FI83544B - Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. - Google Patents

Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. Download PDF

Info

Publication number
FI83544B
FI83544B FI884658A FI884658A FI83544B FI 83544 B FI83544 B FI 83544B FI 884658 A FI884658 A FI 884658A FI 884658 A FI884658 A FI 884658A FI 83544 B FI83544 B FI 83544B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
mixture
components
dispersion
abrasives
surfactant
Prior art date
Application number
FI884658A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI884658A (fi
FI884658A0 (fi
FI83544C (sv
Inventor
Peter G Sherman
Original Assignee
Chemimetals Processing Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chemimetals Processing Inc filed Critical Chemimetals Processing Inc
Publication of FI884658A publication Critical patent/FI884658A/fi
Publication of FI884658A0 publication Critical patent/FI884658A0/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI83544B publication Critical patent/FI83544B/fi
Publication of FI83544C publication Critical patent/FI83544C/sv

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/12Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
    • B24B31/14Abrading-bodies specially designed for tumbling apparatus, e.g. abrading-balls
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F3/00Brightening metals by chemical means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/36Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Disintegrating Or Milling (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Claims (12)

1. Blandning sora lämpar sig att blandas med vatten och användas i en för järnmetaller avsedd ρά den väta vä- 5 gen baserande slipande ytbehandlingsapparatur, säsom i en polertrumma eller liknande, kännetecknad därav, att den per vikt-% omfattar högst ca 40 % oxalsyra, högst ca 30 % av ett fosforhaltigt sekvestreringsmedel, varvid viktförhällandet melian oxalsyra och sekvestre- 10 ringsmedel är ca 2,0:1 - 0,4:1; ett ammonifieringsmedel i en mängd som är tillräcklig och effektiv att inställa pH-värdet till omrädet ca 3,5 - 6,5 hos den lösning som bil-das dä man upplöser blandningen i vatten; ett ytaktivt medel i en mängd som är tillräcklig och effektiv att 15 ästadkomma vätning av blandningen; och ett bärarmedel i en mängd som är tillräcklig att bilda äterstoden av blandningen och effektiv att hälla blandningens beständsdelar i en lätt hanterbar torr granulatform.
2. Blandning enligt patentkravet 1, k ä n n e - 20 tecknad därav, att ammonifieringsmedlet är ett fly-tande amin och bärarmedlet är ett granulärt absorptionsme-del som är effektivt att absorbera ammonifieringsmedlet som bestär av ett flytande amin och att verka som bärarmedel tili det.
3. Blandning enligt patentkravet 1 eller 2, kän netecknad därav, att det fosforhaltiga sekvestre-ringsmedlet är pyrofosfat, tripolyfosfat eller fosfonat.
4. Blandning enligt nägot av patentkraven 1-3, kännetecknad därav, att det fosforhaltiga sek- 30 vestreringsmedlet är tetranatriumpyrofosfat och/eller ammonifieringsmedlet är monoetanolamin och/eller absorp-tionsmedlet är kiselgur.
5. Blandning enligt nägot av patentkraven 1-4, kännetecknad därav, att det ytaktiva medlet är 35 ett icke-skumbildande, icke-jonaktivt ytaktivt medel med ett lägt HLB-värde. i4 83544
6. Blandning enligt nägot av patentkraven 1-5, kännetecknad därav, att den innehäller per vikt-%, beräknat pä totalvikten av blandningen, högst ca 2 % av det ytaktiva medlet och/eller högst ca 15 % av ammo- 5 nifieringsmedlet och/eller tillsammans ca 50 - 65 % av oxalsyra och det fosforhaltiga sekvestreringsmedlet.
7. Förfarande för framställning av järnmetallkompo-nenter för efterföljande ytgalvanisering, vilket förfarande omfattar steg, 1 vilka framställs en dispersion som 10 innehäller en syra och ett sekvestreringsmedel, nedsänker komponenterna och slipmedel i dispersionen, och omrör kom-ponenterna och slipmedlen medan komponenterna och slipmed-len hälls nedsänkta i dispersionen, känneteck-n a t därav, att förfarandet omfattar steg, i vilka: 15 framställs en dispersion genom att blanda en torr, granu-lär blandning, som per vikt-% omfattar högst 40 % oxalsy-rakristaller med vatten, ca 60 - 90 g/1 vatten; högst ca 30 % av ett kristallint fosforhaltigt sekvestreringsmedel; varvid viktförhällandet mellan oxalsyrakristaller och sek-20 vestreringsmedelkristaller är ca 1,2:1 - 0,4:1; ett av ett flytande amin bestäende ammonifieringsmedel, i en mängd som är tillräcklig och effektiv att inställa pH hos den lösning, som bildas dä blandningen upplöses i vatten, tili värdet ca 3,5; ett ytaktivt medel i en mängd som är till-25 räcklig och effektiv att ästadkomma vätning av blandningen; och ett granulärt absorptionsmedel i en mängd som är tillräcklig att bilda äterstoden av blandningen och effektiv att absorbera nämnda ammonifieringsmedel, vilket bestär av ett flytande amin, och att verka som bärarmedel 30 tili det; pH-nivän hos dispersionen övervakas under omrör-ningen av komponenterna och slipmedlen; och pä registrera-de pH-niväer reageras genom att tillsätta alkali och pä sä sätt inställa pH-nivän hos dispersionen för att upprätt-hälla dess pH-nivä inom omrädet ca 3,5 - 7,0 under hela 35 omrörningen av komponenterna och slipmedlen. il is 83544
8. Förfarande enligt patentkravet 7, kännetecknat därav, att det ytaktlva medlet är ett icke-skumbildande, icke-jonaktivt ytaktivt medel med ett lägt HLB-värde och/eller det fosforhaltiga sekvestreringsmedlet 5 är pyrofosfat, tripolyfosfat eller fosfonat och/eller am-monifieringsmedlet, som bestär av ett flytande amin, är monoetanolamin och/eller absorptionsmedlet är klselgur.
9. Förfarande enligt patentkravet 7 eller 8, k ä n-netecknat därav, att mängden av det ytaktiva med- 10 let är högst 2 %, beräknat pä vikten av den torra granulä-ra kompositionen och/eller att under omrörningen av kompo-nenterna och slipmedlen dispersionens pH upprätthälls inom omrädet ca 4,5 - 5,0.
10. Förfarande enligt nägot av patentkraven 7-9, 15 kännetecknat därav, att det fosforhaltiga sekvestreringsmedlet är tetranatriumpyrofosfat.
11. Förfarande enligt nägot av patentkraven 7 - 10, kännetecknat därav, att omrörningen av kompo-nenterna och slipmedlen fortsätts tills en mjuk svartaktig 20 film bildats pä ytan av järnkomponenterna.
12. Förfarande enligt nägot av patentkraven 7-11, kännetecknat därav, att dispersionen cirkule-ras genom ett kärl som innehäller komponenterna och slipmedlen och vidare att dispersionen cirkuleras med en 25 strömningshastighet av ca 0,03 - 0,13 1/h per liter den volym i kärlet som fylls av dispersionen, komponenterna och slipmedlen.
FI884658A 1986-11-24 1988-10-11 Torr, granulär blandning och förfarande för polering av järnkomponente r FI83544C (sv)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/934,469 US4724042A (en) 1986-11-24 1986-11-24 Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous components
US93446986 1986-11-24
US8703093 1987-11-20
PCT/US1987/003093 WO1988003963A1 (en) 1986-11-24 1987-11-20 Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous compositions

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI884658A FI884658A (fi) 1988-10-11
FI884658A0 FI884658A0 (fi) 1988-10-11
FI83544B true FI83544B (fi) 1991-04-15
FI83544C FI83544C (sv) 1991-07-25

Family

ID=25465618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI884658A FI83544C (sv) 1986-11-24 1988-10-11 Torr, granulär blandning och förfarande för polering av järnkomponente r

Country Status (16)

Country Link
US (1) US4724042A (sv)
EP (1) EP0334877B1 (sv)
JP (1) JPH02500757A (sv)
AT (1) ATE86311T1 (sv)
BR (1) BR8707893A (sv)
DE (1) DE3784517T2 (sv)
DK (1) DK390588A (sv)
FI (1) FI83544C (sv)
IL (1) IL84562A (sv)
LT (1) LT3297B (sv)
LV (1) LV10316B (sv)
MX (1) MX165427B (sv)
NO (1) NO176722C (sv)
NZ (1) NZ222626A (sv)
RU (1) RU2062305C1 (sv)
WO (1) WO1988003963A1 (sv)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8701407A (nl) * 1987-06-17 1989-01-16 Vunderink Ate Een oppervlakte techniek die het massaal slijpen en polijsten van metalen artikelen in rotofinish apparatuur sneller doet verlopen.
DE3800834A1 (de) * 1988-01-14 1989-07-27 Henkel Kgaa Verfahren und mittel zum gleichzeitigen gleitschleifen, reinigen und passivieren metallischer werkstuecke
US4906327A (en) * 1989-05-04 1990-03-06 Rem Chemicals, Inc. Method and composition for refinement of metal surfaces
USRE34272E (en) * 1989-05-04 1993-06-08 Rem Chemicals, Inc. Method and composition for refinement of metal surfaces
DE69734868T2 (de) * 1996-07-25 2006-08-03 Dupont Air Products Nanomaterials L.L.C., Tempe Zusammensetzung und verfahren zum chemisch-mechanischen polieren
US20040140288A1 (en) * 1996-07-25 2004-07-22 Bakul Patel Wet etch of titanium-tungsten film
US20040134873A1 (en) * 1996-07-25 2004-07-15 Li Yao Abrasive-free chemical mechanical polishing composition and polishing process containing same
US6261154B1 (en) 1998-08-25 2001-07-17 Mceneny Jeffrey William Method and apparatus for media finishing
US6409936B1 (en) 1999-02-16 2002-06-25 Micron Technology, Inc. Composition and method of formation and use therefor in chemical-mechanical polishing
US6426295B1 (en) 1999-02-16 2002-07-30 Micron Technology, Inc. Reduction of surface roughness during chemical mechanical planarization(CMP)
US6638326B2 (en) * 2001-09-25 2003-10-28 Ekc Technology, Inc. Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride
US6895855B2 (en) 2001-10-01 2005-05-24 The Timken Company Hydraulic motors and pumps with engineered surfaces
US6866792B2 (en) * 2001-12-12 2005-03-15 Ekc Technology, Inc. Compositions for chemical mechanical planarization of copper
EP2401607B1 (en) 2009-02-25 2015-11-25 Illumina, Inc. Separation of pyrophosphate release and pyrophosphate detection
US10179388B2 (en) * 2009-05-12 2019-01-15 Rem Technologies, Inc. High throughput finishing of metal components
CN103540947B (zh) * 2013-10-30 2015-10-21 涿州安泰星电子器件有限公司 一种电镀基材除油剂及其制备方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2666000A (en) * 1950-10-11 1954-01-12 Standard Oil Dev Co Process for cleaning automobile radiators
US2832706A (en) * 1953-05-12 1958-04-29 Victor Chemical Works Metal cleaning and phosphating composition and method of cleaning and phosphating
US2890944A (en) * 1956-05-25 1959-06-16 North American Aviation Inc Continuous chemical milling process
US2981610A (en) * 1957-05-14 1961-04-25 Boeing Co Chemical milling process and composition
US2940838A (en) * 1957-08-19 1960-06-14 Boeing Co Chemical milling
US3094489A (en) * 1959-08-31 1963-06-18 Monsanto Chemicals Method and composition for brightening aluminum
US3052582A (en) * 1959-10-05 1962-09-04 Boeing Co Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor
US3061494A (en) * 1959-10-05 1962-10-30 Boeing Co Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor
SE400581B (sv) * 1974-12-13 1978-04-03 Nordnero Ab Bad for kemisk polering av koppar och dess legeringar
AT366422B (de) * 1980-06-30 1982-04-13 Wiener Brueckenbau Phosphorsaures medium und verfahren zum dampfstrahl-phosphatieren von stahlkonstruktionen mittels dieses mediums
SU1093732A1 (ru) * 1983-04-04 1984-05-23 Bereshchenko Alla A Раствор дл виброхимического удалени заусенцев со стали
US4491500A (en) * 1984-02-17 1985-01-01 Rem Chemicals, Inc. Method for refinement of metal surfaces
US4532066A (en) * 1984-03-05 1985-07-30 Sterling Drug Inc. Stable mildly acidic aqueous polishing cleanser and preparation thereof
US4705594A (en) * 1986-11-20 1987-11-10 Rem Chemicals, Inc. Composition and method for metal surface refinement

Also Published As

Publication number Publication date
LV10316B (en) 1995-06-20
WO1988003963A1 (en) 1988-06-02
US4724042A (en) 1988-02-09
MX165427B (es) 1992-11-11
EP0334877B1 (en) 1993-03-03
EP0334877A4 (en) 1989-12-28
LT3297B (en) 1995-06-26
ATE86311T1 (de) 1993-03-15
FI884658A (fi) 1988-10-11
JPH02500757A (ja) 1990-03-15
IL84562A0 (en) 1988-04-29
EP0334877A1 (en) 1989-10-04
IL84562A (en) 1991-05-12
DK390588D0 (da) 1988-07-13
DK390588A (da) 1988-07-13
LV10316A (lv) 1994-10-20
NO176722C (no) 1995-05-16
NO883242D0 (no) 1988-07-21
NO883242L (no) 1988-07-21
FI884658A0 (fi) 1988-10-11
LTIP287A (en) 1994-10-25
NZ222626A (en) 1990-07-26
NO176722B (no) 1995-02-06
BR8707893A (pt) 1989-10-03
DE3784517T2 (de) 1993-10-07
FI83544C (sv) 1991-07-25
DE3784517D1 (de) 1993-04-08
RU2062305C1 (ru) 1996-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI83544B (fi) Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter.
CA1218584A (en) Method for refinement of metal surfaces
EP0324394B1 (de) Verfahren und Mittel zum gleichzeitigen Gleitschleifen, Reinigen und Passivieren metallischer Werkstücke
CA2022492C (en) Burnishing method and composition
DE68906885T2 (de) Verfahren und zusammensetzung zum polieren von metalloberflaechen.
JPS63130787A (ja) 金属表面清浄化組成物および清浄化方法
FI83789C (sv) Vätskedispersionsblandning och förfarande för polering av järnkomponen ter
USRE34272E (en) Method and composition for refinement of metal surfaces
JPS63186879A (ja) リン酸塩皮膜の形成方法
MXPA99006863A (en) Composition and process for barrier coating and/or cleaning paint masks
PL131920B1 (en) Hydrophilizing agent in particular for aluminium offset formes

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application
MM Patent lapsed
MM Patent lapsed

Owner name: CHEMIMETALS PROCESSING, INC.