, palladium, iridium, ruthénium, et rhénium, s'élève globalement à 100 % d'atomes.

A titre d'exemple, le métal ou le mélange de métaux du groupe A, peut renfermer, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A, de 40 % à 100 %, par exemple de 65 % à 95 %, en particulier de 65 % à 90 % d'atomes de platine, et de 0 % à 60 %, par exemple de 5 % à 35 %, en particulier de 10 0/0 à 35 % d'atomes de rhodium, rhénium ou d'un mélange de ceux-ci, en particulier de rhodium, étant précisé que la somme des atomes de platine, rhodium et rhénium, en particulier de platine et de rhodium, s'élève globalement à 100 % d'atomes. Le composé de métal du groupe B peut le cas échéant 20 être constitué d'au moins un oxyde de bore. Le groupe B est préférentiellement constitué d'aluminium, gallium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, halnium, niobium, tantale, chrome, tungstène, manganèse, fer ou leurs mélanges. 25 Selon un autre mode de réalisation du procédé conforme à l'invention, le groupe B est constitué par l'aluminium, cérium, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome ou leurs mélanges, en particulier l'yttrium, cérium, titane, zirconium, tantale, ou leurs mélanges. 30 Le métal ou le mélange de métaux du groupe B et/ ou le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B peut par exemple renfermer, par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A de 70 % à 100 % d'atomes d'aluminium, cérium, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome ou de leurs mélanges, et 35 de 0 % à 30 % d'atomes de silicium, germanium, étain, bore, gal-

17 lium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, praséodyme, néodyme, prométhium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium et lutétium, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, ou de leurs mélanges, étant précisé que la somme des atomes d'aluminium, cérium, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, silicium, germanium, étain, bore, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, praséodyme, néodyme, prométhium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium et lutétium, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, s'élève globalement à 100 % d'atomes. Lors de l'étape a2), on peut également préparer au moins deux composés d'un métal ou d'un mélange de métaux. Ces composés peuvent se distinguer aussi bien concernant le type de métal et/ou le type de particule liante, en particulier de formateurs de sel ou d'agents complexants. A titre d'exemple, lors de l'étape a2), on peut préparer un premier composé, par exemple un éthoxylate, isopropoxylate ou isobutylate, d'un premier métal du groupe B, par exemple choisi dans le groupe formé par l'yttrium, le cérium, le titane, le zirconium et le tan- tale, et un second composé similaire ou différent du premier, par exemple un éthoxylate, isopropoxylate ou isobutylate d'un second métal du groupe B similaire ou différent, en particulier différent du premier, par exemple choisi dans le groupe formé par l'yttrium, le cérium, le titane, le zirconium et le tantale.

Par rapport à la quantité totale d'atomes de métaux du groupe A du premier et du second composé, on peut préparer de 1 0/0 à 99 %, par exemple de 45 % à 55 % d'atomes du premier composé, par exemple de tétra-isopropoxyde de zirconium ou de pentaéthoxyde de tantale, et de 1 % à 99 %, par exemple de 45 % à 55 % d'atomes du second composé, par exemple d'acétate de cérium ou d'acétate d'yttrium, étant précisé que la somme des atomes des métaux du premier et du second composé s'élève globalement à 100 d'atomes. L'invention a également pour objet un matériau électri- quement conducteur, en particulier un matériau pour électrode et/ ou

18 un matériau pour piste conductive et/ou un matériau électriquement conducteur chimiosensible, en particulier sensible aux gaz, obtenu par le procédé conforme à l'invention, ainsi que son utilisation. A titre d'exemple, on peut utiliser un matériau électriquement conducteur ob- tenu par la mise en oeuvre du procédé conforme à l'invention en tant que matériau pour électrode, et/ou en tant que matériau pour piste conductive et/ou en tant que matériau électriquement conducteur chimiosensible, en particulier sensible aux gaz, pour un capteur, un catalyseur ou une cellule de combustible, en particulier, un matériau électriquement conducteur obtenu par la mise en oeuvre du procédé conforme à l'invention peut être utilisé dans un capteur de gaz d'échappement tel qu'une sonde lambda, dans un chimiocapteur tel qu'un chimiocapteur à effet de champ, ou dans un transistor (capteur) à effet de champ, par exemple chimiosensible, par exemple en tant qu'électrode de grille, ou matériau pour électrode de grille et/ou en tant que piste conductive ou matériau pour piste conductive. Dessins et exemples D'autres avantages et modes de réalisation avantageux de l'invention sont représentés sur les dessins et illustrés par la descrip- tion ci-dessous. Il est à noter que les dessins n'ont qu'un caractère illustratif et ne sont pas de nature à limiter de quelque manière que ce soit l'invention. - la figure 1 est une vue en coupe très schématisée d'un premier mode de réalisation d'un matériau électriquement conducteur con- forme à l'invention, - la figure 2 est une vue en coupe très schématisée d'un second mode de réalisation d'un matériau électriquement conducteur con-forme à l'invention, - la figure 3a est une vue en coupe très schématisée d'un troisième mode de réalisation d'un matériau électriquement conducteur con-forme à l'invention, - la figure 3b est une vue en coupe très schématisée d'un quatrième mode de réalisation d'un matériau électriquement conducteur con-forme à l'invention, et

19 - la figure 4 est une vue en coupe très schématisée d'un cinquième mode de réalisation d'un matériau électriquement conducteur con-forme à l'invention. Selon la figure 1, le matériau électriquement conducteur conforme au premier mode de réalisation comporte des noyaux 1 en un métal ou en un mélange de métaux du groupe A qui sont entourés au moins partiellement d'oxyde(s) 2a, 2b, d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. Un tel matériau peut par exemple être obtenu conformément à l'étape a2) par la mise en oeuvre de nanoparticules des groupes A et B de dimension similaire. Selon la figure 2, le matériau électriquement conducteur conforme au second mode de réalisation se distingue du matériau électriquement conducteur conforme au premier mode de réalisation en ce que, lors de l'étape a2), on met en oeuvre des nanoparticules du groupe B qui sont sensiblement plus petites que les nanoparticules du groupe A. La figure 3a représente une particule 3, qui, conformé-ment à l'étape al) résulte de l'oxydation de nanoparticules qui renferment aussi bien des métaux du groupe A que des métaux du groupe B.

Selon cette figure, la particule 3 ainsi obtenue comporte un noyau 1 en un métal ou un mélange de métaux du groupe A qui est totalement entouré d'une couche d'oxyde 2b d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. En outre, selon la figure 3a, la transition du noyau 1 à la couche d'oxyde 2b est graduelle.

La figure 3b représente une particule 3, qui, conformé-ment à l'étape a2) résulte de la réaction de nanoparticules du groupe A avec une solution d'un composé d'un métal du groupe B suivie d'une oxydation. Selon cette figure, la particule 3 ainsi obtenue comporte un noyau 1 en un métal ou un mélange de métaux du groupe A qui est to- talement entouré par une couche d'oxyde 2c d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. Selon la figure 4, le matériau électriquement conducteur conforme au cinquième mode de réalisation est obtenu à partir de parti-cules 3 liées les unes aux autres avec entre elles des pores 4 ; les parti- cules 3 sont respectivement constituées d'un noyau 1 en un métal ou

20 un mélange de métaux du groupe A qui est au moins partiellement et en particulier essentiellement entouré d'une couche d'oxyde 2a, 2b d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. Un tel matériau peut, conformément à l'étape al), être obtenu par oxydation de nanoparti- cules qui renferment des métaux du groupe A et des métaux du groupe B, ou selon l'étape a2), par réaction de nanoparticules du groupe A avec une solution d'un composé d'un métal du groupe B suivie d'une oxydation. Exemple 1 Des nanoparticules constituées de 80 % en poids de platine, 10 % en poids de rhodium et 10 % en poids de titane, sont appliquées sous une forme colloïdale dissoute dans un solvant sur une surface en dioxyde de zirconium et séchées. Le film formant laque résultant est tout d'abord soumis à un premier traitement dans une atmos- phère non oxydante renfermant 2,5 % en volume d'hydrogène élémentaire, à 650°C pendant 5 heures, puis, à un second traitement dans de l'air en tant qu'atmosphère oxydante, également à 650°C pendant 5 heures. Exemple 2 Une solution (colloïdale) dans de la N-méthyl pyrrolidone de nanoparticules constituées de 94 % en poids de platine et de 6 % en poids de rhodium, et de tétra-isobutyloxate de titane, étant précisé que les atomes de titane sont présentés par rapport à la somme des atomes de platine et de rhodium dans un rapport de 1:9 est appliquée sur la surface d'un wafer en silicium et séchée. Le film formant laque résultant est tout d'abord soumis à un premier traitement dans une atmosphère non oxydante renfermant 2,5 % en volume d'hydrogène élémentaire, à 600°C pendant 2 heures, puis à un second traitement dans une atmosphère oxydante renfermant 10 % en volume d'oxygène dans de l'azote, également à 600°C pendant 2 heures. Le cliché pris au microscope électronique à balayage du matériau ainsi obtenu est représenté sur la figure 5. Ce matériau présente une conductibilité électrique élevée supérieure à 106 Sm-1, et est constitué de particules comportant une granulométrie moyenne déterminée par microscopie électronique à ba- layage 5 nm.

21 Exemple 3 Une solution (colloïdale) dans la N-méthyl pyrrolidone de nanoparticules constituées de 80 % en poids de platine et de 20 % en poids de rhodium, et de tétra-isobutyloxate de zirconium et d'acétate de cérium, étant précisé que les atomes de zirconium sont présents par rapport aux atomes de cérium et à la somme des atomes de platine et de rhodium dans un rapport de 9:10:81, est appliquée sur la surface d'un wafer en silicium et séchée. Le film formant laque résultant est d'abord soumis à un premier traitement dans une atmosphère non oxydante renfermant 2,5 % en volume d'hydrogène élémentaire à 600°C pendant 10 heures, puis à un second traitement dans 10 % en volume d'oxygène dans de l'azote constituant une atmosphère oxydante, égale-ment à 600°C, pendant 2 heures. Le cliché pris au microscope électronique à balayage du matériau ainsi obtenu est représenté sur la figure 15 6. Ce matériau présente une conductibilité électrique élevée supérieure à 106 Sm-' et est constitué de particules ayant une granulométrie moyenne déterminée par microscopie électronique à balayage 10 nm. Exemple 4 Une solution (colloïdale) dans la N-méthyl pyrrolidone de 20 nanoparticules constituées de 81 % en poids de platine et de 19 % en poids de rhodium et de pentaéthoxyde de tantale et d'acétate d'yttrium, étant précisé que les atomes de tantale sont présents par rapport aux atomes d'yttrium et à la somme des atomes de platine et de rhodium dans un rapport de 8:8:84, est appliquée sur la surface d'un wafer en 25 silicium et séchée. Le film formant laque résultant est tout d'abord soumis à un premier traitement dans une atmosphère non oxydante renfermant 2,5 % en volume d'hydrogène élémentaire à 600°C pendant 10 heures, puis à un second traitement dans 10 % en volume d'oxygène dans de l'azote constituant une atmosphère oxydante, également à 30 600°C pendant 2 heures. L'échantillon a ensuite été traité à 800°C pendant 100 heures dans 10 % en volume d'oxygène dans de l'azote. Le cliché pris au microscope électronique à balayage du matériau ainsi obtenu est représenté sur la figure 7. Ce matériau présente une conductibilité électrique élevée supérieure à 106 Sm-1 et est constitué de

22 particules ayant une granulométrie moyenne, déterminée par microscopie électronique à balayage 25 nm.5 NOMENCLATURE 1 Noyau 2a, 2b, 2c Oxyde 3 Particule 4 Pore lo

Claims (1)

1. REVENDICATIONS1 °) Matériau électriquement conducteur renfermant : - des noyaux (1) en un métal ou un mélange de métaux choisi dans le groupe A formé par le platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium, rhénium et leurs mélanges, - les noyaux étant entourés au moins partiellement d'au moins un oxyde (2a, 2b, 2c) d'un métal ou d'un mélange de métaux choisi dans le groupe B formé par le silicium, germanium, étain, bore, aluminium, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, et leurs mélanges, caractérisé en ce que les noyaux (1) présentent une granulométrie moyenne 100 nm. 15 2°) Matériau selon la revendication 1, caractérisé en ce qu' il est formé de particules (3) reliées les unes aux autres et comportant des pores (4) entre elles, les particules (3) comportant respectivement 20 un noyau (1) en un métal ou un mélange de métaux qui est entouré au moins partiellement d'une couche d'oxyde (2b, 2c) d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B. 3°) Matériau selon la revendication 2, 25 caractérisé en ce que les particules (3) présentent une granulométrie moyenne de 0,5 nm à 110 nm, mesurée par microscopie électronique à balayage. 4°) Matériau selon la revendication 2 ou la revendication 3, 30 caractérisé en ce que les pores (4) situés entre les particules (3) présentent une dimension moyenne de 0,1 nm à 50 nm, mesurée par microscopie électronique à balayage. 355°) Matériau selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu' il renferme, par rapport à la quantité totale d'atomes métalliques dans celui-ci : étant précisé que la somme des métaux des groupes A et B s'élève globalement à 100 % d'atomes. 6°) Matériau selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que - le groupe A est formé par le platine, ruthénium, rhénium ou leurs mélanges, et/ou - le groupe B est formé par l'aluminium, cérium, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, ou leurs mélanges, en particulier par l'yttrium, cérium, titane, zirconium, tantale, ou leurs mélanges. 7°) Procédé d'obtention d'un matériau électriquement conducteur com-20 portant les étapes consistant à : al) Préparer des nanoparticules renfermant : - un métal ou un mélange de métaux choisi dans le groupe A formé par le platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium, rhénium, et leurs mélanges, et 25 - un métal ou un mélange de métaux choisi dans le groupe B formé par le silicium, germanium, étain, bore, aluminium, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, 30 nickel, zinc, et leurs mélanges, et/ou a2) Préparer un mélange homogène formé : - de nanoparticules renfermant un métal ou un mélange de métaux choisi dans le groupe A formé par le platine, rhodium, or, palladium, argent, cuivre, iridium, ruthénium, osmium, rhé- 35 nium, et de leurs mélanges, et - de 65 % à 97 % d'atomes de métaux du groupe A, et - de 3 % à 35 % d'atomes de métaux du groupe B, 26 - d'un métal ou d'un mélange de métaux choisi dans le groupe B formé par le silicium, germanium, étain, bore, aluminium, gallium, indium, béryllium, magnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, fer, cobalt, nickel, zinc, et leurs mélanges, - et/ou au moins un composé d'un métal ou d'un mélange de métaux choisi dans le groupe B formé par le silicium, germanium, étain, bore, aluminium, gallium, indium, béryllium, ma- gnésium, scandium, yttrium, lanthane, lanthanides, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, molybdène, tungstène, manganèse, étain, cobalt, nickel, zinc, et leurs mélanges, et b) Traiter le matériau de l'étape al) ou de l'étape a2) à au moins 200°C pendant 10 mn avec un gaz ou un mélange de gaz oxydant. 8°) Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que lors de l'étape a2), on prépare le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B sous une forme dissoute dans un solvant. 9°) Procédé selon la revendication 7 ou la revendication 8, caractérisé en ce que - lors de l'étape al), on prépare le métal ou le mélange de métaux du groupe B sous la forme d'une suspension de nanoparticules dans un solvant, et/ ou - lors de l'étape a2), on prépare le métal ou le mélange de métaux du groupe B sous la forme d'une suspension de nanoparticules dans un solvant, et/ou - lors de l'étape a2), on prépare le composé du métal ou du mélange de métaux du groupe B sous la forme d'une suspension de nanoparticules dans un solvant. 10°) Procédé selon l'une des revendications 7 à 9, caractérisé en ce qu' 27 il comporte, avant l'étape b) une étape b03) consistant à traiter le matériau à au moins 350°C pendant au moins 20 minutes avec un gaz ou un mélange de gaz non oxydant. 11 °) Procédé selon l'une des revendications 7 à 10, caractérisé en ce que - le groupe A est formé par le platine, rhodium, rhénium, ou leurs mélanges, et/ou - le groupe B est formé par l'aluminium, cérium, titane, zirconium, hafnium, niobium, tantale, chrome, ou leurs mélanges, en particulier par l'yttrium, cérium, titane, zirconium, tantale, ou leurs mélanges. 12°) Procédé selon l'une des revendications 7 à 11, caractérisé en ce que le composé d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B est constitué par : - un oxyde, nitrate et/ou halogénure d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B, et/ou - un alcoolate d'un métal ou d'un mélange de métaux du groupe B ou un sel d'un acide organique avec un métal ou un mélange de métaux du groupe B.25