FI81728B - Vertikal autoklav och foerfarande foer massaproduktion av vinylkloridbaserade polymerer och kopolymerer. - Google Patents

Claims (22)

1. Vertikal autoklav (1) användbar för att genomföra vilka som heist operationer som utnyttjar ett medium, som innefattar en flytande fas och/eller en fast fas, och i synnerhet för framställning i massa av polymerer och sampolymerer baserade p& vinylklorid, försedd med en omröraranordning av den typ, som innefattar en omrörare som best&r av minst en arm (10) som ansluter sig tili autoklavens konvexa bot-tens (8) form och som är sammankopplad med en tapp (9), som gär igenom autoklavens botten längs dess axel, känne-tecknad av att nämnda omrörare har förmäga att föra nämnda medium i en centripetalrörelse i den nedre delen av autokla-ven (1).

2. Autoklav enligt patentkrav 1, kännetecknad av att omrö-raren har förm&ga att i en centripetalrörelse föra ätminsto-ne varje volymselement av det medium, som befinner sig i den minimala nyttozonen i den nedre delen av autoklaven (1), som motsvarar den zon som avgränsas av de cylindriska rota-tionsytorna, och som har autoklavaxeln till axel, vars snitt, genom det plan (P) som vinkelrätt mot autoklavaxeln för den yta av den volym som ästadkommes genom tappens (9) rotation runt nämnda axel, har en radie som för den ena är r + 0,2 d och för den andra 0,9 d, varvid r är nämnda snitts radie och d är radien för snittet med rotationscylin-derytan Σ2, som till axel har autoklavaxeln och som gär igenom den eller de punkter pä armens (10) yta som befinner sig längst bort frän nämnda axel.

3. Autoklav enligt patentkravet 1 eller 2, kännetecknad av att centrumvinkeln Φ för den minimala nyttodelen av projek-tionen (C), i ett plan (P) vinkelrätt mot autoklavaxeln i vilken som heist punkt 0 pä nämnda axel, pä angreppslinjen för omrörararmen (10), i en av de tvä rotationsriktningarna för nämnda omrörare, ligger mellan +5 och +90 grader. Il 37 8 1 7 2 8

4. Autoklav enligt patentkrav 3, kännetecknad av att krök-ningsvinkeln a i vilken som heist punkt F p& den minimala nyttodelen av projektionen (C), i ett plan (P) vinkelrätt mot autoklavaxeln i vilken som heist punkt 0 p& nämnda axel, p& angreppslinjen för omrörararmarna (10), i en av de tv& rotationsriktningarna för nämnda omrörare, ligger mellan 0 och +90 grader.

5. Autoklav enligt patentkrav 4, kännetecknad av att krök-ningsvinkeln a ligger mellan +8 och +45 grader.

6. Autoklav enligt patentkravet 4 eller 5, kännetecknad av att krökningsvinkeln a i huvudsak är konstant fr&n den centrala punkten till den perifera punkten K2 i den minimala nyttodelen av projektionen (C).

7. Autoklav enligt n&got av patentkraven 4 tili 6, kännetecknad av att tappradien r ligger mellan 0,10 R och 0,25 R, varvid R är autoklavradien.

8. Autoklav enligt n&got av patentkraven 4 tili 7, kännetecknad av att avst&ndet d tili autoklavaxeln för de mest avlägsna punkterna frän nämnda axel p& omrörararmens (10) yta, som högst är n&got mindre än R, är ätminstone lika med 0,5 R, varvid R är autoklavradien.

9. Autoklav enligt nägot av patentkraven 4 tili 8, kännetecknad av att förh&llandet r/d ligger mellan 0,1 och 0,5, varvid litet r är tappradien och d sädant det definieras i patentkrav 8.

10. Autoklav enligt n&got av patentkraven 4 tili 9, kännetecknad av att avständet h fr&n den bortre perifera punkten J pä projektionen (G) av den nedre linjen av omrörararmen (10) i vilket som heist plan (Q), som gär igenom autoklavaxeln vid autoklavbottnens ytradie, är mellan minst -0,65 R och +0,30 R, varvid R är autoklavradien. 38 81 728

11. Autoklav enligt nägot av patentkraven 4 till 10/ känne-tecknad av att avständet e frän centralpunkten D för projek-tionen (C) av angreppslinjen till centralpunkten D' för projektionen (C') för avrinningsarmens linje i omröraren är högst lika med 2 r och företrädesvis melian 0,75 r och 1,50 r, varvid r är tappradien.

12. Autoklav enligt nägot av patentkraven 4 tili 11, känne-tecknad av att avständet e' frän centralpunkten H för projektionen (G) av den nedre Iinjen i vilket som heist plan (Q) som gär igenom autoklavaxeln tili centralpunkten H' av projektionen (G') av den Övre linjen för omrörararmen (10) i nämnda plan (Q) är mellan 0,05 R och 0,5 R, varvid R är autoklavradien.

13. Autoklav enligt nägot av patentkraven 4 tili 12, känne-tecknad av att arean S av den yta, som avgränsas av snittp-rojektionen av den främre ytans kontur av omrörararmen (10), är mellan 0,1 R^ och 0,5 R^, varvid R är autoklavradien.

14. Autoklav enligt nägot av patentkraven 4 tili 13, känne-tecknad av att snittet (s) för omrörararmen (10) i ett pian vinkelrätt mot dess angreppslinje i vilken som heist punkt M, vars projektion i planet (P) är en punkt, som befinner sig i den minimala nyttodelen av projektionen (C), är sädant att, varvid M', N och N' är skämingspunkterna för snittet (s) och respektive avrinningslinje och de nedre och Övre konturlinjerna för andra armens främre yta; varvid a^, a 2/ 33, a4 är vinklarna i rektangeln, med tvä horisontella sidor, vilka omskriver snittet (s); varvid a^ &2· a3 a4/ a^ a4 och a2 ^3 är nämnda rektangels sidor, pä vilka de respektive punkterna H, H', N och N' befinner sig vilken form snittet (s) än har: - förhällandet mellan avständen Ma^/a]^ är mindre än 0,20 och företrädesvis mindre än 0,05, - delen MN' i nämnda snitt, vilken befinner sig pä den främre ytan av omrörararmen, i huvudsak uppvisar en väsent-ligen rätlinjig profil, som med sidan a^a2 bildar en vinkel II 39 81728 β som är 0 eller högst lika med 45 grader vid den punkt pä angreppslinjen, vars projektion i planet (P) är den centrala punkten i den minimala nyttodelen av projektionen (C), ooh successivt minskar, när punkten M förflyttas pä angreppslinjen i den riktning som motsvarar den som gär frän centralpunkten tili den perifera punkten K2 i den minimala nyttodelen av projektionen (C), ända tili ett värde som eventuellt är 0, - förhällandet mellan avständen Na;jyaia4 är mindre än 0,20 och företrädesvis mindre än 0,15, - delen NM' i nämnda snitt, vilken befinner sig pä den yta som ses underifrän omrörararmen, i huvudsak uppvisar en väsentligen rätlinjig profil, som med sidan a^ bildar en vinkel Y, som mellan 3 och 10 grader och företrädesvis mellan 5 och 10 grader.

15. Autoklav enligt nägot av patentkraven 4 tili 14, känne-tecknad av att snittet (s) för ytan av omrörararmen (10) genom ett pian vinkelrätt mot dess angreppslinje i vilken som heist punkt M är sädant att, när punkten M förflyttar sig pä angreppslinjen i den riktning som motsvarar den som gär frän den centrala punkten D tili den perifera punkten E pä projektionen (C), längden pä sidorna i rektangeln, med tvä horisontella sidor, som omskriver nämnda snitt, minskar.

16. Autoklav enligt nägot av patentkraven 1 tili 15, känne-tecknad av att den innefattar minst en annan omrörare, varvid den eller de andra omrörarna regleras oberoende.

17. Autoklav enligt patentkrav 16, kännetecknad av att den andra omröraren har roterande arm (13), som gär igenom den Övre delen av autoklaven (1).

18. Autoklav enligt patentkrav 17, kännetecknad av att den andra omröraren är den enda av sitt slag och att dess roterande arm (13) är orienterad längs autoklavaxeln. 40 81 728

19. Autoklav enligt patentkravet 17 eller 18, kännetecknad av att den andra omröraren i huvudsak bestär av ett band (16) som är spiralvrldet pä nämnda roterande arm (13).

20. FÖrfarande för framställning 1 massa av polymerer och sampolymerer baserade pä vinylklorid, kännetecknat av att man använder en autoklav enligt nägot av patentkraven 1 tili 19.

21. FÖrfarande enligt patentkrav 20, kännetecknat av att det genomföres i tvä steg, vilka utföres i separata appara-ter, varvid den slutliga polymerisations- eller sampolyme-risationsoperationen vid förfarandet, vilken genomföres under det andra steget, genomföres i en autoklav enligt nägot av patentkraven 1 tili 19.

22. FÖrfarande enligt patentkrav 21, kännetecknat av att man i ett första steg genomför en polymerisations- eller sampolymerisationsoperation under omröring med hög turbulens pä en monomerkomposition baserad pä vinylklorid ända tills man erhäller en omvandlingsgrad för monomerkompositionen av frän 3 tili 15 %, eventuellt tili reaktionsmediet sätter en kompletterande mängd av en monomerkomposition baserad pä vinylklorid, vilken är identisk eller skiljer sig frän den som användes under det första steget, därefter under det andra steget pä det sälunda bildade reaktionsmediet genomför en slutlig polymerisations- eller sampolymerisationsoperation under längsam omröringshastighet i nämnda autoklav, varvid reaktionsmediet under det andra steget utsättes för inverkan av en omrörare, med roterande arm som gär igenom den Övre delen av autoklaven och som är orienterad längs autoklavaxeln, vilken i huvudsak bestär av ett band som är spiralvridet pä nämnda roterande axel, varvid nämnda omrörare bildar en omröringszon runt autoklavaxeln, och för inverkan av en omrörare enligt uppfinningen, säsom den definieras i patentkrav 1, vilken samtidigt och oberoende bildar en andra omröringszon i den nedre delen av autoklaven, varvid nämnda reaktionsmedium med hjälp av II 4i 81728 nämnda omrörare enligt uppfinningen förs i en centripetalrö-relse in i den nedre delen av autoklaven.