FI83789C - Vaetskedispersionsblandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. - Google Patents

Vaetskedispersionsblandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. Download PDF

Info

Publication number
FI83789C
FI83789C FI884659A FI884659A FI83789C FI 83789 C FI83789 C FI 83789C FI 884659 A FI884659 A FI 884659A FI 884659 A FI884659 A FI 884659A FI 83789 C FI83789 C FI 83789C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
dispersion
mixture
water
components
phosphorus
Prior art date
Application number
FI884659A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI884659A (fi
FI83789B (fi
FI884659A0 (fi
Inventor
Peter G Sherman
Original Assignee
Chemimetals Processing Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chemimetals Processing Inc filed Critical Chemimetals Processing Inc
Publication of FI884659A publication Critical patent/FI884659A/fi
Publication of FI884659A0 publication Critical patent/FI884659A0/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI83789B publication Critical patent/FI83789B/fi
Publication of FI83789C publication Critical patent/FI83789C/fi

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/12Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
    • B24B31/14Abrading-bodies specially designed for tumbling apparatus, e.g. abrading-balls
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F3/00Brightening metals by chemical means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/36Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel

Description

1 83789
Nestedispersioseos ja menetelmä rautakomponenttien kiil-loittamiseksi Tämä keksintö koskee seosta, joka soveltuu sekoi-5 tettavaksi veteen ja käytettäväksi märkäprosessiin perustuvassa, rautametalleille tarkoitetussa hankauspintakäsit-telylaitteistossa, kuten rumpusekoittimessa tms. sekä menetelmä rautametallikomponenttien valmistelemiseksi seu-raavaa pinnan galvanointia varten, joka menetelmä käsittää 10 vaiheet, joissa valmistetaan lopullinen dispersio, joka sisältää happoa ja sekvestrausainetta, upotetaan komponentit ja hankausaineet lopulliseen dispersioon ja sekoitetaan komponentteja ja hankausaineita samalla, kun pidetään komponentit ja hankausaineet upotettuina lopulliseen dis-15 persioon. Samantapainen teknologia on ollut tätä ennen tunnettua esimerkiksi Haysin amerikkalaisesta patentista 2890944; sarjasta Herman Ben Snyderin amerikkalaisia patentteja, joihin kuuluvat US-patentit 2940838, 2981610, 3052582 ja 3061496; ja Michaudin ja muiden amerikkalaises-.20 ta patentista 4491500.
Tämän keksinnön mukaiset seokset ovat nestedisper-sioita ja niille on tunnusomaista, että ne sisältävät painoprosentteina vesisisältö poisluettuna: korkeintaan n.
20 % oksaalihappoa; korkeintaan n. 50 % fosforisekvest-25 rausainetta, oksaalihapon ja sekvestrausaineen välisen painosuhteen ollessa n. 0,70:1 - 0,20:1; ammonointiainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas seoksen pH-arvon säätämiseen välille n. 3,5-7; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas seoksen kostutuksen ai-30 kaansaamiseen; ja kantoainetta määrän, joka on riittävä muodostamaan loppuosa seoksesta ja tehokas seoksen aineosien pitämiseen helposti käsiteltävässä nestemäisessä muodossa.
Tätä ennen on rautametallikomponenttien valmistuk-;·* 35 sessa ollut tunnettua, että tällaisten komponenttien gal- 2 83789 vanointi voi palvella kahta tarkoitusta suojaamalla rauta-materiaalia ruosteelta tai muulta hajoamiselta ja parantamalla ulkonäköä. Näistä syistä on yleistä päällystää käsityökalut, kuten jakoavaimet yms. kirkkailla galvanointi-5 pinnoitteilla. Valmisteltaessa komponentteja tällaiseen pinnoitukseen on tärkeää, että päällystettävillä pinnoilla on tietty sileysaste ulkonäön vuoksi ja toisinaan on tärkeää, että ne kiilloitetaan. Vaikka tällainen kiilloitus on tehty lukuisilla eri tavoilla, kemialliset prosessit 10 metallin poistamiseksi ovat saavuttaneet jonkin verran menestystä ja hyväksymistä ja ne ovat noudattaneet yleensä edellä lueteltujen aikaisempien patenttien ohjeita.
Kuvatun tyyppisissä prosesseissa esiintyy jatkuvaa tasapainottamista liuoksen vahvuuden ja tuottavuuden vä-15 Iillä. Yrittäessään saavuttaa komponenttien suuren tuottavuuden ja lyhyet jaksoajät laitteiston käytössä, jotkut käyttäjät ovat yrittäneet käyttää voimakkaan happamia liuoksia. Yrittäessään saavuttaa haluttuja pinnanlaatuja toiset käyttäjät ovat yrittäneet käyttää vähemmän happamia 20 dispersioita. Kummassakin tapauksessa saatetaan kohdata vaikeuksia käytettyjen dispersioiden ja syntyneiden pois-tovirtojen kuluessa. Yrityksiin pidentää liuosten käyttökelpoisuutta on liittynyt sekvestrausaineiden käyttö, joka auttaa välttämään niiden kulumista.
25 Pitäen mielessä aikaisemmin suoritetut ponnistelut ja kohdatut ongelmat tämän keksinnön tavoitteena on saavuttaa kemiallisesti kiilloitetut pinnat optimaalisessa prosessointiajassa ja mahdollisimman pienellä epämieluisalla poistovirralla. Toteutettaessa tätä keksinnön tavoi-• 30 tetta edellä lyhyesti kuvatun yleisen tyypin mukaista prosessia parannetaan käyttäen orgaanista hapanta dispersiota, jolla saavutetaan hallittu metallin poisto halutulla, ennustettavalla nopeudella. Tuotantotehot käytettäessä tässä keksinnössä tarkasteltua dispersiota ovat paremmat '35 kuin ne, jotka toteutetaan käyttäen aikaisemmin käytettyjä l! 3 83789 voimakkaampia liuoksia samalla, kun prosessin poistovirta lähestyy paremmin kemiallisesti neutraalia jätettä.
Vielä muuna tämän keksinnön tavoitteena on saada aikaan seoksia, jotka voidaan seostaa ja käsitellä neste-5 mäisinä dispersioina ja edelleen dispergoida veteen tarvittavan käyttödispersion aikaansaamiseksi. Toteutettaessa tätä tämän keksinnön tavoitetta dispersion levittäminen läpivirtaustyyppiseen prosessiin helpottuu ja aikaansaadaan yksinkertaistettu käsittely tietyille käyttäjille 10 samalla, kun saavutetaan tuloksen toistettavuus.
Keksinnön eräiden tavoitteiden tultua esitetyksi muut tavoitteet käyvät ilmi kuvauksen edistyessä. Vaikka tätä keksintöä kuvataan täydellisemmin jäljempänä, on ymmärrettävä seuraavassa kuvauksen alussa, että asianomai-15 siin aloihin perehtyneet henkilöt voivat muuttaa tässä esitettyä keksintöä ja silti saavuttaa tämän keksinnön edulliset tulokset. Näin ollen seuraavan kuvauksen on ymmärrettävä olevan laaja, ohjeellinen selostus, joka on suunnattu asianmukaisiin aloihin perehtyneille henkilöil- 20 le, eikä tätä keksintöä rajoittava.
Yleisesti esitettynä tässä keksinnössä tarkastellut seokset ovat nestedispersioita, jotka soveltuvat sekoitettavaksi veteen ja käytettäväksi märkäprosessiin perustuvassa rautametallien hankaavan pinnoituksen laitteistossa, 25 kuten rumpusekoittimessa tms. Nestedispersio sisältää painoprosenteissa korkeintaan n. 90 % vettä.
Fosforisekvestrausaine voi olla mikä tahansa epäorgaanisista fosfaateista, jolla on se ominaisuus, että se muodostaa komplekseja rautametalli-ionien kanssa, ja/tai 30 mikä tahansa orgaanisista fosfaateista, jolla on tällaiset ominaisuudet. Niitä, joiden on havaittu toimivan hyvin tämän keksinnön seoksissa, ovat pyrofosfaatit, tripolyfos-faatit ja fosfonaatit. Kaikkein edullisin tietyille seoksille on tetranatriumpyrofosfaatti. Käytetyt fosfaatit .35 voidaan itse asiassa valmistaa kemiallisilla reaktioilla.
4 83789 jotka tapahtuvat, kun seosta valmistetaan, kuten jäljempänä mainitaan.
Puskurointi- ja/tai ammonointiaineet voivat olla mitä tahansa ammoniakkia vapauttavia tai kehittäviä mate-5 riaaleja, joilla on dispersion pH-arvoa hillitsevä vaikutus. On määritetty, että yhteisvaikutus, jossa happoaine-osa poistaa metallia ja sekvestrausaine sitoo metalli-ioneja dispersioon ja estää niiden kerrostumisen uudelleen komponenteille galvanointityyppisessä prosessissa, on pH-10 arvosta riippuva eikä ala ja/tai edisty asianmukaisesti pH-arvoilla, jotka ovat alle n. 3,5. Näin ollen on tärkeää tässä keksinnössä tarkastelluissa seoksissa ja menetelmissä säätää tätä tekijää. Nestedispersiossa, jossa käytetään tällaisia materiaaleja, tämä säätö voidaan toteuttaa 15 tasapainottamalla monoammoniumfosfaatti ja diammoniumfos-faatti. Keksinnön tietyissä edullisissa muodoissa näiden aineosien painoprosentit ovat yhtä suuret. Muissa käyttökelpoisissa muodoissa tasapaino saattaa siirtyä enemmän kohti jompaa kumpaa näistä kahdesta, diammoniumfosfaatin 20 kasvavien määrien suosiessa korkeampaa pH-arvoa ja monoam-moniumfosfaatin kasvavien määrien suosiessa alempia pH-arvoja dispersiossa ja käyttödispersioissa. Vaihtoehtoisesti ammonointiaine voi olla peräisin sellaisista aineista kuin nestemäisestä ammoniumhydroksidista tai kaasu-25 maisesta ammoniakista, jolloin tämän keksinnön seosten valmistuksessa tapahtuvat reaktiot johtavat fosfaattimuo-tojen ilmestymiseen seokseen. Jälkimmäisessä tapauksessa pH:n säätö usein helpottuu.
Jotta varmistettaisiin, että tämän keksinnön seok-30 set menevät helpommin dispersioon veden kanssa, joka sekoitetaan käyttöä varten, on toivottavaa lisätä kostutus-ainetta pinta-aktiivisen aineen muodossa. Edullinen pinta-aktiivinen aine on vaahtoamaton, ioniton materiaali ja lisäksi on edullista, että tämä materiaali on pienen HLB-| 35 arvon tyyppiä.
5 83789
Oksaalihapon ja sekvestrausaineen välinen suhde on merkityksellinen tasapainotettaessa metallin poistonopeut-ta pintaviimeistelyn toteuttamiseksi etsauksen sijasta, joka johtuu liian voimakkaasta metallin poistosta, koska 5 molemmat käytetyt materiaalit myötävaikuttavat metallin poistoon. Kokeilu, jossa muutellaan hapon ja sekvestrausaineen välistä suhdetta, on osoittautunut, että yleisesti sekvestrausaineen määrän lisääminen suhteessa happoon nostaa metallin poistonopeutta ja lisää myös todennäköisyyt-10 tä, että metallin poisto aiheuttaa selvästi erottuvan "huurteisen" ulkonäön, joka katsotaan etsaukseksi ja joka kokemuksen mukaan on kiilloitettava, ennenkuin tyydyttävä galvanointi voidaan toteuttaa. Vaikka tällaisiin tuloksiin johtavaa mekanismia ei ehkä täysin ymmärretä, arvellaan 15 olevan todennäköistä, että vaihtelevat pitoisuudet aiheuttavat metallin poiston tehokkuuden vaihtelevia arvoja mikroskooppisella tasolla aikaansaaden komponenttien "huippuja" ja "laaksoja" tai karheutta. Kun metallin poisto on olennaisesti sama molemmilla alueilla, saadaan huurteinen 20 pinta. Kun metallin poistoa tapahtuu enemmän huippujen kohdalla, saavutetaan parempi sileys ja lopullinen komponentti on hyväksyttävämpi. Riippuen osittain kulloinkin käsiteltävästä rautalejeeringistä hapon ja sekvestrausaineen välisten suhteiden n. 0,70:1-0,20:1 paino-osina on 25 havaittu olevan hyväksyttäviä ja niitä tarkastellaan tässä keksinnössä. Edullinen alue on n. 0,25:1 paino-osina.
Nestedispersioseoksessa happona läsnä olevat kemikaalit ja mahdollisesti sekvestrausaineiksi valitut eivät ole helposti liukenevia veteen. Näin ollen dispersiota, 30 joka tekee mahdolliseksi käsittelyn nesteenä, ylläpidetään käyttäen suspendointiainetta. Suspendointiaineen on oltava materiaalia, joka toimii geelitys- ja suspendointiaineena suoladispersioissa ja kaksi hyödyllistä materiaalia ovat ksantaanikumi ja sarja materiaaleja, joita G.F. Goodrich 35 Chemicals myy yksinoikeudella kauppanimellä Carbopol.
6 83789 Käytössä tämän keksinnön seoksia voidaan käyttää missä tahansa tunnettua tyyppiä olevassa märkähankausvii-meistelylaitteistossa, joka kykenee vastustamaan tuloksena olevien dispersioiden syövyttäviä vaikutuksia. Esi-5 merkkejä tällaisesta laitteistosta on lueteltu edellä ilmoitetuissa aikaisemmissa patenteissa ja niitä voivat olla avonaiset ja suljetut rumpusekoittimet, linkouskoneet, tärytyskoneet ja rullauskoneet. Tällainen laitteisto voi kyetä panosprosessointiin, jatkuvatoimiseen tai läpivir-10 tausprosessointiin tai molempiin. Käytetyt liuokset voidaan jakaa panoksiksi tai niitä voidaan kierrättää. Tällaisen laitteiston valinta jätetään soveltuvaan alaan perehtyneen henkilön taitojen ja tämän keksinnön ohjeiden varaan. Kuitenkin kuten jäljempänä täydellisemmin esite-15 tään, edullisessa prosessissa käytetään laitteistoa, joka on järjestetty kierrättämään liuosta.
Keksinnön mukaiselle menetelmälle rautametallikom-ponenttien valmistelemiseksi seuraavaa pinnan galvanointia varten, joka menetelmä käsittää vaiheet, joissa valmiste-20 taan lopullinen dispersio, joka sisältää happoa ja sek-vestrausainetta, upotetaan komponentit ja hankausaineet lopulliseen dispersioon ja sekoitetaan komponentteja ja hankausaineita samalla, kun pidetään komponentit ja hankausaineet upotettuina lopulliseen dispersioon, on tun-' 25 nusomaista se, mitä on esitetty patenttivaatimuksen 9 tun-nusmerkkiosassa.
Käytännössä haluttu määrä komponentteja panostetaan käsittelyastiaan ja pestään astian läpi virtaavalla vedellä. Huuhteluvirtaus lopetetaan ja dispersion virtaus aloi-30 tetaan käyttäen edullisesti letkupumppua annostellun virtauksen saavuttamiseksi. Tietyn aikavälin jälkeen (luokkaa n. 10-160 min) riittävästi käsittelyseosta on lisätty panoksessa pidettyyn veteen "leikkaus"-vaikutuksen aloittamiseksi ja sillä hetkellä vesivirtaus syötetään astiaan. 35 Vesivirtaus sekoittuu edullisesti käsittelyseokseen ennen- li 7 83789 kuin näin muodostettu dispersio tulee käsittelyastiaan. Vesivirtauksen aloittaminen voidaan määrittää ajan perusteella (kuten edellä ehdotettiin) tai seuraamalla läpivir-tauskäsittelyastiasta poistuvan käytetyn dispersion pH-5 arvoa. Käsittelyseoksen ja veden virtausta jatketaan sitten aikaväli, joka tarvitaan halutun viimeistelyvaikutuk-sen toteuttamiseksi komponenteille, tyypillisesti luokkaa 20-150 minuuttia. Tällä aikavälillä käsittelyastiästä poistuvan, käytetyn dispersion pH-arvon tulisi olla välil-10 lä n. 6,0-7,0.
Senjälkeen kun komponentit ovat saavuttaneet halutun pinnanlaadun, vesivirtausta lisätään voimakkaasti (luokkaa kymmenkertaisesti) samalla, kun käsittelyseoksen virtausta pienennetään (luokkaa 70 %). Tällaisilla suh-15 teellisillä virtausnopeuksilla dispersio, joka on toiminut pintakäsittelyseoksena, toimii puhdistusseoksena ja puh distaa komponenteista kaiken ferri/ferronatrium/ammonium-oksalaattien jäljellä olevan jäännöksen, joka on muodostunut viimeistelyvaiheen aikana.
20 On huomattava, että tässä keksinnössä tarkasteltu jen seosten onnistuneessa käytössä tulee esille ilmeinen tekijä, joka johtuu natrium- ja ammoniumoksalaattien ja ferri/ferronatrium/ammoniumoksalaattien erilaisista liukoisuuksista, joita oksalaatteja muodostuu, kun seoksia 25 lisätään käsittelyastioihin, joissa rautakomponentteja viimeistellään. Viimemainitut materiaalit ovat merkittävästi liukoisempia veteen, mikä myötävaikuttaa tämän keksinnön haettuun ja toteutettuun pintakäsittelyvaikutuk-seen.
i 30 Tiettyjä tämän keksinnön kehittämisessä suoritet tuja kokeita tarkastellaan seuraavissa esimerkeissä.
Esimerkki 1 Käyttäen tilavuudeltaan 85 litran tärypintakäsit-telyastiaa ja avopäisiä kiintoavaimia pintakäsiteltävänä 35 rautakomponentteina, komponentteja huuhdeltiin edellä ku- β 83789 vatulla tavalla ja senjälkeen lisättiin dispersio, jolla oli seuraava koostumus:
Aineosa Paino-%
Vesi 43,73 5 Oksaalihappo 15,86
Dianunoniumfosfaatti 13,59
Tetranatriumpyrofosfaatti 13,59 Suspendointiaine 12,80
Pinta-aktiivinen aine 0,45 10 Käsittelyseosta syötettiin laitteistoon käyttäen letkupumppua, virtausnopeudella n. 14,2 g/min. Noin kolme minuuttia senjälkeen, kun dispersiovirtaus aloitettiin, vesivirtaus astian läpi aloitettiin nopeudella n. 3,78 1/h 15 ja vesivirtaus ja dispersiovirtaus syötettiin yhteisen putken läpi esisekoitusta varten ennenkuin ne saavuttivat astian. Komponenttien pintakäsittely jatkui n. tunnin, jona aikana vesi- ja dispersiovirtauksia säädettiin pois-tovirran pH-arvon saamiseksi ja ylläpitämiseksi välillä n. 20 5,8-6,3. Komponentit saavuttivat kirkkaan ja kiiltävän pinnanlaadun. Dispersion virtaus lopetettiin senjälkeen ja vesivirtaus nostettiin n. 37,8 litraan/h, kunnes poistove-si oli olennaisen puhdasta.
Esimerkki 2 25 Holkkiavaimille tarkoitettujen hoikkien panos ajet tiin pyramidinmuotoisilla väliainekappaleilla tilavuudeltaan 283 litran tärypintakäsittelyastiassa. Syötetyllä dispersiolla oli koostumus:
Aineosa Paino-% 30 Vesi 48,8
Oksaalihappo 20,0
Dianunoniumfosfaatti 13,7
Tetranatriumpyrofosfaatti 13,7 Suspendointiaine 2,3 35 Pinta-aktiivinen aine 1,5 li 9 83789 Käsittelyseosta syötettiin laitteistoon käyttäen letkupumppua, virtausnopeudella n. 18,7 g/min. Noin 10 minuuttia senjälkeen, kun dispersiovirtaus aloitettiin, vesivirtaus astian läpi aloitettiin nopeudella n. 4,5 1/h 5 ja vesivirtaus ja dispersiovirtaus syötettiin yhteisen putken kautta esisekoitusta varten ennenkuin ne saavuttivat astian. Komponenttien pintakäsittely jatkui noin tunnin ja 20 minuuttia, jona aikana vesi- ja dispersiovir-tauksia säädettiin poistovirran pH-arvon saamiseksi ja 10 ylläpitämiseksi välillä n. 5,8-6,3. Komponentit saavuttivat kirkkaan ja kiiltävän pinnanlaadun. Dispersion virtaus lopetettiin sitten ja vesivirtaus nostettiin n. 7,6 lit-raan/h, kunnes poistovesi oli olennaisesti puhdasta.
Esimerkki 3 15 Suoritettiin samantapainen prosessi kuin esimerkis sä 2 käyttäen dispersiota, jolla oli koostumus:
Aineosa Paino-%
Vesi 42
Suspendointiaine 15 20 Diammoniumfosfaatti 12
Monoammoniumfosfaatti 12
Oksaalihappo 10
Tetranatriumpyrofosfaatti 8,5
Pinta-aktiivinen aine 0,5 25
Suspendointiaineen määrän lisäys teki tämän dispersion paljon paksummaksi. Kuitenkin toimenpiteet ja tulokset olivat olennaisesti samanlaiset kuin edellä esimerkissä 2.
30 Esimerkki 4
Valmistettiin dispersio käyttäen nestemäistä fos-forihappoa fosforilähteenä ja ammoniumhydroksidia ja nat-riumhydroksidia natriumlähteinä. Dispersio valmistettiin seuraavaila koostumuksella: 35 10 83 789
Aineosa Paino-%
Fosforihappo 44
Ammoniumhydroksidi 24
Oksaalihappo 12 5 Vesi 9,5
Natriumhydroksidi 6
Suspendointiaine 3,5
Pinta-aktiivinen aine 1 10 Dispersio syötettiin letkupumpun läpi samalla ta voin kuin edellä olevissa esimerkeissä. Kuitenkin dispersion ja veden syöttönopeudet säädettiin toistensa suhteen ja kiilloitettavan rautametallipinnan pinta-alan suhteen. Kiilloitusvaikutuksen ollessa todettu edellä esimerkissä 1 15 kuvatulla tavalla dispersion/veden syöttönopeudet säädettiin samassa järjestyksessä arvoihin 47 g/h ja 158 g/h käsiteltävän pinnan jokaista tuhatta neliösenttimetriä kohti. Saavutetut tulokset olivat oleellisesti samoja kuin edellisissä esimerkeissä. Edelleen tulokset olivat tois-20 tettavia ajosta toiseen.
Esimerkin 4 koe ulotettiin dispersion ja veden välisten suhteiden alueen tutkimiseen, jossa saavutettiin toistettavat tulokset. Havaittiin, että syötetyn dispersion ja veden välinen suhde voi vaihdella välillä n.
25 0,3:10,9:1 samalla, kun saadaan toistettavat tulokset.
Näyttää siltä, että tämä alue heijastaa kulloinkin noudatettua dispersion koostumusta, jolloin noudatettaessa yhdenmukaisesti tiettyä dispersion koostumusta saavutetaan toistettavat tulokset, kun myös käytetyt syöttönopeudet 30 säädettiin niin, että yhdenmukainen kokonaisvirtausnopeus mitattuna kiilloitettavaa metallin pinta-alaa kohti pidettiin arvossa n. 1 211 g/h käsiteltävän metallin pinta-alan tuhatta neliösenttimetriä kohti.
Vaikka tähän sisältyvät esimerkit heijastavat para-35 metrejä, joita vaihdeltiin tämän keksinnön kehittämisen IX 83789 aikana suoritetuissa kokeissa, tämän keksinnön edulliset muodot tämän kuvauksen kirjoittamishetkellä ovat nestemäisiä dispersioita, joiden aineosat on lueteltu edellä esimerkissä 4.
5 Patenttiselityksessä on esitetty tämän keksinnön edullisia toteutusmuotoja ja vaikka käytetään erikoistermejä, näin esitetyssä kuvauksessa käytetään terminologiaa ainoastaan yleisessä ja kuvaavassa mielessä eikä rajoittavassa tarkoituksessa.
10

Claims (12)

1. Seos, joka soveltuu sekoitettavaksi veteen ja käytettäväksi märkäprosessiin perustuvassa, rautametal- 5 leille tarkoitetussa hankauspintakäsittelylaitteistossa, kuten rumpusekoittimessa tms., tunnettu siitä, että se sisältää painoprosentteina vesisisältö poisluettuna: korkeintaan n. 20 % oksaalihappoa; korkeintaan n. 50. fosforisekvestrausainetta, oksaalihapon ja sekvest-10 rausaineen välisen painosuhteen ollessa n. 0,70:1 - 0,20:1; ammonointiainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas seoksen pH-arvon säätämiseen välille n. 3,5-7; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas seoksen kostutuksen aikaansaamiseen; ja kantoainetta mää-15 rän, joka on riittävä muodostamaan loppuosa seoksesta ja tehokas seoksen aineosien pitämiseen helposti käsiteltävässä nestemäisessä muodossa.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että fosforisekvestrausaine on johdettu 20 fosforihaposta ja/tai ammonointiaine on ammoniumhydroksi-di tai ammoniumfosfaatti.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen seos, tunnettu siitä, että fosforisekvestrausaine on pyrofosfaatti, tripolyfosfaatti tai fosfonaatti.
4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen seos, tunnettu siitä, että fosforisekvestrausaine on tetranatriumpyrofosfaatti.
5. Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen seos, tunnettu siitä, että se on nestemäinen dis-30 persio, joka on muodostettu veteen ja lisäksi siitä, että kantoaine on suspendointiaine, joka on tehokas seoksen aineosien suspendoimiseen dispersiona veteen, ja dispersion vesipitoisuus painoprosentteina ja ottaen huomioon kaikki dispersion aineosat, on edullisesti korkeintaan .; 35 noin 90 %. I! i3 8 3 78 9
6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen seos, tunnettu siitä, että se sisältää olennaisesti painoprosentteina: noin 30 - 50 % vettä, korkeintaan 2 % pinta-aktiivista ainetta; noin 50 - 33 % oksaalihapon ja fosfo- 5 risekvestrausaineiden seosta, oksaalihapon ja sekvest-rausaineiden välisen painosuhteen ollessa välillä noin 0,70:1 - 0,20:1; korkeintaan noin 28 % ammonointiainetta; ja suspendointiainetta määrän, joka on riittävä muodostamaan loppuosan seoksesta ja aikaansaamaan muiden aine-10 osien pysymisen suspendoituneena veteen.
7. Patenttivaatimuksen 5 mukainen seos, tunnettu siitä, että se sisältää painoprosentteina korkeintaan noin 90 % vettä; korkeintaan noin 20 % oksaalihappoa; korkeintaan noin 50 % fosforisekvestraus- ja 15 -puskurointiaineita, oksaalihapon ja fosforiaineiden vä lisen painosuhteen ollessa noin 0,70:1 - 0,20:1 ja niiden määrän ollessa riittävä ja tehokas säätämään seoksen pH välille noin 3,5 - 7; korkeintaan noin 28 % ammonointiainetta; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä 20 ja tehokas seoksen kostutuksen aikaansaamiseen; ja suspendointiainetta määrän, joka on riittävä muodostamaan loppuosan seoksesta.
8. Patenttivaatimuksen 6 tai 7 mukainen seos, tunnettu siitä, että fosforisekvestrausaine on 25 pyrofosfaatti, edullisesti tetranatriumpyrofosfaatti ja/- tai ammonointiaine on ammoniumfosfaatti ja/tai suspen-dointiaine on ksantaanikumi.
9. Menetelmä rautametallikomponenttien valmistelemiseksi seuraavaa pinnan galvanointia varten, joka me- 30 netelmä käsittää vaiheet, joissa valmistetaan lopullinen dispersio, joka sisältää happoa ja sekvestrausainetta, upotetaan komponentit ja hankausaineet lopulliseen dispersioon ja sekoitetaan komponentteja ja hankausaineita samalla, kun pidetään komponentit ja hankausaineet upotet-35 tuina lopulliseen dispersioon, tunnettu siitä. i4 8 3 7 8 9 että se käsittää lisäksi vaiheet, joissa: valmistetaan lopullinen dispersio sekoittamalla veteen valuva, ensimmäinen dispersioseos, joka sisältää olennaisesti noin 30 -50 paino-% vettä; korkeintaan noin 20 % oksaalihappoa, 5 korkeintaan noin 50 % fosforisekvestrausainetta, oksaalihapon ja sekvestrausaineen välisen painosuhteen ollessa välillä noin 0,70:1 - 0,20:1; ammonointiainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas säätämään sen lopullisen dispersion pH:n vähintään arvoon noin 3,5, joka muodostuu 10 liuotettaessa ensimmäinen dispersio veteen; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas ensimmäisen dispersion kostutuksen aikaansaamiseen; ja suspen-dointiainetta määrän, joka on riittävä muodostamaan loppuosan ensimmäisestä dispersiosta; seurataan lopullisen 15 dispersion pH-tasoa komponenttien ja hankausaineiden sekoituksen aikana; ja reagoidaan seurattuihin pH-tasoihin säätämällä lopullisen dispersion pH-tasoa sen pitämiseksi välillä noin 3,5 - 7,0 koko komponenttien ja hankausaineiden sekoituksen ajan.
10. Patenttivaatimuksen 9 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että valuva dispersio sisältää korkeintaan noin 2 % pinta-aktiivista ainetta ja/tai korkeintaan noin 28 % ammonointiainetta.
11. Patenttivaatimuksen 9 tai 10 mukainen menetel-25 mä, tunnettu siitä, että se käsittää lisäksi vaiheen, jossa juoksutetaan komponenttien ja hankausaineiden läpi nopeudella noin 211 g/h tuhatta neliösenttimetriä kohti käsiteltävää rautametallipintaa hapon ja sekvest-rausaineiden dispersion vesiliuosta, dispersion ja veden 30 välisen suhteen ollessa noin 0,30:1 - 0,90:1.
12. Jonkin patenttivaatimuksista 9-11 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että fosforisekvest-rausaine on pyrofosfaatti, tripolyfosfaatti tai fosfo-naatti. Il 15 83789
FI884659A 1986-11-24 1988-10-11 Vaetskedispersionsblandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. FI83789C (fi)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US93446886 1986-11-24
US06/934,468 US4724041A (en) 1986-11-24 1986-11-24 Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components
US8703094 1987-11-20
PCT/US1987/003094 WO1988003964A1 (en) 1986-11-24 1987-11-20 Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI884659A FI884659A (fi) 1988-10-11
FI884659A0 FI884659A0 (fi) 1988-10-11
FI83789B FI83789B (fi) 1991-05-15
FI83789C true FI83789C (fi) 1991-08-26

Family

ID=25465617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI884659A FI83789C (fi) 1986-11-24 1988-10-11 Vaetskedispersionsblandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter.

Country Status (16)

Country Link
US (1) US4724041A (fi)
EP (1) EP0332653B1 (fi)
JP (1) JPH02500988A (fi)
AT (1) ATE79907T1 (fi)
BR (1) BR8707891A (fi)
DE (1) DE3781416T2 (fi)
DK (1) DK390688D0 (fi)
FI (1) FI83789C (fi)
IL (1) IL84561A (fi)
LT (1) LT3298B (fi)
LV (1) LV10317B (fi)
MX (1) MX165426B (fi)
NO (1) NO176671C (fi)
NZ (1) NZ222627A (fi)
RU (1) RU2012695C1 (fi)
WO (1) WO1988003964A1 (fi)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4906327A (en) * 1989-05-04 1990-03-06 Rem Chemicals, Inc. Method and composition for refinement of metal surfaces
USRE34272E (en) * 1989-05-04 1993-06-08 Rem Chemicals, Inc. Method and composition for refinement of metal surfaces
US5158629A (en) * 1989-08-23 1992-10-27 Rem Chemicals, Inc. Reducing surface roughness of metallic objects and burnishing liquid used
DE4445333A1 (de) * 1994-12-19 1996-06-20 Moeller Feinmechanik Gmbh & Co Glättverfahren
US6261154B1 (en) 1998-08-25 2001-07-17 Mceneny Jeffrey William Method and apparatus for media finishing
WO2000022301A1 (de) * 1998-10-12 2000-04-20 Allweiler Ag Rotor für eine exzenterschneckenpumpe und verfahren zu dessen herstellung
US7196047B2 (en) * 2002-08-09 2007-03-27 Rbp Chemical Technology, Inc. Fountain solution concentrates
DE10319468A1 (de) * 2003-04-29 2004-11-25 Heraeus Noblelight Gmbh Infrarotstrahler
US10179388B2 (en) * 2009-05-12 2019-01-15 Rem Technologies, Inc. High throughput finishing of metal components

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2666000A (en) * 1950-10-11 1954-01-12 Standard Oil Dev Co Process for cleaning automobile radiators
US2832706A (en) * 1953-05-12 1958-04-29 Victor Chemical Works Metal cleaning and phosphating composition and method of cleaning and phosphating
DE1098784B (de) * 1955-04-08 1961-02-02 Metallgesellschaft Ag Verfahren zur Herstellung von Oxalatschichten auf Eisen und Stahl
US2890944A (en) * 1956-05-25 1959-06-16 North American Aviation Inc Continuous chemical milling process
US2981610A (en) * 1957-05-14 1961-04-25 Boeing Co Chemical milling process and composition
US2940838A (en) * 1957-08-19 1960-06-14 Boeing Co Chemical milling
US3094489A (en) * 1959-08-31 1963-06-18 Monsanto Chemicals Method and composition for brightening aluminum
US3052582A (en) * 1959-10-05 1962-09-04 Boeing Co Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor
US3061494A (en) * 1959-10-05 1962-10-30 Boeing Co Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor
SE400581B (sv) * 1974-12-13 1978-04-03 Nordnero Ab Bad for kemisk polering av koppar och dess legeringar
AT366422B (de) * 1980-06-30 1982-04-13 Wiener Brueckenbau Phosphorsaures medium und verfahren zum dampfstrahl-phosphatieren von stahlkonstruktionen mittels dieses mediums
SU1093732A1 (ru) * 1983-04-04 1984-05-23 Bereshchenko Alla A Раствор дл виброхимического удалени заусенцев со стали
US4491500A (en) * 1984-02-17 1985-01-01 Rem Chemicals, Inc. Method for refinement of metal surfaces
US4532066A (en) * 1984-03-05 1985-07-30 Sterling Drug Inc. Stable mildly acidic aqueous polishing cleanser and preparation thereof

Also Published As

Publication number Publication date
NO176671C (no) 1995-05-10
IL84561A0 (en) 1988-04-29
NO176671B (no) 1995-01-30
EP0332653A4 (en) 1990-01-08
NZ222627A (en) 1990-07-26
US4724041A (en) 1988-02-09
MX165426B (es) 1992-11-11
DK390688A (da) 1988-07-13
FI884659A (fi) 1988-10-11
FI83789B (fi) 1991-05-15
JPH02500988A (ja) 1990-04-05
EP0332653B1 (en) 1992-08-26
LTIP324A (en) 1994-10-25
WO1988003964A1 (en) 1988-06-02
RU2012695C1 (ru) 1994-05-15
NO883243L (no) 1988-07-21
LT3298B (en) 1995-06-26
EP0332653A1 (en) 1989-09-20
DE3781416D1 (de) 1992-10-01
BR8707891A (pt) 1989-10-03
LV10317A (lv) 1994-10-20
ATE79907T1 (de) 1992-09-15
DE3781416T2 (de) 1993-02-11
FI884659A0 (fi) 1988-10-11
NO883243D0 (no) 1988-07-21
IL84561A (en) 1991-06-10
LV10317B (en) 1995-06-20
DK390688D0 (da) 1988-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI83544B (fi) Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter.
US4491500A (en) Method for refinement of metal surfaces
FI83789C (fi) Vaetskedispersionsblandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter.
CH293445A (fr) Procédé de production d'un revêtement de phosphate sur une surface à base de fer.
JPS63130787A (ja) 金属表面清浄化組成物および清浄化方法
FR2563538A1 (fr) Processus pour empecher la corrosion de produits en acier noyes dans des produits inorganiques
JPH03223481A (ja) 鉄と鋼の表面の酸洗い法
US6440224B1 (en) Hydrofluoric acid generating composition and method of treating surfaces
JPH02190480A (ja) 金属表面のりん酸塩化成処理方法
CN103789801B (zh) 一种无氰预镀铜电镀液及其制备方法
JPS60146671A (ja) 工作物を溶解する性質のある化学薬品を併用するバレル研磨方法
US4477009A (en) Tungsten carbide reactive process
US5798325A (en) Composition and process for barrier coating and/or cleaning paint masks
BE488453A (fr) Procede de phosphatage des metaux
US3627653A (en) Method for cleaning metal and metal parts to remove corrosion therefrom
Holden Chemical and Electrochemical Factors Influencing the Formation of Phosphate Coatings
SU1518412A1 (ru) Способ электролитического или химического нанесени покрытий
SU1353587A1 (ru) Электролит дл электроалмазной обработки
MXPA99006863A (en) Composition and process for barrier coating and/or cleaning paint masks
JPH0762548A (ja) 炭素繊維の銅メッキ方法
PL110073B1 (en) Method of manufacturing abrasive shaped pads for surface treatment of objects in container type planishing machine
JPS6187885A (ja) 用水配管の洗滌、補修方法
PL46165B1 (fi)

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed
MM Patent lapsed

Owner name: CHEMIMETALS PROCESSING, INC.