FI84630C - Metylenkloridbaserad komposition och foerfarande foer avlaegsnande av fotoresistfilmer som baserad sig pao anvaendningen av kompositionen. - Google Patents
Metylenkloridbaserad komposition och foerfarande foer avlaegsnande av fotoresistfilmer som baserad sig pao anvaendningen av kompositionen. Download PDFInfo
- Publication number
- FI84630C FI84630C FI873189A FI873189A FI84630C FI 84630 C FI84630 C FI 84630C FI 873189 A FI873189 A FI 873189A FI 873189 A FI873189 A FI 873189A FI 84630 C FI84630 C FI 84630C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- mixture
- methylene chloride
- composition
- total amount
- mixture according
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/42—Use of additives, e.g. for stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5018—Halogenated solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02854—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons characterised by the stabilising or corrosion inhibiting additives
- C23G5/02861—Oxygen-containing compounds
- C23G5/0288—Epoxy compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/288—Removal of non-metallic coatings, e.g. for repairing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/263—Ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/264—Aldehydes; Ketones; Acetals or ketals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
Description
1 84630
Metyleenikloridiperustainen seos ja sen käyttöön perustuva menetelmä fotoresistikalvojen poistamiseksi Tämä keksintö koskee metyleenikloridiperustaista seosta, jota voidaan käyttää fotoresistikalvojen poistamiseen. Lisäksi keksintö koskee tällaisen seoksen käyttöön perustuvaa menetelmää fotoresistikalvojen poistamiseksi painetuista piireistä.
Eräs painettujen piirien valmistuksen vaiheista käsittää kuivan polymeroituneen kalvon poistamisen jonkin liuottimen avulla alueelta, jota ei syövytetä. Tämä kuiva kalvo eli fotoresistikalvo, joka on polymeroitunut ultraviolettisäteilyn vaikutuksesta, kestää vettä, kehittimiä ja syövytysai-neita, kun sensijaan kalvon valottamattomat osat ovat liuenneet kehitysvaiheen aikana.
Aikaisemmin tunnetaan useita seoksia, joita käytetään näiden fotoresistikalvojen poistamiseen. US-patentissa 3 789 007 kuvataan erästä metyleenikloridiseosta, joka sisältää 3-15 paino-% metanolia. US-patentissa 3 813 309 kuvataan erästä kloorattujen liuottimien seosta, joka sisältää jotakin väkevää orgaanista happoa, jotakin amiinia ja jotakin keto-nia. US-patentissa 4 438 192 kuvataan metyleenikloridia, joka sisältää metanolia, metyyliformiaattia ja mahdollisesti propyleenioksidia.
Tämän keksinnön tavoitteena on seos, jolla voidaan helposti ja nopeasti poistaa fotoresistikalvot painettujen piirien aihioista ja joka voidaan kierrättää takaisin ja käyttää useaan kertaan.
Tämä metyleenikloridiperustainen seos on tunnettu siitä, että se sisältää: a) yhtä tai useampaa epoksidia b) yhtä tai useampaa alkoholia ja 2 84630 c) yhtä tai useampaa ainetta, jotka on valittu 2-12 hiili-atomia sisältävien eettereiden ja 3-10 hiiliatomia sisältävien alifaattisten ketonien joukosta, seoksen loppuosan muodostuessa metyleenikloridista.
Käytettävän epoksidin a) kokonaismäärä voi olla 0,05-5 pai-no-% seoksen kokonaispainosta ja mieluiten se on 0,2-2 %. Epoksideina voivat olla propyleenioksidi ja butyleenioksidi. Mieluiten käytetään propyleenioksidia.
Alkoholeina käytetään useimmiten lineaarisia tai haarautuneita alkoholeja, jotka sisältävät 1-5 hiiliatomia, ja niitä ovat metanoli, etanoli ja isopropanoli. Mieluiten käytetään metanolia.
Alkoholien b) kokonaismäärä voi olla 0,05-5 paino-% seoksen kokonaispainosta ja mieluiten se on 2-4 %.
Aineen c) kokonaismäärä voi olla 0,05-5 paino-% seoksen kokonaispainosta ja mieluiten se on 1-3 %.
Eettereinä käytetään useimmiten mono-, di- tai trieetterei-tä, joissa on 2-12 hiiliatomia.
Metyyli-tert-butyylieetteri (MTBE) ja dimetoksimetaani sopivat erinomaisesti.
Asetoni sopii erinomaisesti alifaattiseksi ketoniksi, jossa on 3-10 hiiliatomia.
Voidaan käyttää yhtä eetteriä tai yhtä ketonia tai seosta, joka käsittää useita samaan ryhmään tai kahteen edellä mainittuun ryhmään kuuluvia tuotteita. Edullisesti käytetään yksinomaan MTBE:ä: MTBE liukenee niukasti veteen (1,3 pai no-% 20°C:ssa), mikä on etu silloin, kun seos regeneroidaan vesihöyryn avulla tislaamalla, koska tällöin ainetta ei menetetä.
3 84630
Keksinnön mukainen seos valmistetaan yksinkertaisesti sekoittamalla aineosat metyleenikloridiin. Tämä sekoittaminen voidaan suorittaa huoneenlämpötilassa ja tarkemmin sanottuna 5-30°C:ssa.
Tämä keksintö koskee myös menetelmää fotoresistikalvojen poistamiseksi painetuista piireistä keksinnön mukaisen seoksen avulla. Fotoresistikalvon poistaminen voidaan suorittaa yksinkertaisesti upottamalla painettu piiri keksinnön mukaiseen seokseen. Voidaan myös käyttää jatkuvatoimista käsittelyä, joka tapahtuu pirskottamalla. Fotoresistikalvon poistamisen jälkeen painetusta piiristä valutetaan vesi ja se kuivataan mahdollisesti ilman avulla.
Seuraavat esimerkit valaisevat keksintöä sitä rajoittamatta. Seuraavissa esimerkeissä käytetty fotoresistikalvo on hartsia, joka koostuu pääasiallisesti jostakin polymetakrylaa-tista, ja konsentraatiot on ilmaistu painoprosentteina.
Esimerkit 1-3
Valmistetaan kolme seosta, joilla on seuraavat koostumukset:
Seos 1 Seos 2 Seos 3
Metyleenikloridia 94 94 94
Propyleenioksidia 0,5 0,5 0,5
Metanolia 333
Metyyli-tert-butyyli- eetteriä 2,5 0 0
Dimetoksimetaania 0 2,5 0
Asetonia 0 0 2,5
Aluksi mitataan seosten kyllästyneisyys fotoresistillä.
100 g:aan seosta lisätään muutamia grammoja fotoresistiä.
4 84630
Seosta sekoitetaan 15 minuuttia ja sitten lisätään vielä fo-toresi stiä ja näin jatketaan, kunnes seos on kyllästynyt.
Kokeet suoritetaan 20eC:ssa. Dekantoinnin jälkeen mitataan kuiva-ainepitoisuus kirkkaasta koe-erästä. Tulokset on k oottu t uon n emp a n a es it et tyyn taulu k koon I.
S i 11 e n mitä t a a n s e o s t e n s o v e 1 tuvuus t. a k ai si n k i e r rätykseen.
100 ml:n vetoiseen 1abaratoriokolvi in, joka on varustettu 1i uo 11 imien t i s1 au ksee n t arvittavi11a vä1i nei11 ä, p an n a an s e o s t ai, j o k: a sis ä 11 ä ä 3 7. f o t or esi stiä, sitten suoritetaan tislaus seok sen ta11 eeno11 ami seksi. Ta11eenotettu tisle "panostetaan" sitten uudelleen 3 ‘/.sila fotoresistiä ja tislataan. Tämä toimenpide suoritetaan 6 kertaa peräjälkeen.
Sama koe suoritetaan seoksille 2 ja 3. Tulokset on koottu tuonnempana esitettyyn taulukkoon I.
Fotoresi st i n po:i. stumi snapeus: K a p a k i set k: o e k a p p a 1 e e t, jo t k a ovat kooltaan 10 ;·; 1 cm ja päällystetyt •fotoresi sti 11 ä, upotetaan eri koostumuksiin ja niitä sekoitetaan jatkuvasti 25eC:ssa. Saman koekappalepin-nan täydelliseen puhdistumiseen kuluva aika mitataan.
Kokeet suoritettiin uusilla seoksilla ja seoksilla, jotka oli kierrätetty 6 kertiia edellä selitetyssä kokeessa. Tul-1okset on ilmoitettu taulukossa I.
Esimerkki 4
Mitataan seosten soveltuvuus regeneroitaviksi vesihöyryllä tislaamalla. Tässä esimerkissä verrataan keksinnön mukaista seosta, joka sisältää metyleeni kloridia, metanolia, propy-leenioksidia ja MTBE:ä (seos 5), seokseen, joka ei ole keksinnön mukainen ja joka sisältää metyleenikloridi a, metano-1 i a, propyl eeni oksi di a ja metyyl i-f ormiaatti a (seos 4).
Vesihöyryllä ti sl aarni seen tarkoitetuissa laitteistossa tislataan 100 ml seosta, joka sisältää 3 paino-"/, fotoresistiä.
, i i 5 84630
Kondensaatti in sekoitetaan sitten uudelleen 3 "/. fotoresis-tiä, haihdutetaan sitten uudestaan ja tämä toimenpide toistetaan 4 kertaa peräkkäin. Saadut tulokset on koottu taulukkoon II. Koostumus, joka sisältää MTBErä, muuttuu paljon vähemmän kuin vertai 1useos. Käyttökelpoisen tuoreen seoksen saamiseksi tarvitsee vain lisätä metanolia.
Taulukko I
Seos 1 Seos 2 Seos 3
Kyl1ästys f atoresistillä 20°C:ssa g/100 g 7 6 4-4,5
Seoksen sisältö 6 tislauksen jälkeen -f otoresi sti n 1äsnäol1essa: - mety1eenikloridi a 96,08 95,3 95,38 - propyleenioksi di a 0,44 0,35 0,44 - metanolia 3,34 4,21 3,34 - MTBE:ä 1,4 - dimetoksimetaani a - 1,4 - ~ asetonia - - 0,84 Täydel1i sen puhdistumisen kesto sekunteina 25°C:ssa - uudella seoksella 17 16 17 - 6 kertaa takaisinkier- rätetyllä seoksella 15 15 18 6 84630 lu m ο- g in o n * ^ ^ n m n k) m in x \0 <4- S3 O 00 Ό τ4 t4
o « <* O o O
Hl X Kj r. ^ ^ UI u o o o o
•H
c m m ·“* ••ί 10 O <4- >- ό in in in in in G. Ή f. *v m. r. v.
0 m o o o o o L y CL 0
-tH
+J Ϊ -M •rl Π3 iH fQ
>· -h E »h 0s
•PL in (N |N
QJ 0 -· - CM
Έ. h- M CM ή TH
t-i I—I
o * * 3 I Ό ^ lii O «0 -< 3 0 I1) r-ι f-t O _ fj ai i ro * · - o i_ to u o o o •il c dl d) !-< W (O tN 10 > ό in in in m m Q. >ιΗ r. m. Λ * Λ
O Ui O O O O O
L y 0. o c c c c
dl di CJ OI
in ui m ui y y y y 3 3 3 3 1 |Q (Q <0 >0
•H r*H H rH H
C UI UI ui UI
QJ ·Η ·Η ·Η ·Η 0 Ql -μ +j -Ρ -μ
•H rH
+J >> · · · m -ρ ή m ro «4-
s QJ
LE 0 0 0 O
4-1 ι-t ι-t H H
C N -P -P -P -P
QJ IQ IQ IQ IQ
W & Hi <0 <0 <5
COAL L L L
0 -< *P C 4-1 C -PC -PC
y m ό cat c οι cai cm :o -p h aim 0) 01 did) Old) •p Ui L Ui y Uly uiy Uly Γ 0 0 C —* C H C i—< C 1-4 :iQ -rl i—I 0 :nj 0 ifl 0 :iQ 0 :flj _i w y y y n y ••-i y -n
Claims (9)
1. Metyleenikloridiperustainen seos, jota voidaan käyttää fotoresistikalvojen poistamiseen, tunnettu siitä, että seos sisältää a) yhtä tai useampaa epoksidia, b) yhtä tai useampaa alkoholia, ja c) yhtä tai useampaa ainetta, jotka on valittu 2-12 hiiliatomia sisältävien eettereiden ja 3-10 hiiliatomia sisältävien alifaattisten ketonien joukosta, seoksen loppuosan muodostuessa metyleenikloridista.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että epoksidi on valittu propyleenioksidin ja buty-leenioksidin joukosta.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen seos, tunnettu siitä, että alkoholi on valittu lineaaristen tai haarautuneiden alkoholien joukosta, joissa on 1-5 hiiliatomia, ja se on mieluiten metanolia.
4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen seos, tunnettu siitä, että eetteri on metyyli-tert-butyy-lieetteriä tai dimetoksimetaania.
5. Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen seos, tunnettu siitä, että yhdisteen a) kokonaismäärä on 0,05-5 paino-% seoksen kokonaismäärästä ja mieluiten 0,2-2 %.
6. Jonkin patenttivaatimuksista 1-5 mukainen seos, tunnettu siitä, että yhdisteen b) kokonaismäärä on 0,05-5 paino-% seoksen kokonaismäärästä ja mieluiten 2-4 %.
7. Jonkin patenttivaatimuksista 1-6 mukainen seos, tunnettu siitä, että yhdisteen c) kokonaismäärä on 0,05-5 paino-% seoksen kokonaismäärästä ja mieluiten 1-3 %. 8 84630
7 84630
8. Jonkin patenttivaatimuksista 1-7 mukainen seos, tunnettu siitä, että a) on propyleenioksidia, b) on metanolia ja c) on metyyli-tert-butyylieetteriä.
9. Menetelmä fotoresistikalvojen poistamiseksi painetuista piireistä, tunnettu siitä, että mainitut piirit saatetaan kosketukseen upottamalla ne jonkin patenttivaatimuksista 1-8 mukaiseen seokseen tai pirskottamalla ne sillä.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8610529 | 1986-07-21 | ||
| FR8610529A FR2601703B1 (fr) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | Composition a base de chlorure de methylene - son utilisation pour l'enlevement des films photoresist |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI873189A0 FI873189A0 (fi) | 1987-07-20 |
| FI873189A FI873189A (fi) | 1988-01-22 |
| FI84630B FI84630B (fi) | 1991-09-13 |
| FI84630C true FI84630C (fi) | 1991-12-27 |
Family
ID=9337579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI873189A FI84630C (fi) | 1986-07-21 | 1987-07-20 | Metylenkloridbaserad komposition och foerfarande foer avlaegsnande av fotoresistfilmer som baserad sig pao anvaendningen av kompositionen. |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0258079B1 (fi) |
| JP (1) | JPS6330848A (fi) |
| AT (1) | ATE72679T1 (fi) |
| CA (1) | CA1295205C (fi) |
| DE (1) | DE3776737D1 (fi) |
| DK (1) | DK170076B1 (fi) |
| ES (1) | ES2006203A6 (fi) |
| FI (1) | FI84630C (fi) |
| FR (1) | FR2601703B1 (fi) |
| GR (1) | GR3004213T3 (fi) |
| IE (1) | IE59867B1 (fi) |
| NO (1) | NO173617C (fi) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3068622B2 (ja) * | 1988-08-30 | 2000-07-24 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置 |
| FR2661918B1 (fr) * | 1990-05-10 | 1992-07-17 | Atochem | Composition nettoyante a base de 1,1,1,2,2-pentafluoro-3,3-dichloro-propane et de methyl tert-butyl ether. |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3625763A (en) * | 1968-12-04 | 1971-12-07 | Bunker Ramo | Conformal coating stripping method and composition |
| US3646229A (en) * | 1970-07-13 | 1972-02-29 | Dow Chemical Co | Use of dimethoxymethane to inhibit a methylene chloride-aluminum reaction |
| CA1049567A (en) * | 1973-02-23 | 1979-02-27 | Diamond Shamrock Corporation | Inhibition of aromatic compound degradation of methylene chloride |
| DE2716534A1 (de) * | 1976-05-03 | 1977-12-01 | Solvay | Verfahren zur stabilisierung von methylenchlorid |
| US4438192A (en) * | 1983-02-14 | 1984-03-20 | The Dow Chemical Company | Photoresist stripper composition and method of use |
| JPS6120946A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Asahi Glass Co Ltd | フォトレジスト剥離用組成物 |
-
1986
- 1986-07-21 FR FR8610529A patent/FR2601703B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-07-09 EP EP19870401626 patent/EP0258079B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-09 AT AT87401626T patent/ATE72679T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-07-09 DE DE8787401626T patent/DE3776737D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-15 JP JP62176958A patent/JPS6330848A/ja active Granted
- 1987-07-20 IE IE195887A patent/IE59867B1/en not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 NO NO873030A patent/NO173617C/no not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 CA CA000542468A patent/CA1295205C/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-20 DK DK376787A patent/DK170076B1/da not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 FI FI873189A patent/FI84630C/fi not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 ES ES8702116A patent/ES2006203A6/es not_active Expired
-
1992
- 1992-04-01 GR GR920400583T patent/GR3004213T3/el unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO873030L (no) | 1988-01-22 |
| EP0258079B1 (fr) | 1992-02-19 |
| FI873189A (fi) | 1988-01-22 |
| IE59867B1 (en) | 1994-04-20 |
| FR2601703B1 (fr) | 1993-05-07 |
| DE3776737D1 (de) | 1992-03-26 |
| ES2006203A6 (es) | 1989-04-16 |
| EP0258079A1 (fr) | 1988-03-02 |
| JPH0449939B2 (fi) | 1992-08-12 |
| FI84630B (fi) | 1991-09-13 |
| NO173617B (no) | 1993-09-27 |
| GR3004213T3 (fi) | 1993-03-31 |
| ATE72679T1 (de) | 1992-03-15 |
| NO873030D0 (no) | 1987-07-20 |
| DK376787A (da) | 1988-01-22 |
| DK170076B1 (da) | 1995-05-15 |
| FR2601703A1 (fr) | 1988-01-22 |
| DK376787D0 (da) | 1987-07-20 |
| JPS6330848A (ja) | 1988-02-09 |
| NO173617C (no) | 1994-01-05 |
| IE871958L (en) | 1989-01-21 |
| CA1295205C (fr) | 1992-02-04 |
| FI873189A0 (fi) | 1987-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1194764A (en) | Stripping compositions and methods of stripping resists | |
| KR880002246B1 (ko) | 제막조성물 및 내식막 제거방법 | |
| FI66697B (fi) | Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt | |
| EP0075329A1 (en) | Stripping compositions and method of stripping resists | |
| FI72395B (fi) | Behandling av foer straolning kaensliga plattor | |
| TWI589601B (zh) | 聚合光起始劑 | |
| JPH0143948B2 (fi) | ||
| EP0103808A1 (en) | Stripping compositions and methods of stripping resists | |
| JP3266260B2 (ja) | エポキシ製品を洗浄する方法 | |
| MX9206945A (es) | Composicion de limpieza, para eliminar tanto materiales solubles en solvente organico como solubles en agua. | |
| KR950000238B1 (ko) | 기판의 내식막의 제막조성물 및 제거법 | |
| JP2018530774A (ja) | Ｌｃｄ製造用フォトレジスト剥離液組成物 | |
| FI84630C (fi) | Metylenkloridbaserad komposition och foerfarande foer avlaegsnande av fotoresistfilmer som baserad sig pao anvaendningen av kompositionen. | |
| US3459128A (en) | Emulsion lacquer containing alkyl/phenol resin for the after-treatment of developed planographic printing plates | |
| JP2736296B2 (ja) | リソグラフ印刷要素のための単相現像液 | |
| JP7057653B2 (ja) | 樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物 | |
| FI78310C (fi) | Avlaegsningsblandning av en ljuskaenslig polymer och foerfarande foer avlaegsning av en ljuskaenslig polymer. | |
| US4786580A (en) | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition | |
| JP2015010039A (ja) | 非イオン型界面活性剤の処理方法及び金属イオン濃度を低減した非イオン型界面活性剤 | |
| JPS5576346A (en) | Photosensitive composition | |
| KR20190083545A (ko) | 드라이필름 레지스트 제거용 박리조성물 및 이를 이용한 드라이필름 레지스트의 박리방법 | |
| KR960037871A (ko) | 오염물 피막을 금속 표면으로부터 제거하는 방법 | |
| EP0598257A1 (en) | Composition for reclaiming paint from a spray booth | |
| KR900003681A (ko) | 양성작용성 감조사성 조성물 및 이로부터 제조된 감조사성 기록 재료 | |
| JP2017521285A (ja) | スクリーン印刷用ステンシルの補強剤及びそれを用いる補強処理法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Patent lapsed |
Owner name: ATOCHEM |