FI66697B - Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt - Google Patents
Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt Download PDFInfo
- Publication number
- FI66697B FI66697B FI810955A FI810955A FI66697B FI 66697 B FI66697 B FI 66697B FI 810955 A FI810955 A FI 810955A FI 810955 A FI810955 A FI 810955A FI 66697 B FI66697 B FI 66697B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- water
- insoluble
- development
- formula
- compound
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Undergarments, Swaddling Clothes, Handkerchiefs Or Underwear Materials (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Media Introduction/Drainage Providing Device (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
Description
66697
Menetelmä ja kehiteliuos valotettujen, negatiivisesti toimivien diatsoniumsuolakalvojen kehittämiseksi
Keksintö koskee kehiteliuosta, joka soveltuu nega-5 tiivisesti toimivien valotettujen kopiointimateriaalien kehittämiseen, joiden perustana ovat diatsoniumsuola-polykon-densaatiotuotteet.
Mainituntyyppisiä kopiointimateriaaleja käytetään edullisesti painolevyjen, mutta myös valoherkkien päällystei-10 den valmistukseen ja ne koostuvat kalvon kantajarakenteesta ja negatiivisesti toimivasta valonherkästä kopiokalvosta.
Kalvon kantajarakenteena käytetään metalleja, kuten sinkkiä, kromia, kuparia, messinkiä, terästä tai alumiinia, muovikalvoja, paperia tai vastaavia, mahdollisesti tarkoi-i5 tukseen soveltuvan esikäsittelyn jälkeen.
Kopiokalvoina käytetään sellaisia, joiden perustana ovat veteenliukenemattomat diatsoniumsuola-polykondensaa-tiotuotteet ja veteenliukenemattomat hartsit sideaineena, erityisesti hartsit, jotka eivät liukene heikosti happamiin 20 tai emäksisiin vesipitoisiin liuoksiin.
Tämäntyyppisiin valotettuihin kopiokalvoihin käytettävät kehitteet vaativat normaalisti orgaanisten liuottimien lisäystä.
Mutta myöskään silloin ei yleensä saada aikaan käy-25 tettäessä kehitteitä, jotka sisältävät vähemmän kuin 50 paino-% orgaanista liuotinta, valottamattomien kalvoalu-eiden varsinaista liukenemista, vaan ainoastaan irtautuminen kantajarakenteesta enemmän tai vähemmän suurina hiutaleina. Käsin kehitettäessä voidaan yleensä saada käyttä-30 mällä riittävää ylimäärää kehitintä siististi kehitetty kopio. Toisaalta on kalliin, orgaanista liuotinta sisältävän kehitteen kulutus suuri, ja sen poistaminen tai edel-leenkäsittely aiheuttaa lisää vaivaa ja kustannuksia.
Erityisesti kehitettäessä mainituntyyppisiä suurte-35 hopainolaattoja, on ilmennyt vaikeuksia, jos kehityksen pitäisi tapahtua automaattisessa läpikulkulaitteessa, koska tällöin suhteellisen lyhyen ajan kuluttua kehitteeseen 2 66697 dispergoitunut, liukenematon kalvoaine erottui laitteessa ja mahdollisesti myös kehitettävillä laatoilla ja teki nämä käyttökelvottomiksi.
Tämän johdosta käytettiin mainituntyyppisten jäljen-5 nöskalvojen kehittämiseen kehitteitä, jotka sisälsivät enemmän (esimerkiksi 50 % tai enemmän) orgaanisia liuottimia (saksalainen hakemusjulkaisu nro 20 24 244, esimerkki 57). Myös käytettäessä tätä orgaanisten liuottimien korkeaa pitoisuutta, jää jäljelle kalvoissa, jotka sisältävät suuria 10 määriä veteen liukenemeattomia sideaineita, jäännös ei- liuennutta kiinteää kalvoainetta kehitteeseen dispergoitu-neena. Tosin on voitu saavuttaa lisäämällä suhteellisen suuria määriä kostutusaineita kehitteeseen, täydellinen ja stabiili dispersio ja siisti kehitys, mutta kuitenkaan ei 15 ole mahdollista työstää mainitussa esimerkissä ilmoitetun tyyppisiä kehitteitä automaattisissa kehityslaitteissa, koska nämä kehitteet vaahtoavat liian voimakkaasti.
Toisentyyppisille kalvoille kuvattiin myös kehite-liuoksia, jotka sisältävät vähän tai jopa ei ollenkaan vet-20 tä (saksalainen hakemusjulkaisu nro 20 12 390). Myös nämä kehitteet sisältävät kostutusaineita ja ovat yleensä liian aggressiivisia edellä ilmoitetun koostumuksen omaavien painolaattojen kehittämiseen.
Lopuksi tunnetaan kanadalaisesta patenttijulkaisus-25 ta nro 1 057 105 myös kehitteet keksinnön mukaisesti käsiteltäviä painolaattoja varten ja ne sisältävät korkeintaan 95 % orgaanisia liuottimia, esim. glykoleja tai glykoli-eettereitä, ja kostutusaineita. Kehitteitä käytetään 60-110°C:seen välisessä lämpötilassa (sivu 9, rivit 6-7 ja 30 17-18). Näissä lämpötiloissa kehitteillä on voimakas taipu mus vaahtoamiseen, jos niitä käytetään automaattisissa työs-tölaitteissa.
Keksinnön tehtävänä on asettaa käyttöön kehiteliuos valonherkkiä kalvoja varten, joiden perustana ovat veteen-35 liukenemattomat diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotteet ja veteenliukenemattomat sideaineet, ja joka takaa valottamat-tomien kalvoalueiden täydellisen liukenemisen ja joka soveltuu käytettäväksi automaattisissa kehityslaitteissa.
3 66697
Keksintö lähtee kehiteliuoksesta, jota käytetään valotettujen, valonherkkien jäijennösmateriaalien kehittämiseen, jotka sisältävät veteeniiukenematonta sideainetta ja veteenliukenematonta diatsoniumsuola-polykondensaatio-5 tuotetta, jolloin liuos sisältää pääasiallisina aineosina glykolieettereitä, glykoliestereitä ja vettä.
Keksinnön mukainen kehiteliuos on tunnettu siitä, että se sisältää 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava, 10 H-(0-CH-CHo-) OC H0 , 2 n m 2m+l ch3 jossa n = 1-4 ja ra - 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava, 15 R1-0-CH-CH -OR2 ' 3 1
RJ
1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 20 c-atomia tai toinen molemmista tähteistä on vetyatomi ja 3 R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-dioksolan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 25 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liu kenevaa suolaa ja 5-45 % vettä.
Prosenttiluvut tarkoittavat painoprosentteja.
Jäijennösmateriaaleja, jotka voidaan kehittää kek-30 sinnön mukaisilla kehiteliuoksilla, on kuvattu esimerkiksi saksalaisessa patenttijulkaisussa nro 20 24 244 = US-patent-tijulkaisussa nro 3 867 147.
Keksinnön mukaisilla kehitteillä on pitkä käyttöaika kehityskoneissa, koska ne liuottavat käytännöllisesti 35 katsoen täydellisesti kehitettäessä poistetut kalvon aineosat ja koska ne eivät sisällä mitään alhaalla kiehuvia aineosia. Edullisesti on kehitteen orgaanisten aineosien kiehumispiste yli 100°C, erityisesti yli 150°C.
4 66697
Keksinnön mukaisen kehitteen pääaineosana on yhdiste, jolla on kaava H- (0-CH-CH2-) nOCinH2m+ j 5 CH3 jossa symboleilla n ja m on edellä ilmoitettu merkitys. Edullisesti n on 1-3 ja m on 1-3, erityisesti 1. Glykoli-eetterin määrä on yleensä 30-80, edullisesti 45-60 paino-% liuoksesta.
10 Muuna välttämättömänä aineosana sisältää liuos gly- koliesteriä, jolla on kaava R1-0-CH-CH,-0R2 R3 15 . 12 3 jossa symboleilla R , R ja R on edellä ilmoitettu merkitys .
Sopivia esimerkkejä ovat etyleeniglykolimono- ja -diasetaatti, -propionaatti tai propaanidiolimonoasetaatti.
20 Etyleeniglykolimono- ja -diasetaattia pidetään edullisena. Liuos voi sisältää glykoliesteriä määrässä, joka on 3-30, edullisesti 10-20 paino-%.
Muina lisäaineina voi liuos sisältää dioksolaani-johdannaisia, kuten 1,3-dioksolan-2-onia ja 4-metyyli-l,3-25 dioksolan-2-onia määrässä, joka on korkeintaan 15, edullisesti korkeintaan 8 paino-%.
Edelleen soveltuvat lisäliuottimiksi korkeammat alkoholit ja glykolieetterit, esim. tetrahydrofurfuryylial-koholi, bentsyylialkoholi, 3-metoksi-butanoli, diasetoni-30 alkoholi, dietyleeniglykolimonoetyylieetteri, etyleenigly-kolimonofenyylieetteri ja dietyleeniglykolidimetyylieette-ri.
Myös voidaan lisätä moniarvoisia alkoholeja, joilla on pehmentävä vaikutus, esim. glyseriiniä, etyieeniglykolia 35 tai propyleeniglykolia määrässä, joka on 0-20, edullisesti 3-15 paino-%.
5 66697
Kehiteliuos voi sisältää edelleen epäorgaanisia tai orgaanisia suoloja, esim. ammoniumbentsoaattia tai natrium-tartraattia, iitiumnitraattia, strontiumnitraattia tai magnesiumsulfaattia määrässä, joka on yhteensä 0-10 paino-%.
5 Keksinnön mukaisen kehitteen pH-arvo on yleensä 2-12, edullisesti noin 6-8. Tällöin säädetään emäksinen alue jollakin edellä ilmoitetuista suoloista ja hapan alue edullisesti orgaanisella hapolla.
Keksinnön mukainen kehite ei sisällä mitään alhaalla-10 kiehuvia aineosia. Normaalisti on vesi, jota liuos sisältää määrässä 5-45, edullisesti 15-28 paino-%, alhaisimpana kiehuva aineosa.
Kehite muuttaa tämän vuoksi koostumustaan käytön aikana ainoastaan epäoleellisesti ja sillä on suhteellisen 15 pitkä käyttöaika koneessa.
Erityisenä etuna on edelleen pidettävä sitä, että kehite ei tarvitse mitään kostutusainelisäyksiä. Se on täysin tehokas huoneen lämpötilassa, mutta sitä voidaan mahdollisesti käyttää myös vähän kohotetussa lämpötilassa, esi-20 merkiksi 40°C:ssa, ilman että se tulee aggressiiviseksi.
Tavanomaisissa käyttölämpötiloissa on hajurasitus vähäinen.
Seuraavat esimerkit selventävät keksinnön mukaisen kehitteen eduliisenapidettyjä suoritustapoja. Prosenttiar-25 vot ja määräsuhteet tarkoittavat painoyksiköltä, jos ei toisin ole ilmoitettu.
Esimerkki 1
Alumiinifolio, joka oli karhennettu harjaamalla hion-ta-ainesuspensiolla, upotettiin yhden minuutin ajaksi 30 60C 5C:seen hauteeseen, jossa oli 0,3 % polyvinyylifosfoni- happoa vedessä ja kuivattiin. Se kerrostettiin sitten liuoksella, jossa oli 0,7 paino-osaa polykondensaatiotuotetta, valmistettu 1 moolista 3-metoksi-difenyyliamiini-4-diatsoniumsulfaat-35 tia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksimetyyli-difenyylieette-riä 85-%:isessa fosforihapossa, eristetty mesityleenisul-fonaattina, 6 66697 3,4 paino-osaa 85-%:ista fosforihappoa ja 3.0 paino-osaa epoksidihartsin, - jonka sulamispiste on 70°C ja epoksidi-ekvivalenttipaino 459 - ja suolahapon reaktiotuotetta etyleeniglykolimonometyylieetterissä (vrt.
5 saksalainen patenttijulkaisu nro 20 34 654) 60.0 paino-osassa etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 20.0 paino-osassa tetrahydrofuraania, 10.0 paino-osassa dimetyyliformamidia ja 10.0 paino-osassa butyyliasetaattia 10 ja kuivattiin. Valonherkkä materiaali valotettiin kuvanmu-kaisesti ja kehitettiin liuoksella, jossa oli 60 paino-osaa propyleeniglykolimonometyylieetteriä, 10 paino-osaa glyseriiniä, 5 paino-osaa etyleeniglykoliasetaattia (seos, jossa 15 on 50 % mono- ja 50 % diasetaattia), 5 paino-osaa natriumbentsoaattia ja 20 paino-osaa vettä.
Saatiin moitteeton kuva.
Esimerkki 2 20 Elektrolyyttisesti karhennettu ja anodisesti hapetet tu alumiinifolio, joka oli käsitelty, kuten esimerkissä 1, kuvattiin polyvinyylifosfonihapolla, kerrostettiin liuoksella, jossa oli 1,6 paino-osaa polyvinyyliformaalia, 25 0,5 paino-osaa polykondensaatiotuotetta, saatu 1 moo lista 3-metoksi-difenyyliamiini-4-diatsoniumsulfaattia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksimetyylidifenyylieetteriä, valmistettu 85-%:isessa fosforihapossa 40°C:ssa ja eristetty mesityleenisulfonaattina, 30 0,05 paino-osaa fosforihappoa ja 0,3 paino-osaa ^Hostapermsinistä 57 paino-osassa etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 30 paino-osassa tetrahydrofuraania ja 8 paino-osassa butyyliasetaattia 35 ja kuivattiin. Saatu laakapainolaatta valotettiin alkuperäiskappaleen alla ja kehitettiin liuoksella, joka koostui 7 66697 50 paino-osasta propyleeniglykolimonometyylieetteriä, 15 paino-osasta etyleeniglykoliasetaattia (mono- ja diase-taatin seos 1:1), 0,5 paino-osasta 1,3-dioksolan-2-onia, 5 1 paino-osasta ammoniumbentsoaattia, 10 paino-osasta glyseriiniä ja 23,5 paino-osasta vettä.
Kuva kehittyi siististi ja virheettömästi ja liukenemattomista kalvonosista ei muodostunut mitään kokkareita.
Claims (6)
1. Kehiteliuos, jota käytetään veteenliukenematon-ta sideainetta ja veteenliukenematonta diatsoniumsuoia-po-5 lykondensaatiotuotetta sisältävien, valotettujen ja valon-herkkien jäijennöskalvojen kehittämiseen, jolloin liuos sisältää pääasiallisina aineosina glykolieettereitä, glykoli-estereitä ja vettä, tunnettu siitä, että se sisältää 10 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava H-lO-CH-CHj-^O'yW CBj 15 jossa n = 1-4 ja m = 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava R1-0-CH-CH -OR2 R3 20 1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 C-atomia tai toinen molemmista tähteistä merkitsee vetyato-3 mia, ja R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-diokso-25 lan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liukenevaa suolaa ja 5-45 % vettä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteliuos, tunnettu siitä, että sen pH-arvo on 12-2.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteliuos, tunnettu siitä, että se sisältää 0,5 - 8 % orgaanisen hapon alkali- tai ammoniumsuolaa.
4. Menetelmä negatiivisesti toimivien jäijennöskalvo jen kehittämiseksi joiden perustana ovat veteeniiukenemättomat diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotteet ja veteen ja laimennet- 9 66697 tuihin vesipitoisiin emäksiin liukenemattomat sideaineet, jolloin valotettua jäijennöskalvoa käsitellään liuoksella, joka koostuu glykolieettereistä, glykoliestereistä, vedestä ja mahdollisesti moniarvoisista alkoholeista ja suoloista 5 valottamattomien kalvoalueiden liuottamiseksi, tunnettu siitä, että kalvoa käsitellään liuoksella, joka sisältää 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava
10 H-(°-?H-CH2->n°SnH2,n+l CH3 jossa n = 1-4 ja m = 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava 15 R-0-CH-CH,-0R2 R3 1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 3
20 C-atomia tai toinen tähteistä merkitsee vetyatomia/ja R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-diok-solan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 25 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liukenevaa suolaa ja 5-45 % vettä. 10 66697
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803012522 DE3012522A1 (de) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
DE3012522 | 1980-03-31 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI810955L FI810955L (fi) | 1981-10-01 |
FI66697B true FI66697B (fi) | 1984-07-31 |
FI66697C FI66697C (fi) | 1984-11-12 |
Family
ID=6098913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI810955A FI66697C (fi) | 1980-03-31 | 1981-03-27 | Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4416976A (fi) |
EP (1) | EP0037060B1 (fi) |
JP (1) | JPS56153341A (fi) |
AT (1) | ATE6703T1 (fi) |
AU (1) | AU539890B2 (fi) |
BR (1) | BR8101905A (fi) |
CA (1) | CA1168500A (fi) |
DE (2) | DE3012522A1 (fi) |
FI (1) | FI66697C (fi) |
MX (1) | MX159691A (fi) |
ZA (1) | ZA812100B (fi) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4786580A (en) * | 1983-12-27 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition |
DE3582697D1 (de) * | 1984-06-07 | 1991-06-06 | Hoechst Ag | Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung. |
US4550069A (en) * | 1984-06-11 | 1985-10-29 | American Hoechst Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
US5143814A (en) * | 1984-06-11 | 1992-09-01 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate |
US5066561A (en) * | 1984-06-11 | 1991-11-19 | Hoechst Celanese Corporation | Method for producing and using a positive photoresist with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4983490A (en) * | 1985-10-28 | 1991-01-08 | Hoechst Celanese Corporation | Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4948697A (en) * | 1985-10-28 | 1990-08-14 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist with a solvent mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US4806458A (en) * | 1985-10-28 | 1989-02-21 | Hoechst Celanese Corporation | Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate |
US4692398A (en) * | 1985-10-28 | 1987-09-08 | American Hoechst Corporation | Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
US5039594A (en) * | 1985-10-28 | 1991-08-13 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist containing a mixture of propylene glycol alkyl ethers and propylene glycol alkyl ether acetate |
ZA87922B (en) * | 1986-02-28 | 1987-09-30 | Macdermid Inc | Photoresist stripper composition |
US4714670A (en) * | 1986-06-09 | 1987-12-22 | Imperial Metal & Chemical Company | Developer including an aliphatic cyclic carbonate in the oil phase emulsion |
US4755451A (en) * | 1986-08-28 | 1988-07-05 | Sage Technology | Developer for color proofing film with an alkyl glycol derivative of cyclohexane |
DE3715792A1 (de) * | 1987-05-12 | 1988-11-24 | Hoechst Ag | Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten |
US4822723A (en) * | 1987-11-30 | 1989-04-18 | Hoechst Celanese Corporation | Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates |
JPH02253265A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-12 | Nippon Zeon Co Ltd | レジスト剥離剤 |
US5290665A (en) * | 1989-06-01 | 1994-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for developing PS plate requiring no dampening water wherein the developer comprises, water, a solubilizer and an ethylene glycol mono(alkyl C6 -C8) ether derivative |
JPH035756A (ja) * | 1989-06-01 | 1991-01-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水なしps版用現像液 |
JPH0785947B2 (ja) * | 1989-08-05 | 1995-09-20 | 東洋インキ製造株式会社 | 平版印刷用湿し水 |
JPH0418564A (ja) * | 1990-01-22 | 1992-01-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性エラストマー組成物用現像剤 |
EP0539881B1 (en) * | 1991-10-29 | 1995-08-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Single-phase developers for lithographic printing elements |
JPH10186680A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-14 | Clariant Internatl Ltd | リンス液 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
GB1220808A (en) * | 1967-05-18 | 1971-01-27 | Howson Algraphy Ltd | Processing of presensitized photolithographic printing plate |
NL6918761A (fi) | 1968-12-30 | 1970-07-02 | ||
US3707373A (en) * | 1969-03-17 | 1972-12-26 | Eastman Kodak Co | Lithographic plate developers |
US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
US3682641A (en) * | 1970-03-23 | 1972-08-08 | Du Pont | Photoresist developer extender baths containing polyoxyalkylene ethers and esters and process of use |
US3996054A (en) * | 1971-09-24 | 1976-12-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Color photographic developing solution |
JPS5027728B2 (fi) * | 1971-11-04 | 1975-09-10 | ||
US3891439A (en) * | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
GB1418433A (en) * | 1973-02-10 | 1975-12-17 | Ricoh Kk | Developers for two-component diazotype materials |
CA1057105A (en) * | 1974-10-08 | 1979-06-26 | Ferdinand J. Gajewski | Developing and stripping of binder-containing presensitized coatings |
JPS5217901A (en) * | 1975-07-31 | 1977-02-10 | Mitsubishi Chem Ind | Developer for lithographic press plate |
US4055515A (en) * | 1975-12-31 | 1977-10-25 | Borden, Inc. | Developer for printing plates |
JPS5587151A (en) * | 1978-12-25 | 1980-07-01 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Developing solution composition for lithographic printing plate |
US4308340A (en) * | 1980-08-08 | 1981-12-29 | American Hoechst Corporation | Aqueous 2-propoxyethanol containing processing composition for lithographic printing plates |
-
1980
- 1980-03-31 DE DE19803012522 patent/DE3012522A1/de not_active Withdrawn
-
1981
- 1981-03-18 CA CA000373302A patent/CA1168500A/en not_active Expired
- 1981-03-25 DE DE8181102222T patent/DE3162577D1/de not_active Expired
- 1981-03-25 EP EP81102222A patent/EP0037060B1/de not_active Expired
- 1981-03-25 AT AT81102222T patent/ATE6703T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-03-27 AU AU68831/81A patent/AU539890B2/en not_active Ceased
- 1981-03-27 FI FI810955A patent/FI66697C/fi not_active IP Right Cessation
- 1981-03-30 ZA ZA00812100A patent/ZA812100B/xx unknown
- 1981-03-30 BR BR8101905A patent/BR8101905A/pt not_active IP Right Cessation
- 1981-03-31 US US06/249,617 patent/US4416976A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-03-31 MX MX186647A patent/MX159691A/es unknown
- 1981-03-31 JP JP4661281A patent/JPS56153341A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0037060B1 (de) | 1984-03-14 |
JPS6367178B2 (fi) | 1988-12-23 |
EP0037060A1 (de) | 1981-10-07 |
FI810955L (fi) | 1981-10-01 |
ATE6703T1 (de) | 1984-03-15 |
DE3012522A1 (de) | 1981-10-08 |
JPS56153341A (en) | 1981-11-27 |
FI66697C (fi) | 1984-11-12 |
AU539890B2 (en) | 1984-10-18 |
MX159691A (es) | 1989-08-07 |
CA1168500A (en) | 1984-06-05 |
AU6883181A (en) | 1981-10-08 |
ZA812100B (en) | 1982-04-28 |
US4416976A (en) | 1983-11-22 |
BR8101905A (pt) | 1981-10-06 |
DE3162577D1 (en) | 1984-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI66697B (fi) | Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt | |
JPS5935010B2 (ja) | ポジ用フオトレジスト組成物 | |
CA1140787A (en) | Developer compositon for lithographic plates including ethylene glycol monophenyl ether, and acid and less than 10 weight percent water | |
TW200731016A (en) | Composition for forming upper film and method for forming photoresist pattern | |
FI71024C (fi) | Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt | |
US3652274A (en) | Photographic etching resist and preparation thereof | |
EP0539881B1 (en) | Single-phase developers for lithographic printing elements | |
US10248025B2 (en) | Concentrated and working strength aqueous flexographic developers | |
DE2316089A1 (de) | Entwicklerzusammensetzung und verfahren zum entwickeln von kontrastreichen photographischen diffusionsuebertragungsmaterialien | |
US2126305A (en) | Dispersion of gelatin | |
US4786580A (en) | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition | |
US2940854A (en) | Gelatin silver halide emulsion plasticized with dicarboxylic acid esters | |
EP0365988A2 (de) | Entwicklungslösemittel für durch Photopolymerisation vernetzbare Schichten sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefformen | |
US2843481A (en) | Photographic processes | |
KR830006805A (ko) | 감광성조성물(感光性組成物) 및 그것을 사용한 패터언형성방법 | |
JPS5936256B2 (ja) | 現像液組成物 | |
US20180136562A1 (en) | Methods of forming flexographic printing members | |
JPS5669628A (en) | Developer composition for lithographic plate | |
US1494473A (en) | Cellulose-ether solvent and composition | |
JP2017521285A (ja) | スクリーン印刷用ステンシルの補強剤及びそれを用いる補強処理法 | |
JPS60153047A (ja) | 二成分型ジアゾ複写材料用現像液 | |
DE10259769A1 (de) | Verfahren zur Herstellung negativ arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit einer Diazoharz enthaltenden Beschichtung | |
JPH0247739B2 (ja) | Kankoseijushisoseibutsu | |
JPH04147150A (ja) | 印刷版用修正剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed |
Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |