DK170076B1 - Methylenchloridbaseret middel og fremgangsmåde til fjernelse af fotoresistente folier som baserer sig på anvendelse af midlet - Google Patents
Methylenchloridbaseret middel og fremgangsmåde til fjernelse af fotoresistente folier som baserer sig på anvendelse af midlet Download PDFInfo
- Publication number
- DK170076B1 DK170076B1 DK376787A DK376787A DK170076B1 DK 170076 B1 DK170076 B1 DK 170076B1 DK 376787 A DK376787 A DK 376787A DK 376787 A DK376787 A DK 376787A DK 170076 B1 DK170076 B1 DK 170076B1
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- methylene chloride
- based agent
- photoresistant
- agent according
- agent
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/42—Use of additives, e.g. for stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5018—Halogenated solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02854—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons characterised by the stabilising or corrosion inhibiting additives
- C23G5/02861—Oxygen-containing compounds
- C23G5/0288—Epoxy compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/288—Removal of non-metallic coatings, e.g. for repairing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/263—Ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/264—Aldehydes; Ketones; Acetals or ketals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
i DK 170076 B1
Den foreliggende opfindelse angår et methylenchloridbase-ret middel til anvendelse ved fjernelse af fotoresistente folier. Opfindelsen angår ligeledes en fremgangsmåde til fjernelse af fotoresistente folier på trykte kredsløb 5 således som de anvendes inden for den elektroniske industri.
Et af trinene ved fremstillingen af trykte kredsløb består i, at man fjerner ved hjælp af et opløsningsmiddel 10 en polymeriseret tør folie på den del, som ikke er behandlet ved ætsningen. Denne tørre eller "fotoresistente" folie, som er polymeriseret under ultraviolet bestråling, er modstandsdygtig over for vand, over for fremkaldelsesmidler og over for ætsningsmidler, medens de ikke-belyste 15 dele af folien er blevet opløst under forløbet af fremkaldelses-behandl ingen.
Man kender flere præparater til fjernelse af disse fotoresistente folier. I US patentskrift nr. 3 789 007 omta-20 les en blanding af methylenchlorid indeholdende 3-15 vægt-% methanol. I US patentskrift nr. 3 813 309 omtales en blanding af chloreret opløsningsmidler indeholdende en stærk organisk syre, en amin og en keton. I US patentskrift nr. 4 438 192^ omtales methylenchlorid indeholdende 25 methanol, methylformiat og eventuelt propylenoxid.
En fælles ulempe ved de i ovennævnte US patentskrifter beskrevne midler er, at de er vanskelige at recirkulere ved såvel destillation som dampmedrivning, og dermed i 30 praksis ikke lader sig genanvende.
Den foreliggende opfindelse har til formål at tilvejebringe et methylenchloridbaseret middel til anvendelse til let og hurtigt at fjerne fotoresistente folier på de 35 fortegnede dele af trykte kredsløb, idet et sådant middel skal kunne recirkuleres og anvendes talrige gange.
DK 170076 B1 2
Opfindelsen angår således en methylenchloridbaseret middel til anvendelse ved fjernelse af fotoresistente folier, som er ejendommeligt derved, at det indeholder: 5 a) mindst ét epoxid, b) mindst én alkohol, og * c) mindst ét produkt valgt blandt ethere med 2-12 carbon-atomer og alifatiske ketoner med 3-10 carbonatomer, idet resten af midlet udgøres af methylenchlorid.
10
Den totale mængde af epoxidet a), der skal anvendes, kan udgøre mellem 0,05 og 5 vægt-% af præparatets samlede masse, fortrinsvis mellem 0,2 og 2%. Epoxiderne kan være propylenoxid og butylenoxid. Man foretrækker propylen-15 oxid.
Man anvender som alkoholer mest hyppigt ligekædede eller forgrenede alkoholer indeholdende 1-5 carbonatomer, og blandt disse methanol, ethanol og isopropanol. Man fore-20 trækker at anvende methanol.
Den samlede mængde af alkoholer b) kan udgøre mellem 0,05 og 5 vægt-% af den samlede masse af præparatet, fortrinsvis mellem 2 og 4%. -25
Den samlede mængde af komponenten c) kan udgøre mellem 0,05 og 5 vægt-% af præparatets samlede masse, fortrinsvis mellem 1 og 3%.
30 Som ethere anvender man ethere indeholdende 2-12 carbon atomer .
Methyl-tert-butylether (MTBE) og dimethoxymethan egner sig i særlig grad. 4
Som ketoner anvender man alifatiske ketoner indeholdende 3-10 carbonatomer.
35 3 DK 170076 B1
Acetone egner sig perfekt.
Man kan anvende en ether eller en keton eller en blanding omfattende flere produkter tilhørende den samme familie 5 eller tilhørende de tidligere nævnte to familier af forbindelser. Man anvender med fordel MTBE alene: MTBE er kun lidt opløseligt i vand (1,3 vægt-% ved 20 °C), hvilket er en fordel i det tilfælde, hvor man genvinder præparatet ved medrivning med dampfase, eftersom man ikke 10 lider tab af produktet.
Det methylenchloridbaserede middel ifølge opfindelsen fremstilles ved simpel blanding af produkterne med methy-lenchlorid. Denne blanding kan gennemføres ved omgivel-15 sernes temperatur, ganske særlig ved en temperatur mellem 5 og 30 °C.
Den foreliggende opfindelsen angår ligeledes en fremgangsmåde til fjernelse af fotoresistente folier, der er 20 ejendommelig ved det i den kendetegnende del af krav 10 angivne. Efter fjernelsen af den fotoresistente folie af-dryppes kredsløbet og tørres eventuelt i luften.
De efterfølgende eksempler belyser opfindelsen nærmere. I 25 de efterfølgende eksempler er den anvendte fotoresistente folie en kunstharpiks bestående i hovedsagen af poly-methacrylat, og de anførte koncentrationer er vægt-%-dele.
30 EKSEMPEL 1-3.
Man fremstiller tre præparater med følgende formuleringer: 35 4 DK 170076 B1
Præparat 1 Præparat 2 Præparat 3
Methylenchlorid 94 94 94
Propylenoxid 0,5 0,5 0,5
Methanol 333 5 Methyl-tert-butyl- 2,5 0 0 ether *-
Dimethoxymethan 0 2,5 0
Acetone 0 0 2,5
Man måler først mættetheden af præparaterne med hensyn til fotoresistentmaterialet. Til 100 g af præparatet sættes nogle g fotoresistent materiale. Det hele omrøres i 15 minutter, hvorpå man igen tilsætter fotoresistent materiale og fortsætter således indtil mætning. Forsøgene gennemføres ved 20 °C. Efter dekantering gennemfører man 15 en måling af tørstofindholdet på en prøve udtaget af den klare del. De opnåede resultater er anført i efterfølgende tabel I.
Man måler derpå præparaternes egnethed til at blive recirkuleret. I en laboratoriekolbe på 100 ml indrettet til destillation af opløsningsmidler anbringer man præparat nr. 1 indeholdende 3% fotoresistent materiale, hvorpå man destillerer for at- opsamle præparatet. Det opsamlede destillat tilbageføres derpå sammen med 3% fotoresistent
z O
materiale og destilleres. Denne behandling gennemføres seks gange i rækkefølge. Man gennemfører den samme afprøvning på præparaterne 2 og 3. De opnåede resultater er anført i efterfølgende tabel I.
30
Hastighed for fjernelsen af fotoresistent materiale: 'i
Man neddypper prøvestykker af kobber med størrelsen 10 x 1 cm, som er beklædt med fotoresistent materiale, i de * 35 5 DK 170076 B1 forskellige formuleringer og underkaster dem en konstant omrøring ved en temperatur på 25 °C. Man måler tiden for fuldstændig afrensning af en og samme overflade af prøvestykket .
5
Forsøgene er blevet gennemført med henholdsvis friske præparater og med præparater, som er underkastet seks recirkuleringer i den ovenfor nævnte afprøvning. De således opnåede resultater er anført i tabel I.
10
TABEL I
Præparat 1 Præparat 2 Præparat 3 15 Mætning for fotoresi stent materiale ved 20 °C i g/100 g 7 6 4-4,5
Præparatets sammensætning efter 6 destillationer i nærvær af fotoresistent 20 materiale:
Methylenchlorid 96,08 95,3 95,38
Propylenoxid 0,44 0,35 0,44
Methanol 3,34 4,21 3,34 MTBE 1,4
Dimethoxymethan - 1,4
Acetone - - 0,84 25----
Varighed i sekunder for fuldstændig fjernelse af fotoresistent materiale ved 25 °C
- med et frisk præ- 17 16 17 parat - med et præparat, 15 15 18 som er blevet recirkuleret 6 gange 35 6 DK 170076 B1 EKSEMPEL 4.
Man måler egnetheden for præparaterne til at blive regenereret ved medrivning med damp. I dette eksempel sammen- ' 5 ligner man et præparat ifølge opfindelsen indeholdende methylenchlorid, methanol, propylenoxid og MTBE (præparat 1 5) med et præparat, der ikke er i overensstemmelse med opfindelsen, og som indeholder methylenchlorid, methanol, propylenoxid og methylformiat (præparat 4).
10 I et apparatur til dampmedrivningsbehandling medrives 100 ml af præparatet indeholdende 3 vægt-% fotoresistent materiale. Kondensatet tilføres derpå igen 3% fotoresistent materiale, hvorpå der påny afdrives, idet denne behand-15 ling gentages fire gange i rækkefølge. Disse resultater er anført i efterfølgende tabel II. Formulering indeholdende MTBE er meget mindre ændret end den anden. Det er tilstrækkeligt at tilsætte methanol for at opnå et præparat, der er bredt anvendeligt.
20 25 30 Λ 35 DK 170076 B1 7 H in σ> in CQ in ·>ψ is "tf E-i k. w v ·.
2 CM CS 00 CO CO
K Ό "tf in o 00 LD H r-l
o ^ O O O
μ K k - v k.
fO U 00 o o o o μ-- (0 Ό a ·Γ) 83 * _ μ 0 CO UO ^ cl, C in in in m in
Q) S k ·. < V
H O O O O O
>1 O* 0 μ __a__ μ (0
•H
s μ η cn O in cm i> i>> M-l «> ·. *· *·
Η CM CM CM Η H
ja1
-P
^ Q) 2 +>-- to a μ o vo h
(0 o t—I H O
a a s k. s
RJ U CO O O O O
μ-- a ό •Η κι ο
c CO CM CO
O) in in in in in rH k. k k. k. k.
>i o O O O O
a o μ a__ a a a a g c cr c Η ·Η ·μ Ή
G C C C
> > > > •Η Ή ·Η Ή ^ μ μ μ μ tip Ό Ό Ό ^ α) 0 ο) ο) σ> ε ε Ε Β μ···· ·© Η <Ν 00 'Φ a ό μ μ μ μ d G α) ο) α) α) ο -μ -μ -μ -μ η Ό m μ m m μ ·η α) ο) α) α) «μ _ μ ο c c c g μ η ο ο ο ο c λ ·η ·Η ·Η -Η α) ο -μ -μ -μ -μ ο c Φ (0 (0 Φ c <ΰ μ μ μ μ ο η -μ -μ -μ -μ χ >ι c c g c •μ A (D (D 0) Φ μ μ ϋ ϋ 0 ϋ
® CD G G C G
μ g o O O O
a — a a a a
Claims (7)
1. Methylenchloridbaseret middel til anvendelse ved * 5 fjernelse af fotoresistente folier, kendetegnet ved, at det indeholder: i* a) mindst ét epoxid, b) mindst én alkohol, og 10 c) mindst ét produkt valgt blandt ethere med 2-12 carbon-atomer og alifatiske ketoner med 3-10 carbonatomer, idet resten af midlet udgøres af methylenchlorid.
2. Methylenchloridbaseret middel ifølge krav 1, k e n -15 detegnet ved, at det indgående epoxid er valgt blandt propylenoxid og butylenoxid.
3. Methylenchloridbaseret middel ifølge krav 1 eller 2, kendetegnet ved, at den indgående alkohol er 20 valgt blandt ligekædede eller forgrenede -C,-alkoholer, og at den fortrinsvis er methanol.
4. Methylenchloridbaseret middel ifølge ethvert af kravene 1-3, kendet-egnet ved, at den indgående ether 25 er methyl-tert-butylether eller dimethoxymethan. 1 2 3 Methylenchloridbaseret middel ifølge ethvert af kravene 1-4, kendetegnet ved, at den indgående keton er acetone. 30 2 Methylenchloridbaseret middel ifølge ethvert af krave ne 1-5, kendetegnet ved, at den samlede mængde af komponenten a) udgør 0,05-5 vægt-% af præparatets samlede masse, fortrinsvis 0,02-2%. * 35 3 Methylenchloridbaseret middel ifølge ethvert af kravene 1-6, kendetegnet ved, at den samlede mængde DK 170076 B1 af komponenten b) udgør 0,05-5 vægt-% af præparatets samlede masse, fortrinsvis 2-4%.
8. Methylenchloridbaseret middel ifølge ethvert af krave- 5 ne 1-7, kendetegnet ved, at den samlede mængde / ‘ af komponenten c) udgør 0,05-5 vægt-% af præparatets samlede masse, fortrinsvis 1-3%.
9. Methylenchloridbaseret middel ifølge ethvert af krave-10 ne 1-8, kendetegnet ved, at a) er propylenoxid, b) er methanol og c) er methyl-tert-butylether.
10. Fremgangsmåde til fjernelse af fotoresistente folier på trykte kredsløb, kendetegnet ved, at disse 15 kredsløb ved neddypning eller overstænkning bringes i kontakt med et methylenchloridbaseret middel ifølge ethvert af kravene 1-9. 20 25 30 35
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8610529 | 1986-07-21 | ||
FR8610529A FR2601703B1 (fr) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | Composition a base de chlorure de methylene - son utilisation pour l'enlevement des films photoresist |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DK376787D0 DK376787D0 (da) | 1987-07-20 |
DK376787A DK376787A (da) | 1988-01-22 |
DK170076B1 true DK170076B1 (da) | 1995-05-15 |
Family
ID=9337579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK376787A DK170076B1 (da) | 1986-07-21 | 1987-07-20 | Methylenchloridbaseret middel og fremgangsmåde til fjernelse af fotoresistente folier som baserer sig på anvendelse af midlet |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0258079B1 (da) |
JP (1) | JPS6330848A (da) |
AT (1) | ATE72679T1 (da) |
CA (1) | CA1295205C (da) |
DE (1) | DE3776737D1 (da) |
DK (1) | DK170076B1 (da) |
ES (1) | ES2006203A6 (da) |
FI (1) | FI84630C (da) |
FR (1) | FR2601703B1 (da) |
GR (1) | GR3004213T3 (da) |
IE (1) | IE59867B1 (da) |
NO (1) | NO173617C (da) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3068622B2 (ja) * | 1988-08-30 | 2000-07-24 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置 |
FR2661918B1 (fr) * | 1990-05-10 | 1992-07-17 | Atochem | Composition nettoyante a base de 1,1,1,2,2-pentafluoro-3,3-dichloro-propane et de methyl tert-butyl ether. |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3625763A (en) * | 1968-12-04 | 1971-12-07 | Bunker Ramo | Conformal coating stripping method and composition |
US3646229A (en) * | 1970-07-13 | 1972-02-29 | Dow Chemical Co | Use of dimethoxymethane to inhibit a methylene chloride-aluminum reaction |
CA1049567A (en) * | 1973-02-23 | 1979-02-27 | Diamond Shamrock Corporation | Inhibition of aromatic compound degradation of methylene chloride |
DE2716534A1 (de) * | 1976-05-03 | 1977-12-01 | Solvay | Verfahren zur stabilisierung von methylenchlorid |
US4438192A (en) * | 1983-02-14 | 1984-03-20 | The Dow Chemical Company | Photoresist stripper composition and method of use |
JPS6120946A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Asahi Glass Co Ltd | フォトレジスト剥離用組成物 |
-
1986
- 1986-07-21 FR FR8610529A patent/FR2601703B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-07-09 EP EP19870401626 patent/EP0258079B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-09 AT AT87401626T patent/ATE72679T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-07-09 DE DE8787401626T patent/DE3776737D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-15 JP JP62176958A patent/JPS6330848A/ja active Granted
- 1987-07-20 FI FI873189A patent/FI84630C/fi not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 IE IE195887A patent/IE59867B1/en not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 NO NO873030A patent/NO173617C/no not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 ES ES8702116A patent/ES2006203A6/es not_active Expired
- 1987-07-20 DK DK376787A patent/DK170076B1/da not_active IP Right Cessation
- 1987-07-20 CA CA000542468A patent/CA1295205C/fr not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-04-01 GR GR920400583T patent/GR3004213T3/el unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IE59867B1 (en) | 1994-04-20 |
FI873189A0 (fi) | 1987-07-20 |
EP0258079A1 (fr) | 1988-03-02 |
JPH0449939B2 (da) | 1992-08-12 |
NO173617B (no) | 1993-09-27 |
DE3776737D1 (de) | 1992-03-26 |
NO173617C (no) | 1994-01-05 |
EP0258079B1 (fr) | 1992-02-19 |
FR2601703A1 (fr) | 1988-01-22 |
FR2601703B1 (fr) | 1993-05-07 |
ES2006203A6 (es) | 1989-04-16 |
DK376787D0 (da) | 1987-07-20 |
JPS6330848A (ja) | 1988-02-09 |
FI84630C (fi) | 1991-12-27 |
NO873030L (no) | 1988-01-22 |
CA1295205C (fr) | 1992-02-04 |
DK376787A (da) | 1988-01-22 |
FI873189A (fi) | 1988-01-22 |
FI84630B (fi) | 1991-09-13 |
ATE72679T1 (de) | 1992-03-15 |
GR3004213T3 (da) | 1993-03-31 |
NO873030D0 (no) | 1987-07-20 |
IE871958L (en) | 1989-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1192119A (en) | Stripping compositions and methods of stripping resists | |
CA1194764A (en) | Stripping compositions and methods of stripping resists | |
JP3266260B2 (ja) | エポキシ製品を洗浄する方法 | |
EP0075329A1 (en) | Stripping compositions and method of stripping resists | |
DK170076B1 (da) | Methylenchloridbaseret middel og fremgangsmåde til fjernelse af fotoresistente folier som baserer sig på anvendelse af midlet | |
Jones et al. | Colorimetric determination of 1, 2-propanediol and related compounds | |
EP0116343B1 (en) | Photoresist stripper composition and method of use | |
Warner et al. | Reactions of antioxidants in foods | |
US4273659A (en) | Removing potassium salts from distiller's wash | |
US4062794A (en) | Azeotrope-like compositions of trichlorotrifluoroethane, methanol, ethanol, isopropanol and nitromethane | |
JPS6026945A (ja) | ストリツピング組成物及びレジストをストリツピングする方法 | |
Brown Jr et al. | Separation of two mutually antagonistic chromatophorotropins from the tritocerebral commissure of Crago | |
CA1073312A (en) | Azeotrope-like compositions of trichlorotrifluoroethane, ethanol, isopropanol and nitromethane | |
US4689170A (en) | Water displacement composition | |
Sporstøl et al. | Extraction efficiencies for organic compounds found in aquatic sediments | |
FI84629B (fi) | Metylenkloridbaserad blandning och dess anvaendning vid fettavlaegsning fraon metaller. | |
JPS6026340A (ja) | ストリツピング組成物及びレジストをストリツピングする方法 | |
SU829663A1 (ru) | Моющее средство дл очистки твердойпОВЕРХНОСТи | |
WO1991013969A1 (en) | Stabilized constant-boiling, azeotrope or azeotrope-like compositions of dichlorotrifluoroethane; 1,1-dichloro-1-fluoroethane; with methanol and/or ethanol | |
SU740822A1 (ru) | Композици дл очистки твердой поверхности | |
Dowse et al. | The estimation of 1-monoglyceride | |
SU973605A1 (ru) | Состав дл очистки оптических деталей от технологических защитных покрытий | |
Woźnicka et al. | Solute–solvent interactions in NaI–glycerol–diol systems | |
BE693007A (da) | ||
NO834067L (no) | Loesningsmiddelblanding for fjerning av flussmiddel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PBP | Patent lapsed |
Country of ref document: DK |