FI78310C - Avlaegsningsblandning av en ljuskaenslig polymer och foerfarande foer avlaegsning av en ljuskaenslig polymer. - Google Patents

Avlaegsningsblandning av en ljuskaenslig polymer och foerfarande foer avlaegsning av en ljuskaenslig polymer. Download PDF

Info

Publication number
FI78310C
FI78310C FI840593A FI840593A FI78310C FI 78310 C FI78310 C FI 78310C FI 840593 A FI840593 A FI 840593A FI 840593 A FI840593 A FI 840593A FI 78310 C FI78310 C FI 78310C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
mixture
volume
photosensitive polymer
methanol
amine
Prior art date
Application number
FI840593A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI840593A (fi
FI840593A0 (fi
FI78310B (fi
Inventor
Wesley L Archer
Susan M Dallessandro
Vicki A Lynn
Original Assignee
Dow Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Chemical Co filed Critical Dow Chemical Co
Publication of FI840593A0 publication Critical patent/FI840593A0/fi
Publication of FI840593A publication Critical patent/FI840593A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI78310B publication Critical patent/FI78310B/fi
Publication of FI78310C publication Critical patent/FI78310C/fi

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/261—Alcohols; Phenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5004—Organic solvents
    • C11D7/5013—Organic solvents containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02806—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing only chlorine as halogen atom
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/426—Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/266—Esters or carbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/28—Organic compounds containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D7/3209—Amines or imines with one to four nitrogen atoms; Quaternized amines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)

Description

1 78310
Valoherkän polymeerin irrotusseos ja menetelmä valoherkän polymeerin irrottamiseksi Tämä keksintö koskee valoherkän (photoresist) materi-5 aalin irrotukseen sopivia ainekoostumuksia, ja menetelmää valoherkän materiaalin poistamiseksi käyttäen tämän keksinnön mukaisia ainekoostumuksia.
Piirilevyjä valmistetaan tyypillisesti päällystämällä paksuudeltaan yhtenäinen epoksi-lasikangaslaminaattile-10 vy tai kiillelevy ohuella kuparikerroksella. Ennalta määrätty sarja reikiä porataan sitten levyyn eri sähköisten komponenttien kiinnittämiseksi. Osittain polymeroidun valoherkkää olevan muovin kalvo kerrostetaan laminaatille kuparipäällysteen pinnalle. Nämä valoherkät kalvot koostu-15 vat yleensä akryylihartseista, polyvinyylisinnamaateista, diatsoyhdisteistä, fenoli-formaldehydeistä tai muista vastaavista kalvon muodostavista materiaaleista. Tämä kalvo polymeroidaan tai silloitetaan edelleen ultraviolettivalon vaikutuksella kovaksi, kemiallisesti kestäväksi kalvoksi.
20 Peittämällä sopivalla lasi- tai muovimateriaalilla valoherkkä kalvo kovetetaan selektiivisesti saattamalla se alttiiksi valolle tietyiltä ennalta määrätyiltä alueilta, kun taas peitetyiltä alueilta valoherkkä kalvo jää muuttumattomaksi. Muuttumaton kalvo liuotetaan sitten "kehitti-25 messä" liuottimena, kuten 1,1,1-trikloorietaanilla tai butoksietanolin ja natriumkarbonaatin liuoksella tai vastaavilla liuoksilla. Kupari voidaan sitten puhdistetuilta alueilta poistaa syövyttämällä tai lisää kuparia ja muita metalleja voidaan kerrostaa sen päälle. Kummassakin tapauk-30 sessa käy sitten välttämättömäksi poistaa valoherkkä, kovettunut valoherkkää materiaalia oleva kalvo laminaatista.
On tunnettua, että tällaisia valoherkkiä kalvoja voidaan poistaa vahvojen orgaanisten liuottimien, kuten metyleenikloridin tai trikloorietyleenin vaikutuksella.
35 On myös tunnettua, että monet maali- ja lakanpoisto- aineet perustuvat dikloorimetaaniin. Monet näistä sisältä- 2 78310 vät myös alkoholia ja yhtä tai useampia muita lisäaineita. Niinpä US-patentissa 3 650 969 on esitetty sellainen maalin poistamiseen soveltuva seos, joka sisältää 1-2 hiiliatomisia dikloorialkaaneja, 1-3 hiiliatomista alifaattis-5 ta yksiarvoista alkoholia ja fluorivetyä ja vettä. US-pa-tentissa 3 600 322 on esitetty maalinpoistoseos, joka sisältää dikloorimetaania, metanolia ja kvaternääristä typpeä sisältävää selluloosaeetteriä.
Muita patentteja, joissa käytetään dikloorimetaania 10 ja alkanoleja ja erilaisia muita lisäaineita, ovat US-pa-tentit 3 147 224, 3 075 923, 4 269 724 ja 4 278 557.
US-patentissa 3 789 007 on kuvattu menetelmä, joka sopii valoherkän materiaalin poistamiseksi piirilevyistä, jolloin piirilevyä käsitellään seoksella, jossa on 85-97 15 paino-% dikloorimetaania ja loppuosa on metanolia.
Muita valoherkän materiaalin irrotukseen sopivia seoksia, jotka sisältävät dikloorimetaania, on kuvattu US-patenteissa 3 625 763; 3 813 309 ja 3 625 763.
EP-patenttijulkaisusta 011 658 tunnetaan stabiloitu 20 metyleenikloridikoostumus, joka on käyttökelpoinen rasvan poistamiseen alumiinimetallista ja joka stabilisaattorina sisältää metyyli- ja/tai etyyliformiaattia tai metyylifor-miaatin ja propyleenioksidin seosta. US-patenttijulkaisusta 4 211 560 on tunnettua, että valopolymeroituvan kerroksen 25 tai kalvon valotettua pintaa voidaan liuottaa seoksella, joka voi sisältää metyleenikloridia, metyyliformiaattia, metyyliasetaattia, metanolia, isopropanolia ja tetrahydro-furaania. Nyt on havaittu, että optimaalisen irrotettavuu-den saavuttamiseksi on käytettävä spesifistä ternääristä 30 liuotinseosta ja spesifisiä komponenttipitoisuuksia.
Tämän keksinnön avulla saadaan parannettu valoherkän materiaalin irrotukseen soveltuva seos, joka sisältää dikloorimetaania (metyleenikloridi), metanolia ja metyyli-metanoaattia (metyyliformiaatti). Tämä yhdistelmä irrottaa 35 valoherkän materiaalin suuremmalla nopeudella kuin alan aikaisemmat seokset. Edulliset seokset aikaansaavat lei-
II
3 7831 0 mahtamattoman seoksen (sekoite) ja antavat paremman viiva-terävyyden kuin nykyään saatavissa olevat kaupalliset ir-rotusaineet.
Esillä oleva keksintö koskee seosta, joka soveltuu 5 silloitetun valoherkän polymeerin irrottamiseen. Seokselle on tunnusomaista, että se koostuu dikloorimetaanista, joka sisältää metanolia ja metyylimetanoaattia kumpaakin 1-10 tilavuus-%:n määrän koko seoksesta edellyttäen, että meta-nolin ja metyylimetanoaatin kokonaismäärä on vähintään 5 10 ja korkeintaan 10 tilavuus-% koko seoksesta.
Keksintö koskee myös menetelmää silloitetun valoherkän polymeerin irrottamiseksi käyttäen edellä kuvattua seosta. Seos voi valinnaisesti sisältää dikloorimetaanin stabilisaattoria, kuten visinaalista epoksidia, esim. pro-15 pyleenioksidia. Amiineja esim. isopropyyliamiinia käyte tään usein apuna irrotuksessa. Hyödyllisiä ovat myös syklo-heksyyliamiini ja trietyyliamiini. Tällaisia amiineja tiedetään sisältyvän joihinkin nykyisistä kaupallisista irro-tusainekoostumuksesta. .
20 Keksinnön mukaisia sekoitteita testattiin seuraa vasti:
Koe 1 - Pisarakoe 50 mikrolitran pisara-koesekoitetta (1-25 % lisäaineita dikloorimetaanissa) sovitettiin silloitetulle valo-25 herkälle kalvolle, joka on sovitettu piirilevylle. Liuotin-kalvoaluetta tarkasteltiin 150 kertaa suurentavalla mikroskoopilla sen ajan (sekunneissa) määrittämiseksi, joka tarvitaan murtumaan ja irrottamaan kalvo irti levystä. Lyhyemmät ajat ovat kaupallisissa operaatioissa edullisem-30 pia.
Tämä koe suoritettiin lukuisilla mahdollisilla lisäaine-ehdokkailla käyttäen kaupallisesti valmistettuja, valoherkällä materiaalilla päällystettyjä piirilevyjä. Näissä levyissä käytettiin silloitettua valoherkkää kal-35 voa, jota valmistaa yhtiö E.I. du Pont de Nemours Co., Inc. Näiden kokeiden tulokset on esitetty taulukoissa I ja II.
4 7831 0
Kaikki lisäaineet testattiin inhibitoidussa dikloorimetaa-nilaadussa, johon oli lisätty 0,1 tilavuus-% 2-aminopropaa-nia (isopropyyliamiinia).
_ Taulukko I* D -
Lisäaine** Pisara-aika (s) % 5 7,5 10 15 25
Me Me 8,3 8,8 10,1 11,3 10,2
MeOH 10,3 10,0 9,6 10,4 11,5 10 2-PrOH 11,7 12,5 12,8 14,1 16,7
Me Et 13,1 13,2 13,5 15,9 20,0
Taulukko II*
Lisäaine** Pisara-aika (s) 15 % 5 7,5 10 15
Me Me 11,8 12,5 12,8 14,5
Et Me 14,8 15,0 15,3 16,5
MeOH 12,4 12,3 12,2 11,4 20 2-PrOH 12,1 12,3 13,1 13,4
Me Et 14,2 14,9 15,0 18,0 THF 12,7 12,5 13,3 16,4 * Taulukko I esittää tuloksia käytettäessä kaupallisesti saatavaa polymetyylimetakrylaattikalvoa ja tauluk-25 ko II samantapaista, muttei identtistä kalvoa, joka on valmistanut sama yhtiö.
** MeOH = metanoli 2-PrOH = 2-propanoli (isopropyylialkoholi)
MeMe = metyylimetanoaatti 30 MeEt = metyylietanoaatti (metyyliasetaatti)
EtMe = etyylimetanoaatti (etyyliformiaatti) THF = tetrahydrofuraani
Koe 2 - Ruiskuyksikkökoe
Ruiskukoe suoritettiin käyttäen teräsruiskuyksik-35 köä, joka oli laboratoriomittakaavainen muunnos laitteesta, jota käytetään teollisuudessa valoherkän kalvon irro-
II
5 78310 tukseen. Ruiskuyksikössä käytettiin 7,6 litran määriä koe-sekoitteita, jotka alustava seulonta toi esiin. Ripustettuihin levyihin suunnattiin 138 kPa:n paineella ja 23 -24°C:ssa liuotinsuihku 10-15 sekunnin ajan. Levyt punnit-5 tiin ennen irrotusta ja sen jälkeen. Poistetun valoherkän materiaalin määrän painoeroja verrattiin standardi irrotus-ainekoostumuksiin käyttäen kaavaa: „ koesekoitteen paino - standardin paino ero-% = -x 100 standardin paino
Positiivinen prosenttiarvo osoitti täydellisempää irrotusta ja negatiivinen arvo epätäydellisempää irrotusta verrattuna standardi irrotusainesekoitteen suorituskykyyn. Standardi oli kaupallisesti saatavissa oleva irrotusaine, 15 joka sisältää 7,5 % metanolia ja 0,10 % 2-aminopropaania dikloorimetaanissa (inhibitoitu laatu), tilavuudesta laskettuna.
102 x 102 mm:n koelevyt valmisti kaupallinen valmistaja käyttäen kaupallisesti saatavissa olevaa valoherk-20 kää hartsikalvoa (jonka pääkomponentti on polymetyylimet-akrylaattihartsi) ja koekuviota, joka koostui lukuisista eri levyisistä ja eri etäisyyksillä olevista viivoista.
Nämä levyt, jotka oli päällystetty tinalyijyseoksella, olivat vastaanotettaessa valmiita irrotusta varten.
25 Yllä kuvatussa ruiskutuskokeessa käytettiin useita dikloorimetaanin seoksia, jotka sisälsivät eri määriä metanolia ja metyylimetanoaattia. Käytettiin ohjattua suihkua, jonka kestoaika oli 10 s. Metanolia ja metyylimetanoaattia käytettiin kumpaakin 1,0, 2,5 ja 4,0 tilavuus-30 %:n määrät dikloorimetaanissa (inhibitoitu laatu) lasket tuna liuottimen ja lisäaineiden kokonaistilavuudesta.
2-aminopropaania oli läsnä 0,1 tilavuus-% jokaisen koostumuksen kokonaistilavuudesta. Kunkin koostumuksen irro-tuskykytulokset esitetään prosenteissa parempina (+) tai 35 huonompina (-) kuin standardi metyleenikloridi-irrotus-aine taulukossa III.
6 78310
Taulukko III % MeOH
%MeMe 1,0_2^5_4,0 1.0 -17,5 -10,7 + 7,4 5 2,5 - 1,6 +13,8 +13,2 4.0 + 5,3 + 4,4 + 4,4 Näillä seoksilla suoritettiin myös haihdutus- ja korroosiokokeita.
10 Suoritettiin kaksi haihdutuskoetta. Ensimmäisessä kokeessa koeliuosta valmistettiin 300 ml, se asetettiin dekantterilasissa huoneenlämpötilassa vetokaappiin ja sen lisäainekoostumus analysoitiin eri ajoin käyttäen kaasukromatografia. Tulokset on esitetty taulukossa IV. Toi-15 sessa kokeessa 7,6 litraa koeliuosta asetettiin ruiskuyk-sikköön kansi hieman avattuna. Yksikköä käytettiin 138 kPa:n paineella 60 minuutin ajan. Lisäaineiden väkevyyksiä tutkittiin jälleen eri aikoina. Tässä kokeessa yhden tunnin kuluttua metyylimetanoaattiväkevyys oli noin 2,85% 20 ja metanoliväkevyys oli noin 2,30 %, kummankin alkuväke-vyyden ollessa 3,0 tilavuus-%, mikä osoitti vain lievää komponenttien häviötä seoksesta.
Taulukko IV
25 * Koostumus (tilavuus-%)
Aika (min.)_MeOH_MeMe_Tilavuus (ml) 0 3,00 3,00 300 20 2,80 2,85 275 30 60 2,55 2,80 215 90 2,45 2,85 175 120 2,00 2,75 140 153 1,63 2,70 100 *Tämä koostumus sisälsi myös 0,1 tilavuus-% 2-aminopropaa-35 nia, mutta koska sen tasot olivat merkityksettömiä irro-tuskyvyn suhteen, sen analyysi jätettiin pois.
li i 78310
Kuparin korroosiotutkimuksessa 100 ml koeliuotinseos-ta kuumennettiin palauttaen 12,7 x 62,2 mm:n kuparikortin kanssa seitsemän päivän ajan. Jokaisesta liuotinseoksesta tehtiin kolminkertaiset määritykset. Jokaiselle näytteel-5 le tehtiin seitsemän päivän kuluttua kaasukromatografia-analyysit. Kuparikortin korroosionopeus ilmoitettiin tunkeutumana mil-yksikköinä vuodessa (MPY) (1 mil = 0,0254 mm) käyttäen seuraavaa kaavaa: 10 MPY = kortin painohäviö (mg)/in^/päivä (22,3/8,93) MPV _ painohäviö (mg) (22,3) 2,45 (7) (8,93)
Kaupallisella seoksella (A) ja tämän keksinnön mu-15 kaisen seoksen (B) ainekoostumuksilla yllä esitetyissä koeolosuhteissa suoritettujen kokeiden tulokset esitetään alla.
Ainekoostumus (tilavuus-%) Korroosio (MPY) (mm/vuosi) 20 A MeOH 7,5 1,01 0,0256 2-AP* 0,1 B MeOH 2,5
Me Me 2,5 0,1 0,0025 25 2-AP* 0,1 * 2-aminopropaani
Amiini voi muodostaa lievän kuparin himmennys- ja liuottimen värjäysongelman, jos sen annetaan seistä vähintään 12 tuntia huoneenlämpötilassa metallin läsnäolles-30 sa. Tämä ei ehkä kuitenkaan ole merkittävä ongelma piirilevyjen suhteen, koska liuotin on kosketuksessa kuparisiin piirilevyihin vain 2-3 minuuttia todellisessa kaupallisessa käytössä. Koska kuitenkin teollisessa laitteistossa käytetään tyypillisesti kupariputkistoa, tämä ilmiö voi vaikut-35 taa laitteiston elinikään. On mielenkiintoista panna mer- β 78310 kille, että 0,1 tilavuus-%:n trietyyliamiinimäärän käyttö 2-aminopropaanin sijasta ainekoostumuksessa B vähensi suuresti liuottimen värjäytyrnisongelmaa huoneenlämpötilassa suoritetuissa kuparin korroosiokokeissa. Tällainen pie-5 ni amiiniväkevyys ei lisää mitään ainekoostumuksen irro-tuskykyominaisuuksiin, ja jos se poistetaan täysin, vältetään kuparin korroosio ja värjätyminen.

Claims (13)

  1. 9 78310
  2. 1. Seos, joka soveltuu silloitetun valoherkän polymeerin irrottamiseen, tunnettu siitä, että se 5 koostuu dikloorimetaanista, joka sisältää metanolia ja me-tyylimetanoaattia kumpaakin 1-10 tilavuus-%:n määrän koko seoksesta edellyttäen, että metanolin ja metyylimetanoaa-tin kokonaismäärä on vähintään 5 ja korkeintaan 10 tila-vuus-% koko seoksesta.
  3. 2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tun nettu siitä, että metanolia ja metyylimetanoaattia on kumpaakin läsnä 1-5 tilavuus-%:n määrä koko seoksesta.
  4. 3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen seos, tunnettu siitä, että metanolia ja metyylimetanoaattia 15 on kumpaakin läsnä 2,5-5 tilavuus-%:n määrä.
  5. 4. Patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että se sisältää lisäksi amiinia.
  6. 5. Patenttivaatimuksen 2 mukainen seos, tunnettu siitä, että se sisältää lisäksi amiinia. 20 6, Patenttivaatimuksen 5 mukainen seos, tun nettu siitä, että amiini on alempi alifaattinen amiini, jossa on 3-6 hiiliatomia.
  7. 7. Patenttivaatimuksen 5 mukainen seos, tunnettu siitä, että amiini on 2-aminopropaani.
  8. 8. Patenttivaatimuksen 6 mukainen seos, tun nettu siitä, että amiini on sykloheksyyliamiini.
  9. 9. Patenttivaatimuksen 6 mukainen seos, tunnettu siitä, että amiini on trietyyliamiini.
  10. 10. Menetelmä silloitetun valoherkän polymeerin 30 irrottamiseksi, tunnettu siitä, että käytetään dikloorimetaaniyhdistettä, joka sisältää metanolia ja metyylimetanoaattia, kutakin 1-10 tilavuus-% koko seoksen määrästä edellyttäen, että metanolin ja metyylimetanoaa-tin kokonaismäärä on vähintään 5 ja enintään 10 tila- 35 vuus-% koko seoksen määrästä. 10 7831 0
  11. 11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että metanolia ja metyylimetano-aattia on molempia läsnä 1-5 tilavuus-%.
  12. 12. Patenttivaatimuksen 11 mukainen menetelmä, 5 tunnettu siitä, että metanolia ja metyylimetano-aattia on molempia läsnä 2,5-5 tilavuus-%.
  13. 13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että irrotusseos sisältää myös amiinia. Il 11 7831 0
FI840593A 1983-02-14 1984-02-14 Avlaegsningsblandning av en ljuskaenslig polymer och foerfarande foer avlaegsning av en ljuskaenslig polymer. FI78310C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US46597583 1983-02-14
US06/465,975 US4438192A (en) 1983-02-14 1983-02-14 Photoresist stripper composition and method of use

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI840593A0 FI840593A0 (fi) 1984-02-14
FI840593A FI840593A (fi) 1984-08-15
FI78310B FI78310B (fi) 1989-03-31
FI78310C true FI78310C (fi) 1989-07-10

Family

ID=23849937

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI840593A FI78310C (fi) 1983-02-14 1984-02-14 Avlaegsningsblandning av en ljuskaenslig polymer och foerfarande foer avlaegsning av en ljuskaenslig polymer.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4438192A (fi)
EP (1) EP0116343B1 (fi)
JP (1) JPS59157639A (fi)
BR (1) BR8400680A (fi)
CA (1) CA1193177A (fi)
DE (1) DE3471770D1 (fi)
FI (1) FI78310C (fi)
HK (1) HK79489A (fi)
NO (1) NO165218C (fi)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3444293A1 (de) * 1984-12-05 1986-06-05 Metallgesellschaft Ag, 6000 Frankfurt Mittel zum reinigen von verarbeitungsanlagen fuer hochviskose reaktive mehrkomponentenmischungen
FR2601703B1 (fr) * 1986-07-21 1993-05-07 Atochem Composition a base de chlorure de methylene - son utilisation pour l'enlevement des films photoresist
US5218979A (en) * 1989-09-05 1993-06-15 Nagase & Company, Ltd. Method of cleaning printed circuit boards with dimethylcyclooctadienes
CA2024589A1 (en) * 1989-09-05 1991-03-06 Masaru Sugita Cleaning compositions and applications thereof
JP2519807B2 (ja) * 1989-10-13 1996-07-31 信越化学工業株式会社 オ―バ―ヘッドプロジェクタ用フィルムの再生方法
FR2657877B1 (fr) * 1990-02-07 1992-05-15 Atochem Composition nettoyante a base de 1,1-dichloro-1-fluoroethane, de formiate de methyle et de methanol.
FR2657876B1 (fr) * 1990-02-07 1992-05-15 Atochem Composition nettoyante a base de 1,1-dichloro-1-fluoroethane et de formiate de methyle.
US5909744A (en) * 1996-01-30 1999-06-08 Silicon Valley Chemlabs, Inc. Dibasic ester stripping composition
US5741368A (en) * 1996-01-30 1998-04-21 Silicon Valley Chemlabs Dibasic ester stripping composition
US6511547B1 (en) 1996-01-30 2003-01-28 Siliconvalley Chemlabs, Inc. Dibasic ester stripping composition
AU2001273598A1 (en) 2000-06-29 2002-01-14 Huntsman Petrochemical Corporation Carbonate-based photoresist stripping compositions

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE583776A (fi) 1958-11-04
LU37891A1 (fi) 1958-12-11
US3113154A (en) 1960-05-27 1963-12-03 Ethyl Corp Stable methylchloroform compositions
US3600322A (en) 1968-05-29 1971-08-17 Union Carbide Corp Paint removal formulation
US3650969A (en) 1968-07-29 1972-03-21 Allied Chem Compositions for removal of finish coatings
US3625763A (en) 1968-12-04 1971-12-07 Bunker Ramo Conformal coating stripping method and composition
US3813309A (en) 1969-12-23 1974-05-28 Ibm Method for stripping resists from substrates
GB1329731A (en) 1970-08-12 1973-09-12 Imp Chemical Ind Ld Method for removal of resists from printed circuit boards
US3988256A (en) 1974-04-03 1976-10-26 Allied Chemical Corporation Photoresist stripper rinse
GB2049972B (en) 1977-07-12 1982-06-23 Asahi Chemical Ind Photosensitive element for producing a printed circuit board
US4187191A (en) 1978-07-26 1980-02-05 General Motors Corporation Photoresist stripper with dodecylsulfonic acid and chlorinated solvents
DE2861858D1 (en) * 1978-12-01 1982-07-08 Dow Chemical Europ Stabilized methylene chloride formulation for vapor degreasing
US4246130A (en) 1979-06-21 1981-01-20 Amchem Products, Inc. Stripping composition and method for metals
US4367324A (en) 1980-02-05 1983-01-04 Ciba-Geigy Corporation Photocrosslinkable polymers with thioxanthone and imidyl groupings in side chains
US4269724A (en) 1980-02-13 1981-05-26 Hodson James V Composition for paint stripper
NL8001016A (nl) * 1980-02-22 1981-09-16 Kluthe Gmbh Chem Werke Toepassing van methylalcohol als stabilisator tegen explosiegevaar in een ontvettingsmiddel uit dichloormethaan voor metaaloppervlakken.
US4278557A (en) 1980-04-15 1981-07-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Solvent mixture for dissolving and removing epoxy resinous compounds

Also Published As

Publication number Publication date
US4438192A (en) 1984-03-20
EP0116343A2 (en) 1984-08-22
NO165218B (no) 1990-10-01
NO840515L (no) 1984-08-15
CA1193177A (en) 1985-09-10
NO165218C (no) 1991-01-09
HK79489A (en) 1989-10-13
DE3471770D1 (en) 1988-07-07
EP0116343A3 (en) 1985-10-30
JPS59157639A (ja) 1984-09-07
EP0116343B1 (en) 1988-06-01
FI840593A (fi) 1984-08-15
FI840593A0 (fi) 1984-02-14
BR8400680A (pt) 1984-09-18
FI78310B (fi) 1989-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR880002247B1 (ko) 제막(際膜)조성물 및 내식막(耐蝕膜) 제거방법
KR880002246B1 (ko) 제막조성물 및 내식막 제거방법
CA1194765A (en) Stripping compositions and methods of stripping resists
CA1194764A (en) Stripping compositions and methods of stripping resists
CN101454872B (zh) 光刻胶剥离剂组合物和用该光刻胶剥离剂组合物剥离光刻胶的方法
CA1192119A (en) Stripping compositions and methods of stripping resists
US5102777A (en) Resist stripping
FI78310C (fi) Avlaegsningsblandning av en ljuskaenslig polymer och foerfarande foer avlaegsning av en ljuskaenslig polymer.
CA1136472A (en) Photoresist formulations containing a n-substituted benzotriazole adhesion promoter
JPS6325657A (ja) 基板の処理方法
KR950000238B1 (ko) 기판의 내식막의 제막조성물 및 제거법
US4776892A (en) Process for stripping light-hardened photoresist layers
JP7204760B2 (ja) フォトレジストリムーバ組成物
US4483917A (en) Photoresist stripper composition and method of use
KR20100033006A (ko) 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물
KR20170088048A (ko) 포토레지스트 제거용 박리액 조성물
JPS6026340A (ja) ストリツピング組成物及びレジストをストリツピングする方法
JP3853431B2 (ja) スクリーン印刷版の洗浄剤組成物
KR101130353B1 (ko) 포토레지스트용 박리 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 박리방법
CA1179581A (en) Stripping compositions and method of stripping resists
CA1285463C (en) Composition useful for stripping photoresist polymers
KR20160016002A (ko) 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 레지스트의 박리방법
JPH0784375A (ja) フォトレジスト剥離液

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: THE DOW CHEMICAL COMPANY