FI75330B - Foerfarande foer framstaellning av kiseltetrafluorid. - Google Patents
Foerfarande foer framstaellning av kiseltetrafluorid. Download PDFInfo
- Publication number
- FI75330B FI75330B FI851215A FI851215A FI75330B FI 75330 B FI75330 B FI 75330B FI 851215 A FI851215 A FI 851215A FI 851215 A FI851215 A FI 851215A FI 75330 B FI75330 B FI 75330B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- fluoride
- silicon
- trifluoride
- acid
- hexafluorosilicate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10B—DESTRUCTIVE DISTILLATION OF CARBONACEOUS MATERIALS FOR PRODUCTION OF GAS, COKE, TAR, OR SIMILAR MATERIALS
- C10B33/00—Discharging devices; Coke guides
- C10B33/08—Pushers, e.g. rams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/10705—Tetrafluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
, 75330
Menetelmä piitetrafluoridin valmistamiseksi
Kyseessä oleva keksintö koskee puhtaan piitetra-fluoridin valmistamista kaasuista, jotka sisältävät pii-5 fluoridia, joka on saatu esimerkiksi raakojen fosfaattien uuton aikana tai kun lasimassaa syövytetään fluorivedyn ja rikkihappojen seoksella. Nämä kaasut sisältävät pääasiallisesti piitetrafluoridia, mutta ne saattavat myös sisältää heksafluorisiloksaania, fluoripiihappoja ja 10 fluorivetyhappoa.
Piitetrafluoridia (SiF4) käytetään monin tavoin. Esimerkiksi sitä käytetään kuivien betoniosien käsittelyyn, jotta saadaan aikaan huomattava parannus niiden kestävyydessä vettä, sekä syöpymistä ja hankausta kohtaan 15 (G. Roederer, Chim. Ind. (Paris) 84, 912-924, 1960).
Sitä käytetään myös kiteisten molekyyliseulojen hydrofobisten ominaisuuksien lisäämiseen (EP-julkaisu nro 83107533,8).
Sitä käytetään voimakkaasti dispergoituneen pii-20 hapon ja fluorivetyhapon valmistamiseksi (US-julkaisu nro 3 969 485, DE-patenttijulkaisu nro 2132426, DE-pa-tenttijulkaisu nro 2132428, DE-patenttijulkaisu nro 2132429).
Se soveltuu ortopiihapon estereiden valmistamiseen 25 (DE-patentti nro 2609767).
Siitä voidaan saada korkea-asteista piitä (DE-patentti julkaisu nro 3206766, A. Sanjurjo et ai. J. Elect-rochem. Soc. 128 (1981) 179-184).
Se soveltuu myös amorfisen piin saantiin fotogal-30 vaanisia pareja varten (vrt. esimerkiksi Makoto Konagai et ai.. Appi. Phys. Lett. 36 (1980) 599 sekä A. Madan, S.R. Ovshinsky, E. Bebb, Phil. Mag. B 40, 259 (1979)).
Sitä käytetään myös silaanien valmistamiseen (D.K. Padma et ai., J. Fluorine Chem. 1979, 41(4), 327-9, DE-35 patentti nro 1034159, DE-patentti nro 1080077, US-patent-ti nro 2 933 374).
2 75330
Se soveltuu myös puolijohdeteollisuudessa piitä sisältävää materiaalia syövyttäväksi aineeksi (US-pa-tentti nro 4 262 409).
Ennestään on tunnettua valmistaa (Proc. Fert. Soc.
5 (PFRSAZ) V 163, 1977) piitetrafluoridia jätekaasuista, jotka saadaan raakojen fosfaattien uuton aikana, siten että jätekaasut hydrolysoidaan ja saostuneen piihapon liuottamiseksi ne muutetaan fluorivetyhappoa sisältävien jätekaasujen kanssa noin 20 %:seksi heksafluoripiihappo-10 liuokseksi. Tämä liuos hajotetaan 100-110°C:ssa nikkeli- lejeeringistä valmistetuissa reaktoreissa konsentroidun rikkihapon avulla näissä olosuhteissa haihtuvan piitetra-fluoridin muodostamiseksi. Heksafluoripiihappoliuosta voidaan lisätä, kunnes rikkihapon konsentraatio on laskenut 15 70-75 %:iin.
Tämän menetelmän hankaluutena ovat suuret mate-riaaliongelmat, jotka johtuvat happoseosten syövyttävyy-destä vaadituissa korkeissa lämpötiloissa, sekä muodostuneet fluoriyhdisteiden kontaminoimat suuret jäterikkihap-20 pomäärät.
Keksinnön lähtökohtana on ongelma valmistaa puhdasta piitetrafluoridia ilman, että samanaikaisesti muodostuisi sivutuotteita, jotka tuskin ovat käyttökelpoisia.
Keksinnön mukaisesti ongelma voidaan ratkaista 25 muuttamalla hydrolysaatti, joka on saatu piifluoridia si sältäviä kaasuja hydrolysoimalla, natriumfluoridin, ka-liumfluoridin tai bariumfluoridin avulla yksinkertaiseksi tuotteeksi, joka vastaa alkali- tai maa-alkaliheksa-fluorisilikaattia, vaikka hydrolysaatti sisältää monimut-30 kaisia yhdisteitä. Heksafluorisilikaattia voidaan sitten käyttää edelleen yksinkertaisella tavalla puhtaan piitetraf luoridin valmistukseen.
Keksinnön kohteena on piitetrafluoridin valmistusmenetelmä, jolle on ominaista, että piifluoridia sisältä-35 vät kaasut hydrolysoidaan, hydrolysaatti saatetaan rea- 3 75330 goimaan natrium-, kalium- tai bariumfluoridin kanssa ja saatu reaktiotuote hajotetaan termisesti, jolloin saadaan piitetrafluoridia.
On erityisen edullista, että metallifluoridi, jo-5 ta myös muodostuu lämpöhajoamisen aikana, voidaan käyttää uudelleen.
Kyseessä olevaa keksintöä voidaan valaista seuraa-vin reaktioin.
10 3SiF4 + 2H20-»2H2SiF6 ♦ Si02aq (1, (4 + x) H2SiF6 + (2_x)Si02.aq s ~~ (1a) 6 H SiF . + (4-2x)H,0 15 x 4+x 2 2H2SiF6 + Si02>aq + 6MXF (3MIJF2) -* (2) 3 M^SiFg (3MI!CSiF6) + 2^0 20 3 M2SiF6 (3MIISiFg) ->3 SiF4 + βΜ^ (3MIIF2) (3) M1 = Na, K M11 = Ba 25 x = 0» 5 — 2
Yhtälön (1) mukaisesti hydrolyysi tapahtuu veden avulla. Systeemi, heksafluoripiihappo (H2SiFg) ja hydra- toitu piihappo (Si00 ) on tasapainossa yleisen kaavan 30 H SiF. mukaisten mononukleaaristen kompleksien kanssa, x 4+x jolloin mainitussa kaavassa x saavuttaa arvot noin 0,5: stä korkeintaan kahteen, heksafluoripiihapon kokonais-konsentraation funktiona. Täten, x = 1,1 30 % HjSiFgille, esimerkiksi (vrt. Ullman, neljäs painos, osa 11, sivu 35 614). Tällä hetkellä on vielä kuitenkin epäselvää, missä 75330 4 määrin muut ligandit kuin F, sellaiset kuin OH tai 0^» koordinoituvat mononukleaarisiksi komplekseiksi.
On havaittu, että tasapaino siirtyy täysin vastaavien heksafluorisilikaattien puolelle, kun tätä piihappo-5 geelin suspensiota fluoripiihapoissa sekoitetaan natrium- fluoridin, kaliumfluoridin tai bariumfluoridin kanssa, jolloin heksafluorisilikaatit saostuvat vaikealiukoisina yhdisteinä. Fluorideja käytetään mieluummin stökiömetri-sinä määrinä yhtälön (2) mukaisesti.
10 Yksinkertaisia, määriteltyjä fluorisilikoniyhdis- teitä muodostuu heksafluorisilikaatin kanssa. Heksafluo-risilikaatti erotetaan, kuivataan ja sitten se hajotetaan lämmön avulla, jolloin saadaan puhdasta piitetrafluoridia, ja käytetty metallifluoridi otetaan talteen ja palaute- 15 taan uudelleen prosessiin.
Menetelmän suoritustapaa selitetään yksityiskohtaisemmin piirroksessa esitetyn kulkukaavion avulla.
Kaasua sisältävä piifluoridi hydrolysoidaan veden kanssa jätekaasunpesulaitteessa. Kaasua sisältävän pii- 20 fluoridin syntyminen on periaatteessa asiaankuulumatonta.
Kaasujen Si/F-suhteen tulisi mieluummin olla 1/4 - 1/5, niin että fluorivetyhapon konsentraatio hydrolysaatissa ei lisäänny liian paljon. Jätekaasuissa, jotka on saatu happopuhdistuksesta, jossa lasimassaa on peitattu fluori- 25 vedyn ja rikkihappojen seoksella, fluorin määrä saattaa 3 3 saavuttaa 50 g/Nm :n, mahdollisesti aina 100 g/Nm :n suuruiset arvot; Si/F-suhde on halutulla alueella. Raakojen fosfaattien uuttamislaitteessa jätekaasujen fluorisisäl-tö riippuu käytetyn raa'an fosfaatin laadusta. Standardi- 3 30 arvona voidaan pitää n. 20 g fluoria/Nm . Piisisältö on usein vähemmän kuin 1/4 tai 1/5 fluorin määrästä gramma-atomeina, se riippuu myös käytetyn raa'an fosfaatin laadusta. Kvartsia tai piihappoa sisältävää materiaalia on sitten edullista lisätä reaktiomateriaaliin.
Il 5 75330
Kyseessä olevan keksinnön mukaista menetelmää saatetaan käyttää piitetrafluoridi-laatujen kanssa, joilla on mikä tahansa konsentraatio, ja sitä saatetaan täten käyttää "puhdistusmenetelmänä" korkeiden konsentraatioi-5 den ollessa kysymyksessä.
Saatua hydrolysaattia sekoitetaan voimakkaasti, mieluummin 1/2-4 tuntia korrcosionkestävissä ravistelu-astioissa stökiömetrisen määrän kanssa metallitluoridia, joka saadaan reaktorista, jossa heksafluorisilikaattia 10 hajoitetaan lämmön avulla. Metallitluori saatetaan käyt tää jauheen muodossa, liuoksena tai - erityisen edullisesti - suspensiona. Ravisteluastiassa saatu heksafluori-silikaatti erotetaan ja kuivataan. Erottamisen aikana muodostuva suodos ja jäteilma, joka on saatu kuivauksen ai-15 kana, saatetaan syöttää takaisin jätekaasunpesulaittee- seen. Menetelmässä saadaan heksafluorisilikaatin saantoja, jotka ovat yli 90 %, kun käytetään natriumfluoridia ja kaliumfluoridia, ja noin 85 %:n saantoja, kun käytetään bariumfluoridia, kummassakin tapauksessa käytetyn 20 metallitluoridin suhteen.
Alkaliheksafluorisilikaattien puhtaus, joka saatetaan saada, on suurempi kuin 99 %, bariumheksafluorisi-likaatille puhtaus on noin 90 %. Alkaliheksafluorisili-kaatit ovat pääasiallisesti piihapon ja veden kontaminoi-25 mia, ennen kaikkea bariumfluoridi kontaminoi lisäksi bariumheksaf luorisilikaattia.
Kuivatut heksafluorisilikaatit hajoavat vastaavassa alipaineessa lämmön vaikutuksesta silikonitetrafluori-diksi ja metallifluoridiksi. Tämä paine säilytetään pump-30 paamalla pois syntyvä piitetrafluoridi. Seuraavat hajoa-misolosuhteet on todettu käyttökelpoisiksi:
Na2SiFg:lle 10 kPa (100 mbaaria) 600°C:ssa ^SiFgtlle 10 kPa (100 mbaaria) 550 °C:ssa Ba SiFgtlle 10 kPa (100 mbaaria) 500°C:ssa , 75330 6
Yleensä saatetaan käyttää 0,01-50 kPa:n (0,1-500 mbaarin) paineita 400-800°C:ssa. Saadun piitetrafluoridin puhtaus on vähintään suurempi kuin 90 tilavuus-%, edullisesti 95 tilavuus-%, ja edullisimmin suurempi kuin 99 ti-5 lavuus-%. Saadun piitetrafluoridin puhtaus riippuu oleel lisesti hajotuslaitteen suotonopeudesta, jolloin saatetaan helposti saavuttaa SiF^-laatujen puhtaudet, jotka ovat suuremmat kuin 99 tilavuus-%. Epäpuhtaudet ovat oleellisesti ilmaa ja vähäisiä määriä heksafluorisilok-10 saania, fluorivetyhappoa sekä rikkidioksidia. Lämpöhajo- tuksen aikana saatua metallifluoridia syötetään takaisin prosessiin ja lisätään annoksina ravisteluastiassa sijaitsevien jätekaasujen hydrolysaattiin, joka sisältää pii-fluoridia.
15 Keksinnön mukaisen menetelmän erityiset edut ovat sen taloudellisuus ja ympäristöystävällisyys. Menetelmä on taloudellinen, koska se suoritetaan käytännöllisesti katsoen arvottomista jätekaasun puhdistusliuoksista, joita muodostuu suuria määriä, eikä niitä pidä millään muotoa, 20 ekologisista syistä, johtaa laskuojiin.
Koko menetelmä voidaan suorittaa laitteella, joka periaatteessa on tunnettu ja teollisuudessa kokeiltu. Mitkään kalliit, ei-rautametallilejeeringit eivät ole välttämättömiä.
25 Menetelmä on käyttökelpoinen, koska sen avulla on mahdollista saada jätekaasuista puhdasta piitetrafluori-dia, kaikki välttämättömät apuaineet johdetaan kierto-menetelmään. Ei muodostu mitään aineita, jotka täytyy heittää pois, mikä on erityisen edullista fluoriyhdistei-30 den fysiologisen tehokkuuden vuoksi.
Keksintöä selitetään yksityiskohtaisemmin seuraa-vin esimerkein.
Esimerkki Jätekaasuja, jotka oli saatu happopesuyksiköstä, 35 jossa lasimassaa oli peitattu fluorivedyn ja rikkihappo jen seoksella, hydrolysoitiin kaasunpesulaitesentrifu- 11 7 75330 gissa. 800 litraa tätä hydrolysaattia, hyytelömäisen piihapon suspensiota fluoripiihapoissa, jonka kokonaispitoisuus oli 94,68 g F/l ja 33,34 g Si/1, siirrettiin ravisteluastiaan, sekoitettiin 80 kg:n kanssa jauhettua 5 natriumfluoridia, sekoitettiin voimakkaasti 2 tunnin ajan ja poistettiin suodattamalla. Suodos johdettiin takaisin jätekaasunpesulaitteeseen ja suodatuskakku pantiin neste-kerroksen kuivauslaitteeseen. Saatiin 169 g natriumheksa-fluorisilikaattia jauhemaisessa muodossa 94 %:n saannol-10 la teoreettisesta käytetyn natriumfluoridin suhteen ja heksafluorisilikaatin pitoisuuden ollessa 99,5 %. Kuivaus-laitteesta saatu jäteilma johdettiin kaasunpesulaitesent-rifugiin. Hilseilemättömään teräslieriöön pantiin 40 kg saatua natriumheksafluorisilikaattia ja se hajotettiin 15 lämmön avulla ja saatiin natriumfluoridia ja SiF^ra 2 tunnin kuluessa, 620°C:ssa ja pumppauksen avulla yllä pidetyssä alle 20 kPa:n (200 mbaaria) paineessa.
Saatiin 21,7 kg SiF^, eli 98 % teoreettisesta saannosta käytetyn natriumheksafluorisilikaatin suhteen las-20 kettuna, pitoisuuden ollessa 99 tilavuus-%. Löydettiin seuraavat epäpuhtaudet:
Ilmaa: 0,6 tilavuus-%
Si2OFg: 0,2 tilavuus-% SC>2: < 0,005 tilavuus-%
Claims (2)
1. Menetelmä piitetrafluoridin valmistamiseksi, tunnettu siitä, että hydrolysoidaan kaasuja, jot- 5 ka sisältävät piifluoridia, hydrolysaatin annetaan rea goida natriumfluoridin, kaliumfluoridin tai bariumfluo-ridin kanssa, ja saatu reaktiotuote hajotetaan termisesti, jolloin saadaan fJiitetrafluoridia.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, 10 tunnettu siitä, että metallifluoridi, joka muo dostuu lämpöhajotuksen aikana, käytetään uudelleen hyväksi. Il
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3432678A DE3432678C2 (de) | 1984-09-05 | 1984-09-05 | Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrafluorid |
DE3432678 | 1984-09-05 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI851215A0 FI851215A0 (fi) | 1985-03-26 |
FI851215L FI851215L (fi) | 1986-03-06 |
FI75330B true FI75330B (fi) | 1988-02-29 |
FI75330C FI75330C (fi) | 1988-06-09 |
Family
ID=6244730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI851215A FI75330C (fi) | 1984-09-05 | 1985-03-26 | Foerfarande foer framstaellning av kiseltetrafluorid. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4615872A (fi) |
EP (1) | EP0173793A3 (fi) |
JP (1) | JPS6168315A (fi) |
KR (1) | KR860002419A (fi) |
CA (1) | CA1220322A (fi) |
DD (1) | DD236511A5 (fi) |
DE (1) | DE3432678C2 (fi) |
DK (1) | DK133585A (fi) |
ES (1) | ES8606828A1 (fi) |
FI (1) | FI75330C (fi) |
IN (1) | IN162367B (fi) |
NO (1) | NO851213L (fi) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8614539D0 (en) * | 1986-06-14 | 1986-07-23 | Renishaw Plc | Coordinate positioning apparatus |
US5165534A (en) * | 1989-11-13 | 1992-11-24 | Lauren Kaufman | Packaging cases incorporating elevating mechanism for displaying contents |
US5242670A (en) * | 1992-07-02 | 1993-09-07 | Gehringer Ronald C | Method for hydrofluoric acid digestion of silica/alumina matrix material for the production of silicon tetrafluoride, aluminum fluoride and other residual metal fluorides and oxides |
US5918106A (en) * | 1998-06-05 | 1999-06-29 | Starmet Corp. | Method for producing uranium oxide and a non-radioactive fluorine compound from uranium tetrafluoride and a solid oxide compound |
US5901338A (en) * | 1998-06-05 | 1999-05-04 | Starmet Corporation | Method for producing uranium oxide and silicon tetrafluoride from uranium tetrafluoride, silicon, and a gaseous oxide |
US5888468A (en) * | 1998-06-05 | 1999-03-30 | Starmet Corp. | Method for producing silicon tetrafluoride from uranium tetrafluoride |
US6033642A (en) * | 1999-03-29 | 2000-03-07 | Starmet Corporation | Method for producing silicon tetrafluoride from uranium oxyfluoride |
US6086836A (en) * | 1999-03-29 | 2000-07-11 | Starmet Corporation | Method for producing uranium oxide from uranium oxyfluoride and silicon |
US6096281A (en) * | 1999-03-29 | 2000-08-01 | Starmet Corporation | Method for producing uranium oxide from uranium oxyfluoride |
JP3909385B2 (ja) * | 2001-07-12 | 2007-04-25 | 昭和電工株式会社 | テトラフルオロシランの製造方法およびその用途 |
US7666379B2 (en) * | 2001-07-16 | 2010-02-23 | Voltaix, Inc. | Process and apparatus for removing Bronsted acid impurities in binary halides |
JP4014451B2 (ja) * | 2001-09-11 | 2007-11-28 | セントラル硝子株式会社 | 四フッ化珪素の製造法 |
TW200512159A (en) * | 2003-09-25 | 2005-04-01 | Showa Denko Kk | Method for producing tetrafluorosilane |
US20110101273A1 (en) * | 2005-09-16 | 2011-05-05 | Robert Rewick | Process and Composition for Making Rare Earth Doped Particles and Methods of Using Them |
KR100831060B1 (ko) | 2006-12-29 | 2008-05-20 | 대일개발 주식회사 | 실리콘이 함유된 반도체 에칭 폐액의 재생방법 |
US8709370B2 (en) * | 2008-08-28 | 2014-04-29 | Sri International | Method and system for producing fluoride gas and fluorine-doped glass or ceramics |
WO2010077880A1 (en) * | 2008-12-17 | 2010-07-08 | Memc Electronic Materials, Inc. | Processes and systems for producing silicon tetrafluoride from fluorosilicates in a fluidized bed reactor |
RU2549415C2 (ru) * | 2012-12-05 | 2015-04-27 | Открытое акционерное общество "Ведущий научно-исследовательский институт химической технологии" (ОАО "ВНИИХТ") | Способ получения тетрафторида кремния и октаоксида триурана из тетрафторида урана |
DE102013104398A1 (de) * | 2013-04-30 | 2014-10-30 | Spawnt Private S.À.R.L. | Verfahren zur Herstellung von Siliziumtetrafluorid |
CN114380304B (zh) * | 2022-01-21 | 2023-05-30 | 云南磷化集团有限公司 | 一种对氟硝基苯用原料氟化钾的短流程制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD67408A (fi) * | ||||
US1247165A (en) * | 1917-03-17 | 1917-11-20 | Karl F Stahl | Method of making sodium silicofluorid. |
US2833628A (en) * | 1954-06-09 | 1958-05-06 | Grace W R & Co | Manufacture of silicon tetrafluoride |
US2933374A (en) * | 1955-03-29 | 1960-04-19 | Gen Electric | Process of treating fluorosilanes to form monosilane |
GB1254785A (en) * | 1968-03-28 | 1971-11-24 | Degussa | A process for the production of silicon tetrahalides |
US3674431A (en) * | 1970-07-01 | 1972-07-04 | Cities Service Co | Generation of silicon tetrafluoride |
US3969485A (en) * | 1971-10-28 | 1976-07-13 | Flemmert Goesta Lennart | Process for converting silicon-and-fluorine-containing waste gases into silicon dioxide and hydrogen fluoride |
US4262409A (en) * | 1978-04-24 | 1981-04-21 | Robroy Industries | Cable connector |
US4282196A (en) * | 1979-10-12 | 1981-08-04 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of preparing optical fibers of silica |
-
1984
- 1984-09-05 DE DE3432678A patent/DE3432678C2/de not_active Expired
-
1985
- 1985-03-20 EP EP85103264A patent/EP0173793A3/de not_active Withdrawn
- 1985-03-25 DK DK133585A patent/DK133585A/da not_active Application Discontinuation
- 1985-03-26 FI FI851215A patent/FI75330C/fi not_active IP Right Cessation
- 1985-03-26 NO NO851213A patent/NO851213L/no unknown
- 1985-03-27 US US06/716,390 patent/US4615872A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-28 KR KR1019850002064A patent/KR860002419A/ko not_active Application Discontinuation
- 1985-04-04 IN IN256/CAL/85A patent/IN162367B/en unknown
- 1985-04-11 ES ES542159A patent/ES8606828A1/es not_active Expired
- 1985-04-15 DD DD85275177A patent/DD236511A5/de unknown
- 1985-05-29 CA CA000482735A patent/CA1220322A/en not_active Expired
- 1985-06-21 JP JP60134400A patent/JPS6168315A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI851215A0 (fi) | 1985-03-26 |
ES8606828A1 (es) | 1986-05-01 |
NO851213L (no) | 1986-03-06 |
DE3432678A1 (de) | 1986-04-17 |
DK133585A (da) | 1986-03-06 |
DD236511A5 (de) | 1986-06-11 |
FI75330C (fi) | 1988-06-09 |
JPS6168315A (ja) | 1986-04-08 |
EP0173793A3 (de) | 1989-03-22 |
KR860002419A (ko) | 1986-04-26 |
US4615872A (en) | 1986-10-07 |
IN162367B (fi) | 1988-05-14 |
DE3432678C2 (de) | 1986-11-20 |
ES542159A0 (es) | 1986-05-01 |
FI851215L (fi) | 1986-03-06 |
EP0173793A2 (de) | 1986-03-12 |
DK133585D0 (da) | 1985-03-25 |
CA1220322A (en) | 1987-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI75330C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av kiseltetrafluorid. | |
US5458864A (en) | Process for producing high-purity silica by reacting crude silica with ammonium fluoride | |
JP3616648B2 (ja) | 高純度の弗化水素を製造する方法 | |
EP2519470B1 (en) | Methods for producing aluminum trifluoride | |
JP3798560B2 (ja) | 六フッ化リン酸リチウムの精製法 | |
CN104843712A (zh) | 一种工业氟硅酸的提纯并联产白炭黑的方法 | |
US3829555A (en) | Method of manufacturing silanes | |
JPH02102712A (ja) | シラン含有排ガスからのシラン化合物の除去方法 | |
US5888468A (en) | Method for producing silicon tetrafluoride from uranium tetrafluoride | |
US5055281A (en) | Process for the preparation of calcium fluosilicate as a raw material for obtaining calcium fluoride and pure fluosilicic acid | |
US6884403B2 (en) | Method of purifying lithium hexafluorophosphate | |
KR20080043404A (ko) | 동위체 농축 방법 | |
JP2012519651A (ja) | 様々なフッ化原料、非晶質シリカ及び硫酸を用いたテトラフルオロシランの連続式製造方法 | |
CN102134078A (zh) | 一种硫酸石英砂闭环生产四氟化硅的方法 | |
EP2519468A2 (en) | Methods for producing silicon tetrafluoride | |
JPH0692247B2 (ja) | 珪弗化マグネシウムの製造方法 | |
JP2864617B2 (ja) | 珪弗化水素酸、珪弗化アンモニウム及び高純度シリカの製造法 | |
US4830842A (en) | Preparation of pure boron trifluoride | |
RU2356834C2 (ru) | Способ получения поликристаллического кремния в виде гранул сферической формы | |
RU2618265C1 (ru) | Способ получения изотопнообогащенного тетрахлорида кремния | |
CN85102344A (zh) | 生产四氟化硅的方法 | |
RU2466089C1 (ru) | Способ получения моносилана | |
US5045300A (en) | Preparation of complex aluminum fluorides | |
JP3123698B2 (ja) | フッ化シランの製造法 | |
JPH09183608A (ja) | 四フッ化ケイ素の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed |
Owner name: D. SWAROVSKI & CO |