LT3298B - Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components - Google Patents
Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components Download PDFInfo
- Publication number
- LT3298B LT3298B LTIP324A LTIP324A LT3298B LT 3298 B LT3298 B LT 3298B LT IP324 A LTIP324 A LT IP324A LT IP324 A LTIP324 A LT IP324A LT 3298 B LT3298 B LT 3298B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- dispersion
- water
- passivator
- mixture
- sufficient
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims description 76
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 17
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 69
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 26
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 23
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims abstract 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 13
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- -1 ferrous metals Chemical class 0.000 claims description 6
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical group [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 claims description 3
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical group [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 3
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 claims description 2
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000230 xanthan gum Substances 0.000 claims description 2
- 229940082509 xanthan gum Drugs 0.000 claims description 2
- 235000010493 xanthan gum Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 claims 5
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 claims 3
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims 2
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 claims 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 claims 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical group [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- 239000012669 liquid formulation Substances 0.000 claims 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims 1
- 239000011555 saturated liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 abstract 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000005696 Diammonium phosphate Substances 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 229910000388 diammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019838 diammonium phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 2
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- KZTASAUPEDXWMQ-UHFFFAOYSA-N azane;iron(3+) Chemical compound N.[Fe+3] KZTASAUPEDXWMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OWZIYWAUNZMLRT-UHFFFAOYSA-L iron(2+);oxalate Chemical compound [Fe+2].[O-]C(=O)C([O-])=O OWZIYWAUNZMLRT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000006012 monoammonium phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 2
- 241001674048 Phthiraptera Species 0.000 description 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical class [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- GJIWAPGRMAONJN-UHFFFAOYSA-J [O-]P([O-])(=O)OP(=O)([O-])[O-].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].P(=O)([O-])([O-])O.[NH4+].[NH4+].C(C(=O)O)(=O)O Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP(=O)([O-])[O-].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].P(=O)([O-])([O-])O.[NH4+].[NH4+].C(C(=O)O)(=O)O GJIWAPGRMAONJN-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N ammonium oxalate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C([O-])=O VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 230000001914 calming effect Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005112 continuous flow technique Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910001448 ferrous ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910052816 inorganic phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 1
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 238000005200 wet scrubbing Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B31/00—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
- B24B31/12—Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
- B24B31/14—Abrading-bodies specially designed for tumbling apparatus, e.g. abrading-balls
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
- C25D5/36—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
Description
Šis išradimas priskiriamas mišiniams ir tokių mišinių vartojimo būdams, paruošiant gaminius iš juodųjų metalų tolesniam padengimų užnešimui ant jų paviršiaus elektrolitinio nusodinimo būdu, kurie apima disper5 sijos, turinčios rūgšties ir pasyvatoriaus paruošimą, gaminio ir poliruojančios terpės panardinimą į tirpalą ir gaminio ir poliruojančios terpės maišymą, be to, gaminius ir poliruojančią terpę palaiko panardintus dispersijoje. Panaši technologija žinoma iš JAV patento
Nr. 2890944 Hays vardu; keleto JAV patentų Nr. 2940838; 2981610; 3052582; ir 3061494 Herman Ben Snyder; o taip pat patento Nr. 4491500 Michaud vardu ir kt.
Pagal siūlomo techninio sprendimo patobulinimą mišiniai yra skysta dispersija. Skystos formos mišinys turi svorio procentais apytiksliai 20% oksalo rūgšties, 50% fosforingo pasyvatoriaus ir buferinių agentų, be to, oksalo rūgšties ir fosforinio pasyvatoriaus masės santykis yra ribose atitinkamai nuo apytiksliai 0,7:1 iki apytiksliai 0,2:1 ir geriausiai toki, kad gautų tirpalo pH ribose apytiksliai nuo 3,5 iki 7, agento, prisotinimui amoniaku; paviršiaus aktyviosios medžiagos, ir suspenduojančio agento kieki, pakankamą ir efektyvų mišinio susidarymui iš suspensijos komponentų vandenyje.
Žinoma, kad gaminant gaminius iš juodųjų metalų, tų gaminių padengimas elektrolitinio nusodinimo būdu atlieka dvigubą funkciją, būtent, apsaugo nuo rūdijimo arba kito gedimo ir pagerina jo išvaizdą. Dėl šių priežasčių rankiniai instrumentai, pavyzdžiui, versliniai raktai ir ~.r., padengiami galvaniniu blizgančiu paviršiumi. Paruošiant gaminius tokio paviršiaus
| užnešimui | svarbu, kad paviršius, | ant | kurio turi būti | |
| D C | užnešamas | padengimas, turėtų | at ii | tinkamą glotnumo |
| laipsni i | r kai kada svarbu, kad | jis | būtų poliruotas. | |
| Nors toks | poliravimas atliekamas | i v a i | riais būdais, vis |
tik metalo nuėmimas cheminiu būdu pasiekė kai kurių laimėjimų ir pripažinimo, be to, susijęs su būdais, aprašytais anksčiau minėtuose patentuose.
Aprašyto tipo būduose pastoviai lyginami šiurkštumo ir našumo faktoriai. Bandant pasiekti didelio našumo ir sutrumpinti įrengimų naudojimo laiką, kai kas bandė naudoti labai rūgščius tirpalus. Kiti bandė naudoti mažiau rūgščius tirpalus, kad pasiektų reikalingo švarumo paviršių. Abiem atvejais gali iškilti problemos su naudojamų tirpalų nualinimu ir nutekamųjų vandenų susidarymu. Mėginimai prailginti tirpalo naudingumą apėmė pasyvatorių panaudojimą, kad perspėtų apie darbinio tirpalo išeikvojimą.
Atsižvelgiant į praeities pastangas ir iškylančias problemas, šio išradimo tikslas gauti chemiškai poliruotus paviršius tolesniam blizgančiam galvaniniam paviršiaus padengimui per optimalų apdirbimo laiką su minimalia nutekamųjų vandenų išeiga. Šio išradimo tikslo pasiekimui prieš tai aprašytas trumpas paprastas būdas pagerinamas panaudojant organinės rūgšties tirpalą, tai leidžia gauti kontroliuojamą metalo nuėmimą reikalingu grečiu. Naudojant dispersiją pagal pasiūlytą sprendimą gamybos galimybės pagerinamos palyginti su tomis, kurios buvo pasiektos naudojant stipresnius tirpalus, be to, šio proceso nuotekos beveik priartėja prie chemiškai neutralių atliekų.
Dar vienas šio išradimo tikslas yra mišinių gavimas, kuriuos galima pagaminti ir naudoti kaip skystą dispersiją, po to galima papildomai disperguoti su vandeniu, kad gautume reikalingą darbinį tirpalą, kada jo prireiks. Šis išradimo tikslas pasiekiamas panaudo35 jant dispersiją ištisinio srauto procese, be to, vartotojams supaprastinamas transportavimas.
Iš tolesnio aprašymo bus akivaizdūs kiti išradimo tikslai. Nors išradimas bus aprašomas išsamiau, bet turi būti aišku iš aprašymo, kuris yra pradžioje, kad šios srities specialistai gali modifikuoti aprašytą išradimą ir gauti šio išradimo palankius rezultatus. Tuo būdu, aprašymą, kuris seks vėliau, reikia suprasti plačiu aspektu, o ne kaip apribojantį šį išradimą.
Kaip buvo nurodyta, pasiūlyti mišiniai duoda skystą 10 dispersiją, kurią galima sumaišyti su vandeniu ir naudoti įrengime juodųjų metalų abrazyviniam apdirbimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, gaminio poliravimui sukamame būgne. Skystą dispersiją sudaro 90% vandens. Be vandens dispersiją sudaro apytiksliai 20% oksalo rūgšties, apytiksliai 50% fosforingu ir buferinių agentų; be to, oksalo rūgšties ir fosforingu agentų masės santykis yra ribose atitinkamai nuo apytiksliai 0,7:1 iki apytiksliai 0,2:1 ir tinkamiausias toks, kad gautų tirpalo pH ribose apytiksliai 3,5-7; agento, prisotinimui amoniaku; paviršiaus aktyviosios mežiagos; ir suspenduojančio agento kiekis, pakankamas ir efektyvus mišinio susidarymui iš suspensijos komponentų vandenyje.
Fosforingu pasyvatoriumi gali būti kiekvienas iš neorganinių fosfatų, kurie turi savybes blokuoti juodųjų metalų jonus, ir /arba daugelis fosfatų, kurie turi šias savybes. Tie, kurie, nustatyta, uuiomuose mišiniuose utis organinių kaip buvo nau, yra ųirorosratai, tripciirosratai ama rcsronarai. Tinkamiausias tetranatrio pircfosfaras„ Fosfatus galima rauti raminant mišinius cheminės reakcnos metu.
amoniaku gali būti bet kokia medžiaga, sudaranti amoniaką, kuris gali dispersijos pH reguliavimui. Buvo išskirianti arba turėti efektą nustatyta, kad
Buferiniais arenrais ir /arba arentais prisotinimui rūgšties, sudėtinės dalies metalo nuėmimui, ir pasyvatoriaus, metalo jonų užlaikymui dispersijoje, neleidžiant jų antriniam nusėdimui ant gaminio galvaninio padengimo proceso metu, kombinuotas efektas priklauso nuo pH reikšmės, be to, jis neprasidės ir /arba tinkamai neveiks prie pH lygio žemiau 3,5. Tokiu atveju mišiniuose ir būduose pagal išradimą svarbu kontroliuoti šį faktorių. Skystoje dispersijoje, naudojant šias medžiagas, šią kontrolę galima pasiekti monoamonio fosfato ir diamonio fosfato pusiausvyra. Kitose veiksmingose formose balansas gali labiau nukrypti į vieną ar kitą pusę, be to, diamonio fosfato kiekio padidinimas padidina pH, o monoamonio kiekio padidinimas sumažina pH dispersijos ir darbinės dispersijos. Alternatyviai, agentas, prisotinimui aminiaku, gali būti gautas iš tokių medžiagų, kaip skystas hidroksidas arba dujinis amoniakas, reakcijose, įvykstančiose ruošiant mišinius pagal išradimą ir gaunant mišinyje fosfatines formas. Šiuo atveju bus dažnai supaprastinamas pH reguliavimas.
Tam, kad esamos sudėties mišinys lengviau disperguotų vandenyje, kuris įmaišomas vartojant, pageidautina naudoti drėkinantį agentą paviršiaus aktyviosios medžiagos forma.Pageidautina paviršiaus aktyvioji medžiaga yra neputojanti, nejoninė medžiaga, be to, pageidautina, kad tokia medžiaga turėtų žemą HLB reikšmę.
Oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus santykis yra svarbus palaikant pusiausvyrą tarp metalo nuėmimo nuo švariai apdirbamo paviršiaus greičio ir ėsdinimo, susijusiu su per daug agresyviu metalo nuėmimu, kadangi aoi medžiagos turi įtakos metalo pašalinimui. Eksperimentai su skirtingais rūgšties ir pasyvatoriaus santykiais parodė, kad paprastai padidinus pasyvatoriaus kieki, lyginant su rūgšties kiekiu, padidinamas metalo nuėmimo greitis ir, be to, padidinama galimybė, kad metalo nuėmimas duos būdingą išorini ledo rašto vaizdą, kurį, kaip manoma, galima gauti po ėsdinimo, be to, patyrimas parodė, kad, norint patenkinamai padengti paviršių, būtina prieš tai jį poliruoti. Nors mechanizmas, galintis duoti tokius rezultatus, ne visiškai aiškus, vis tik manoma, kad gal būt koncentracijos keitimas sąlygoja metalo nuėmimo efektyvumo pakeitimą mikroskopiniu lygiu iškilimai, įdubos arba gaminių šiurkštumu. Ten, kur metalo nuėmimas iš esmės vienodas ant abiejų paviršių, gaunamas ledo raštas. Tais atvejais, kada nuo aukštesnių taškų nuimama daugiau metalo, pasiekiamas didesnis paviršiaus lygumas ir apdirbamas gaminys pasidaro priimtinesnis. Iš dalies priklausantis nuo apdirbamo metalo lydinio rūšies, rūgšties ir agento santykis ribose nuo apytiksliai 0,7:1 iki 0,2:1 yra tinkamiausias pagal šį išradimą. Tinkamiausia riba yra santykis apytiksliai 0,25:1.
Skystame dispersiniame mišinyje chemikalai tokie, kaip rūgštis ir pasyvatorius, nelengvai tirpsta vandenyje. Dispersiją, kurią galima naudoti kaip skystį, palaiko suspenduojančio agento pagalba. Suspenduojančiu agentu turi būti medžiaga, kuri veikia kaip drebučius sudarantysis ir suspenduojantis agentas druskos dispersijoje, be to, naudingomis medžiagomis gali būti ksantaninė derva ir atitinkama medžiaga Carbopol, parduodamos B.F. Goodrich Chemicals.
Mišinius pagal išradimą galima naudoti ber kokiam žinomo tipo šlapio abrazyvinio apdirbimo įrengime, gailučiame išlaikyti susidarantį dispersijos koordinuorą korozini efektą. Tokio įrenginio pavyzdžiai pateikti išvardintuose patentuose ir gali būti atviri ir uždari būgninio poliravimo įrenginiai, išcentrines, vibracinės ir špindelinės mašinos. Tokiais ^renginiais galima apdirbti partijomis, nepertraukiamai arba sroviniu būdu arba abiem būdais. Naudojami tirpalai gali būti vienkartinai užpilami arba recirkuliuojami. Tokio įrenginio pasirinkimas paliekamas specialisto nuomonei. Nors, kai bus išsamiau aprašyta, geriausiai naudoti įrenginį su ištisiniu srautu.
Kaip trumpai užsiminėm, gaminių iš juodųjų metalų tolimesniam paviršių galvaniniam padengimui paruošimo būdas pagal šį išradimą apima žinomas dispersijos, susidedančios iš rūgšties ir pasyvatoriaus, paruošimo pakopas, gaminių ir poliruojančios terpės panardinimą į tirpalą ir gaminių ir poliruojančios terpės permaišymą, be to, gaminius ir poliravimo terpę laiko panardintus tirpale.
Reikalingas gaminių kiekis patalpinamas į apdirbimo talpą ir plaunamas pratekančiu vandeniu. Vandens srovę sustabdo ir prasideda dispersijos srovė, tam naudojamas peristilinis siurblys numatyto kiekio pateikimui. Po tam tikro laiko (10-60 min.) gaunamas pakankamas apdirbančio mišinio kiekis pradiniam pjovimo veikimui ir tuo momentu paduodama vandens srovė. Geriausia, kai vandens srovė sumaišoma su apdirbančiu mišiniu iki įėjimo į apdirbimo talpą. Vandens srovės pradžią galima nustatyti pagal laiką (kaip buvo pasiūlyta) arba matuojant pH atidirbusios dispersijos, išeinančios iš apdirbimo talpos. Po to apdirbančio mišinio ir vandens srovė paduodama ram tikrą laiką, reikalingą pasiekti reikiamą detalių nuvalymą, paprastai 20-150 min. Per ši laiką atidirbusios dispersijos pH turi būti ribose apytiksliai nuo 6,0 iki 7,0.
Po to, kai detalės tinkamai apdirbtos, labai padidėja (apytiksliai 10 kartų), mišinio srovė sumažėja (apytiksliai 70%) srovės proporcijų dispersija, kuri vandens srovė o apdirbančio Prie tokiu veikia kaip poliravimo mišinys, dabar veikia kaip valymo mišinys, detales nuvalo nuo likusio natrio/amonio geležies (III) ir geležies (II) oksalatu, kurie susidaro poliravimo metu.
Reikia pažymėti, kad mišinių, paruoštų pagal išradimą, sėkmingo darbo svarbiu faktoriumi yra skirtingas tirpstamumas natrio ir amonio oksalatu ir natrio/amonio geležies (III) ir geležies (II) oksalatu, kurie susidaro, Įvedus mišinį į talpą, kurioje apdirbami gaminiai iš juodųjų metalų. Pastarosios medžiagos labiau tirpsta vandenyje ir labiau tinkamos poliravimui pagal šį išradimą.
Kai kurie ekperimentai, atlikti kuriant šį išradimą, atsispindi šiuose pavyzdžiuose.
pavyzdys
Naudojama 3 kubinių pėdų vibruojanti poliravimo talpa,
| o apdirbami gaminiai iš juodųjų | metalų - | veržliniai |
| raktai, gaminiai nuplaunami kaip | aprašyta | ir po to |
| paduodama dispersija šios sudėties: | ||
| Komponentai | masė % | |
| vanduo | 43, 73 | |
| oksalo rūgštis | 15, 86 | |
| diamonio fosfatas | 13,59 | |
| tetranatrio prrofosfatas | 13,55 | |
| suspenduojantis agentas | Ί 9 P f i | |
| paviršiaus aktyvioji medžiaga | Q 4 A | |
| Apdirbimo mišinys i įrenginy paduodamas peristiliniu | ||
| siurbliu 0,o uncijų per valandą | greičiu. | Po trijų |
| minučių nuo dispersijos padavimo | pradžios | paduodama |
vandens srove apie lf, 0 galonų per valandą greičiu, be fo, vandens rr dispersijos srove paduodama bendru vamzdžiu, kad susimaišytų prieš pasiekiant talpą.
Gaminių apdirbimas tęsiasi apie valandą, per tą laiką vandens ir dispersijos sroves reguliavo, kad pasiektų ir palaikytų išeinančios srovės pH ribose apytiksliai
5,8-6,3. Gaminiai įgavo blizgantį paviršių. Po to dispersijos srovė nutraukiama, o vandens srovė didinama iki 10 galonų per valandą tol, kol nutekantis vanduo pasidaro švarus.
2 pavyzdys
Veržlinius raktus apdirbo 10 kubinių pėdų talpos piramidės formos vibruojančiame poliravimo įrenginyje. Dispersija paduodama šios sudėties:
Komponentai vanduo oksalo rūgštis diamonio fosfatas tetranatrio pirofosfatas suspenduojantis agentas paviršiaus aktyvioji medžiaga masė %
48, 80 20,00 13,70 13, 70
2, 30 1,50
Mišinį į įrenginį paduoda peristiliniu siurbliu, srovės greitis apytiksliai 0,66 uncijų per minutę. Po dešimties minučių nuo dispersijos padavimo pradžios per talpą paleisdavo vandens srovę greičiu apytiksliai 1,2 galonų per valandą, be to, vandens ir dispersijos srovę paduoda bendru vamzdžiu,, kad susimaišytų prieš pasiekiant talpą. Gaminiu švarus apdirbimas tęsiasi apie valandą ir 20 minučių, per tą laiką vandens ir dispersijos sroves reguliavo, kad pasiektų ir palaikytų išeinančios srovės pH ribose apytiksliai 5,8-5,3. Gaminiai įgavo blizgantį paviršių. Po to dispersijos srovė nutraukiama, o vandens srovė didinama iki apytiksliai 2 galonų per valandą tol, kol nutekamas vanduo pasidaro švarus.
pavyzdys
Naudojama dispersija šios sudėties: 5
| Komponentai | masė % |
| vanduo | 42,00 |
| suspenduojantis agentas | 15, 00 |
| diamonio fosfatas | 12,00 |
| monoamonio fosfatas | 12, 00 |
| oksalo rūgštis | 10, 00 |
| tetranatrio pirofosfatas | 8,50 |
| paviršiaus aktyvioji medžiaga | 0,50 |
| Padidinus suspenduojančio agento | kieki, dispersija |
sutirštėja. Bet darbas ir rezultatai buvo beveik tokie,
| kaip ir 2 pavyzdyje. | |||
| 4 pavyzdys | |||
| Dispersiją paruošė, | panaudoj ant | skystą | fosforinę |
| rūgštį, kaip fosforo | šaltinį, o | amonio | hidroksidų, |
natrio hidroksidų, kaip natrio šaltini.
| Dispersiją paruošė šios sudėties: | |
| Komponentai | masė % |
| fosforine rūgštis | 44,00 |
| amonio hidroksidas | 2 4,00 |
| oksalo rūgštis | ’ 9 , 0 ž~ |
| vanduo | 9,50 |
| narrio hidroksidas | Ό 0 0 |
| suspenduojantis agentas | 2 50 |
| paviršiaus aktyvioji medžiaga | i i 0 0 |
| Dispersija paduodama peristiliniu | siurbliu tuo pačiu |
| būdu, kaip ir ankstesniuose pavvz | džiuose. Dispersijos |
ir vandens padavimo greitį sureguliavo vienas kito atžvilgiu ir juodojo metalo poliruojamo paviršiaus atžvilgiu. Poliruojant, kaip aprašyta 1 pavyzdyje, nustatytos dispersijos ir vandens padavimo greitis sureguliuotas iki 0,66 svarų per valandą dispersijai ir 2,25 svarų per valandą vandeniui, kiekvienam tūkstančiui kvadratinių colių apdirbamo paviršiaus. Gaunami rezultatai buvo atgaminami nuo vieno iki kito bandymo. 4 pavyzdyje eksperimentus pratęsė su skirtingu dispersijos ir vandens santykiu, ir buvo gauti atgaminami rezultatai.Buvo surasta, kad dispersijos ir vandens padavimo santykis gali keistis ribose nuo apytiksliai 0,3:1 iki apytiksliai 0,9:1, ir, be to, galima gauti atgaminamus rezultatus. Ši riba nurodyta, kad atspindėtų duotos dispersijos sudėti, kuri naudojama gauti atgaminamus rezultatus, kada naudojami padavimo greičiai taip pat sureguliuoti taip, kad atitinkamai bendras srovės greitis, išmatuotas priklausomai nuo metalo poliruojamo paviršiaus ploto, apytiksliai 3 svarai per valandą vienam tūkstančiui colių apdirbamo metalo ploto.
Nors pateikti pavyzdžiai atspindi parametrus, kurie pasikeitė eksperimentuose, atliekamuose išradimo sukūrimo metu, vis tik išradimo tinkamiausia forma yra skysta dispersija, kuri turi komponentus, aprašytus 4 pavyzdyje.
Aprašyme išdėstyti tinkamiausi išradimo įgyvendinimo ęavvzdžiai. naudojam soeciaiius terminus, vienok tai panaudota kaip bendra terminologija ir neapriboja išradime,
Claims (3)
1. Mišinys juodųjų metalų abrazyviniam poliravimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, būgniniame arba panašiame
5 poliravimo Įtaise, sumaišant jį su vandeniu, besiskiriantis tuo, kad turi svorio procentais, neįskaitant vandens, iki 20% oksalo rūgšties; apytiksliai iki 50% fosforingo pasyvatoriaus, be to, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus svorių santykis
10 yra apytiksliai nuo 0,7:1 apytiksliai iki 0,
2:1; pakankamą ir efektyvų kiekį agento prisotinimui amoniaku, tikslu reguliuoti mišinio pH diapazone apytiksliai nuo 3,5 iki 7,0; paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekį, pakankamą ir efektyvų mišinio
15 sudrėkinimui; nešiklio medžiagos kiekį, pakankamą likusios mišinio dalies sudarymui ir efektyvų mišinio sudėtinių dalių palaikymui skysta, lengvai apdirbama forma.
20 2. Mišinys pagal 1 punktą, besiskiriantis tuo, kad yra skysta dispersija, sudaryta vandenyje, o nešiklio medžiaga yra suspenduojantis agentas, kuris efektyviai suspenduoja mišinio komponentus, kaip dispersiją vandenyje.
3. Mišinys pagal 2 punktą, besiskiriantis tuo, kad vandens kiekis dispersijoje svorio procentais, įskaitant visus komponentus, yra ribose apytiksliai iki 90%.
© G
4. Miš nys pagal I punktą, besiskiriantis tuo, ka fosforingas pasyvatorius yra gautas iš fosforo rūgštie
35 5. Miširys pagal 1 punktą, b e s i s k i r i a n t i s tuo, kad agentu, prisotinančiu mišinį amoniaku,, yra amonio hidroksidas.
6. Skystas dispersinis mišinys, maišomas su vandeniu ir naudojamas juodųjų metalų abrazyviniam poliravimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, būgniniame arba panašiame poliravimo įtaise, besiskiriantis tuo, kad turi svorio procentais apytiksliai nuo 30% iki 50% vandens; apytiksliai iki 2% paviršiaus aktyviosios medžiagos; apytiksliai nuo 50% iki 33% mišinio oksalo rūgšties ir fosforingo pasyvatoriaus, parinkto iš grupės, sudarytos iš pirofosfatų, tripolifosfatų ir fosfatų, be to, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 0,7:1 iki 0,2:1; apytiksliai iki 25% skysto amino agento prisotinimui amoniaku, kuris pakankamas ir efektyvus pH reguliavimui ribose apytiksliai nuo 3,5 iki 7,0; suspenduojančio agento kiekio, pakankamo likusio mišinio pagaminimui ir likusių komponentų suspendavimui vandenyje.
7. Skystas dispersinis mišinys, maišomas su vandeniu ir naudojamas juodųjų metalų abrazyviniam poliravimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, būgniniame arba panašiame poliravimo Įtaise, besiskiriantis tuo, kad turi svorio procentais apytiksliai 90% vandens; apytiksliai iki 20% oksalo rūgšties; apytiksliai iki 50% fosforingo pasyvatoriaus ir buferinio agento, be to, oksalo rūgšties ir fosforingo agento svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 0,7:1 apytiksliai iki 0,2:1, ir pakankamas ir efektyvus gauti tirpalo pH ribose apytiksliai nuo 3,5 apytiksliai iki 7,0; apytiksliai 28% agento prisotinimui amoniaku; paviršiaus aktyviosios medžiagos kieki, pakankamą ir efektyvų likusio mišinio sudrėkinimui; ir suspenduojančio agento kieki, pakankamą likusio mišinio pagaminimui.
8. Mišinys pagal vieną iš 6 arba 7 punktų, besiskiriantis tuo, kad fosforingas pasyvatorius yra pirofosfatas.
5 9. Mišinys pagal 8 punktą, besiskiriantis tuo, kad fosforingas pasyvatorius yra tetranatrio pirofosfatas.
10.Mišinys pagal vieną iš 6 arba 7 punktų, besis10 kiriantis tuo, kad agentas prisotinimui amoniaku yra amonio fosfatas.
11.Mišinys pagal vieną iš 6 arba 7 punktų, besiskiriantis tuo, kad suspenduojantis agentas yra ksantaninė derva.
12.Juodųjų metalų gaminių paruošimo elektrolitiniam nusodinimui ant padengiamo paviršiaus būdas, kuris susideda iš rūgšties ir pasyvatoriaus dispersijos
20 paruošimo, gaminių ir poliruojančios terpės panardinimo į dispersiją, gaminių ir poliruojančios terpės maišymo, be to, gaminius ir poliruojančią terpę palaikant panardintus dispersijoje, besiskiriantis tuo, kad dispersiją paruošia sumaišant su vandeniu
25 takią dispersiją, kuri susideda svorio procentais, išskyrus vandenį, iš apytiksliai 20% oksalo rūgšties, apytiksliai 50% fosforingo pasyvatoriaus, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 0,7:1 apytiksliai iki 0,2:1, agento
30 prisotinimui amoniaku kiekio, pakankamo ir efektyvaus reguliavimui tirpalo pH ribose apytiksliai nuo 3,5 iki 7,0, paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekio, pakankame ir efektyvaus mišinio sudrėkinimui, medžiagos nešiklio kiekio, pakankamo likusio mišinio pagaminimui ir
35 efektyvaus mišinio komponentų palaikymui lengvai apdirbama skysta forma;
dispersijos pH lygį kontroliuoja maišant gaminį ir poliruojančią terpę;
reaguoja į sureguliuotus pH lygius galutinės dispersijos pH reguliavimu palaikant pH lygį ribose apytiksliai nuo 3,5 apytiksliai iki 7,0 visą gaminio ir poliruojančios terpės maišymo laiką.
13.Juodųjų metalų gaminių paruošimo elektrolitiniam nusodinimui ant padengiamo paviršiaus būdas, susidedantis iš rūgšties ir pasyvatoriaus dispersijos paruošimo, gaminių ir poliruojančios terpės panardinimo į dispersiją, gaminių ir poliruojančios terpės maišymo, palaikant gaminius ir poliruojančią terpę panardintus dispersijoje, tesiskiria dispersiją paruošia sumaišant su n t i s tuo, kad vandeniu takios dispersijos mišinį, iš esmės turintį 30-50% vandens, apytiksliai
20J oksalo rūgšties, 50% fosforingo rūgšties ir fosforingo yra ribose apytiksliai 0,2:1, amino agento pakankamą ir efektyvų pasyvatorius, be to, oksalo pasyvatoriaus svorių santykis nuo 0,7:1 apytiksliai iki prisotinimui amoniaku kieki, galutinės dispersijos, sudarytos ištirpinant pirmą dispersiją vandenyje, pH reguliavimui iki ne mažiau kaip 3,5, paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekį, pakankamą ir efektyvų pirmos dispersijos sugėrimui, o suspenduojančio agento kiekį, pakankamą likusio mišinio pagaminimui;
galutinės dispersijos pH lygi kontroliuoja gaminiu poliruosančios terpes maišymo metu;
reaguoja į sureguliuotus pH dispersijos pH lygio reguliavimu, lygius galutinės palaikant pH lygi ribose apytiksliai nuo 3,5 iki 7,0 visą gaminių poliruojančios terpės maišymo laiką.
14.Juodųjų metalų gaminių paruošimo elektrolitiniam nusodinimui ant padengiamo paviršiaus būdas, kuris apima tirpalo iš rūgšties ir pasyvatoriaus paruošimą, gaminių ir poliruojančios terpės panardinimą į tirpalą, 5 gaminių ir poliruojančios terpės maišymą, palaikant gaminius ir poliruojančią terpę panardintus dispersijoje, besiskiriantis tuo, kad tirpalą paruošia sumaišant su vandeniu takią dispersiją, turinčią apytiksliai 30-50% vandens, apytiksliai 2% 10 paviršiaus aktyviosios medžiagos, nuo 50% iki 35% mišinio oksalo rūgšties ir fosforingo pasyvatoriaus, parinkto iš pirofosfatų, tripolifosfatų ir fosfatų to, oksalo rūgšties ir svorių santykis yra ribose
15 nuo 0,7:1 apytiksliai iki 0,2:1, apytiksliai 28% agento prisotinimui amoniaku, kurio kiekis pakankamas ir efektyvus mišinio pH reguliavimui apytiksliai iki 3,57,0, o suspenduojančio agento kiekį, pakankamą likusios dispersijos pagaminimui ir likusių komponentų 20 palaikymui suspenduotais;
grupės, be pasyvatoriaus fosforingo apytiksliai tirpalo pH lygį kontroliuoja, maišant gaminius ir poliruojančią terpę;
25 reaguoja į sureguliuotus pH lygius tirpalo pH lygio reguliavimu;
3 n toliau pH lygi palaiko ribose apytiksliai nuo 3,5 iki 7,0 visą gaminių ir poliruojančios terpes maišymo isiKa.
, esminiu j uodumeta.
ooliravimo būdas.
apimantis rūgšties ir pasyvatoriaus tirpalo paruošimą, gaminių ir poliruojančios rerpės panardinimą į tirpalą, 35 gaminių ir poliruojančios terpės maišymą, palaikant gaminius ir poliruojančią terpę panardintus tirpale besiskiriantis tuo, kad per gaminius poliravimo terpę praleidžia greičiu apytiksliai 1,35 kg per valandą 0,645 m (3 svarai per valandą tūkstančiui kvadratinių colių) juodojo metalo apdirbamo paviršiaus rūgšties ir pasyvatoriaus dispersijos tirpalą vandenyje, be to, dispersijos ir vandens santykis yra ribose apytiksliai nuo 0,3:1 apytiksliai iki 0,9:1, be to, dispersija sudaryta svorio procentais, išskyrus vandenį, —iš apytiksliai iki 20% oksalo rūgšties, apytiksliai iki 50% fosforingo pasyvatoriaus, be to, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 0,7:1 apytiksliai iki 0,2:1, agento kiekio prisotinimui amoniaku, pakankamo ir efektyvaus dispersijos pH reguliavimui ribose apytiksliai nuo 3,5 apytiksliai iki 7,0, paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekio, pakankamo ir efektyvaus dispersijos sudrėkinimui, medžiagos nešiklio kiekio, pakankamo likusios dispersijos gavimui ir efektyvaus dispersijos komponentų palaikymui patogia skysta forma.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/934,468 US4724041A (en) | 1986-11-24 | 1986-11-24 | Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| LTIP324A LTIP324A (en) | 1994-10-25 |
| LT3298B true LT3298B (en) | 1995-06-26 |
Family
ID=25465617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LTIP324A LT3298B (en) | 1986-11-24 | 1993-01-30 | Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4724041A (lt) |
| EP (1) | EP0332653B1 (lt) |
| JP (1) | JPH02500988A (lt) |
| AT (1) | ATE79907T1 (lt) |
| BR (1) | BR8707891A (lt) |
| DE (1) | DE3781416T2 (lt) |
| DK (1) | DK390688D0 (lt) |
| FI (1) | FI83789C (lt) |
| IL (1) | IL84561A (lt) |
| LT (1) | LT3298B (lt) |
| LV (1) | LV10317B (lt) |
| MX (1) | MX165426B (lt) |
| NO (1) | NO176671C (lt) |
| NZ (1) | NZ222627A (lt) |
| RU (1) | RU2012695C1 (lt) |
| WO (1) | WO1988003964A1 (lt) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4906327A (en) * | 1989-05-04 | 1990-03-06 | Rem Chemicals, Inc. | Method and composition for refinement of metal surfaces |
| USRE34272E (en) * | 1989-05-04 | 1993-06-08 | Rem Chemicals, Inc. | Method and composition for refinement of metal surfaces |
| US5158629A (en) * | 1989-08-23 | 1992-10-27 | Rem Chemicals, Inc. | Reducing surface roughness of metallic objects and burnishing liquid used |
| DE4445333A1 (de) * | 1994-12-19 | 1996-06-20 | Moeller Feinmechanik Gmbh & Co | Glättverfahren |
| US6261154B1 (en) | 1998-08-25 | 2001-07-17 | Mceneny Jeffrey William | Method and apparatus for media finishing |
| WO2000022301A1 (de) * | 1998-10-12 | 2000-04-20 | Allweiler Ag | Rotor für eine exzenterschneckenpumpe und verfahren zu dessen herstellung |
| US7196047B2 (en) * | 2002-08-09 | 2007-03-27 | Rbp Chemical Technology, Inc. | Fountain solution concentrates |
| DE10319468A1 (de) * | 2003-04-29 | 2004-11-25 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler |
| US10179388B2 (en) * | 2009-05-12 | 2019-01-15 | Rem Technologies, Inc. | High throughput finishing of metal components |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2890944A (en) | 1956-05-25 | 1959-06-16 | North American Aviation Inc | Continuous chemical milling process |
| US2940838A (en) | 1957-08-19 | 1960-06-14 | Boeing Co | Chemical milling |
| US2981610A (en) | 1957-05-14 | 1961-04-25 | Boeing Co | Chemical milling process and composition |
| US3052582A (en) | 1959-10-05 | 1962-09-04 | Boeing Co | Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor |
| US3061494A (en) | 1959-10-05 | 1962-10-30 | Boeing Co | Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor |
| US4491500A (en) | 1984-02-17 | 1985-01-01 | Rem Chemicals, Inc. | Method for refinement of metal surfaces |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2666000A (en) * | 1950-10-11 | 1954-01-12 | Standard Oil Dev Co | Process for cleaning automobile radiators |
| US2832706A (en) * | 1953-05-12 | 1958-04-29 | Victor Chemical Works | Metal cleaning and phosphating composition and method of cleaning and phosphating |
| DE1098784B (de) * | 1955-04-08 | 1961-02-02 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Herstellung von Oxalatschichten auf Eisen und Stahl |
| US3094489A (en) * | 1959-08-31 | 1963-06-18 | Monsanto Chemicals | Method and composition for brightening aluminum |
| SE400581B (sv) * | 1974-12-13 | 1978-04-03 | Nordnero Ab | Bad for kemisk polering av koppar och dess legeringar |
| AT366422B (de) * | 1980-06-30 | 1982-04-13 | Wiener Brueckenbau | Phosphorsaures medium und verfahren zum dampfstrahl-phosphatieren von stahlkonstruktionen mittels dieses mediums |
| SU1093732A1 (ru) * | 1983-04-04 | 1984-05-23 | Bereshchenko Alla A | Раствор дл виброхимического удалени заусенцев со стали |
| US4532066A (en) * | 1984-03-05 | 1985-07-30 | Sterling Drug Inc. | Stable mildly acidic aqueous polishing cleanser and preparation thereof |
-
1986
- 1986-11-24 US US06/934,468 patent/US4724041A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-11-20 DE DE8888900056T patent/DE3781416T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-11-20 AT AT88900056T patent/ATE79907T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-11-20 BR BR8707891A patent/BR8707891A/pt not_active Application Discontinuation
- 1987-11-20 EP EP88900056A patent/EP0332653B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-20 NZ NZ222627A patent/NZ222627A/xx unknown
- 1987-11-20 WO PCT/US1987/003094 patent/WO1988003964A1/en active IP Right Grant
- 1987-11-20 JP JP63500476A patent/JPH02500988A/ja active Pending
- 1987-11-23 IL IL84561A patent/IL84561A/xx not_active IP Right Cessation
- 1987-11-24 MX MX009450A patent/MX165426B/es unknown
-
1988
- 1988-07-13 DK DK390688A patent/DK390688D0/da not_active Application Discontinuation
- 1988-07-21 NO NO883243A patent/NO176671C/no unknown
- 1988-10-11 FI FI884659A patent/FI83789C/fi not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-05-23 RU SU894614335A patent/RU2012695C1/ru active
-
1992
- 1992-12-22 LV LVP-92-360A patent/LV10317B/en unknown
-
1993
- 1993-01-30 LT LTIP324A patent/LT3298B/lt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2890944A (en) | 1956-05-25 | 1959-06-16 | North American Aviation Inc | Continuous chemical milling process |
| US2981610A (en) | 1957-05-14 | 1961-04-25 | Boeing Co | Chemical milling process and composition |
| US2940838A (en) | 1957-08-19 | 1960-06-14 | Boeing Co | Chemical milling |
| US3052582A (en) | 1959-10-05 | 1962-09-04 | Boeing Co | Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor |
| US3061494A (en) | 1959-10-05 | 1962-10-30 | Boeing Co | Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor |
| US4491500A (en) | 1984-02-17 | 1985-01-01 | Rem Chemicals, Inc. | Method for refinement of metal surfaces |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO176671C (no) | 1995-05-10 |
| IL84561A0 (en) | 1988-04-29 |
| NO176671B (no) | 1995-01-30 |
| FI83789C (fi) | 1991-08-26 |
| EP0332653A4 (en) | 1990-01-08 |
| NZ222627A (en) | 1990-07-26 |
| US4724041A (en) | 1988-02-09 |
| MX165426B (es) | 1992-11-11 |
| DK390688A (da) | 1988-07-13 |
| FI884659A (fi) | 1988-10-11 |
| FI83789B (fi) | 1991-05-15 |
| JPH02500988A (ja) | 1990-04-05 |
| EP0332653B1 (en) | 1992-08-26 |
| LTIP324A (en) | 1994-10-25 |
| WO1988003964A1 (en) | 1988-06-02 |
| RU2012695C1 (ru) | 1994-05-15 |
| NO883243L (no) | 1988-07-21 |
| EP0332653A1 (en) | 1989-09-20 |
| DE3781416D1 (de) | 1992-10-01 |
| BR8707891A (pt) | 1989-10-03 |
| LV10317A (lv) | 1994-10-20 |
| ATE79907T1 (de) | 1992-09-15 |
| DE3781416T2 (de) | 1993-02-11 |
| FI884659A0 (fi) | 1988-10-11 |
| NO883243D0 (no) | 1988-07-21 |
| IL84561A (en) | 1991-06-10 |
| LV10317B (en) | 1995-06-20 |
| DK390688D0 (da) | 1988-07-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1218584A (en) | Method for refinement of metal surfaces | |
| CA2022492C (en) | Burnishing method and composition | |
| FI83544C (fi) | Torr, granulaer blandning och foerfarande foer polering av jaernkomponenter. | |
| JPS63130787A (ja) | 金属表面清浄化組成物および清浄化方法 | |
| JPH01219171A (ja) | 金属加工部材の研削、洗浄および不動態化の方法および配合物 | |
| LT3298B (en) | Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components | |
| JPH02301580A (ja) | 金属表面仕上げ用組成物および仕上げ方法 | |
| US6579377B2 (en) | Hydrofluoric acid generating composition and method of treating surfaces | |
| CA1324063C (en) | Metal cleaning process | |
| KR100219356B1 (ko) | 연마방법 | |
| US4270932A (en) | Polishing of silver-plated articles | |
| EP0102986B1 (en) | A non-abrasive metal cleaning agent | |
| JPS6047909B2 (ja) | 化学研磨併用のバレル研磨法 | |
| SU1712393A1 (ru) | Смазочно-охлаждающа жидкость дл механической обработки металлов | |
| MXPA99006863A (en) | Composition and process for barrier coating and/or cleaning paint masks |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM9A | Lapsed patents |
Effective date: 19980130 |