FI83544B - Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. - Google Patents
Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. Download PDFInfo
- Publication number
- FI83544B FI83544B FI884658A FI884658A FI83544B FI 83544 B FI83544 B FI 83544B FI 884658 A FI884658 A FI 884658A FI 884658 A FI884658 A FI 884658A FI 83544 B FI83544 B FI 83544B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- mixture
- components
- dispersion
- abrasives
- surfactant
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B31/00—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
- B24B31/12—Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
- B24B31/14—Abrading-bodies specially designed for tumbling apparatus, e.g. abrading-balls
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
- C25D5/36—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Disintegrating Or Milling (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
1 83544
Kuiva rakeinen seos ja menetelmä rautakomponenttien kiillottamiseksi Tämä keksintö koskee seosta, joka soveltuu sekoi-5 tettavaksi veteen ja käytettäväksi rautametalleille tarkoitetussa, märkäprosessiin perustuvassa hankauspintakä-sittelylaitteistossa, kuten rumpusekoittimessa tms, sekä tämän seoksen käyttöön perustuvaa menetelmää rautametalli-komponenttien valmistamiseksi seuraavaa pinnan galvanoin-10 tia varten, joka menetelmä käsittää vaiheet, joissa valmistetaan dispersio, joka sisältää happoa ja sekvestraus-ainetta, upotetaan komponentit ja hankaavat aineet dispersioon, ja sekoitetaan komponentteja ja hankaavia aineita samalla, kun komponentteja ja hankaavia aineita pidetään 15 upotettuna dispersioon.
Samantapainen teknologia on ollut tätä ennen tunnettua mm. US-paentista 2 890 944 (Hays), US-patenteista 2 940 838, 2 981 610, 3 052 582 ja 3 061 494 (Herman Ben Snyder) sekä US-patentista 4 491 500 (Michaud et ai).
20 Tätä ennen on rautametallikomponenttien valmistuk sessa ollut tunnettua, että tällaisten komponenttien gal-vanointi voi palvella kahta tarkoitusta suojaamalla rauta-materiaalia ruosteelta tai muulta hajoamiselta ja parantamalla ulkonäköä. Näistä syistä on yleistä suorittaa kä-25 sityökalujen, kuten jakoavainten yms. päällystys kirkkail la galvanointipinnoitteilla. Valmisteltaessa komponentteja tällaiseen pinnoitukseen on tärkeää, että päällystettävillä pinnoilla on tietty sileysaste ulkonäön vuoksi ja toisinaan on tärkeää, että ne kiilloitetaan. Vaikka tällainen 30 kiilloitus on tehty lukuisilla eri tavoilla, kemialliset prosessit metallin poistamiseksi ovat saavuttaneet jonkin verran menestystä ja hyväksymistä ja ne ovat noudattaneet yleensä edellä lueteltujen aikaisempien patenttien ohjeita.
35 Kuvatun tyyppisissä prosesseissa esiintyy jatkuvaa tasapainottelua liuoksen vahvuuden ja tuottavuuden välil- 2 83544 lä. Yrittäessään saavuttaa komponenttien suuren tuottavuuden ja lyhyet jaksoajät laitteiston käytössä jotkut käyttäjät ovat yrittäneet käyttää voimakkaan happamia liuoksia. Yrittäessään saavuttaa toivottuja pinnanlaatuja 5 toiset käyttäjät ovat yrittäneet käyttää vähemmän happamia liuoksia. Kummassakin tapauksessa saatetaan kohdata vaikeuksia käytettyjen liuosten ja syntyneiden poistovirtojen kuluessa loppuun. Yrityksiin pidentää liuosten käyttökelpoisuutta on liittynyt sekvestrausaineiden käyttö käyttö-10 liuosten kulumisen välttämiseksi.
Pitäen mielessä aikaisemmin suoritetut ponnistelut ja kohdatut ongelmat tämän keksinnön tavoitteena on saavuttaa kemiallisesti tasoitetut pinnat kirkkaiden galvanoitujen pinnoitteiden saamiseksi optimaalisessa proses-15 sointiajassa ja mahdollisimman pienellä epämieluisalla poistovirralla. Toteutettaessa tätä keksinnön tavoitetta edellä lyhyesti kuvatun yleisen tyypin mukaista prosessia parannetaan käyttäen orgaanista happoliuosta, jolla saavutetaan haluttu metallin poisto halutulla nopeudella. Tuo-20 tantokyky käyttäen tässä keksinnössä tarkastettua liuosta on parempi kuin se, joka toteutuu käytettäessä aikaisemmin käytettyjä vahvempia liuoksia samalla, kun prosessin pois-tovirta lähestyy yhä enemmän kemiallisesti neutraalia jätettä.
25 Toisena tämän keksinnön tavoitteena on saada aikaan seos, joka voidaan seostaa ja käsitellä kuivana rakeisena materiaalina ja sekoittaa sitten veteen tarvittavan käyt-töliuoksen aikaansaamiseksi tarpeen mukaan. Toteutettaessa tätä keksinnön tavoitetta edellä lyhyesti kuvatussa pro-30 sessissa käytettyjen käyttökemikaalien käsittely ja valmistus yksinkertaistuu niille käyttäjille, jotka saattavat pitää kuivaa rakeista materiaalia etusijalla ko. tarkoitukseen.
Keksinnön päätavoitteiden tultua esitetyksi muut 35 tavoitteet käyvät ilmi kuvauksen edistyessä. Vaikka tätä keksintöä kuvataan täydellisemmin jäljempänä, on ymmärret-
II
3 83544 tävä seuraavassa kuvauksen alussa, että asianmukaisiin aloihin perehtyneet henkilöt voivat muuttaa tässä kuvattua keksintöä ja silti saavuttaa tämän keksinnön edulliset tulokset. Tästä johtuen seuraavan kuvauksen on ymmärrettä-5 vä olevan laaja, ohjeellinen selostus, joka on suunnattu asianmukaisiin aloihin perehtyneille henkilöille, eikä tätä keksintöä rajoittava.
Keksinnön mukainen seos on kuiva ja rakeinen seos, jolle on tunnusomaista, että se sisältää painoprosentteina 10 korkeintaan n. 40 % oksaalihappoa, korkeintaan n. 30 % fosforisekvestrausainetta, oksaalihapon ja sekvestrausai-neen välisen painosuhteen ollessa n. 2,0:1-0,4:1; ammo-nointiainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas sen liuoksen pH-arvon säätämiseen välille n. 3,5-6,5, joka 15 muodostuu liuotettaessa seos veteen; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas seoksen kostut-tamiseen; ja kantoainetta määrän, joka on riittävä muodostamaan loppuosan seoksesta ja tehokas pitämään seoksen aineosat helposti käsiteltävässä kuivassa rakeisessa muo-20 dossa.
Fosforisekvestrausaine voi olla mikä tahansa epäorgaanisista fosfaateista, joilla on se ominaisuus, että ne sekvestraavat rautametalli-ioneja ja/tai monista orgaanisista fosfaateista, joilla on tällaiset ominaisuudet. 25 Niitä, joiden on havaittu toimivan paremmin tämän keksinnön seoksissa, ovat pyrofosfaatit, tripolyfosfaatit ja fosfonaatit. Kaikkein edullisin on tetranatriumpyrofos-faatti.
Puskurointi- ja/tai ammonointiaineet voivat olla 30 mitä tahansa ammoniakkia vapauttavaa tai synnyttävää ma teriaalia, jolla on liuoksen pH-arvoa tasoittava vaikutus. On määritetty, että yhdistetty vaikutus, jossa happoaine-osa poistaa metallia ja sekvestrausaine pitää metalli-ionit liuoksessa ja estää niiden saostumisen takaisin kom-35 ponenteille galvanointityyppisessä prosessissa, on pH-ar- vosta riippuva, eikä ala ja/tai edisty sopivasti alle n.
4 83544 3,5 olevilla pH-tasoilla. Näin ollen tässä keksinnössä tarkastelluissa seoksissa ja menetelmissä on tärkeää säätää tätä tekijää. Edullinen materiaali tämän säädön suorittamiseen on monoetanoliamiini. Monoetanoliamiini on 5 neste ja sen käytön toteuttamiseksi tässä keksinnössä tarkastellussa kuivassa rakeisessa materiaalissa on välttämätöntä lisätä kantoainetta tätä nestettä varten. Tämä suoritetaan käyttäen absorptioainetta ja edullinen materiaali on piimää, joka on kemiallisesti oleellisesti inertti ky-10 seisen seoksen ja seosta käyttävien menetelmien tarkoituksiin.
Jotta varmistettaisiin, että tämän keksinnön seokset menevät vesiliuokseen, jotka sekoitetaan käyttöä varten, on toivottavaa lisätä kostutusainetta pinta-aktiivi-15 sen aineen muodossa. Edullinen pinta-aktiivinen aine on vaahtoamaton, ioniton materiaali ja lisäksi on edullista, että tämä materiaali on pienen HLB-arvon tyyppiä.
Oksaalihapon ja sekvestrausaineen välinen suhde on merkityksellinen tasapainotettaessa metallin poistonopeut-20 ta pintaviimeistelyn toteuttamiseksi etsauksen sijasta, joka johtuu liian voimakkaasta metallin poistosta, koska molemmat käytetyt materiaalit myötävaikuttavat metallin poistoon. Kokeilu, jossa muutellaan hapon ja sekvestrausaineen välistä suhdetta, on osoittanut, että yleisesti . 25 sekvestrausaineen määrän lisääminen suhteessa happoon nos taa metallin poistonopeutta ja lisää myös todennäköisyyttä, että metallin poisto aiheuttaa selvästi erottuvan "huurteisen" ulkonäön, joka katsotaan etsaukseksi ja joka kokemuksen mukaan on kiilloitettava, ennenkuin tyydyttävä 30 galvanointi voidaan toteuttaa. Vaikka tällaisiin tuloksiin johtavaa mekanismia ei ehkä täysin ymmärretä, arvellaan olevan todennäköistä, että vaihtelevat pitoisuudet aiheuttavat metallin poiston tehokkuuden vaihtelevia arvoja mikroskooppisella tasolla aikaansaaden komponenttien "huippu-35 ja ja laaksoja" tai karheutta. Kun metallin poisto on olennaisesti sama molemmilla alueilla, saadaan huurteinen il 5 83544 pinta. Kun metallin poistoa tapahtuu enemmän huippujen kohdalla, saavutetaan parempi sileys ja lopullinen komponentti on hyväksyttävämpi. Riippuen osittain kulloinkin käsiteltävästä rautalejeeringistä hapon ja sekvestrausai-5 neen välisten suhteiden n. 2:1 - 0,3:1 paino-osina on havaittu olevan hyväksyttäviä ja niitä tarkastellaan tässä keksinnössä. Edullinen alue on n. 1,4:1 paino-osina.
Käytössä tämän keksinnön seoksia voidaan käyttää missä tahansa tunnettua tyyppiä olevassa märkähankausvii-10 meistelylaitteessa, joka kykenee vastustamaan tuloksena olevien dispersioiden syövyttäviä vaikutuksia. Esimerkkejä tällaisesta laitteistosta on lueteltu edellä ilmoitetuissa aikaisemmissa patenteissa ja niitä voivat olla avonaiset ja suljetut rumpusekoittimet, linkouskoneet, täry-15 tyskoneet ja rullauskoneet. Tällainen laitteisto voi kyetä painoprosessointiin, jatkuvatoimiseen tai läpivirtauspro-sessointiin tai molempiin. Käytetyt liuokset voidaan jakaa panoksiksi tai niitä voidaan kierrättää. Tällaisen laitteiston valinta jätetään soveltuvaan alaan perehtyneen 20 henkilön taitojen Ja tämän keksinnön ohjeiden varaan. Kuitenkin tässä jäljempänä täydellisemmin esitetään, edullisessa prosessissa käytetään laitteistoa, joka on järjestetty kierrättämään liuosta.
Keksinnön mukaiselle menetelmälle rautametallikom-25 ponenttien valmistelemiseksi seuraavaa pinnan galvanointia varten, joka menetelmä käsittää vaiheet, joissa valmistetaan dispersio, joka sisältää happoa ja sekvestrausainet-ta, upotetaan komponentit ja hankaavat aineet dispersioon, ja sekoitetaan komponentteja ja hankaavia aineita samalla, 30 kun komponentteja ja hankaavia aineita pidetään upotettuna dispersioon, on tunnusomaista, että menetelmä käsittää vaiheet, joissa: valmistetaan dispersio sekoittamalla veteen, noin 60 - 90 g/1 vettä kuivaa, rakeista seosta, joka sisältää painoprosentteina korkeintaan 40 % oksaalihap-35 pokiteitä; korkeintaan noin 30 % kiteistä fosforisekvest-rausainetta; oksaalihappokiteiden ja sekvestrausainekitei- 6 83544 den välisen painosuhteen ollessa välillä noin 1,2:1 -0,4:1; nestemäistä amiinia olevaa ammonointiainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas säätämään sen liuoksen pH:n arvoon noin 3,5, joka muodostuu liuotettaessa seos 5 veteen; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas toteuttamaan seoksen kostuttamisen; ja rakeista absorptioainetta määrän, joka on riittävä muodostamaan loppuosan seoksesta ja tehokas absorboimaan sanotun nestemäistä amiinia olevan ammonointiaineen ja toimimaan sen 10 kantoaineena; seurataan dispersion pH-tasoa komponenttien ja hankausaineiden sekoituksen aikana; ja reagoidaan seurattuihin pH-tasoihin lisäämällä alkalia ja säätämällä siten dispersion pH-tasoa tämän pH-arvon pitämiseksi välillä noin 3,5 - 7,0 koko komponenttien ja hankausaineiden 15 sekoituksen ajan.
On huomattava, että tässä keksinnössä tarkasteltujen seosten onnistuneessa käytössä tulee esille ilmeinen tekijä, joka johtuu natrium- ja ammoniumoksalaattien ja ferri/ferronatrium/ammoniumoksalaattien erilaisista liu-20 koisuuksista, joita oksalaatteja muodostuu, kun seoksia lisätään käsittelyastioihin, jossa rautakomponentteja viimeistellään. Viimemainitut materiaalit ovat merkittävästi liukoisempia veteen, mikä myötävaikuttaa tämän keksinnön avulla haettuun ja toteutettuun pintakäsittelyvai-25 kutukseen.
Tämän keksinnön edullisessa suoritusmuodossa dispersion pH-arvo pidetään välillä noin 4,5-5,0 koko komponenttien ja hankausväliaineiden sekoituksen ajan. Sekoitus jatkuu edullisesti siihen saakka, kunnes pehmeä, mus-30 tahko kalvo on muodostunut rautakomponenttien pinnalle.
Kokeilu on osoittanut, että optimi tuottavuus saavutetaan kierrätystyyppisellä prosessilla ja liuoksen kiertäessä virtausnopeudella noin 0,03-0,13 1/h litraa kohtia astian olevaa tilavuutta, jonka dispersio, komponentit ja hankaa- 35 vat aineet täyttävät.
li 7 83544
Tiettyjä tämän keksinnön kehityksessä suoritettuja kokeita esitetään seuraavissa esimerkeissä.
Esimerkki 1 Käyttäen laboratoriokokoista suljettua rumpusekoi-5 tinta ja pientä määrää hylsyavaimien hylsyjä, valmistettiin veden ja kuivan rakeisen seoksen liuos. Seos sisälsi yhtä monta paino-osaa oksaalihappokiteitä ja fosfaattia ja sitä sekoitettiin veteen suhteessa 60 g seosta litrassa vettä. Tavallista kotitalouden puhdistusammoniakkia lisät-10 tiin liuokseen riittävä määrä pH:n säätämiseksi arvoon n.
4. Rautametallikomponentteja rumpusekoitettiin 8 tuntia, poistettiin rummusta ja pestiin. Havaittiin, että hoikkien pinnat olivat tasoittuneet ja harmaa kalvo oli kehittynyt pinnoille. Holkeilla katsottiin olevan galvanointiin hy-15 väksyttävät pinnat.
Esimerkki 2 Käyttäen esimerkin 1 rumpusekoitinta ja vastaavaa määrää rautametallikomponentteja valmistettiin liuos samalla tavoin käyttäen oksaalihapon ja fosfaatin välistä 20 suhdetta 0,30:1. Tavallista kotitalouden puhdistusammo niakkia käytettiin ammonointiaineena. Prosessoiduilla komponenteilla havaittiin olevan huurteinen pinnan ulkonäkö, jonka katsottiin osoittavan riittämätöntä metallin poistoa. Vaikka ne olivat hyväksyttäviä galvanointiin, galva-25 noidut komponentit olivat visuaalisesti vähemmän hyväksyt täviä kuin esimerkin 1 komponentit.
Esimerkki 3
Valmistettiin kuiva rakeinen seos käyttäen oksaalihappokiteitä ja tetranatriumpyrofosfaattia suhteessa 2:1.
30 Monoetanoliamiinia sekoitettiin piimäähän suhteessa n.
0,33:1, kunnes piimää oli absorboinut nestemäisen amiinin. Happoa ja fosfaattia sekoitettiin sitten amiinikantoai-neeseen suhteessa n. 1,5:1 kuivan rakeisen seoksen muodostamiseksi. Hapon, fosfaatin, amiinin ja kantoaineen kui-35 vaa, rakeista seosta sekoitettiin sitten veteen suhteessa 8 83544 90 g/1 vettä ja käytettiin kaupallista kokoa olevassa tä-rymaljapintakäsittelylaitteistossa suuren komponenttimää-rän pintojen käsittelemiseksi. Komponentteja prosessoitiin 4 tuntia ja niillä havaittiin olevan hyväksyttävä pinnan-5 laatu ja nokimainen musta kalvo.
Esimerkki 4
Valmistettiin samanlainen kuiva, rakeinen seos kuin esimerkissä 3 lisäten n. 1 p-% vaahtoamatonta, ionitonta pinta-aktiivista ainetta. Seosta sekoitettiin veteen suh-10 teessä 75 g/1. Havaittiin, että nestemäisen pintakäsitte-lyseoksen sekoittaminen parani verrattuna esimerkin 3 seokseen. Pintakäsittelyseosta käytettiin avoimessa rumpu-sekoittimessa, kierrätetyssä virtaussysteemissä käsityökalujen prosessointiin. Havaittiin, että metallin poisto 15 alkoi noin 15 minuutin kuluttua ja että tyydyttävä pinnanlaatu saavutettiin n. 6 tunnin aikana.
Esimerkki 5
Valmistettiin kuiva rakeinen seos käyttäen oksaali-happokiteitä ja tetranatriumpyrofosfaattia suhteessa 20 1,4:1. Monoetanoliamiinia sekoitettiin piimäähän suhteessa n. 0,4:1, kunnes piimää oli absorboinut nestemäisen amiinin. Happoa ja fosfaattia sekoitettiin sitten amiinikanto-aineeseen suhteessa n. 1,5:1 kuivan rakeisen seoksen muodostamiseksi. Hapon, fosfaatin, amiinin ja kantoaineen 25 kuivaa rakeista seosta sekoitettiin sitten veteen suhteessa 75 g/1 vettä ja käytettiin kaupallista kokoa olevassa tärymaljapintakäsittelylaitteistossa, jossa oli kierrätetty virtaus, suuren komponenttimäärän pintojen käsittelemiseksi. Komponentteja prosessoitiin 5 tuntia kierrätetyllä 30 virtausnopeudella 0,11 1/h litraa kohti koneen vetoisuutta ja niillä havaittiin olevan hyväksyttävä pinnanlaatu ja nokimainen musta kalvo.
Vaikka tähän esitykseen sisältyvät esimerkit heijastavat parametreja, joita on vaihdettu tämän keksinnön 35 kehittämisen aikana suoritetuissa kokeissa, tämän keksin-
II
9 83544 nön muodot, joita on pidetty etusijalla tämän esityksen kirjoittamishetkellä, ovat kuivia, rakeisia seoksia, joiden aineosina painosta laskettuna on: 35 % oksaalihappoki-teitä, 28 % nestemäisen ammonointiaineen absorptioainetta, 5 edullisesti piimaata; 25 % kiteistä fosforiyhdistettä, edullisesti tetranatriumpyrofosfaattia; 11 % ammonointi-ainetta, edullisesti monoetanoliamiinia; ja 1 % vaahtoa-matonta, ionitonta pinta-aktiivista ainetta.
Selityksessä on esitetty tämän keksinnön edullisia 10 toteutusmuotoja ja vaikka siinä on käytetty erikoistermejä, keksinnön kuvauksessa käytetään terminologiaa ainoastaan yleisessä ja kuvaavassa mielessä eikä rajoittavassa tarkoituksessa.
Claims (12)
1. Seos, joka soveltuu sekoitettavaksi veteen ja käytettäväksi rautametalleille tarkoitetussa, märkäpro- 5 sessiin perustuvassa hankauspintakäsittelylaitteistossa, kuten rumpusekoittimessa tms, tunnettu siitä, että se sisältää painoprosentteina korkeintaan n. 40 % oksaalihappoa, korkeintaan n. 30 % fosforisekvestrausainet-ta, oksaalihapon ja sekvestrausaineen välisen painosuh-10 teen ollessa n- 2,0:1-0,4:1; ammonointiainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas sen liuoksen pH-arvon säätämiseen välille n. 3,5-6,5, joka muodostuu liuotettaessa seos veteen; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas seoksen kostuttamiseen; ja kantoai-15 netta määrän, joka on riittävä muodostamaan loppuosan seoksesta ja tehokas pitämään seoksen aineosat helposti käsiteltävässä kuivassa rakeisessa muodossa.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen seos, tunnettu siitä, että ammonointiaine on nestemäinen 20 amiini ja kantoaine on rakeinen absorptioaine, joka on tehokas absorboimaan nestemäistä amiinia olevan ammonoin-tlaineen ja toimimaan sen kantoaineena.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen seos, tunnettu siitä, että fosforisekvestrausaine on 25 pyrofosfaatti, tripolyfosfaatti tai fosfonaatti.
4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen seos, tunnettu siitä, että fosforisekvestrausaine on tetranatriumpyrofosfaatti ja/tai ammonointiaine on mo-noetanoliamiini ja/tai absorptioaine on piimää.
5. Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen seos, tunnettu siitä, että pinta-aktiivinen aine on vaahtoamaton, pienen HLB-arvon ioniton pinta-aktiivinen aine.
6. Jonkin patenttivaatimuksista 1-5 mukainen 35 seos, tunnettu siitä, että se sisältää painopro- II 11 83544 sentteinä seoksen kokonaispainosta laskettuna korkeintaan noin 2 % pinta-aktiivista ainetta ja/tai korkeintaan noin 15 % ammonointlainetta ja/tai yhteensä noin 50 - 65 % oksaalihappoa ja fosforisekvestrausainetta.
7. Menetelmä rautametallikomponenttien valmista miseksi seuraavaa pinnan galvanointia varten, joka menetelmä käsittää vaiheet, joissa valmistetaan dispersio, joka sisältää happoa ja sekvestrausainetta, upotetaan komponentit ja hankaavat aineet dispersioon, ja sekoite-10 taan komponentteja ja hankaavia aineita samalla, kun komponentteja ja hankaavia aineita pidetään upotettuna dispersioon, tunnettu siitä, että menetelmä käsittää vaiheet, joissa: valmistetaan dispersio sekoittamalla veteen, noin 60 - 90 g/1 vettä kuivaa, rakeista seosta, jo-15 ka sisältää painoprosentteina korkeintaan 40 % oksaali-happokiteitä; korkeintaan noin 30 % kiteistä fosforisekvestrausainetta; oksaalihappokiteiden ja sekvestrausaine-kiteiden välisen painosuhteen ollessa välillä noin 1,2:1 - 0,4:1; nestemäistä amiinia olevaa ammonointiai-20 netta määrän, joka on riittävä ja tehokas säätämään sen liuoksen pH:n arvoon noin 3,5, joka muodostuu liuotettaessa seos veteen; pinta-aktiivista ainetta määrän, joka on riittävä ja tehokas toteuttamaan seoksen kostuttami-sen; ja rakeista absorptioainetta määrän, joka on riittä-'25 vä muodostamaan loppuosan seoksesta ja tehokas absorboimaan sanotun nestemäistä amiinia olevan ammonointiaineen ja toimimaan sen kantoaineena; seurataan dispersion pH-tasoa komponenttien ja hankausaineiden sekoituksen aikana; ja reagoidaan seurattuihin pH-tasoihin lisäämällä al-30 kalia ja säätämällä siten dispersion pH-tasoa tämän pH-arvon pitämiseksi välillä noin 3,5 - 7,0 koko komponenttien ja hankausaineiden sekoituksen ajan.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että pinta-aktiivinen aine on 35 vaahtoamaton, pienen HLB-arvon ioniton pinta-aktiivinen i2 83544 aine ja/tai fosforisekvestrausaine on pyrofosfaatti, tri-polyfosfaatti tai fosfonaatti ja/tai nestemäistä amiinia oleva ammonointiaine on monoetanoliamiini ja/tai absorp-tioaine on piimää.
9. Patenttivaatimuksen 7 tai 8 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että pinta-aktiivista ainetta on korkeintaan 2 % kuivan rakeisen koostumuksen painosta laskettuna ja/tai komponenttien ja hankaavien aineiden sekoituksen aikana dispersion pH pidetään koko ajan vä-10 Iillä noin 4,5 - 5,0.
10. Jonkin patenttivaatimuksista 7-9 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että fosforisekvestrausaine on tetranatriumpyrofosfaatti.
11. Jonkin patenttivaatimuksista 7-10 mukainen 15 menetelmä, tunnettu siitä, että jatketaan komponenttien ja hankaavien aineiden sekoittamista sellainen aika, että pehmeä mustahko kalvo on muodostunut rautakom-ponenttien pinnalle.
12. Jonkin patenttivaatimuksista 7-11 mukainen 20 menetelmä, tunnettu siitä, että dispersiota kierrätetään astian läpi, joka sisältää komponentit ja han-kaavat aineet, ja edelleen että kierrätetään dispersiota virtausnopeudella noin 0,03 - 0,13 1/h litraa kohti sitä astiassa olevaa tilavuutta, jonka dispersio, komponentit 25 ja hankaavat aineet täyttävät. li i3 83544
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/934,469 US4724042A (en) | 1986-11-24 | 1986-11-24 | Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous components |
US93446986 | 1986-11-24 | ||
US8703093 | 1987-11-20 | ||
PCT/US1987/003093 WO1988003963A1 (en) | 1986-11-24 | 1987-11-20 | Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous compositions |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI884658A FI884658A (fi) | 1988-10-11 |
FI884658A0 FI884658A0 (fi) | 1988-10-11 |
FI83544B true FI83544B (fi) | 1991-04-15 |
FI83544C FI83544C (fi) | 1991-07-25 |
Family
ID=25465618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI884658A FI83544C (fi) | 1986-11-24 | 1988-10-11 | Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4724042A (fi) |
EP (1) | EP0334877B1 (fi) |
JP (1) | JPH02500757A (fi) |
AT (1) | ATE86311T1 (fi) |
BR (1) | BR8707893A (fi) |
DE (1) | DE3784517T2 (fi) |
DK (1) | DK390588A (fi) |
FI (1) | FI83544C (fi) |
IL (1) | IL84562A (fi) |
LT (1) | LT3297B (fi) |
LV (1) | LV10316B (fi) |
MX (1) | MX165427B (fi) |
NO (1) | NO176722C (fi) |
NZ (1) | NZ222626A (fi) |
RU (1) | RU2062305C1 (fi) |
WO (1) | WO1988003963A1 (fi) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8701407A (nl) * | 1987-06-17 | 1989-01-16 | Vunderink Ate | Een oppervlakte techniek die het massaal slijpen en polijsten van metalen artikelen in rotofinish apparatuur sneller doet verlopen. |
DE3800834A1 (de) * | 1988-01-14 | 1989-07-27 | Henkel Kgaa | Verfahren und mittel zum gleichzeitigen gleitschleifen, reinigen und passivieren metallischer werkstuecke |
US4906327A (en) * | 1989-05-04 | 1990-03-06 | Rem Chemicals, Inc. | Method and composition for refinement of metal surfaces |
USRE34272E (en) * | 1989-05-04 | 1993-06-08 | Rem Chemicals, Inc. | Method and composition for refinement of metal surfaces |
DE69734868T2 (de) * | 1996-07-25 | 2006-08-03 | Dupont Air Products Nanomaterials L.L.C., Tempe | Zusammensetzung und verfahren zum chemisch-mechanischen polieren |
US20040140288A1 (en) * | 1996-07-25 | 2004-07-22 | Bakul Patel | Wet etch of titanium-tungsten film |
US20040134873A1 (en) * | 1996-07-25 | 2004-07-15 | Li Yao | Abrasive-free chemical mechanical polishing composition and polishing process containing same |
US6261154B1 (en) | 1998-08-25 | 2001-07-17 | Mceneny Jeffrey William | Method and apparatus for media finishing |
US6409936B1 (en) | 1999-02-16 | 2002-06-25 | Micron Technology, Inc. | Composition and method of formation and use therefor in chemical-mechanical polishing |
US6426295B1 (en) | 1999-02-16 | 2002-07-30 | Micron Technology, Inc. | Reduction of surface roughness during chemical mechanical planarization(CMP) |
US6638326B2 (en) * | 2001-09-25 | 2003-10-28 | Ekc Technology, Inc. | Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride |
US6895855B2 (en) | 2001-10-01 | 2005-05-24 | The Timken Company | Hydraulic motors and pumps with engineered surfaces |
US6866792B2 (en) * | 2001-12-12 | 2005-03-15 | Ekc Technology, Inc. | Compositions for chemical mechanical planarization of copper |
EP2401607B1 (en) | 2009-02-25 | 2015-11-25 | Illumina, Inc. | Separation of pyrophosphate release and pyrophosphate detection |
US10179388B2 (en) * | 2009-05-12 | 2019-01-15 | Rem Technologies, Inc. | High throughput finishing of metal components |
CN103540947B (zh) * | 2013-10-30 | 2015-10-21 | 涿州安泰星电子器件有限公司 | 一种电镀基材除油剂及其制备方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2666000A (en) * | 1950-10-11 | 1954-01-12 | Standard Oil Dev Co | Process for cleaning automobile radiators |
US2832706A (en) * | 1953-05-12 | 1958-04-29 | Victor Chemical Works | Metal cleaning and phosphating composition and method of cleaning and phosphating |
US2890944A (en) * | 1956-05-25 | 1959-06-16 | North American Aviation Inc | Continuous chemical milling process |
US2981610A (en) * | 1957-05-14 | 1961-04-25 | Boeing Co | Chemical milling process and composition |
US2940838A (en) * | 1957-08-19 | 1960-06-14 | Boeing Co | Chemical milling |
US3094489A (en) * | 1959-08-31 | 1963-06-18 | Monsanto Chemicals | Method and composition for brightening aluminum |
US3052582A (en) * | 1959-10-05 | 1962-09-04 | Boeing Co | Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor |
US3061494A (en) * | 1959-10-05 | 1962-10-30 | Boeing Co | Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor |
SE400581B (sv) * | 1974-12-13 | 1978-04-03 | Nordnero Ab | Bad for kemisk polering av koppar och dess legeringar |
AT366422B (de) * | 1980-06-30 | 1982-04-13 | Wiener Brueckenbau | Phosphorsaures medium und verfahren zum dampfstrahl-phosphatieren von stahlkonstruktionen mittels dieses mediums |
SU1093732A1 (ru) * | 1983-04-04 | 1984-05-23 | Bereshchenko Alla A | Раствор дл виброхимического удалени заусенцев со стали |
US4491500A (en) * | 1984-02-17 | 1985-01-01 | Rem Chemicals, Inc. | Method for refinement of metal surfaces |
US4532066A (en) * | 1984-03-05 | 1985-07-30 | Sterling Drug Inc. | Stable mildly acidic aqueous polishing cleanser and preparation thereof |
US4705594A (en) * | 1986-11-20 | 1987-11-10 | Rem Chemicals, Inc. | Composition and method for metal surface refinement |
-
1986
- 1986-11-24 US US06/934,469 patent/US4724042A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-11-20 NZ NZ222626A patent/NZ222626A/xx unknown
- 1987-11-20 RU SU874614297A patent/RU2062305C1/ru active
- 1987-11-20 WO PCT/US1987/003093 patent/WO1988003963A1/en active IP Right Grant
- 1987-11-20 BR BR8707893A patent/BR8707893A/pt active Search and Examination
- 1987-11-20 DE DE87908091T patent/DE3784517T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-20 EP EP87908091A patent/EP0334877B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-20 AT AT87908091T patent/ATE86311T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-11-20 JP JP63500332A patent/JPH02500757A/ja active Pending
- 1987-11-23 IL IL84562A patent/IL84562A/xx not_active IP Right Cessation
- 1987-11-24 MX MX009451A patent/MX165427B/es unknown
-
1988
- 1988-07-13 DK DK390588A patent/DK390588A/da not_active Application Discontinuation
- 1988-07-21 NO NO883242A patent/NO176722C/no unknown
- 1988-10-11 FI FI884658A patent/FI83544C/fi not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-12-22 LV LVP-92-359A patent/LV10316B/en unknown
-
1993
- 1993-01-20 LT LTIP287A patent/LT3297B/lt not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LV10316B (en) | 1995-06-20 |
WO1988003963A1 (en) | 1988-06-02 |
US4724042A (en) | 1988-02-09 |
MX165427B (es) | 1992-11-11 |
EP0334877B1 (en) | 1993-03-03 |
EP0334877A4 (en) | 1989-12-28 |
LT3297B (en) | 1995-06-26 |
ATE86311T1 (de) | 1993-03-15 |
FI884658A (fi) | 1988-10-11 |
JPH02500757A (ja) | 1990-03-15 |
IL84562A0 (en) | 1988-04-29 |
EP0334877A1 (en) | 1989-10-04 |
IL84562A (en) | 1991-05-12 |
DK390588D0 (da) | 1988-07-13 |
DK390588A (da) | 1988-07-13 |
LV10316A (lv) | 1994-10-20 |
NO176722C (no) | 1995-05-16 |
NO883242D0 (no) | 1988-07-21 |
NO883242L (no) | 1988-07-21 |
FI884658A0 (fi) | 1988-10-11 |
LTIP287A (en) | 1994-10-25 |
NZ222626A (en) | 1990-07-26 |
NO176722B (no) | 1995-02-06 |
BR8707893A (pt) | 1989-10-03 |
DE3784517T2 (de) | 1993-10-07 |
FI83544C (fi) | 1991-07-25 |
DE3784517D1 (de) | 1993-04-08 |
RU2062305C1 (ru) | 1996-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI83544B (fi) | Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. | |
CA1218584A (en) | Method for refinement of metal surfaces | |
EP0324394B1 (de) | Verfahren und Mittel zum gleichzeitigen Gleitschleifen, Reinigen und Passivieren metallischer Werkstücke | |
CA2022492C (en) | Burnishing method and composition | |
DE68906885T2 (de) | Verfahren und zusammensetzung zum polieren von metalloberflaechen. | |
JPS63130787A (ja) | 金属表面清浄化組成物および清浄化方法 | |
FI83789C (fi) | Vaetskedispersionsblandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. | |
USRE34272E (en) | Method and composition for refinement of metal surfaces | |
JPS63186879A (ja) | リン酸塩皮膜の形成方法 | |
MXPA99006863A (en) | Composition and process for barrier coating and/or cleaning paint masks | |
PL131920B1 (en) | Hydrophilizing agent in particular for aluminium offset formes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BB | Publication of examined application | ||
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: CHEMIMETALS PROCESSING, INC. |