NO173617B - Blanding paa basis av metylenklorid for fjerning av fotoresistfilmer - Google Patents
Blanding paa basis av metylenklorid for fjerning av fotoresistfilmer Download PDFInfo
- Publication number
- NO173617B NO173617B NO87873030A NO873030A NO173617B NO 173617 B NO173617 B NO 173617B NO 87873030 A NO87873030 A NO 87873030A NO 873030 A NO873030 A NO 873030A NO 173617 B NO173617 B NO 173617B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- mixture
- photoresist
- mixture according
- total amount
- methanol
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 21
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 4
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 title description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 claims description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- -1 aliphatic ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 claims description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000538 analytical sample Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/42—Use of additives, e.g. for stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5018—Halogenated solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02854—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons characterised by the stabilising or corrosion inhibiting additives
- C23G5/02861—Oxygen-containing compounds
- C23G5/0288—Epoxy compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/288—Removal of non-metallic coatings, e.g. for repairing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/263—Ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/264—Aldehydes; Ketones; Acetals or ketals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse angår en blanding på basis av metylenklorid samt dettes anvendelse for å fjerne fotore-sistf ilmer fra trykkede kretser i den elektroniske industri.
Et av trinnene ved fremstilling av trykte kretser består i, ved hjelp av et oppløsningsmiddel, å trekke av en halvpoly-merisert film i forbindelse med impregnering og gravering. Denne tørre eller "fotoresist" film som er polymerisert"under ultrafiolett bestråling, motstandsdyktig mot vann, mot fremkallere og graveringsmidler, mens deler av filmen oppløses under fremkallingsprosessen.
Man kjenner diverse preparater for å avtrekke filmer av fotoresisttypen: US-PS 3 789 007 beskriver en blanding av etylenklorid inneholdende 3-15 vekt-# metanol; US-PS 3 813 309 beskriver en blanding av klorerte oppløsningsmidler inneholdende en sterk organisk syre, et amin og et keton og US-PS 4 438 192 beskriver metylenklorid inneholdende metanol, metylformiat og eventuelt propylenoksyd.
Foreliggende oppfinnelse foreslår å tilveiebringe en blanding for lett og hurtig å kunne trekke av fotoresistfilmer fra emner til trykte kretser idet blandingen kan resirkuleres og brukes om igjen flere ganger.
I henhold til dette angår foreliggende oppfinnelse en blanding for fjerning av fotoresistfilmer og denne blanding karakteriseres ved at den består av metylenklorid og
a) minst et epoksyd
b) minst en alkohol
c) minst et produkt valgt blant eter og ketoner som er lite oppløselige i vann, idet eterene har 2 til 12 karbonatomer
og de alifatiske ketoner har 6 til 10 karbonatomer.
Den totale mengde av epoksydet a) som skal benyttes kan ligger mellom 0,05 og 5 vekt-# av den totale masse av blandingen og ligger fortrinnsvis mellom 0,2 og 2$. Epoksyd- ene kan være propylen- eller butylenoksyd idet man foretrek-ker propylenoksyd.
Som alkohol benyttes hyppigst rette eller forgrenede C1- 5-alkoholer og velges fortrinnsvis blant metanol, etanol og isopropanol. Fortrinnsvis benyttes metanol.
Den totale mengde alkohol b) kan ligge mellom 0,05 og 5 vekt-$ av den totale masse av blandingen og fortrinnsvis ligger den mellom 2 og 4 K>.
Den totale mengde av komponenten c) kan ligge mellom 0,05 og 5 vekt-# av den totale masse og ligger fortrinnsvis mellom 1 og 3%.
Som etere benyttes fortrinnsvis mono-, di- eller trietere med 2 til 12 karbonatomer.
Meytl-tert-butyleter, MTBE, og dimetoksymetan er mest foretrukket.
Som ketoner benyttes hyppigst alifatiske C3_ig-ketoner»aceton er foretrukket.
Man kan benytte en eter eller et keton eller en blanding som omfatter diverse produkter som hører til den samme familie eller til to av de ovenfor angitte familier. Man benytter fortrinnsvis MTBE alene idet denne er minst oppløselig i vann (1,3 vekt-# ved 20°C), noe som er en fordel i det tilfelle der man regenererer blandingen ved medføring av damp uten å miste produkt.
Blandingen ifølge oppfinnelsen fremstilles ved enkel blanding av produktene med metylklorid. Blandingen skjer ved omgivel-sestemperatur og mere spesielt mellom 5 og 30°C. Foreliggende oppfinnelse angår som nevnt også en fremgangsmåte for fjerning av fotoresistfilmer på trykkede kretser og denne fremgangsmåte karakteriseres ved at kretsene bringes i kontakt, med tempring eller behandling, med en blanding som beskrevet ovenfor.
Man kan også benytte en kontinuerlig behandling ved påblåsing av blandingen. Efter fjerning av fotoresistfilmen blir kretsen spylt og eventuelt tørket i luft.
De følgende eksempler illustrerer oppfinnelsen uten å begrense den. I eksemplene er den benyttede fotoresist en harpiks hovedsakelig bestående av polymetakrylat og konsen-trasjonene er på vektbasis.
Eksemplene 1 til 3.
Man fremstiller blandinger med følgende sammensetning:
Man måler derefter metningen av blandingen i fotoresisten. Til 100 g blanding settes noen gram fotoresist. Det hele omrøres i 15 min. og derefter tilsetter man fotoresist inntil metning. Analysene gjennomføres ved 20°C. Efter dekantering gjennomføres en tørrekstrahering på en klar analyseprøve. Resultatene er angitt i Tabell 1 nedenfor.
Man måler derefter blandingenes mulighet til resirkulering. I en laboratoriekolbe på 100 ml utstyrt for destillasjon av oppløsningsmidler chargeres blanding 1 inneholdende 3% fotoresist for destillasjon av gjenvinning av blandingen. Det gjenvundne destillat blir så "rechargert" med 3% fotoresist og så destillert. Denne operasjon gjennomføres 6 ganger i rekkefølge. Man gjennomfører den samme prøve for blandingene 2 og 3. Resultatene er angitt i Tabell 1 nedenfor.
Hastighet for utvikling av fotoresisten:
Kobberstykker på 10 cm x 1 cm, dekket med fotoresist, nedsenkes i bad med de forskjellige sammensetninger og under-kastes en konstant agitering ved temperatur på 25 °C. Den totale avdekningstid for en overflate av prøven måles.
Prøvene gjennomføres med nye blandinger og blandinger som har vært underkastet seks resirkuleringer i den foregående prøve. Resultatene finnes i Tabell 1.
Eksempel 4.
Man måler evnen hos blandingene til å kunne regenereres ved dampdestillasjon. I dette eksempel sammenlignes en blanding ifølge oppfinnelsen inneholdende metylenklorid med metanol, propylenoksyd og MTBE (blanding 5) med en blanding som ikke stemmer overens med oppfinnelsen og som inneholder metylenklorid, metanol, propylenoksyd og metylformeat (blanding 4).
I en dampdestillasjons-apparatur på 100 ml blir en blanding inneholdende 3 vekt-# fotoresist destillert. Kondensatet rechargeres så med 3% fotoresist og bearbeides på ny idet denne bearbeiding gjennomføres fire ganger. Resultatene er angitt i Tabell 2. Blandingen med MTBE er adskillig mindre endret enn den andre. Det er tilstrekkelig å tilsette metanol for å oppnå en brukbar ny blanding.
Claims (9)
1.
Blanding for fjerning av fotoresistfilmer,karakterisert vedat den består av metylenklorid og a) minst et epoksyd b) minst en alkohol c) minst et produkt valgt blant eter og ketoner som er lite oppløselige i vann, idet eterene har 2 til 12 karbonatomer og de alifatiske ketoner har 6 til 10 karbonatomer.
2.
Blanding ifølge krav 1,karakterisert vedat epoksydet velges blant propylenoksyd og butylenoksyd.
3.
Blanding ifølge krav 1 eller 2,karakterisertved at alkoholen velges blant lineære eller forgrenede Ci_5-alkoholer og fortrinnsvis metanol.
4 .
Blanding ifølge et hvilket som helst av kravene 1-3,karakterisert vedat eteren er metyltertbutyleter eller dimetoksymetan.
5 .
Blanding ifølge et hvilket som helst av kravene 1-4,karakterisert vedat den totale mengde av a) er mellom 0,05 og 5 vekt-# av den totale mengde av blandingen, fortrinnsvis mellom 0,2 og 2 %.
6.
Blanding ifølge et hvilket som helst av kravene 1-5,karakterisert vedat den totale mengde av b) ligger mellom 0,05 og 5 vekt-# av den totale mengde av blandingen, fortrinnsvis mellom 2 og 4$.
7.
Blanding ifølge et hvilket som helst av kravene 1-6,karakterisert vedat den totale mengde av c) ligger mellom 0,05 og 5 vekt-# av den totale mengde av blandingen, fortrinnsvis mellom 1 og 3%.
8.
Blanding ifølge et hvilket som helst av kravene 1-7,karakterisert vedat a) er propylenoksyd, b) er metanol og c) er metyltertbutyleter.
9.
Fremgangsmåte for fjerning av fotoresistfilmer på trykkede kretser,karakterisert vedat kretsene bringes i kontakt, med tempring eller behandling, med en blanding ifølge et hvilket som helst av kravene 1-8.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8610529A FR2601703B1 (fr) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | Composition a base de chlorure de methylene - son utilisation pour l'enlevement des films photoresist |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO873030D0 NO873030D0 (no) | 1987-07-20 |
| NO873030L NO873030L (no) | 1988-01-22 |
| NO173617B true NO173617B (no) | 1993-09-27 |
| NO173617C NO173617C (no) | 1994-01-05 |
Family
ID=9337579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO873030A NO173617C (no) | 1986-07-21 | 1987-07-20 | Blanding paa basis av metylenklorid for fjerning av fotoresistfilmer |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0258079B1 (no) |
| JP (1) | JPS6330848A (no) |
| AT (1) | ATE72679T1 (no) |
| CA (1) | CA1295205C (no) |
| DE (1) | DE3776737D1 (no) |
| DK (1) | DK170076B1 (no) |
| ES (1) | ES2006203A6 (no) |
| FI (1) | FI84630C (no) |
| FR (1) | FR2601703B1 (no) |
| GR (1) | GR3004213T3 (no) |
| IE (1) | IE59867B1 (no) |
| NO (1) | NO173617C (no) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3068622B2 (ja) * | 1988-08-30 | 2000-07-24 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置 |
| FR2661918B1 (fr) * | 1990-05-10 | 1992-07-17 | Atochem | Composition nettoyante a base de 1,1,1,2,2-pentafluoro-3,3-dichloro-propane et de methyl tert-butyl ether. |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3625763A (en) * | 1968-12-04 | 1971-12-07 | Bunker Ramo | Conformal coating stripping method and composition |
| US3646229A (en) * | 1970-07-13 | 1972-02-29 | Dow Chemical Co | Use of dimethoxymethane to inhibit a methylene chloride-aluminum reaction |
| CA1049567A (en) * | 1973-02-23 | 1979-02-27 | Diamond Shamrock Corporation | Inhibition of aromatic compound degradation of methylene chloride |
| DE2716534A1 (de) * | 1976-05-03 | 1977-12-01 | Solvay | Verfahren zur stabilisierung von methylenchlorid |
| US4438192A (en) * | 1983-02-14 | 1984-03-20 | The Dow Chemical Company | Photoresist stripper composition and method of use |
| JPS6120946A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Asahi Glass Co Ltd | フォトレジスト剥離用組成物 |
-
1986
- 1986-07-21 FR FR8610529A patent/FR2601703B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-07-09 EP EP19870401626 patent/EP0258079B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-09 AT AT87401626T patent/ATE72679T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-07-09 DE DE8787401626T patent/DE3776737D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-15 JP JP62176958A patent/JPS6330848A/ja active Granted
- 1987-07-20 IE IE195887A patent/IE59867B1/en not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 NO NO873030A patent/NO173617C/no not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 CA CA000542468A patent/CA1295205C/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-20 DK DK376787A patent/DK170076B1/da not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 FI FI873189A patent/FI84630C/fi not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 ES ES8702116A patent/ES2006203A6/es not_active Expired
-
1992
- 1992-04-01 GR GR920400583T patent/GR3004213T3/el unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO873030L (no) | 1988-01-22 |
| EP0258079B1 (fr) | 1992-02-19 |
| FI873189A (fi) | 1988-01-22 |
| IE59867B1 (en) | 1994-04-20 |
| FR2601703B1 (fr) | 1993-05-07 |
| DE3776737D1 (de) | 1992-03-26 |
| ES2006203A6 (es) | 1989-04-16 |
| EP0258079A1 (fr) | 1988-03-02 |
| JPH0449939B2 (no) | 1992-08-12 |
| FI84630B (fi) | 1991-09-13 |
| GR3004213T3 (no) | 1993-03-31 |
| FI84630C (fi) | 1991-12-27 |
| ATE72679T1 (de) | 1992-03-15 |
| NO873030D0 (no) | 1987-07-20 |
| DK376787A (da) | 1988-01-22 |
| DK170076B1 (da) | 1995-05-15 |
| FR2601703A1 (fr) | 1988-01-22 |
| DK376787D0 (da) | 1987-07-20 |
| JPS6330848A (ja) | 1988-02-09 |
| NO173617C (no) | 1994-01-05 |
| IE871958L (en) | 1989-01-21 |
| CA1295205C (fr) | 1992-02-04 |
| FI873189A0 (fi) | 1987-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100207355B1 (ko) | 건조제 조성물 및 제품의 건조방법 | |
| JP3266260B2 (ja) | エポキシ製品を洗浄する方法 | |
| KR910004124A (ko) | 담배 가공법 | |
| SE8302611L (sv) | Forfarande och anleggning for atervinning av en eller flera bestandsdelar ur en gasblandning | |
| US1059820A (en) | Method of drying damp materials. | |
| DE69017818D1 (de) | Herstellung von Monoepoxiden. | |
| GB1440705A (en) | Drying of articles | |
| NO173617B (no) | Blanding paa basis av metylenklorid for fjerning av fotoresistfilmer | |
| ATE99982T1 (de) | Verfahren zum abtrennen eines loesemittelgemisches aus einem gasstrom. | |
| US4260510A (en) | Cleaning composition | |
| EP0116343A2 (en) | Photoresist stripper composition and method of use | |
| US4062794A (en) | Azeotrope-like compositions of trichlorotrifluoroethane, methanol, ethanol, isopropanol and nitromethane | |
| CN115015432A (zh) | 一种测定草芽畏含量的前处理方法、gc-ms/ms检测方法 | |
| AU8843791A (en) | Composition containing c7-c10 organic polar compound, and method of cleaning articles using the same | |
| GB2033422A (en) | Solvent Cleaning Composition | |
| Harris et al. | Hydrogenation of lignin in aqueous solutions | |
| GB1574212A (en) | Azeotropic compositions containing trichlorotrifluoroethane | |
| CN115825291B (zh) | 一种测定含氟聚合物中痕量全氟羧酸类化合物含量的方法 | |
| US3451999A (en) | Removing aromatic hydrocarbons from carboxymethyl cellulose | |
| SU973605A1 (ru) | Состав дл очистки оптических деталей от технологических защитных покрытий | |
| US4089213A (en) | Nonsurfactant remover composition for inspection penetrants | |
| US2377291A (en) | Preparation of zein solutions directly from gluten | |
| Spagnolo | Ultraviolet Determination of Polystyrene in Paper Products | |
| GB2078122A (en) | A Process for the Separation of Aqueous Mixtures Containing Organic Solvent(s) | |
| CN116559010A (zh) | 一种检测凝固剂中隔离剂含量的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM1K | Lapsed by not paying the annual fees |
Free format text: LAPSED IN JANUARY 2003 |